JP5254159B2 - 板ガラスの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、請求項１の前提部分に記載の板ガラスの製造方法に関する。

フロート法による板ガラス、いわゆるフロートガラスの製造は、前世紀以来知られており、実質的に、ピルキントン社の基本的な保護権(特許文献１、特許文献２)に基づいている。

フロート法では、溝によって作業槽から導かれる液状ガラスを、溶融金属、一般的にはスズからなるバス上に流す。ガラスの流量は、可動ダンパーによって調節され、ダンパーの調整によって、特に、ガラスの厚みも調整される。ガラスの流れ方向に見てダンパーの後方には、スパウトのリップがある。スパウトのリップからは、ガラス溶融物が連続的にメタルバスに流れる。そこでは、ガラス溶融物が、寸法安定性のあるガラスリボンに成形されて、固化する。続いて、固化したガラスリボンは、メタルバスから除去される。この目的のために、フロートバスタンクの後方には、リフト機構が設けられている。

この方法で製造され、通常は１．５ｍｍより小さい厚みを有するフロートガラスは、薄ガラス基板として、フラットパネルディスプレイ、例えば、プラズマディスプレイパネル（PDP=Plasma Display Panel）、電界放出ディスプレイ（FED=Field Emission Display）、ＴＦＴ液晶ディスプレイ（TFT=Thin Film Transistor）、ＳＴＮ液晶ディスプレイ（STN=Super Twisted Nematic）、プラズマ支援液晶ディスプレイ（PALC=Plasma Assisted Liquid Crystal）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）等の製造のために、または薄膜太陽電池の製造のために用いられる。

フラットパネルディスプレイでは、ディスプレイのタイプに従って、２つのガラスシートの間に、液晶化合物の薄い層が挿入されるか、裏面ガラスシートの前面および前面ガラスシートの裏面に誘電層が形成される。これらの誘電層から、セルが成形され、セルには、蛍光物質が入れられる。

この場合に重要であるのは、特にディスプレイスクリーンの寸法が大きい場合に、妨害的な、色の混じり（Farbverfaelschungen）または類似性のずれ（Aehnlichkeitsabweichungen）が生じないように、液晶層の厚みまたは誘電層の厚みが正確に維持されることである。現在では約３０μｍの層の厚みが、ますます小さくなり、ディスプレイスクリーンがますます大きくなるので、この条件の重要性が増大する。

フロートガラスの表面の質は、トップスペックとも呼ばれる表面の欠陥によって損なわれる。トップスペックは、スズバスの使用の際に、スズ含有粒子、例えば、スズの粒子または酸化スズの粒子の、ガラスリボン上での沈殿によって引き起こされる。フロートバスの上方の雰囲気は、内部空間がフォーミングガス（典型的な組成、５〜８体積％Ｈ_２、残りは窒素）でフラッシングされているにも拘わらず、スズバスに浸入し、かつそこで酸化スズの粒子を形成する酸素の残量を含む。バスの温度が増すにつれて、酸化スズまたはスズが蒸発し、雰囲気を富化させる。その結果、スズ含有の粒子が、ガラスリボン上に沈殿し得る。

表面のこのような欠陥を回避するために、ガラスリボンの上方の汚染された雰囲気を阻止するための種々の措置を講じねばならない。一方では、特に、酸素が外側からフロートバスハウジングの内部に浸入してはならず、他方では、万一酸素があっても、その酸素がスズバスの表面に接触してはならない。

表面の欠陥のほかに、ガラスリボンの下側にも、開いた泡が生じることがある。開いた泡は、ガスを形成する反応によって、ガラスリボンの表面にまたはその下方に生じる。

成形の初めには、ガラスの粘性が低いので、ガラスの下方でのガスの形成の際に、下方が開いた泡がガラスの中に押し込まれる。固化工程では、開いた泡が保たれ、望ましくないガラス欠陥を形成する。このような泡は、ＢＯＳ（bottom open seeds）とも呼ばれる。

例えばＬＣＤディスプレイ使用のための、無アルカリ特殊ガラスは、今日では、フロート法でも製造される。ガラス上に付着される小型の電子構造の故に、最小の表面欠陥でも問題を生じる。下面の開放した泡の直径は、典型的には、５０μｍ未満であり、深さは、１０μｍ未満である。研磨によって、開放泡を除去することができる。この仕上げ加工は、かなりのコストをも意味する。

特許文献３は、ガラスから漏れる水であって、スズ中の余りに高い水素濃度によってスズの中に溶解されない、ガラスから漏出する水の相互作用の結果として、ガラスの下部に泡が生成することを記載する。ガラスからの水の拡散は、ガラス中の電界強度によって影響を受ける。ＴｉＯ_２、酸化エルビウムまたはネオジムの添加によって、電界強度が高められ、これによって、水の拡散が減少される。このことは、欠陥の形成の減少をもたらす。

特許文献４は、フロートバスの熱い領域でフォーミングガラスの水素濃度を３体積％未満に調整することによって、特許文献３に記載の泡の形成を阻止する方法を記載する。この方法により、スズ中の水素濃度は、ガラスからの水素がスズ中に溶解し得、かくして、泡の形成が阻止されるまで、低下される。

この従来の技術とは逆に、特許文献５には、５０体積％より多くが不活性ガスからなり、残りが還元性ガス、特に水素からなる、保護ガスの雰囲気が提案される。保護ガスの好ましい組成としては、８５％の窒素および１５％の水素、３〜１０％の水素および残りの窒素、２〜８％の水素および残りの窒素、並びに０．２５〜３％のＨ_２および残りの窒素が挙げられる。特に、水素成分がより少ない場合には、フロートバスハウジングの内側における種々の水素濃度が調節される。

特許文献６では、８８〜９５％の窒素および５〜１２％の水素を有する保護ガスが提案されている。

US 3,083,551 DE 147 19 50 US2004/0110625 A1 US2004/0107732 A1 US 3,337,322 US 5,364,435

本発明の課題は、トップスペックおよびＢＯＳの数および大きさを減少させることである。

上記課題は、請求項１の特徴事項により解決される。

ＢＯＳのパーセンテージ数／ｍ^２の、１４日間に亘る推移を示す。 トップスペックのパーセンテージ数の、６週間に亘る推移を示す。

記号Ｎｍ^３は、保護ガスの標準立方メートルを意味する。標準立方メートルは、１．０１３２５ｂａｒの圧力（絶対）と、０％の湿度（乾燥ガス）と、１５℃の温度（ＩＳＯ２５３３）の際の１立方メートルのガスに対応する量である。

フロートバスハウジングの自由内部体積は、フロートバスハウジングの内部における体積であって、保護ガスによって満たされることができ、かつガラスリボンの表面あるいはスズバスの表面の上で、ヒータを保持するための通常のつり屋根の下にある体積を意味する。

フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスを導入することによって、保護ガス容積の迅速な交換がなされる。保護ガスは、単位時間あたり同一量で導出され、特に、フロートバスハウジングから吸引される。

純数学的には、ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}≦１．２ｍｉｎの時間で、フロートバスハウジングの自由内部体積に相当する保護ガス容積が交換される。

平均的の理論的交換時間ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}［単位ｍｉｎ（分）］を計算するために、自由フロートバス体積［単位ｍ^３］を、作動状態において供給されたフォーミングガス流量Ｖ´_ｉ．Ｂ．［単位ｍ^３／ｍｉｎ］で割る。通常は、測定されたフォーミングガス流量は、標準状態では、Ｖ´_ｉ．Ｎ．［単位Ｎｍ^３／ｍｉｎ］として表示される。標準状態でのフォーミングガス流量から、作動状態にあるフォーミングガス流量を得るためには、標準状態のフォーミングガス流量に、フロートバスにおける平均的のフォーミングガスの絶対温度Ｔ_{ｉ．Ｂ．ｍｉｔ}［単位Ｋ］を掛け、フォーミングガス流量を、標準状態での絶対温度Ｔ_ｉ．Ｎ．［単位Ｋ］（すなわち、ＩＳＯ２５３３に基づいて２８８．１５Ｋ）で割らねばならない。従って、
ｔ_{ｍｉｔ．ｔｈｅｏ}＝Ｖ_{ｆｒｅｉ，ＦＢ}／Ｖ´_ｉ．Ｂ＝Ｖ_{ｆｒｅｉ，ＦＢ}Ｔ_ｉ．Ｎ．／Ｖ´_ｉ．Ｎ．Ｔ_{ｉ．Ｂ．ｍｉｔ}が成り立つ。

このような迅速なフロートバス雰囲気の交換は、トップスペックおよびＢＯＳの減少をもたらすことが明らかになった。

フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき、少なくとも０．２３Ｎｍ^３／ｍｉｎの、特に少なくとも０．２６Ｎｍ^３／ｍｉｎの、特に好ましくは少なくとも０．２８Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスが導入されることが好ましい。

この場合、フロートバスハウジングの自由内部体積の少なくとも８０％が、常に保護ガスの交換にかかわれば、十分であることも明らかになった。

保護ガスのための導入・導出手段のタイプ、作動および取付位置に依存して、自由内部体積の少なくとも８０％が、フロートバスハウジングの所定の内部空間領域であるか、あるいは、作動中に変化する、例えば移動する内部空間領域であってもよい。

汚損性の粒子の蓄積が生じることがある死空間を防止するために、フロートバスハウジング内にある保護ガス容積全部を、ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}≦１．２ｍｉｎの時間で交換することが好ましい。このことは、好ましくは自由内部空間全部が交換に関与していることを意味する。

交換への関与は、交換がより迅速になされる内部領域があること、および交換がより緩慢になされる他の内部領域があることを排除しない。自由内部体積の少なくとも８０％において交換が同じ速さでなされることが好ましい。

自由内部体積１ｍ^３につき少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスを導入、従って導出するとき、異なった空間領域での速さの異なった交換は、有害でないことが明らかになった。

導入および／または導出を連続的にまたは脈動的に行なうことができる。

更に、フロートバスハウジングの少なくとも前半分に、フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの流量で保護ガスを導入することが、有利であることが明らかになった。

自由内部体積１ｍ^３につき平均で少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの流量を導入することが確保されれば、例えば、フロートバスハウジングの前方の領域、すなわち熱い領域で、自由内部体積１ｍ^３につき、例えば０．４Ｎｍ^３／ｍｉｎの、より大きな流量を導入し、他の領域で、１ｍ^３につき、例えば０．１５Ｎｍ^３／ｍｉｎの、より少ない流量を導入することができる。

保護ガスを、空間的に均等に、フロートバスハウジングに導入することが好ましい。

この場合、保護ガスが、フロートバスの全長に亘って、均等に導入され、また好ましくは、全長に亘って均等に吸引される。このことは、フロートバス壁にある適切な吸引手段（いわゆる排出手段）によって、なされる。

フロートバスは、ベイとも呼ばれる複数のフロートバス区域に区分される。各々のフロートバス区域には、単位時間あたり同じ保護ガス量を導入かつ吸引することが好ましい。

≦１．２分の交換時間を達成することができるようにするためには、フロートバスの大きさに依存して、好ましくは、１時間あたり１０００Ｎｍ^３までの量の保護ガスを、フロートバスハウジングに導入することが必要である。≦１．２分の交換時間を遵守することによって、欠陥の数および泡の数を、約１．５分の交換時間の場合の欠陥の数および泡の数の場合の６０％まで減じることができた。好ましい交換時間は、≦１分、特に≦０．８分である。交換時間が減少するにつれて、欠陥の数および泡の数を更に減じることができた。

この場合、水素の割合は、５ないし１２体積％の通常の範囲にあることが可能である。保護ガスの速い交換時間のプラス効果が、水素成分が、１２体積％よりも多く増加することによって、一層増大され得ることが明らかになった。好ましい範囲は、水素成分に関しては、＞１２ないし１４体積％である。フロートバスの熱い前半分のフロートバス区域における水素成分が、≧１２ないし１４体積％であることは、特に好ましい。このことによって、特にＢＯＳ密度を、著しく減じることができることが、確認された。

図１に示したダイアグラムから、自由内部体積１ｍ^３につき０．２３Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガス（水素含有量５体積％）の導入により、ＢＯＳの平均パーセンテージ数が、約１００％であることを読み取ることができる。保護ガス中の水素の割合が１３．５体積％に増大されかつ維持されるとき、ＢＯＳのパーセンテージ数が、３０%未満になる。

図２には、１ｍ^２あたりのトップスペックのパーセンテージ数が、時間に対してプロットされている。最初の５週間で、自由内部体積１ｍ^３につき、０．１９Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスが導入される。このことは、ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}＝１．５分の交換時間に相当する。第６週以降は、導入が、自由内部体積１ｍ^３につき、０．２８Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスに増大された。このことは、数学的な交換時間の３０％の減少の、ｔ_{ｍｉｔ．ｔｈｅｏ}＝１分に相当する。トップスペックのパーセンテージ数の、８０%未満への著しい減少が確認できる。

前記パーセンテージ表示は、それぞれ、前記時間におけるトップスペック数の平均値に関する。

保護ガスは、水素のほかに、好ましくは窒素、アルゴンおよび／またはヘリウムからなる不活性ガスを含む。

本方法は、以下の組成（以下の全てのデータは、酸化物をベースにした重量％）、すなわち、ＳｉＯ_２ ７０〜８５，Ｂ_２Ｏ_３ ７〜１３，Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ ３〜８，ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜３，Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜７の組成を有する、例えば耐火用途のための、ホウケイ酸塩ガラスを製造するために、
ＳｉＯ_２ ５０〜７０，Ｂ_２Ｏ_３ ≦１５，Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２５，ＭｇＯ ０〜１０，ＣａＯ ０〜１２，ＳｒＯ ０〜１２，ＢａＯ ０〜１５およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｉＯ＋ＢａＯ ８〜２６，ＺｎＯ ０〜１０，ＺｒＯ_２ ０〜５，ＴｉＯ_２ ０〜５，ＳｎＯ_２ ０〜２の組成を有する無アルカリアルミノ（ホウ）ケイ酸塩ガラスを製造するために、
例えば、ディスプレイガラス、特に、ＳｉＯ_２ ＞５５〜６５，Ｂ_２Ｏ_３ ５〜１１，Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５，ＭｇＯ ０〜８，ＣａＯ ０〜８，ＳｒＯ ０〜８，ＢａＯ ≦１０およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ８〜２１，ＺｎＯ ０〜５，ＺｒＯ_２ ０〜２，ＴｉＯ_２ ０〜３，ＳｎＯ_２ ０〜２の組成、
殊にＳｉＯ_２ ＞５８〜６５，Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５，Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５，ＭｇＯ ０〜＜３，ＣａＯ ０〜９，ＢａＯ ＞３〜８およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８，ＺｎＯ ０〜＜２，Ａｓ_２Ｏ_３不含有、Ｓｂ_２Ｏ_３不含有という組成を有し、好ましくはＺｎ酸化物不含有、Ｃｅ酸化物不含有、Ｔｉ酸化物不含有であるディスプレイガラスの製造のために、特に適切である。

本方法は、更に、
例えば、ＳｉＯ_２ ５５〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３ １９〜２５，Ｌｉ_２Ｏ ３〜５，Ｎａ_２Ｏ ０〜１．５，Ｋ_２Ｏ ０〜１．５，ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２〜２，ＭｇＯ ０．１〜２．２，ＣａＯ ０〜１５，ＳｒＯ ０〜１．５，ＢａＯ ０〜２．５，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ６未満，ＺｎＯ ０〜１．５，ＴｉＯ_２ １〜５，ＺｒＯ_２ １〜２．５，ＳｎＯ_２ ０から１未満，ΣＴｉＯ_２＋ＳｒＯ_２＋ＳｎＯ_２ ２．５〜５，Ｐ_２Ｏ_５ ０〜３の組成を有し、
あるいは、以下の組成、すなわち、
ＳｉＯ_２ ５５〜６９
Ａｌ_２Ｏ_３ １９〜２５
Ｌｉ_２Ｏ ３．２〜５
Ｎａ_２Ｏ ０〜１．５
Ｋ_２Ｏ ０〜１．５
ＭｇＯ ０〜２．２
ＣａＯ ０〜２．０
ＳｒＯ ０〜２．０
ＢａＯ ０〜２．５
ＺｎＯ ０〜＜１．５
ＴｉＯ_２ ０〜３
ＺｒＯ_２ １〜２．５
ＳｎＯ_２ ０．１〜＜１
ΣＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＳｎＯ_２ ２．５〜５
Ｐ_２Ｏ_５ ０〜３
Ｆ ０〜１
Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２
Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１〜０．６
を有する、ガラスセラミック用の種々の未加工ガラス（Guenglass）を、
あるいは、ＳｉＯ_２ ５５〜７５、Ａｌ_２Ｏ_３ １５〜３０，Ｌｉ_２Ｏ ２．５〜６，ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ６未満，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ６未満，Ｂ_２Ｏ_３ ０から４未満，ΣＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２ ２未満の組成を有するガラスセラミック用の前駆体ガラスを、
あるいは、ＳｉＯ_２ ６０〜７２，Ａｌ_２Ｏ_３ １８〜２８，Ｌｉ_２Ｏ ３〜６，ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２〜２，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ６未満，ＺｎＯ ０〜１．５，Ｂ_２Ｏ_３ ０から４未満，ＳｎＯ ０．１〜１．５，ΣＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２ ２未満，Ｐ_２Ｏ_５ ０〜３，Ｆ ０〜２の組成を有するガラスセラミック用の前駆体ガラスを、
製造するために、特に適切である。

本発明に係る方法によって製造され得る他の好ましいガラスは、少なくとも５５重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、特に好ましくは少なくとも６４重量％のＳｉＯ_２を有するアルミノケイ酸塩ガラスである。ＳｉＯ_２の上限は７０重量％であり、特に６８重量％未満であり、６７重量％以下が特に好ましい。Ｂ_２Ｏ_３は、ガラスに、０重量％から、特に少なくとも０．０５重量％の量で含まれ、０．１重量％の最少含量は特に好ましい。ガラス中のＢ_２Ｏ_３の最大含量は、２重量％であり、１．５重量％が好ましい。

Ａｌ_２Ｏ_３は、上記ガラスに、少なくとも１８重量％、特に少なくとも１９重量％、好ましくは少なくとも２０重量％の量で含まれ、最大量は、２５重量％、特に２４．５重量％であり、２４重量％が特に好ましい。

Ｌｉ_２Ｏは、上記ガラスに、３ないし高々５重量％の量で含まれ、３．２５重量％、特に３．５重量％の最小量は好ましい。Ｌｉ_２Ｏの最大量は、最大５重量％、特に最大４．８重量％であり、最大４．７５重量％、特に４．６重量％の上限は、特に好ましい。ガラス中のＮａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含量は、０ないし最大３重量％であり、Ｎａ_２Ｏに関しては、最大１．５重量％の、好ましくは最大１重量％の上限が好ましい。Ｋ_２Ｏに関しては、好ましい最大量は、１．５重量％、特に１重量％である。ガラス中のアルカリ金属酸化物Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの合計は、０重量％および高々３重量％であり、０．２５重量％、特に０．５重量％の最小量および３重量％、特に２．７５重量％、好ましくは高々２．５重量％の最大量は、なお適切である。

上記ガラス中のＣａＯおよびＳｒＯの含量は、それぞれ独立に、０ないし最大２重量％である。ガラス中のＳｒＯおよびＣａＯの好ましい最小量は、それぞれ独立に、０．１重量％であり、ＳｒＯおよびＣａＯの好ましい最大量は、それぞれ独立に、２重量％、好ましくは１．５重量％である。ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２は、ガラスに、それぞれ、０ないし最大３重量％および１ないし最大２．５重量％の量で含まれる。ＴｉＯ_２に関しては、０．５重量％の、好ましくは０．８重量％の最小量および２．７５重量％の、特に２．５重量％の最大量が、好ましい。ＺｒＯ_２に関しては、１．５重量％の、しかし特に１．５重量％の最小量は、好ましく、２．２５重量％、特に２重量％の最大量も好ましい。ＳｎＯ_２は、ガラスに、０．１ないし最大１重量％の量で含まれており、０．１５重量％、好ましくは０．１８重量％の最小量および０．９重量％、特に０．８重量％の最大量は、好ましい。ガラス中の酸化物ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２およびＳｎＯ_２の合計は、２．５重量％および高々５重量％であり、３重量％、特に３．２５重量％の最小量および４．９重量％、特に４．８重量％の最大量は好ましい。

ガラスは、ＭｇＯおよび／またはＢａＯの含量を有する。ＭｇＯの含量が０ないし２，２重量％であり、ＢａＯの含量が、独立に、０ないし２．５重量％であることは好ましく、その際、０．０５重量％の最小量、特に０．１重量％の最小量および２重量％の最大量は好ましい。更に、ガラスは、ＺｎＯおよび／またはＰ_２Ｏ_５の含量を含み、ＺｎＯの含量が０ないし＜１．５重量％であり、Ｐ_２Ｏ_５の含量が独立に０ないし３重量％であることは適切である。０．０５重量％のＺｎＯの最小量、特に、０．１重量％の最小量、１重量％の、特に０．７５重量％の最大量は好ましい。Ｐ_２Ｏ_５に関しては、０．５重量％の最小量、特に、１重量％の最小量および２．５重量％、特に２重量％の最大量は、好ましい。ガラスは、０．０１ないし０．６重量％の含量で、Ｎｄ_２Ｏ_３を含み、最小量としては、０．５５重量％が好ましく、０．１重量％が特に好ましい。最大量としては、０．５５重量％が好ましく、０．５重量％が特に好ましい。

Claims (12)

1. 溶融槽内でガラスを溶融し、ガラス溶融物を、フロートバスハウジング内の液状のメタルバス上に注ぎ、ガラスリボンに成形し、前記フロートバスハウジングの自由内部空間に、水素を含有する保護ガスを導入し、前記フロートバスハウジングから導出する、板ガラスの製造方法であって、
   前記保護ガスを前記フロートバスの全長に亘って均等に分配するように前記フロートバスハウジングに導入し、かつ
   前記フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき、少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの前記保護ガスを導入することを特徴とする方法。
2. 前記フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき、少なくとも０．２３Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスを導入することを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき、少なくとも０．２６Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスを導入することを特徴とする請求項１または２に方法。
4. 前記フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき、少なくとも０．２８Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスを導入することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１に記載の方法。
5. ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}≦１．２ｍｉｎの時間で、前記フロートバスハウジングの自由内部体積に相当する保護ガス容積を交換することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１に記載の方法。
6. 自由内部体積の少なくとも８０％が、前記保護ガス容積の交換にかかわることを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 前記保護ガスを連続的にまたは脈動的に導入することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１に記載の方法。
8. 前記フロートバスハウジングの自由内部体積１ｍ^３につき少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの流量で前記保護ガスを、少なくとも前記フロートバスハウジングの前半分に導入することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１に記載の方法。
9. 各フロートバス区域に、単位時間あたり同じ保護ガス量を導入しかつ導出することを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１の記載の方法。
10. 前記保護ガス中の水素の割合が１２体積％より多いことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１の記載の方法。
11. 前記水素の割合が、＞１２ないし１４体積％であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 前記フロートバスの熱い前半分のフロートバス部分における前記水素の割合が、≧１２ないし１４体積％であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。

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