KR20150036095A - 유리판의 제조 방법 및 유리판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서, 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

유리판의 제조 방법 및 유리판 {METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE, AND GLASS PLATE}
본 발명은 유리판의 제조 방법 및 유리판에 관한 것이다.
유리판의 성형 방법으로서 플로트법이 널리 이용되고 있다. 플로트법은 플로트 배스(이하, 간단히 「배스」라고도 함) 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 용융 주석 상에서 유동시켜 띠판 형상으로 성형한다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 배스 내의 분위기는, 용융 주석의 산화를 방지하기 위하여 수소 가스를 포함하는 환원 분위기로 된다. 수소 가스는, 외부로부터 혼입되는 산소 가스와 반응함으로써 용융 주석의 산화를 방지한다.
일본 특허 공개 제2010-053032호 공보
배스 내에서 용융 유리를 성형할 때, 환원 분위기 중의 입자가 응집하여 용융 유리의 상면에 낙하되고, 부착되어 결점이 되는 경우가 있었다.
본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법 및 유리판의 제공을 목적으로 한다.
상기 목적을 해결하기 위하여, 본 발명의 형태 (1)에 따른 유리판의 제조 방법은,
플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 형태 (2)에 따른 유리판의 제조 방법은,
플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 형태 (3)에 따른 유리판은,
플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,
불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 형태 (4)에 따른 유리판은,
플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,
불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면의 품질이 양호한 유리판의 제조 방법 및 유리판이 제공된다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도 (1)이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도 (2)이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 도면에 있어서, 동일하거나 또는 대응하는 구성에는, 동일하거나 또는 대응하는 부호를 붙여 설명을 생략한다.
본 실시 형태에 따른 유리판의 제조 방법은, 예를 들어 용해 공정, 성형 공정, 서냉 공정 및 절단 공정을 가지며, 필요에 따라 연마 공정을 더 갖는다. 연마 공정은 유리판의 용도에 따라 행해진다.
용해 공정은, 복수 종류의 원료를 섞어 제조한 유리 원료를 용해하여 용융 유리를 얻는다. 유리 원료는 용해로 내에 투입된 후, 버너로부터 분사되는 화염의 복사열에 의해 용해되어 용융 유리가 된다.
성형 공정은, 용해 공정에서 얻어지는 용융 유리를 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급하고, 용융 주석 상에서 용융 유리를 유동시켜 성형하여 판 형상 유리(소위 유리 리본)를 얻는다. 이 성형 방법은 플로트법이라고 불린다. 배스 내의 분위기는, 용융 주석의 산화를 방지하기 위하여 수소 가스를 포함하는 환원 분위기로 된다. 판 형상 유리는 소정 방향으로 유동하면서 냉각되어, 배스의 출구 부근에서 용융 주석으로부터 끌어올려진다.
서냉 공정은, 성형 공정에서 얻어지는 판 형상 유리를 서냉로 내에서 서냉한다. 판 형상 유리는, 서냉로의 입구로부터 출구를 향하여 롤 위를 수평으로 반송되면서 서냉된다. 서냉로 입구의 내측 근방에서 판 형상 유리의 표면에 아황산(SO2) 가스 등이 분사되어, 판 형상 유리의 표층에 흠집 방지막이 형성된다. 서냉로의 출구는 대기에 개방되어 있으므로, 서냉로 내의 분위기는 대기 분위기이다.
절단 공정은, 서냉 공정에서 서냉된 판 형상 유리를 절단기로 소정 치수로 절단한다. 절단 공정에 있어서, 판 형상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부(소위 귀부)가 절제된다. 판 형상 유리의 폭 방향 양쪽 테두리부는, 표면 장력 등의 영향으로 두꺼워지기 때문이다.
연마 공정은, 절단 공정에서 얻어지는 유리판의 주면을 연마한다. 연마 공정에서는, 유리판의 용도에 따라 배스 내에서 용융 주석과 접촉한 주면(이하, 「보텀면」이라고 함)이 연마된다. 보텀면과 반대측의 주면이며, 배스 내에서 환원 분위기와 접촉한 주면(이하, 「톱면」이라고 함)은 연마되지 않는다.
이와 같이 하여 제품인 유리판이 얻어진다. 유리판은, 예를 들어 차량용 창 유리, 건축물용 창 유리, 디스플레이용 기판, 디스플레이용 커버 유리, 또는 포토마스크용 기판으로서 사용된다. 「디스플레이」는 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)를 포함한다. 디스플레이용 기판의 두께로서는 1mm 이하가 예시된다. 또한, 태블릿 단말기 등의 플렉시블 액정 패널에 사용되는 유리판의 두께는 0.3mm 이하인 것이 바람직하다.
유리판의 유리 종류는 유리판의 용도에 따라 선택된다. 예를 들어, LCD용 유리 기판의 경우, 무알칼리 유리가 사용된다. 또한, 차량용 창 유리, 건축물용 창 유리 및 PDP용 유리 기판의 경우, 소다석회 유리가 사용된다. 디스플레이용 커버 유리의 경우, 화학 강화 가능한 소다석회 유리가 주로 사용된다. 포토마스크용 기판의 경우, 열팽창 계수가 낮은 석영 유리가 주로 사용된다.
무알칼리 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 50 내지 66％, Al2O3: 10.5 내지 24％, B2O3: 0 내지 12％, MgO: 0 내지 8％, CaO: 0 내지 14.5％, SrO: 0 내지 24％, BaO: 0 내지 13.5％, ZrO2: 0 내지 5％, SnO: 0 내지 3％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 29.5％이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하이어도 된다.
무알칼리 유리는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 58 내지 66％, Al2O3: 15 내지 22％, B2O3: 5 내지 12％, MgO: 0 내지 8％, CaO: 0 내지 9％, SrO: 3 내지 12.5％, BaO: 0 내지 2％, SnO: 0 내지 1％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 18％이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하이다.
소다석회 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 65 내지 75％, Al2O3: 0 내지 3％, CaO: 5 내지 15％, MgO: 0 내지 15％, Na2O: 10 내지 20％, K2O: 0 내지 3％, Li2O: 0 내지 5％, Fe2O3: 0 내지 3％, TiO2: 0 내지 5％, CeO2: 0 내지 3％, BaO: 0 내지 5％, SrO: 0 내지 5％, B2O3: 0 내지 5％, ZnO: 0 내지 5％, ZrO2: 0 내지 5％, SnO2: 0 내지 3％, SO3: 0 내지 0.5％를 함유한다.
이어서, 도 1 및 도 2에 기초하여, 상기 유리판의 성형 공정의 상세에 대하여 설명한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 유리판의 제조 장치의 설명도이다. 도 1은 배스의 평면 단면도이고, 도 2는 배스의 측면 단면도이다.
성형 공정에서는, 배스(10) 내의 용융 주석(20) 상에서 용융 유리(30)를 유동시키면서 냉각하여 띠판 형상으로 성형한다. 용융 주석(20)의 산화를 방지하기 위하여, 배스(10) 내의 상부 공간은 수소 가스를 포함하는 환원 분위기(40)로 채워져 있다. 외기의 침입을 방지하기 위하여, 배스(10) 내의 상부 공간은 대기압보다도 높은 정압으로 유지되어 있다. 배스(10)에는 스파우트 립(50), 히터(60), 급기로(70) 및 배기로(80) 등이 설치되어 있다.
스파우트 립(50)은 용융 유리(30)를 배스(10) 내에 공급하는 공급로이며, 배스(10)의 입구(12)에 설치된다. 스파우트 립(50)은 용융 유리(30)를 제작하는 용해로에 접속되어 있다.
히터(60)는 배스(10) 내를 가열하는 것이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 천장으로부터 매달려져 있다. 히터(60)는, 예를 들어 용융 유리(30)의 유동 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되며, 매트릭스 형상으로 배치되어 있다. X 방향 및 Y 방향은 서로 직교하는 수평 방향이다.
히터(60)의 출력은, 배스(10)의 입구(12)로부터 출구(14)를 향할수록 용융 유리(30)의 온도가 낮아지도록 제어된다. 또한, 히터(60)의 출력은 용융 유리(30)의 두께가 폭 방향(Y 방향)으로 균일해지도록 제어된다.
급기로(70)는 배스(10) 내에 환원성 가스를 급기하는 통로이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 천장에 설치된다. 급기로(70)는 소정 방향(X 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.
환원성 가스는 수소 가스와 질소 가스의 혼합 가스이어도 된다. 환원성 가스 중에서 차지하는 수소 가스의 비율은, 예를 들어 0.1 내지 15체적％이다.
배기로(80)는 환원 분위기(40)를 배기하는 통로이며, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같이 배스(10)의 측벽에 설치된다. 배기로(80)는 소정 방향(X 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.
도 2에 도시한 바와 같이, 용융 유리(30)를 띠판 형상으로 성형한 판 형상 유리(소위 유리 리본)는, 배스(10)의 출구(14) 부근에서 용융 주석(20)으로부터 끌어올려진다. 그 후, 판 형상 유리는 서냉 공정, 절단 공정 등을 거쳐 제품인 유리판으로 된다.
그런데, 배스(10) 내의 환원 분위기(40)는, 급기로(70)로부터 공급되는 환원성 가스 외에도, 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 휘산된 성분을 포함하고 있다. 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산된 성분(단체, 화합물을 포함함) 중 증기압이 낮은 성분은, 원래 휘산되기 어렵고 소량이기 때문에 문제가 되지 않는다. 한편, 증기압이 높은 성분은, 가스로서 배스(10)의 외부로 배출되기 때문에 통상은 문제가 되지 않는다. 그러나, 증기압이 낮은 성분은, 특정한 화합물(예를 들어 할로겐화물)이 되면 증기압이 높아져 휘산 가능하게 되지만, 일단 휘산된 후, 환원 분위기(40) 중의 수소 가스에 의해 바로 환원되어, 그 결과, 분위기 중에서 원래의 증기압이 낮은 성분으로 복귀되는 경우가 있다. 그러면, 증기압이 낮은 성분은 가스로서 존재하기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 되어, 용융 유리(30) 상에 낙하하여 결점이 되는 경우가 있다. 단체로서 증기압이 낮고, 할로겐화물이 되기 쉬운 원소로서는, 예를 들어 Au, Cu, Ag 등의 제11족 원소를 들 수 있다. 제11족 원소는 알칼리 금속 원소와 동일한 가전자의 구성을 가지며, 1가의 이온이 되기 쉽고, 할로겐화물이 되기 쉬우므로, 할로겐화물로서 용융 주석(20)이나 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산되기 쉽다. 또한, Au, Cu, Ag는 1가의 이온이 되면, 용융 주석(20)이나 용융 유리(30) 중에서 확산되기 쉽고, 환원 분위기(40)와의 계면까지 이동하기 쉬우므로, 환원 분위기(40) 중에 휘산되기 쉽다. 환원 분위기(40) 중의 할로겐화 금, 할로겐화 구리, 할로겐화 은이 수소 가스에 의해 환원되면, 원래의 증기압이 낮은 Au, Cu, Ag가 발생한다. 그리고, Au, Cu, Ag는 단체로서는 가스로서 존재하기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 된다. 이 응집물은 Au, Cu 및 Ag 중 적어도 하나의 원소를 포함하며, Au, Cu 및 Ag 이외의 원소를 더 포함하여도 된다.
본 실시 형태에서는, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30)는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag(이하, 총칭하여 「Au 등」이라고 함)의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이다. Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면, 용융 유리(30) 중에 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산하여 응집물이 되는 성분이 적다. 그로 인해, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 용융 유리(30)의 상면에 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다. 보다 바람직한 범위는 0.3질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 0.1질량ppm 이하이다.
배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량은, 용해로에 투입하는 유리 원료 중의 Au 등의 총 함유량보다도 약간 적다. Au 등은 용해 공정에 있어서 서서히 유리로부터 외부로 휘산되기 때문이다.
따라서, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하가 되도록 유리 원료 중의 Au 등의 총 함유량은 1.0질량ppm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 범위는 0.5질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 0.3질량ppm 이하이다.
또한, 본 실시 형태에서는, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30)는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I(이하, 총칭하여 「F 등」이라고 함)의 총 함유량이 200질량ppm 이하이다. F 등은 단체로서는 유리의 성형 온도보다도 비점이 낮아 Au 등의 휘산을 촉진한다.
배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면, 용융 유리(30) 중의 Au 등이 환원 분위기(40) 중에 휘산되기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다. 보다 바람직한 범위는 100질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 50질량ppm 이하이다.
배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량은, 용해로에 투입하는 유리 원료 중의 F 등의 총 함유량보다도 약간 적다. F 등은 용해 공정에 있어서 서서히 유리로부터 외부로 휘산되기 때문이다.
따라서, 배스(10) 내에 공급하기 직전의 용융 유리(30) 중의 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하가 되도록 유리 원료 중의 F 등의 총 함유량은 500질량ppm 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 범위는 300질량ppm 이하, 더욱 바람직한 범위는 200질량ppm 이하이다.
배스(10) 내의 용융 주석(20)은, 톱면의 고품질화로 인해 불순물인 Au 등의 총 함유량이 10질량ppm 이하이며, F 등의 총 함유량이 100질량ppm 이하이어도 된다. 배스(10) 내의 용융 주석(20)의 원료로서는, 예를 들어 주석이 사용된다.
이어서, 상기 제조 방법으로 얻어지는 유리판에 대하여 설명한다.
유리판은 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이다. Au 등은 성형 공정 및 서냉 공정에 있어서 유리로부터 외부로 휘산되지만, 휘산량은 전체량에 비하여 얼마되지 않는다. 유리판의 유리 조성과, 성형 공정에서의 용융 유리(30)의 유리 조성은 대략 동일하다. 유리판 중의 Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면, 성형 공정에서의 용융 유리(30) 중의 Au 등의 총 함유량이 적고, 용융 유리(30) 중에 용융 유리(30)로부터 환원 분위기(40)로 휘산되어 응집물의 핵이 되는 성분이 적다. 그로 인해, 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 용융 유리(30)의 상면에 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다.
또한, 유리판은 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이다. F 등은 성형 공정 및 서냉 공정에 있어서 유리로부터 외부로 휘산되지만, 휘산량은 전체량에 비하여 얼마되지 않는다. 유리판의 유리 조성과, 성형 공정에서의 용융 유리(30)의 유리 조성은 대략 동일하다. 유리판 중의 F 등의 함유량이 200질량ppm 이하이면, 성형 공정에서의 용융 유리(30) 중의 F 등의 함유량이 적고, 용융 유리(30) 중의 Au 등이 환원 분위기(40)로 휘산되기 어려우므로, 환원 분위기(40) 중에서 응집물이 성장하기 어려워 응집물이 낙하하기 어려워진다. 따라서, 유리판의 톱면의 품질이 양호해진다.
이상, 본 발명의 일 실시 형태에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 제한되지 않는다. 본 발명의 범위를 일탈하지 않고, 상기 실시 형태에 다양한 변형 및 치환을 가할 수 있다.
예를 들어, 상기 실시 형태의 용융 유리(30)는, 배스(10) 내에 공급하기 직전에 있어서, (1) Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하, 또한 (2) F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이지만, (1) 또는 (2)만을 만족하여도 된다. 톱면의 부착물은, Au 등의 불순물과 F 등의 불순물의 양쪽이 지나치게 많은 경우에 발생하기 때문이다. 배스(10) 내의 용융 주석(20)의 불순물에 대해서도 마찬가지이다.
또한, 상기 실시 형태의 유리판은, (1) Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하, 또한 (2) F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이지만, (1) 또는 (2)만을 만족하여도 된다.
<실시예>
이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[예 1]
예 1에서는, 도 1 및 도 2에 도시하는 방법으로 무알칼리 유리를 포함하는 유리판을 제조하였다. 배스 내의 용융 주석의 원료로서는 주석을 사용하였다. 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 59.5％, Al2O3: 17％, B2O3: 8％, MgO: 3.3％, CaO: 4％, SrO: 7.6％, BaO: 0.1％, ZrO2: 0.1％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 15％이며, 잔량부가 불가피적 불순물이고, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하이었다.
유리 원료, 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리 및 유리판에 각각 포함되는 각 원소(Au 등, F 등을 포함함)의 함유량(질량％)은, 습식 분석에 의해 측정하였다. 습식 분석에서는 유리 원료 등의 샘플을 산에 용해시켜 분석을 행하였다. 또한, 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리의 샘플은, 배스의 입구 근방의 용융 유리를 충분히 냉각한 철제의 국자로 퍼낸 후, 급냉하여 제작하였다.
유리판의 톱면의 부착물의 평균 밀도(개/m2)는, 톱면이 1.0m×1.0m인 유리판을 육안으로 40매 관찰하여 측정하였다.
Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
[예 2 내지 예 6]
예 2 내지 예 6에서는, 유리 원료에 미량의 CuO, Ag2S를 등몰량 첨가한 것 이외에는, 예 1과 마찬가지로 하여 유리판을 제조하였다. 예 1 내지 예 4가 실시예이고, 예 5 내지 예 6이 비교예이다.
Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00001
표 1로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 유의미하게 적은 것을 알 수 있다.
[예 7]
예 7에서는, 유리 원료를 바꾼 것 이외에는, 예 1과 마찬가지로 하여 무알칼리 유리를 포함하는 유리판을 제조하였다. 무알칼리 유리는, 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 59.5％, Al2O3: 17％, B2O3: 8％, MgO: 3.3％, CaO: 4％, SrO: 7.6％, BaO: 0.1％, ZrO2: 0.1％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 15％이며, 잔량부가 불가피적 불순물이고, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하이었다.
Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
[예 8 내지 예 12]
예 8 내지 예 12에서는, 유리 원료에 미량의 CaF2를 첨가한 것 이외에는, 예 7과 마찬가지로 하여 유리판을 제조하였다. 예 7 내지 예 10이 실시예이고, 예 11 내지 예 12가 비교예이다.
Au 등의 총 함유량, F 등의 총 함유량 및 부착물의 평균 밀도는, 예 1과 마찬가지로 하여 측정하였다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00002
표 2로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 유의미하게 적은 것을 알 수 있다.
표 1 및 표 2로부터 배스 내에 공급하기 직전의 용융 유리나 유리판에 있어서, Au 등의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하이며, 또한 F 등의 총 함유량이 200질량ppm 이하이면 부착물의 결점이 충분히 적어지는 것을 알 수 있다.
본 출원은 2012년 7월 17일에 출원된 일본 특허 출원 제2012-159048호에 기초하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.
10: 배스
12: 배스의 입구
14: 배스의 출구
20: 용융 주석
30: 용융 유리
40: 환원 분위기
50: 스파우트 립
60: 히터
70: 급기로
80: 배기로

Claims (11)

  1. 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
    상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인, 유리판의 제조 방법.
  3. 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형하는 공정을 갖는 유리판의 제조 방법에 있어서,
    상기 플로트 배스 내에 공급되기 직전의 상기 용융 유리는, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
  4. 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,
    불순물인 Au, Cu 및 Ag의 총 함유량이 0.5질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
  5. 제4항에 있어서, 불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인, 유리판.
  6. 플로트 배스 내의 용융 주석 상에 연속적으로 공급되는 용융 유리를 상기 용융 주석 상에서 유동시켜 성형되는 유리판에 있어서,
    불순물인 F, Cl, Br 및 I의 총 함유량이 200질량ppm 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
  7. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은, 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 65 내지 75％, Al2O3: 0 내지 3％, CaO: 5 내지 15％, MgO: 0 내지 15％, Na2O: 10 내지 20％, K2O: 0 내지 3％, Li2O: 0 내지 5％, Fe2O3: 0 내지 3％, TiO2: 0 내지 5％, CeO2: 0 내지 3％, BaO: 0 내지 5％, SrO: 0 내지 5％, B2O3: 0 내지 5％, ZnO: 0 내지 5％, ZrO2: 0 내지 5％, SnO2: 0 내지 3％, SO3: 0 내지 0.5％를 함유하는 소다석회 유리인, 유리판.
  8. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은 디스플레이용 유리 기판인, 유리판.
  9. 제8항에 있어서, 상기 유리판의 두께가 1mm 이하인, 유리판.
  10. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은, 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 50 내지 66％, Al2O3: 10.5 내지 24％, B2O3: 0 내지 12％, MgO: 0 내지 8％, CaO: 0 내지 14.5％, SrO: 0 내지 24％, BaO: 0 내지 13.5％, ZrO2: 0 내지 5％, SnO: 0 내지 3％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 29.5％이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하인 무알칼리 유리인, 유리판.
  11. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판은, 산화물 기준의 질량％ 표시로, SiO2: 58 내지 66％, Al2O3: 15 내지 22％, B2O3: 5 내지 12％, MgO: 0 내지 8％, CaO: 0 내지 9％, SrO: 3 내지 12.5％, BaO: 0 내지 2％, SnO: 0 내지 1％를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 18％이며, 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량이 0.1％ 이하인 무알칼리 유리인, 유리판.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050036902A (ko) * 2001-11-30 2005-04-20 코닝 인코포레이티드 교반에 의한 용융 유리 균질화 방법 및 장치
JP2006106195A (ja) * 2004-10-01 2006-04-20 Nippon Electric Glass Co Ltd ディスプレイ基板
JP2010053032A (ja) 2008-08-28 2010-03-11 Schott Ag 板ガラスの製造方法
KR100994095B1 (ko) * 2003-12-26 2010-11-12 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리, 그 제조 방법 및 액정 디스플레이 패널
JP2011201711A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Hoya Corp ディスプレイ用カバーガラスおよびディスプレイ

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007099576A (ja) * 2005-10-06 2007-04-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd フロートガラス製造方法及びフロートガラス製造装置
JP5418228B2 (ja) * 2007-10-25 2014-02-19 旭硝子株式会社 板ガラスの製造方法
JP5482255B2 (ja) * 2010-02-03 2014-05-07 旭硝子株式会社 溶融ガラス調量用ツィールおよび溶融ガラスの供給方法。

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050036902A (ko) * 2001-11-30 2005-04-20 코닝 인코포레이티드 교반에 의한 용융 유리 균질화 방법 및 장치
KR100994095B1 (ko) * 2003-12-26 2010-11-12 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리, 그 제조 방법 및 액정 디스플레이 패널
JP2006106195A (ja) * 2004-10-01 2006-04-20 Nippon Electric Glass Co Ltd ディスプレイ基板
JP2010053032A (ja) 2008-08-28 2010-03-11 Schott Ag 板ガラスの製造方法
JP2011201711A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Hoya Corp ディスプレイ用カバーガラスおよびディスプレイ

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