TWI459053B - A method for producing a polarizing film, a polarizing plate, and an optical laminate - Google Patents

Description

偏光薄膜之製造方法、偏光板及光學層合體

本發明係有關，色深淺不一更少、膜厚均勻的偏光薄膜之製造方法，在所得偏光薄膜之至少單面上層合保護薄膜的偏光板，進而單獨或複數貼合有相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一者所成的光學層合體。

偏光薄膜自以往即使用在聚乙烯醇系薄膜中使二色性色素吸附定向者。即，已知有以碘作為二色性色素之碘系偏光薄膜、或以二色性染料作為二色性色素之染料系偏光薄膜等。此等薄膜，通常在其至少單面、較佳為雙面上，透過由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所成的接著劑，貼合三乙醯基纖維素等保護薄膜，而成為偏光板。

偏光薄膜之製造方法有，使用鉗緊滾筒(nip roller)、導引滾筒(guide roller)，使聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中膨潤後，以該二色性色素染色，將其拉伸；接著，為了使碘固定於薄膜，使聚乙烯醇進行硼酸處理，經水洗後予以乾燥之方法。此際，進行在處理浴前後對賦予轉速差之薄膜的拉伸，藉由導引滾筒使薄膜之輸送方向改變，進行薄膜對處理液之導入、拉出(例如參照專利文獻1)。

近年來，隨使用偏光薄膜之液晶顯示裝置的高品位化，期望相較於以往之方法所得的偏光薄膜，色深淺不一 更少、膜厚更均勻的偏光薄膜。

專利文獻1：特開平10-170721號公報

本發明所欲解決之主要課題，係提供製造色深淺不一更少、膜厚均勻的偏光薄膜之方法。

本發明的工作同仁為製造色深淺不一更少、膜厚均勻的偏光薄膜，經深入探討與不斷研究之結果發現，在硼酸處理步驟中使薄膜浸漬於硼酸溶液之際，以非接觸滾筒之狀態浸漬，自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸於滾筒止之時間為0.4~5秒時，可獲得色深淺不一更少、膜厚均勻的偏光薄膜，而完成本發明。

即，本發明之偏光薄膜的製造方法，其係在使聚乙烯醇系薄膜依膨潤處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理及乾燥處理之順序進行處理，於該處理步驟中之至少兩個處理步驟，在輸送薄膜的兩個鉗緊滾筒之間賦予轉速差，使薄膜進行拉伸製造偏光薄膜之方法；其特徵為在硼酸處理步驟使薄膜浸漬於硼酸溶液之際，以非接觸滾筒之狀態浸漬，自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸滾筒止之時間為0.4~5秒。

自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸滾筒止之時間， 較佳為0.5~3秒。

又，硼酸溶液之溫度以50~85℃為佳。

進一步地，本發明之偏光板，係在上述所得之偏光薄膜的至少單面上貼合保護薄膜者。此保護薄膜可具備相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一的機能。又，本發明之光學層合體，係在至少單面上貼合有保護薄膜之該偏光板上，貼合選自相位差板、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射板之至少一種者。

依發明之方法，可製造色深淺不一更少、膜厚均勻的偏光薄膜。藉由將以此偏光薄膜製作之偏光板、光學層合體使用於液晶顯示裝置，可獲得薄型且高品位之液晶顯示。

〔發明之實施形態〕

詳細說明本發明如下。

本發明中，形成聚乙烯醇系薄膜之聚乙烯醇系樹脂，可舉例將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。皂化度約為85莫耳%以上，較佳為約90莫耳%以上，更佳為約99~100莫耳%。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，有乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體的共聚物，例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。可共聚合 之其他單體有，例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度為約1,000~10,000；較佳為約1,500~5,000之程度。

此等聚乙烯醇系樹脂可為改性者，例如可使用以醛類改性之聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇縮丁醛等。通常製造偏光薄膜之開始材料，係使用厚度約20~100μm、較佳為約30~80μm的聚乙烯醇系樹脂薄膜之未拉伸薄膜。從工業上而言，薄膜之寬度以約1,500~4,000mm較為實用。

將此未拉伸薄膜，依膨潤處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理之順序進行處理，最後經乾燥而得之聚乙烯醇系偏光薄膜的厚度，例如約5~50μm之程度。

本發明之偏光薄膜，係使二色性色素吸附定向之聚乙烯醇系單軸拉伸薄膜，其製作方法大體上分為兩種製造方法。其一為，使聚乙烯醇系薄膜在空氣或惰性氣體中進行單軸拉伸後，依膨潤處理、染色處理、硼酸處理及水洗處理之順序進行溶液處理，最後施行乾燥之方法。

其二為，使未拉伸之聚乙烯醇系薄膜在水溶液中依膨潤處理、染色處理、硼酸處理及水洗處理之順序進行溶液處理，在硼酸處理步驟及/或其之前的步驟以濕式進行單軸拉伸，最後施行乾燥之方法。

本發明中之任一方法，單軸拉伸均以複數之步驟進行。拉伸方法可採用眾所周知的方法，有例如在輸送薄膜之兩個鉗緊滾筒間賦予轉速差進行拉伸的滾筒間拉伸、日 本專利第2,731,813號公報上記載之熱滾筒拉伸法、拉幅器拉伸法等。又，基本上步驟之順序如上所述，處理浴之數、或處理條件等沒有限制。

又，以另外之目的，可自由插入上述步驟中無記載之步驟自不待言。此步驟之例有，在硼酸處理後，藉由不含硼酸之碘化物水溶液的浸漬處理(碘化物處理)、或藉由不含硼酸之含有氯化鋅等的水溶液之浸漬處理(鋅處理)步驟等。

膨潤步驟，係以去除薄膜表面之雜質、去除薄膜中之可塑劑、賦予於下個步驟之易染色性、薄膜之可塑化等為目的而進行。處理條件係在可達成此等目的之範圍、且不造成基材薄膜之極端溶解、透明消失等不良狀況的範圍決定。使預先在氣體中拉伸之薄膜膨潤時，例如在約20~70℃、較佳為30~60℃之水溶液中浸漬薄膜。薄膜之浸漬時間約30~300秒、較佳為約60~240秒程度。使自始末拉伸之原料薄膜膨潤時，例如在約10~50℃、較佳為約20~40℃之水溶液中浸漬薄膜。薄膜之浸漬時間約30~300秒，較佳為約60~240秒之程度。

膨潤處理步驟中，薄膜在寬度方向進行膨潤時，有薄膜容易產生皺紋等問題之故，以使用擴張寬度滾筒(膨脹滾筒)、螺旋滴筒、凸面滴筒(crown roll)、布導引器、彎棒、拉幅夾等眾所周知的擴幅裝置去除薄膜之皺紋、輸送薄膜為佳。為使浴中的薄膜穩定輸送之目的，以水中噴淋器(shower)控制膨潤浴中之水流、併用EPC裝置(Edge Position Control裝置：檢測薄膜之端部、防止薄膜之蛇行的裝置)等亦甚為適合。本步驟中，薄膜之移動方向亦使薄膜擴大膨潤，為了使輸送方向之薄膜不鬆弛，以採取例如控制處理槽前後之輸送滾筒的速度等手段為佳。又，使用之膨潤處理浴，除純水以外，亦可使用在約0.01~10重量%之範圍添加硼酸(特開平10-153709號公報上記載)、氯化物(特開平06-281816號公報上記載)、無機酸、無機鹽、水溶性有機溶劑、醇類等之水溶液。

使用二色性素之染色步驟，係以將二色性色素吸附、定向於薄膜等目的而進行。處理條件係在可達成此等目的之範圍、且不造成基材薄膜之極端溶解、透明消失等不適宜的範圍而決定。使用碘作為二色性色素時，例如於約10~45℃、較佳為約20~35℃之溫度、且以重量比計，碘/KI/水-約0.003~0.2/約0.1~10/100之濃度下進行30~600秒、較佳為約60~300秒的浸漬處理。可使用其他之碘化物，例如碘化鋅等替代碘化鉀。又，亦可使其他之碘化物與碘化鉀併用。又，亦可使碘化物以外之化合物、例如硼酸、氯化鋅、氯化鈷等共存。添加硼酸時，在含碘之點與下述之硼酸處理有區別。相對於水100重量份，約含碘0.003重量份以上者，可視同為染色槽。

使用水溶性二色性染料為二色性色素時，例如於約20~80℃、較佳為約30~70℃之溫度、且以重量比計，二色性染料/水=約0.001~0.1/100之濃度下進行約30~600秒、較佳為約60~300秒的浸漬處理。使用之二色性染料 的水溶液，可含有染色助劑等，例如可含有硫酸鈉等無機鹽、界面活性劑等。二色性染料可單獨、或同時使用兩種以上之二色性染料。

如上所述，可在染色槽將薄膜拉伸。拉伸係以在染色槽之前後的鉗緊滾筒具有轉速差等之方法施行。又，與膨潤步驟同樣的，可在染色浴中及/或浴出入口設置擴張寬度滾筒(膨脹滾筒)、螺旋滾筒、凸面滾筒、布導引器、彎棒等。

硼酸處理，係在相對於水100重量份、含有硼酸約1~10重量份之水溶液中，浸漬以二色性色素染色之聚乙烯醇系薄膜而進行。二色性色素為碘時，以含有碘化物約1~30重量份為佳。

碘化物有碘化鉀、碘化鋅等。又，亦可共存碘化物以外之化合物，例如氯化鋅、氯化鈷、氯化鋯、硫代硫酸鈉、亞硫酸鉀、硫酸鈉等。

此硼酸處理，係為藉由交聯進行耐水化或調整色相(防止帶有藍色等)而實施。藉由交聯進行耐水化時，因應需求，在硼酸以外，或與硼酸同時，可使用乙二醛、戊二醛等交聯劑。

還有，為了耐水化而進行之硼酸處理，亦有稱為耐水化處理、交聯處理、固定化處理等之情況。又，為調整色相之硼酸處理，亦有稱呼補色處理、再染色處理等之名稱的情況。

此硼酸處理，依其目的可進行硼酸及碘化物之濃度、 處理浴之溫度的適當改變。

為耐水化之硼酸處理、為調整色相之硼酸處理，並非特別予以區分，可使用下述條件實施。

使原料薄膜進行膨潤、染色、硼酸處理之情況，硼酸處理為藉由交聯而耐水化之目的時，相對於水100重量份，使用含有硼酸約3~10重量份、碘化物約1~20重量份之硼酸處理浴，通常於約50~70℃、較佳為約55~65℃之溫度下進行。浸漬時間，通常為約30~600秒、較佳為約60~420秒、更佳為約90~300秒。

還有，使預先拉伸之薄膜進行染色、硼酸處理之情況，硼酸處理浴之溫度通常為約50~85℃、較佳為約55~80℃。

在用以耐水化之硼酸處理後，亦可進行用以調整色相之硼酸處理。例如二色性染料為碘之情況，為其目的，使用相對於水100重量份，含有硼酸約1~5重量份、碘化物約3~30重量份之硼酸處理浴，通常於約10~45℃之溫度進行。浸漬時間通常為約3~300秒之程度，較佳為約10~240秒。

調整色相之硼酸處理，與耐水化之硼酸處理比較，通常以低硼酸濃度、高碘化物濃度、低溫度進行。

此等硼酸處理可採用複數之步驟進行，通常大多數以2~5之步驟進行。此情況，使用之各硼酸處理槽的水溶液組成、溫度在上述範圍內，可為相同或相異者。上述耐水化之硼酸處理、調整色相之硼酸處理，可分別以複數之步 驟進行。

硼酸處理步驟中，與染色步驟同樣的可施行薄膜之拉伸。最終之累積拉伸倍率為約4.5~7.0倍，較佳為約5.0~6.5倍。

硼酸處理後，進行水洗處理。水洗處理係例如，將經用以耐水化及/或調整色相之硼酸處理的聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中，以水噴淋而噴霧、或藉由併用浸漬與噴霧而進行。水洗處理中水之溫度通常約為2~40℃的程度，浸漬時間以約2~120秒之程度為佳。

水洗後之乾燥，係在乾燥爐中約40~100℃之溫度下施行約60~600秒。

在拉伸處理後之各自的步驟中，以進行張力控制、使薄膜之張力分別為實質上固定為佳。

在染色處理步驟完成拉伸之情況，於以後之硼酸處理步驟及水洗處理步驟進行張力控制。於染色處理步驟之前步驟完成拉伸之情況時，在包含染色處理步驟及硼酸處理步驟的以後之步驟進行張力控制。

硼酸處理步驟為由複數之硼酸處理步驟所成的情況，以在最初或最初起至第2段為止的硼酸處理步驟進行該薄膜之拉伸，在自經拉伸處理之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟起至水洗步驟為止之各自的步驟中進行張力控制、或於最初起至第3段為止的硼酸處理步驟進行該薄膜之拉伸，於自經拉伸處理之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟起至水洗步驟為止之各自的步驟中進行張力控制為佳。工 業上，以在最初或最初起至第2段為止的硼酸處理步驟進行該薄膜之拉伸，在自經拉伸處理之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟起至水洗步驟為止之各自的步驟中進行張力控制，更為適合。

在硼酸處理後，進行上述碘化物處理或鋅處理之情況，就此等步驟亦施行張力控制。

在各自之步驟中，張力可為相同或相異者。

張力控制中，對薄膜之張力沒有特別的限制，每一單位寬度適當設定於約150~2,000N/m、較佳為約600~1,500N/m之範圍。張力為低於約150N/m時，薄膜上容易產生皺紋。另一方面張力超過約2,000N/m時，由於薄膜之斷裂或軸承之磨損，有造成低壽命化的問題。又，此每一單位寬度之張力，係由此步驟之出入口附近的薄膜寬度與張力檢測器之張力值算出。

還有，在進行張力控制之情況，不可避免的有若干拉伸‧收縮之情形，本發明中，其不包含於拉伸處理。

本發明中，在硼酸處理步驟使薄膜浸漬於硼酸溶液之際，以非接觸滾筒之狀態浸漬。接觸滾筒進行時，產生色深淺不一、或薄膜寬度方向之膜厚不均勻。又，自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸滾筒止之時間為0.4~5秒、較佳為0.5~3秒。此時間，可考量滾筒之配置位置、薄膜之輸送速度，加以調整。

至接觸滾筒為止之時間過短時，產生色深淺不一、或薄膜寬度方向之膜厚不均勻；過長時，產生皺紋、膜厚不 均勻。

在具有色深淺不一之偏光薄膜上黏著保護薄膜作為偏光板時，同樣可看到色深淺不一，甚不適合。以膜厚不均勻、或具有皺紋之偏光薄膜作為偏光板時，成為容易破裂、耐久性不良者，故不適合。

包含在硼酸溶液中初次接觸之滾筒，本發明中所使用之鉗緊滾筒及導引滾筒，有橡膠滾筒、不鏽鋼製研磨滾筒及海棉橡膠滾筒。

橡膠滾筒，以由NBR等所成，其硬度以JIS K-6301之試驗方法測定的JIS肖氏C尺度為約60~90度，較佳為約70~80度、表面粗糙度以JIS B-0601(表面粗糙度)之粗糙度曲線的局部山頂之平均間距S表示，為約0.1~5S，較佳為約0.5~1，較適合。

不鏽鋼製研磨滾筒，以由SUS 304、SUS 316等所成，謀求膜厚之均勻化而言，其表面粗糙度具有以JIS B-0601(表面粗糙度)之粗糙曲線的局部山頂之平均間距S表示，為約0.2~1.0S者較適合，又，其動摩擦係數為約0.1~0.4，較佳為0.15~0.35者，更適合。本發明中之動摩擦係數，係以JIS K-7125之試驗方法為基準，以在聚乙烯醇系薄膜與水中測定之值表示。

海棉橡膠滾筒，以海棉之硬度採用JIS K-6301之試驗方法測定的JIS肖氏C尺度為約20~60度，較佳為約25~50度、密度為約0.4~0.6g/cm³，較佳為約0.42~0.57g/cm³、及表面粗糙以JIS B-0601(表面粗糙 度)之粗糙度曲線的局部山頂之平均間距S表示，為約10~30S，較佳為約15~25S，為適合。

處理液中之導引滾筒為擴張寬度滾筒時，使其為海棉橡膠擴張寬度滾筒更佳。尤其在膨潤處理步驟中，以使用海棉橡膠擴張寬度滾筒更適合。在膨潤處理步驟中，聚乙烯醇系薄膜，藉由吸收浴液而於長度、寬度兩方向膨潤，尤其寬度方向之膨潤不停止依然施加張力時，在滾筒上產生皺紋或摺入。使用海棉橡膠擴張寬度滾筒時，由於其輕量性可大幅度降低施加於薄膜之張力，同時基於其高表面粗糙度，薄膜的掌握力高之故，即使於低張力亦能充分發揮增寬力，且擴張寬度滾筒之另一任務的防止蛇行機能亦能發揮至最大限度，皺紋降至極少、全無摺入之情況。海棉橡膠擴張寬度滾筒之使用並不限定於膨潤處理，其他之處理中亦可使用。

在如此製造之偏光薄膜的至少單面上，以黏著劑貼合保護薄膜，可獲得偏光板。

保護薄膜有，例如由三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素等乙醯基纖維素系樹脂所成之薄膜，由聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系樹脂所成之薄膜，由聚碳酸酯系樹脂所成之薄膜，由環烯烴系樹脂所成之薄膜等。市售之熱塑性環烯烴系樹脂有，例如，由德國之鐵依口納(Ticona)公司所販賣之「多巴斯」(Topas，註冊商標)、由JSR份有限公司所販賣之「阿凍」(註冊商標)、由日本ZEON股份有限公 司所販賣之「節歐諾阿」或「節歐內庫斯」(均為註冊商標)、由三井化學股份有限公司所販賣之「阿培魯」(註冊商標)等。使如此之環烯烴系樹脂經製膜者可作為保護薄膜；製膜時適當採用溶劑鑄造法、熔融擠壓法等眾所周知的方法。經製膜之環烯烴系樹脂薄膜亦有市售品，例如由積水化學工業股份有限公司所販賣之「耶斯喜鈉」或「SCA40」等。

保護薄膜之厚度以薄者為佳，但過薄時，成為強度降低、加工性不良者；另一方面，過厚時產生，透明性降低、層合後所必要的熟化時間增長等問題。因此，保護薄膜之適當厚度為，例如約5~200μm程度、較佳為約10~150μm、更佳為約20~100μm。

為了提高黏著劑、與偏光薄膜及/或保護薄膜之黏著性，亦可在偏光薄膜及/或保護薄膜上施行電暈處理、火焰處理、電漿處理、照射紫外線、底塗劑塗佈處理、皂化處理等表面處理。

保護薄膜上亦可單獨或組合施行防眩處理、防反射處理、硬塗處理、防靜電處理、防污處理等表面處理。又，保護薄膜及/或保護薄膜表面保護層，可含有二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物等吸收紫外線劑，或磷酸苯基酯系化合物、苯二甲酸酯系化合物等可塑劑。

如此之保護薄膜，可貼合於偏光薄膜之單面，亦可貼合於雙面。

偏光薄膜與保護薄膜，可使用水溶劑系黏著劑、有機 溶劑系黏著劑、熱熔膠系黏著劑、無溶劑系黏著劑等黏著劑層合。水溶劑系黏著劑有，例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液黏著劑等；有機溶劑系黏著劑有，例如二液型胺基甲酸酯系黏著劑等；無溶劑系黏著劑有，例如一液型胺基甲酸酯系黏著劑等等。

採用使與偏光薄膜之黏著面經皂化處理等親水化處理之乙醯基纖維素系薄膜，作為保護薄膜時，適合使用聚乙烯醇系樹脂水溶液作為黏著劑。

使用作為黏著劑之聚乙烯醇系樹脂，除使乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得之乙烯醇均聚物以外，尚有使乙酸乙烯酯、與可與其共聚合之其他單體的共聚物進行皂化處理而得之乙烯醇系共聚物，進而有使此等之羥基局部改性的改性聚乙烯醇系聚合物等。此黏著劑中，可使用多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物等為添加劑。

使偏光薄膜與保護薄膜貼合之方法沒有特別的限制，有例如，在偏光薄膜或保護薄膜之表面上均勻塗佈黏著劑，於塗佈面上將另一方之薄膜重疊，藉由滾筒等貼合，予以乾燥之方法等。

通常，黏著劑在調製後於約15~40℃之溫度下塗佈，貼合溫度通常為約15~30℃程度之範圍。貼合後進行乾燥處理，將黏著劑中所含之水等溶劑去除，此時之乾燥溫度通常為約30~85℃、較佳為約40~80℃之範圍。其後，可在約15~85℃、較佳為約20~50℃、更佳為約35~45℃之 溫度環境下，進行通常為約1~90天程度之熟化使黏著劑硬化。此熟化期間增長時生產性惡化之故，熟化期間以約1~30為佳，較佳為1~7天。

如此，透過黏著劑層，在偏光薄膜之單面或雙面上貼合保護薄膜，可得偏光板。

本發明中，在保護薄膜上可具有作為相位差薄膜之機能、作為提升亮度薄膜之機能、作為反射薄膜之機能、作為半透過反射薄膜之機能、作為擴散薄膜之機能、作為旋光對消薄膜之機能等光學性機能。此情況，藉由例如在保護薄膜之表面上，層合相位差薄膜、提升亮度薄膜、反射薄膜、半透過反射薄膜、擴散薄膜、旋光對消薄膜等光學機能性薄膜，可具有如此之機能以外，能賦予保護薄膜本身如此之機能。又，保護薄膜本身可具有，如具有提升亮度薄膜之機能的擴散薄膜等複數之機能。

例如在上述之保護薄膜上，藉由施行日本專利第2,841,377號公報、日本專利第3,094,113號公報等記載之拉伸處理，施行日本專利第3,168,850號公報等記載之處理，能賦予作為相位差薄膜之機能。又，藉由以特開2002-169025號公報或特開2003-29030號公報上記載之方法，形成微細孔、或藉由使選擇反射之中心波長不同的2層以上之膽固醇(cholesteric)型液晶層重疊，可賦予作為提升亮度薄膜之機能。

在上述保護薄膜上，藉由蒸鍍或濺鍍等形成金屬薄膜，能賦予作為反射薄膜或半透過反射薄膜之機能。在上 述保護薄膜上，藉由塗佈含微粒子之樹脂溶液，可賦予作為擴散薄膜之機能。又，在上述保護薄膜上，藉由塗佈盤狀(discotic)液晶性化合物等液晶性化合物而定向，可賦予作為旋光對消薄膜之機能。又，可使用適當之黏著劑將商品名：DBEF(3M股份有限公司製)等提升亮度薄膜、商品名：WV薄膜(富士照相膠卷股份有限公司製)等改善視角薄膜、商品名：史密卡萊多(註冊商標，住友化學工業股份有限公司製)等相位差薄膜等市售之光學機能性薄膜，直接貼合於偏光薄膜上。

〔實施例〕

以實施例更詳細說明本發明如下；本發明並非限定於此等例者。

〔實施例1〕

將厚度75μm之聚乙烯醇薄膜(庫拉雷公司製之比尼龍VF-PS^# 7500，聚合度2,400、皂化度99.9莫耳%以上)置入30℃之純水中，保持薄膜不鬆弛之拉緊狀態浸漬130秒鐘，使薄膜充分膨潤。其次，浸漬於碘/碘化鉀/水以重量比計為0.02/1.5/100之水溶液中，進行染色處理，施行單軸拉伸(至此為止之總拉伸倍率為3.2倍)。其後，在碘化鉀/硼酸/水以重量比計為10/5/100之約55℃水溶液中，以非接觸滾筒之狀態浸漬，進行自浸漬起至接觸第1 號之導引滾筒止的時間為1.8秒的硼酸處理，施行自原料薄膜起之累積拉伸倍率成為5.9倍止的單軸拉伸。硼酸處理後，以約10℃之純水進行水洗約10秒鐘。水洗後，於80℃乾燥2分鐘，即得厚度約28μm之碘系偏光薄膜。還有，硼酸處理槽之第1號液中的導引滾筒，係使用表面粗糙度0.6S、橡膠硬度(JIS肖氏A尺度)80度之NMR橡膠製滾筒。拉伸，係使配置於處理槽之前後的鉗緊滾筒具有轉速差而施行。

所得偏光薄膜，經由拉伸觀測不到色深淺不一，在薄膜寬度方向為膜厚均勻的薄膜。

在所得偏光薄膜之雙面上塗佈聚乙烯醇系黏著劑，於雙面貼合保護薄膜〔表面施行皂化處理之三乙醯基纖維素薄膜「夫吉塔庫(註冊商標)T80UNL」，富士照相膠卷股份有限公司製，厚度80μm〕，在約60℃下乾燥約5分鐘，即得偏光板。偏光板上觀測不到色深淺不一。

〔實施例2〕

除浸漬於硼酸液接觸之第1號滾筒為表面粗糙度0.6S、橡膠硬度(JIS肖氏A尺度)80度之NBR製鉗緊滾筒、自浸漬起至接觸鉗緊滾筒止之時間為0.6秒以外，與實施例1同樣進行，即得偏光薄膜。

所得偏光薄膜經由拉伸觀測不到色深淺不一，在薄膜寬度方向為膜厚均勻之薄膜。

使用所得偏光薄膜，與實施例1同樣進行製作成偏光 板。偏光板上觀測不到色深淺不一。

〔實施例3〕

除硼酸處理槽之第1號液中的導引滾筒，使用表面粗糙度0.2S、動摩擦係數為0.24之不鏽鋼製研磨滾筒以外，與實施例1同樣進行，即得偏光薄膜。

所得偏光薄膜經由拉伸觀測不到色深淺不一，在薄膜寬度方向為膜厚均勻之薄膜。

使用所得偏光薄膜，與實施例1同樣進行製作成偏光板。偏光板上觀測不到色深淺不一。

〔實施例4〕

除硼酸處理槽之第1號液中的導引滾筒，使用其海棉硬度為JIS肖氏C尺度25度、密度為0.42g/cm³、及表面粗糙度為20S之海棉橡膠滾筒以外，與實施例1同樣進行，即得偏光薄膜。

所得偏光薄膜經由拉伸觀測不到色深淺不一，在薄膜寬度方向為膜厚均勻的薄膜。

使用所得偏光薄膜，與實施例1同樣進行製作成偏光板。偏光板上觀測不到色深淺不一。

〔比較例1〕

除接觸表面粗糙度0.6S、橡膠硬度(JIS肖氏A尺度)80度之NBR橡膠製鉗緊滾筒，浸漬於硼酸液以外， 與實施例1同樣進行，即得偏光薄膜。

所得偏光薄膜經由拉伸，觀測到12條色深淺不一。又，薄膜寬度方向為膜厚不均勻之薄膜。

〔比較例2〕

除浸漬於硼酸液後接觸之第1號滾筒為表面粗糙度0.6S、橡膠硬度(JIS肖氏A尺度)80度之NBR橡膠製鉗緊滾筒，自浸漬起至接觸其鉗緊滾筒止之時間為0.2秒以外，與實施例1同樣進行，即得偏光薄膜。

所得偏光薄膜經由拉伸，觀測到5條色深淺不一。又，薄膜寬度方向為膜厚不均勻之薄膜。

Claims (7)

1. 一種偏光薄膜之製造方法，其為在使聚乙烯醇系薄膜依膨潤處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理及乾燥處理之順序進行處理，於該處理步驟中之至少兩個處理步驟，在輸送薄膜之兩個鉗緊滾筒之間賦予轉速差；使薄膜進行拉伸製造偏光薄膜之方法，其特徵係在硼酸處理步驟使薄膜浸漬於硼酸溶液之際，以非接觸滾筒之狀態浸漬，自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸滾筒止之時間為0.4~5秒。
2. 如申請專利範圍第1項之偏光薄膜之製造方法，其中自浸漬薄膜至在硼酸溶液中初次接觸滾筒止之時間為0.5~3秒。
3. 如申請專利範圍第1或2項之偏光薄膜之製造方法，其中硼酸溶液之溫度為50~85℃。
4. 如申請專利範圍第3項之偏光薄膜之製造方法，其中硼酸處理之溫度為55~65℃。
5. 一種偏光板，其特徵為在藉由如申請專利範圍第1~3項中任一項之方法製造而成之偏光薄膜之至少單面上貼合保護薄膜所成。
6. 如申請專利範圍第5項之偏光板，其中該保護薄膜為，具備相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一機能。
7. 一種光學層合體，其特徵為申請專利範圍第5項之偏光板與，選自相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角 薄膜及半透過反射薄膜之至少一種，貼合而成。