TWI469942B - 含有在退火窯當下或臨進之前以氯化鋁作表面處理之製造玻璃的方法 - Google Patents
含有在退火窯當下或臨進之前以氯化鋁作表面處理之製造玻璃的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI469942B TWI469942B TW97124293A TW97124293A TWI469942B TW I469942 B TWI469942 B TW I469942B TW 97124293 A TW97124293 A TW 97124293A TW 97124293 A TW97124293 A TW 97124293A TW I469942 B TWI469942 B TW I469942B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- glass
- aluminum chloride
- mixture
- solvent
- annealing
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 185
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 title claims description 108
- 238000000137 annealing Methods 0.000 title claims description 55
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 25
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 16
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005347 annealed glass Substances 0.000 claims 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 33
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 9
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 5
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052656 albite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005325 percolation Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 AlCl 3 Chemical compound 0.000 description 1
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010459 dolomite Substances 0.000 description 1
- 229910000514 dolomite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000019617 pupation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/005—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to introduce in the glass such metals or metallic ions as Ag, Cu
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
本案為美國專利申請案第11/492,204號，申請日2006年7月25日之連續部分(CIP)，該案全文揭示以引用方式併入此處。
本發明係關於一種製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之方法。於本發明之若干具體實施例中，於玻璃製造程序中，於玻璃板成形且漂浮於熔融材料(例如錫浴)上之階段後，於進入退火窯當下或恰在進入之前，該玻璃之一主面使用氯化鋁(例如AlCl3
)處理。於壓花生產線製程(與浮面製程相對)中，氯化鋁處理也可於進入退火窯當下或恰在進入之前進行。於浮面或壓花生產線玻璃製造程序中，於進入退火窯當下或恰在進入之前進行氯化鋁處理之優點在於其允許處理於期望之玻璃溫度進行，且允許於退火窯中或附近之通風功能以有效方式去除處理的副產物。藉此方式製造之玻璃例如或非限制性可用於玻璃窗用途、太陽能電池用途、家具玻璃用途、及/或展示窗玻璃用途。
於習知浮面生產線玻璃製法中，玻璃批料於窯爐或熔窯加熱而形成玻璃熔化液。玻璃熔化液傾倒至熔融材料諸如錫之浴槽(錫浴)上，此處玻璃熔化液成形且連續冷卻來形成浮面玻璃帶。然後浮面玻璃帶前進送至退火窯用於進一步加工處理，然後可經切割來形成固體玻璃物件諸如平坦
玻璃板。用於浮面玻璃，玻璃批料經常包含蘇打、石灰及二氧化矽來形成以蘇打-石灰-二氧化矽為主之扁平玻璃。
不幸習知浮面玻璃(經塗覆或未經塗覆)對於從玻璃向外擴散至表面且可能於塗覆層例如設置於玻璃上之低E塗覆層之強鹼諸如鈉(Na)所造成的損害敏感。於未經塗覆之玻璃上，當達到表面時鈉可與水等反應而於玻璃表面上產生目測可見之玷染或污漬。此外，鈉擴散入玻璃上之塗覆層可能損傷塗覆層，因而導致缺陷的經塗覆物件諸如IG(絕緣玻璃)窗單元或其它類型之窗。
大部分平板顯示器係建立在昂貴之玻璃基材上，諸如垂伸融化硼矽酸玻璃或經拋光之硼矽酸玻璃。此型玻璃具有低鈉(Na及/或Na2
O)含量。但硼矽酸玻璃之來源材料成本比習知以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃之成本遠更高。但習知浮面玻璃有較低製造成本但鈉含量較高。於典型用於顯示面板製造之高溫處理期間(例如200-600℃)及/或於顯示器之使用壽命期間，鈉可能從浮面玻璃基材擴散而造成顯示效能的降級。舉例言之，於a-Si(非晶矽)TFT顯示器諸如用於電視機、監視器、行動電話等之TFT顯示器中，鈉遷移入TFT及/或顯示器媒體材料，可能導致TFT及/或顯示器媒體之顯著降級，因而導致顯示特性的降級。
使用習知以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃之另一項問題為熱膨脹係數(CTE)比硼矽酸玻璃更高(8.5相對於3.7ppm/℃)。為了於顯示器基材上之薄膜製作圖案，經常期望具有低CTE。
許多平板顯示器使用兩片玻璃基材例如一片TFT基材及一片彩色濾光片基材，典型具有同類型的玻璃。於顯示器面板成品中之玻璃基材成本於某些情況下約占總面板成本之10-20%。另一方面，習知浮面玻璃成本比多種平板顯示器用途中所使用之硼矽酸玻璃之成本低一次冪幅度。技藝界需要降低玻璃基材成本至顯示器用途可接受的程度，如此降低總顯示器成本。
已知使用諸如鋁之材料處理玻璃表面(例如參考核發給Hessenkemper之JP 60-176952及WO 2004/096724，二案皆以引用方式併入此處)。但此等處理未能以與浮面玻璃製法符合一致之有效方式進行。
有鑑於此，顯然技藝界需要有一種以更有效之方式製造平板玻璃之方法，亦即透過浮面製法或壓花生產線法包括以更有效方式處理玻璃讓玻璃更為耐用之技術。
本發明係關於一種製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之方法。於本發明之不同的具體實施例中，玻璃可使用浮面法或壓花線法製造。於本發明之若干具體實施例中，以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃包含一基礎玻璃部分其包括：SiO2
67-75%，Na2
O 10-20%，CaO 5-15%，Al2
O3
0-7%，MgO 0-7%，及K2
O 0-7%。任選地，玻璃可進一步包括一種或多種著色劑諸如鐵、硒、鈷、鉺等。
於本發明之若干具體實施例中，以蘇打-石灰-二氧化矽
為主之浮面玻璃基材經改性來符合顯示器玻璃之需求。於若干具體實施例中，以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃表面經處理來防止或大為減少鈉擴散入顯示器結構及顯示裝置。
於本發明之若干具體實施例中，玻璃主面於進入退火窯當下或恰在進入之前使用氯化鋁(AlCl3
)處理。於浮面製法中，退火窯係位在熔融浴(例如錫浴)後方而於壓花線製法中，退火窯係位於壓花輥輪後方(亦即退火窯係恰位在玻璃成形階段後方)。氯化鋁可以包括AlCl3
提供於溶劑諸如甲醇或若干其它醇類等之混合物之形式使用。於浮面或壓花生產線玻璃製造程序中，於進入退火窯當下或恰在進入之前進行氯化鋁處理之優點在於其允許處理於期望之玻璃溫度進行，利用存在於退火窯中之過量氧氣協助燒掉溶劑，且允許於退火窯中或附近之通風功能以有效方式去除處理的副產物。如此，於若干實施例中之非限制性情況下，可避免於退火窯之後使用相對應加熱之鋁處理步驟，本方法可避免退火窯之後之額外通風步驟。藉此方式製造之玻璃例如但非限制性可用於玻璃窗用途、太陽能電池用途、家具玻璃用途用於支載薄膜電晶體(TFT)之玻璃及/或顯示器玻璃用途。
於若干具體實施例中，玻璃係設計用於平板顯示器諸如PDP、LCD及/或OLED。藉鈉封阻表面處理而大減由玻璃基材擴散之鈉，藉此允許於玻璃基材上之TFT(例如a-SiTFT、poly-Si TFT等)及/或其它電子裝置之製造，而未造成
顯示器特性之顯著降級。根據本發明之若干具體實施例之玻璃可用於某些顯示器用途之一片基材或兩片基材。
於本發明之若干具體實施例中，提供一種製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之方法，該方法包含：於一窯爐提供玻璃原料來形成玻璃熔化液；將由該玻璃熔化液所形成之一玻璃條帶前進送至一退火窯，玻璃條帶於該處經退火；以及當該玻璃條帶於由約540℃至850℃之溫度時，於進入退火窯當下或恰在進入之前，使用氯化鋁處理該玻璃條帶之至少一個主面。
於本發明之其它具體實施例中，提供一種製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之裝置，該裝置包含：一窯爐，玻璃原料係導入該窯爐中而形成玻璃熔化液；一退火窯，由該玻璃熔化液所形成之一玻璃條帶係於該退火窯中退火；以及當玻璃條帶係於由約580℃至850℃之溫度時，於進入退火窯當下或恰在進入之前，使用氯化鋁處理該玻璃條帶之至少一個主面之裝置。
此處所述玻璃可根據如浮面生產線所製造之玻璃厚度製造。另外，於浮面處理後，如此於某些顯示器用途於氯化鋁處理後，玻璃可拋光至較小厚度。例如，具有厚度約1.6毫米之起始基材可拋光至約0.6-1.2毫米(更佳由約0.7-1.1毫米)厚度用於某些顯示器用途。至於另一個實例，始於1.1毫米厚度之玻璃基材可被拋光至0.7毫米厚度。處理後拋光係於與使用氯化鋁處理之該表面相對之玻璃表面上進行，因此不會干擾於該玻璃之已經處理之表面上的鋁含
量。
第1圖為示意圖顯示根據本發明之具體實施例，使用浮面程序之一種玻璃製造方法。
第2圖為閘極-源極電壓(V)相對於汲極-源極電流(A)之線圖，顯示根據本發明之具體實施例所製成之於以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃上之a-Si TFT之特性。
本發明係關於一種使用浮面程序及/或壓花線程序中之一者或二者製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之方法。於本發明之若干具體實施例中，玻璃主面於進入退火窯當下或恰在進入之前使用氯化鋁(AlCl3
)處理。於浮面製法中，退火窯係位在熔融浴(例如錫浴)後方，此處玻璃漂浮於熔融浴上；而於壓花線程序中，退火窯係位於壓花輥後方，於玻璃之一個或兩個主面形成圖案(亦即退火窯係恰位於玻璃成形階段後方)。於進入退火窯當下或恰在進入之前，氯化鋁處理之優點在於允許處理於期望之玻璃溫度進行，利用存在於退火窯中之過量氧氣協助燒掉與氯化鋁混合之溶劑，且允許於退火窯內或附近之通風功能以有效方式去除處理之副產物。注意處理可於其它氣體氣氛(例如以氮為主之氣氛)下進行。如此，於多個實例之非限制性情況下可免除退火窯之後之額外通風步驟，如同退火窯之後帶有相對應加熱之鋁處理步驟。
於若干具體實施例中，玻璃係設計用於平板顯示器諸如PDP、LCD及/或OLED。藉鈉封阻表面處理而大減由玻璃基材擴散之鈉，藉此允許於玻璃基材上之TFT及/或其它電子裝置之製造，而未造成顯示器特性之顯著降級。
根據本發明之若干實施例之以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃實例，以重量百分比基準，包括下列基本成分：
其它次要成分包括多種精製助劑諸如鹽餅、結晶水等也可含括於基礎玻璃。例如於若干實施例中，此處玻璃可由批次原料二氧化矽砂、蘇打灰、白雲石、石灰石、使用鹽餅(SO3
)作為精製劑(或當然如前文討論之氧化硼)製造。還原劑及氧化劑也可用於某些情況。於某些情況下，此處以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃以重量計包括約10-15% Na2
O及約6-12% CaO。除了前文討論之基礎玻璃材料外，玻璃批料及/或玻璃成品可包括著色劑部分，包括諸如鐵、
鉺、鈷、硒及/或等材料。於本發明之若干具體實施例中，玻璃中之總鐵含量係由約0.05%至1.2%，且更佳由約0.3%至0.8%。於某些透明高度透光性玻璃之情況下總鐵含量係由約0.005%至0.025%。存在於玻璃及如此存在於其著色劑部分之鐵總量根據標準規範於此處係以Fe2
O3
表示。但如此並非暗示全部鐵實際上係呈Fe2
O3
之形式。同理，呈亞鐵狀態之鐵含量於此處係以FeO報告，但玻璃中之亞鐵狀態之鐵可能並非全部皆呈FeO形式。
阻斷或大減鈉遷移之技術包括於高溫使用氯化鋁進行表面處理。考慮如下反應式例如：AlCl3
+Na+
+H2
O→Al3
+NaCl(例如非化學計算量)。Al3
(+)整合入玻璃網絡內，可能穩定玻璃呈鈉長石狀相→Na[AlSi3
O8
]。富鋁紅柱石相3AlCl3
x2SiO2
甚至更安定。於若干具體實施例中，鈉長石相及富鋁紅柱石相可製作成並存於玻璃基材之玻璃網絡。
於若干具體實施例中，氧化鋁(例如AlCl3
)層形成於玻璃基材表面。浮面玻璃與氯化鋁之反應於某些情況下可如下進行。氯化鋁蒸氣可提供於浮面生產線之錫浴出口或出口附近，及/或氯化鋁/乙醇(或甲醇替代乙醇或增加甲醇)混合物可於錫浴出口或出口附近直接噴灑於熱玻璃帶上。如此，於浮面玻璃製程中，處理可於進入退火窯當下或恰在進入之前進行。
第1圖為根據本發明之具體實施例使用浮面法製造玻璃之方法之示意圖。玻璃批料原料(例如矽砂、蘇打灰、白
雲石、石灰石等)提供且於窯爐或熔窯1內加熱而形成玻璃熔化液。於階段3，玻璃熔化液傾倒至熔融材料浴諸如錫(錫浴)上，此處玻璃熔化液成形且連續冷卻而形成浮面玻璃帶。浮面玻璃帶朝向退火窯5前進用於緩慢冷卻。任選地，於進入退火窯5之前玻璃板之側緣部可於趁熱之條件下修整。玻璃板典型係於至少約540℃，更佳至少約580℃且可能於由540℃(或580℃)至800℃之範圍之溫度到達退火窯起點。於退火過程中，玻璃板條帶溫度從退火溫度(例如約538-560℃)徐緩冷卻至約495-560℃之應變溫度，此種溫度範圍可稱作為退火範圍。雖然此種溫度範圍對退火而言為較佳，但於若干情況下也可使用不同溫度。於本發明之不同實施例中，於退火期間連續玻璃板可由輥輪或氣體所支載。
於5退火後，連續玻璃板繼續移動而於7進行進一步加工處理，諸如切割、冷卻、塗覆及/或等中之一者或多者。於若干具體實施例中，於氯化鋁處理玻璃之第一主面10之後，玻璃於處理7期間接受與接受該項處理之第一主面相對之玻璃之第二主面之拋光處理，來縮小用於顯示器用途之玻璃厚度。例如，具有厚度由約1.3毫米至1.8毫米(例如約1.5至1.7毫米，或約1.6毫米)之起始經表面處理之玻璃基材可被拋光至約0.6-1.2毫米(更佳約0.7-1.1毫米)之玻璃厚度來用於某些顯示器用途諸如LCD、OLED、PDP等。至於另一個實例，始於11毫米厚度之玻璃基材可拋光至0.7毫米厚度。後處理拋光係於與使用氯化鋁處理之該表面相對之玻
璃表面上進行，故不會干擾玻璃之已處理的表面之鋁含量。
於本發明之若干具體實施例中，玻璃之一主面(例如玻璃之與熔融浴槽相對之上表面)於進入退火窯5當下或恰在進入之前使用氯化鋁處理(例如AlCl3
或若干其它化學計算學)處理。如第1圖所示，於浮面製法中，退火窯5係位於熔融浴(例如錫浴)3後方，此處玻璃漂浮於熔融浴上。於進入退火窯5當下或恰在進入之前的氯化鋁處理10之優點在於允許處理於期望之玻璃溫度進行，且允許於退火窯內或附近之通風功能以有效方式去除處理的副產物。如此，於若干實例之非限制性情況下可免除如同於退火窯後使用相對應加熱之鋁處理步驟之於退火窯之後的額外通風步驟。
於氯化鋁處理10中，氯化鋁可於溶劑如醇提供。於若干具體實施例中，氯化鋁可於溶劑諸如甲醇等提供。替代甲醇或額外，可使用乙醇、異丙醇、水等作為提供氯化鋁於其中之溶劑。例如，於若干具體實施例中，氯化鋁處理可為或包括AlCl3
x6H2
O等。氯化鋁與溶劑之混合物可以任一種適當方式施用至玻璃主面。例如，於若干具體實施例中，氯化鋁與溶劑之混合物可藉位於玻璃條帶上方之氣體/空氣燃燒器朝向玻璃主面噴霧來施加處理(例如透過燃燒CVD或稱作為CCVD)處理。氯化鋁與溶劑之混合物可呈液相或氣相施用至燃燒器。另外，氯化鋁與溶劑之混合物可呈液體形式噴霧或藉氣化至玻璃主面上而於處理10期間施用至玻璃表面。於富含過量氧氣之退火窯中，溶劑迅速被燒掉且經由退火窯之通風口去除。
施用氯化鋁至玻璃主面(例如頂面)之目的範例係減少來自玻璃之鈉滲濾或其它鹼金屬滲濾。於玻璃表面上之氯化鋁造成Cl(來自於AlCl3
與玻璃中之鹼金屬元素(例如Na及/或K)及/或鹼土金屬元素(例如Ca及/或Mg)產生化學反應。例如，玻璃基體中之Na2
O於來自於AlCl3
之Cl2
反應而形成NaCl (NaCl→Na+Cl)，氧可呈醯氯等形式被去除；此外，氯化氫及/或水可於氣相形式去除。以類似方式，玻璃基體之K2
O與Cl2
(來自於AlCl3
)反應形成KCl。舉另一個實例，玻璃之CaO與Cl2
(來自於AlCl3
)反應而形成CaCl2
。再度，氯化氫被燒掉及於退火窯或退火窯附近藉通風口去除。如此，須了解使用氯化鋁諸如AlCl3
處理玻璃表面為從玻璃表面區域至玻璃內部的某種深度移除或減少鹼金屬元素及鹼土金屬元素之有效技術，藉此減少鹼金屬元素及/或鹼土金屬元素滲濾出玻璃外且玷染玻璃表面及/或損壞玻璃上之塗覆層(例如於加熱處理例如加熱回火期間)之能力。如此，玻璃表面部分比較玻璃板其餘部分諸如朝向玻璃板中央，前者含較少量鹼金屬及/或鹼土金屬元素(及較大量AlCl3
及SiO2
)，藉此改良玻璃之耐用性及改良其耐玷染性。
此外，來自於氯化鋁之鋁容易結合入玻璃表面區域，與玻璃基體元素形成鍵結。優異之處在於當來自於玻璃之蘇打與氯反應時，於玻璃基體內留下懸宕的氧鍵結，鋁可與此等懸宕的氧鍵結反應，藉此強化玻璃網絡及改良強度/耐用性。於玻璃中之矽及鋁可透過玻璃中之氧形成鍵結，
因此於若干具體實施例中，於表面上形成鈉長石結構。如此，玻璃表面區域富含鋁及矽，因而改良玻璃之強度及耐用性。
如前文說明，於氯化鋁處理10中，氯化鋁可於溶劑諸如醇(例如甲醇)內提供因而組成混合物。於若干實施例中，氯化鋁也可於水中提供組成混合物。混合物較佳含約1-25% AlCl3
(更佳約2-20%，又更佳約3-15%，及最佳約5-10% AlCl3
)，於本發明之若干具體實施例中，差額係由溶劑或水所組成。於混合物中溶劑：AlCl3
之重量比較佳係由約1:8至1:40，更佳係由約1:10至1:20(此處以甲醇做為溶劑實例)。發現此等比例可獲得最佳施用及處理結果。
發現施加氯化鋁處理之玻璃溫度範圍重要。特別，玻璃須夠熱來接受處理，促進氯化鋁與玻璃之元素間之良好反應，但玻璃又必須夠冷，因而腐蝕性處理副產物諸如氯化氫不會對其製造組件或玻璃本身造成顯著傷害。發現期望於處理10期間於玻璃處於由約550℃至900℃，更佳由約580℃至850℃，及最佳由約590℃至800℃之溫度將氯化鋁施用至玻璃表面。
於壓花玻璃生產線中，由於前文討論之優異理由故，氯化鋁處理10仍然係於進入退火窯當下或恰在進入之前進行。但於壓花生產線中未使用錫浴，取而代之，如美國專利案第6,796,146號所述，玻璃係藉一根或多根輥輪成形，該案全文以引用方式併入此處。
非晶矽TFT係於根據本發明處理之以蘇打-石灰-二氧
化矽為主之玻璃表面上製造，其特徵顯示於第2圖。特定言之，第2圖為閘極-源極電壓(V)相對於汲極-源極電流(A)之線圖，顯示根據本發明之具體實施例所製成之於以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃上之a-Si TFT之特性。TFT係以通道寬/長比為50微米/10微米，源極-汲極電壓為10伏特為其特徵。所得測量值證實TFT之特性包括場效遷移率、臨界值電壓、次臨界值斜率及OFF電流係類似於硼矽酸玻璃上所得之特性。TFT接受於200℃儲存100小時之加速壽命測試；觀察得只有微小變化，類似於硼矽酸玻璃上之TFT之情況。TFT也與閘極接受30伏特之偏壓應力2小時時間；臨界值電壓及遷移率之變化小，此點與於參考硼矽酸玻璃上之TFT類似。
於本發明之若干具體實施例中，以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之CTE可藉數種方法中之一種或多種減少。玻璃可於約500-550℃預先收縮(預先退火)，隨後CTE係類似於硼矽酸玻璃之CTE。此外，可改變玻璃組成來解決CTE。
此處所述玻璃可根據如浮面生產線所製造之玻璃厚度製造。另外，可於浮面製法之後如此於用於某些顯示器用途於氯化鋁處理之後，將玻璃拋光至較薄厚度。舉例言之，用於某些顯示器用途，具有厚度約1.6毫米之起始基材可拋光至約0.6-1.2毫米(更佳約0.7-1.1毫米)。至於另一實例，始於1.1毫米厚度之玻璃基材可拋光至0.7毫米厚度。後處理拋光係於與使用氯化鋁處理之該表面相對之玻璃表面上進行，因而不會干擾玻璃之已經處理表面之鋁含量。熟諳技
藝人士一旦了解前文揭示，則多種其它特徵、修改及改良將顯然易明。如此此等特徵、修改及改良被視為屬於本發明之一部分，其範圍係由如下申請專利範圍確定。
1‧‧‧窯爐
3‧‧‧錫浴
5‧‧‧退火窯
7‧‧‧玻璃加工處理
10‧‧‧於A及/或於B之氯化鋁處理
第1圖為示意圖顯示根據本發明之具體實施例，使用浮面程序之一種玻璃製造方法。
第2圖為閘極-源極電壓(V)相對於汲極-源極電流(A)之線圖，顯示根據本發明之具體實施例所製成之於以蘇打-石灰-二氧化矽為主之浮面玻璃上之a-Si TFT之特性。
1‧‧‧窯爐
3‧‧‧錫浴
5‧‧‧退火窯
7‧‧‧玻璃加工處理
10‧‧‧於A及/或於B之氯化鋁處理
Claims (9)
- 一種製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主之玻璃之方法，該方法包含：於一窯爐提供包含鈉、二氧化矽及鈣之玻璃原料來形成玻璃熔化液；於約500-550℃之溫度預先退火一由該玻璃熔化液形成的玻璃條帶，以改變其熱膨脹係數(CTE)；使該經預先退火的玻璃條帶前進送至一退火窯，玻璃條帶係於該處退火；以及當該玻璃條帶於由約580℃至850℃之溫度時，於進入退火窯當下或恰在進入之前，使用氯化鋁處理該經預先退火的玻璃條帶之至少第一主面，以自該經預先退火的玻璃條帶製造以蘇打-石灰-二氧化矽為主的玻璃，該退火窯係維持一具有過量氧氣的環境。
- 如申請專利範圍第1項之方法，其中該處理包含施用氯化鋁與至少一種溶劑之混合物至該玻璃條帶之表面，其中於該混合物中之溶劑：氯化鋁之重量比係由約1：8至1：40。
- 如申請專利範圍第1項之方法，其中該處理包含施用氯化鋁與至少一種溶劑之混合物至該玻璃條帶之表面，其中於該混合物中之溶劑：氯化鋁之重量比係由約1：10至1：20。
- 如申請專利範圍第1項之方法，其中該處理包含施用氯化鋁與至少一種溶劑之混合物至該玻璃條帶之表面，其 中該混合物為由約1%至25% AlCl3 。
- 如申請專利範圍第1項之方法，其中該處理包含施用氯化鋁與至少一種溶劑之混合物至該玻璃條帶之表面，其中該混合物為由約2%至20% AlCl3 。
- 如申請專利範圍第1項之方法，其中該處理包含施用氯化鋁與至少一種溶劑之混合物至該玻璃條帶之表面，其中該混合物為由約3%至15% AlCl3 。
- 如申請專利範圍第4項之方法，其中該溶劑包含甲醇、乙醇、及異丙醇中之一者或多者。
- 如申請專利範圍第1項之方法，進一步包含於該第一主面之處理後，拋光該玻璃之與接受該處理之第一主面相對之一第二主面，俾便縮小該用於顯示器用途的玻璃之厚度。
- 如申請專利範圍第8項之方法，其中該拋光包含將一玻璃基材由約1.3毫米至1.8毫米之起始厚度減薄至由約0.6毫米至1.2毫米之成品厚度。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11/878,318 US8677782B2 (en) | 2006-07-25 | 2007-07-23 | Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride at or just prior to annealing LEHR |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200918478A TW200918478A (en) | 2009-05-01 |
| TWI469942B true TWI469942B (zh) | 2015-01-21 |
Family
ID=39745091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW97124293A TWI469942B (zh) | 2007-07-23 | 2008-06-27 | 含有在退火窯當下或臨進之前以氯化鋁作表面處理之製造玻璃的方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8677782B2 (zh) |
| EP (1) | EP2181075B1 (zh) |
| JP (1) | JP5296072B2 (zh) |
| BR (1) | BRPI0813551B1 (zh) |
| ES (1) | ES2745005T3 (zh) |
| PL (1) | PL2181075T3 (zh) |
| TW (1) | TWI469942B (zh) |
| WO (1) | WO2009014577A1 (zh) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7923063B2 (en) * | 2007-12-10 | 2011-04-12 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride using combustion deposition prior to deposition of antireflective coating |
| DE102008062362A1 (de) * | 2008-09-08 | 2010-07-01 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Herstellung von thermisch gehärteten Gläsern |
| DE102008046044A1 (de) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Herstellung von thermisch gehärteten Gläsern |
| FI20090057A0 (fi) * | 2009-02-17 | 2009-02-17 | Beneq Oy | Antibakteerinen lasi |
| WO2011000790A2 (de) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | Heiko Hessenkemper | SCHMIERMITTEL FÜR HEIßE GLASPROZESSE UND VERWENDUNG DES SCHMIERMITTELS ZUR OBERFLÄCHENVEREDLUNG VON GLAS |
| US20140087193A1 (en) * | 2012-09-26 | 2014-03-27 | Jeffrey Scott Cites | Methods for producing ion exchanged glass and resulting apparatus |
| JP6070070B2 (ja) * | 2012-10-31 | 2017-02-01 | 旭硝子株式会社 | 一次元アルミナナノ構造体の形成方法 |
| US10753883B2 (en) | 2017-06-07 | 2020-08-25 | Guardian Glass, LLC | Method and system for detecting inclusions in float glass |
| JP6940866B2 (ja) * | 2017-06-21 | 2021-09-29 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 | 半導体光デバイス、半導体光源、光集積回路、及び半導体光デバイスの製造方法 |
| CN111712473B (zh) * | 2018-03-07 | 2022-02-25 | 佳殿玻璃有限公司 | 基于波长分析检测浮法玻璃中的夹杂物方法和系统 |
| US20190276348A1 (en) | 2018-03-07 | 2019-09-12 | Guardian Glass, LLC | Method and system for reducing glass failures from nickel sulfide based inclusions |
| US10481097B1 (en) | 2018-10-01 | 2019-11-19 | Guardian Glass, LLC | Method and system for detecting inclusions in float glass based on spectral reflectance analysis |
| WO2020096756A1 (en) * | 2018-11-08 | 2020-05-14 | Corning Incorporated | Metal halide treatment for glass substrate electrostatic charge reduction |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022601A (en) * | 1975-06-02 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for coating a glass substrate |
| WO2007014732A2 (de) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Schott Ag | Verfahren und vorrichtung zum nachbearbeiten von glasscheiben |
| US20070141349A1 (en) * | 2003-05-02 | 2007-06-21 | Heiko Hessenkemper | Alkaline glasses with modified glass surfaces and process for the production thereof |
Family Cites Families (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1070795B (de) | 1958-06-21 | 1959-12-10 | Deutsche Tafelglas Aktiengesellschaft Detag, Fürth (Bay.) | Verfahren zum Verguten von Glasoberflächen gegenüber der Einwirkung von Flüssigkeiten, insbesondere Wasser, und in Luft bzw. Gas enthaltender Feuchtigkeit |
| SU140966A1 (ru) | 1960-10-22 | 1960-11-30 | И.И. Борисова | Способ изменени свойств стеклоизделий |
| US3827871A (en) | 1971-11-23 | 1974-08-06 | United Glass Ltd | Coating process for glass containers |
| US3880633A (en) * | 1974-01-08 | 1975-04-29 | Baldwin Co D H | Method of coating a glass ribbon on a liquid float bath |
| SU988787A1 (ru) | 1981-06-12 | 1983-01-15 | Всесоюзный научно-исследовательский институт технического и специального строительного стекла | Способ повышени химической устойчивости стекла |
| SU990708A1 (ru) | 1981-07-27 | 1983-01-23 | Государственный научно-исследовательский институт стекла | Способ обработки поверхности стекла |
| JPS60176952A (ja) | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの焼け防止法 |
| GB2171990B (en) * | 1985-03-08 | 1988-12-07 | Central Glass Co Ltd | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article |
| JPS62197332A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-09-01 | Tokyo Denshi Kagaku Kk | ガラス基板素材の処理方法 |
| SU1392043A1 (ru) | 1986-05-20 | 1988-04-30 | Гусевский Филиал Государственного Научно-Исследовательского Института Стекла | Состав дл упрочнени стеклоизделий |
| US4853257A (en) * | 1987-09-30 | 1989-08-01 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath |
| US5217753A (en) * | 1989-02-21 | 1993-06-08 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coated glass articles |
| US5054355A (en) | 1990-03-13 | 1991-10-08 | Guardian Industries Corp. | Automatic glass cutting and positioning system |
| US5209767A (en) | 1991-03-19 | 1993-05-11 | Glasstech, Inc. | Glass sheet annealing lehr having gas support conveyor |
| FR2697242B1 (fr) | 1992-10-22 | 1994-12-16 | Saint Gobain Vitrage Int | Vitrage trempé chimique. |
| FR2700764B1 (fr) | 1993-01-26 | 1995-04-14 | Lalique | Procédé pour le traitement de surface d'articles en verre, notamment en cristal et articles ainsi obtenus. |
| IT1262463B (it) | 1993-11-30 | 1996-06-19 | Siv Soc Italiana Vetro | Procedimento e dispositivo per la fabbricazione di vetro piano con caratteristiche migliorate. |
| US5780371A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-14 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Reinforced glass substrate |
| FR2744440B1 (fr) | 1996-02-07 | 1998-03-20 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
| US20030039843A1 (en) * | 1997-03-14 | 2003-02-27 | Christopher Johnson | Photoactive coating, coated article, and method of making same |
| JPH11171599A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-06-29 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の脱アルカリ処理方法 |
| JPH11228172A (ja) | 1998-02-17 | 1999-08-24 | Kobe Steel Ltd | プラズマ耐食性ガラス及びこれを用いた装置 |
| US6261693B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-07-17 | Guardian Industries Corporation | Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass |
| US6713180B1 (en) * | 1999-09-01 | 2004-03-30 | Pilkington Plc | Improvements in or relating to tempered glazings and glass for use therein |
| US6796146B2 (en) | 2000-06-02 | 2004-09-28 | Guardian Industries Corp. | Method for manufacturing patterned glass products |
| US6711917B2 (en) * | 2000-09-15 | 2004-03-30 | Guardian Industries Corporation | Photochromic float glasses and methods of making the same |
| US6602371B2 (en) | 2001-02-27 | 2003-08-05 | Guardian Industries Corp. | Method of making a curved vehicle windshield |
| WO2002081390A1 (en) * | 2001-03-20 | 2002-10-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method and apparatus for forming patterned and/or textured glass and glass articles formed thereby |
| US6716780B2 (en) | 2001-09-26 | 2004-04-06 | Guardian Industries Corp. | Grey glass composition including erbium, holmium, and/or yttrium |
| JP4251552B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2009-04-08 | 日本板硝子株式会社 | ガラス板、光電変換装置用ガラス板およびガラス板の製造方法 |
| US6610622B1 (en) | 2002-01-28 | 2003-08-26 | Guardian Industries Corp. | Clear glass composition |
| JP4549184B2 (ja) * | 2002-06-03 | 2010-09-22 | Ｈｏｙａ株式会社 | 情報記録媒体用基板並びに情報記録媒体およびその製造方法 |
| US6953759B2 (en) | 2002-08-26 | 2005-10-11 | Guardian Industries Corp. | Glass composition with low visible and IR transmission |
| KR100916602B1 (ko) | 2002-11-11 | 2009-09-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 소다라임 글라스를 이용한 액정표시장치와 그 제조방법 |
| CA2522807A1 (en) * | 2003-04-22 | 2004-11-04 | The Coca-Cola Company | Method and apparatus for strengthening glass |
| US7703303B2 (en) * | 2004-03-12 | 2010-04-27 | Hoya Corporation | Magnetic disk glass substrate manufacturing method |
-
2007
- 2007-07-23 US US11/878,318 patent/US8677782B2/en active Active
-
2008
- 2008-05-29 BR BRPI0813551-7A patent/BRPI0813551B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-05-29 PL PL08767917T patent/PL2181075T3/pl unknown
- 2008-05-29 ES ES08767917T patent/ES2745005T3/es active Active
- 2008-05-29 EP EP08767917.1A patent/EP2181075B1/en active Active
- 2008-05-29 JP JP2010518169A patent/JP5296072B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-29 WO PCT/US2008/006753 patent/WO2009014577A1/en active Application Filing
- 2008-06-27 TW TW97124293A patent/TWI469942B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022601A (en) * | 1975-06-02 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for coating a glass substrate |
| US20070141349A1 (en) * | 2003-05-02 | 2007-06-21 | Heiko Hessenkemper | Alkaline glasses with modified glass surfaces and process for the production thereof |
| WO2007014732A2 (de) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Schott Ag | Verfahren und vorrichtung zum nachbearbeiten von glasscheiben |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2181075A1 (en) | 2010-05-05 |
| US20080022723A1 (en) | 2008-01-31 |
| TW200918478A (en) | 2009-05-01 |
| PL2181075T3 (pl) | 2020-03-31 |
| EP2181075B1 (en) | 2019-06-26 |
| US8677782B2 (en) | 2014-03-25 |
| JP5296072B2 (ja) | 2013-09-25 |
| JP2010534187A (ja) | 2010-11-04 |
| BRPI0813551B1 (pt) | 2019-04-09 |
| WO2009014577A1 (en) | 2009-01-29 |
| BRPI0813551A2 (pt) | 2014-12-23 |
| ES2745005T3 (es) | 2020-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI469942B (zh) | 含有在退火窯當下或臨進之前以氯化鋁作表面處理之製造玻璃的方法 | |
| TWI461381B (zh) | A glass plate for a substrate, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a thin film transistor panel | |
| EP1477464B1 (en) | Transparent glass having blue edge color | |
| US20160168014A1 (en) | Dimensionally stable fast etching glasses | |
| EP2043962B1 (en) | Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride at or just prior to annealing lehr | |
| WO2018001965A1 (en) | Chemically temperable glass sheet | |
| TWI275573B (en) | Method for producing float glass | |
| EP3126303A1 (en) | Chemically temperable glass sheet | |
| US20160046519A1 (en) | Glass plate and process for manufacturing glass plate | |
| KR102628724B1 (ko) | 알루미노실리케이트 유리 조성물, 알루미노실리케이트 유리 및 그 제조 방법과 응용 | |
| US20180118609A1 (en) | Glass sheet capable of having controlled warping through chemical strengthening | |
| EP3085672A1 (en) | Glass sheet manufacturing method and glass sheet | |
| US20170152170A1 (en) | Dimensionally stable fast etching glasses | |
| US10377660B2 (en) | Glass sheet capable of having controlled warping through chemical strengthening | |
| TW201345849A (zh) | 玻璃板 | |
| KR102526728B1 (ko) | 솔라리제이션 저항성의 희토류 도핑된 유리들 | |
| TWI682914B (zh) | 可化學性回火的玻璃片 | |
| US20200131075A1 (en) | Glass substrate | |
| KR20150036095A (ko) | 유리판의 제조 방법 및 유리판 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |