TWI402157B - A method for producing a polarizing film, a polarizing plate, and an optical laminate - Google Patents

Description

偏光薄膜之製造方法、偏光板及光學層合體

本發明係有關，極少在薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂、進而甚少線條之外觀良好的偏光薄膜之製造方法，在所得偏光薄膜之至少單面上層合保護薄膜的偏光板，進而單獨或複數貼合相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一種所成的光學層合體者。

偏光薄膜，自早期以來，採用使聚乙烯醇系薄膜吸附定向者。即，以碘作為二色性色素之碘素偏光薄膜或，以二色性染料作為二色性色素之染料系偏光薄膜。此等偏光膜，通常，其至少單面，較佳為在雙面上透過由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所成的黏著劑貼合三乙醯基纖維素等保護薄膜，而成偏光板。

偏光薄膜之製造方法有，使用鉗緊滾筒、導向滾筒，將聚乙烯醇系薄膜以該二色性色素染色，使其拉伸，接著使欲以碘固定於薄膜之聚乙烯醇系薄膜進行硼酸處理，經水洗後予以乾燥之方法。此時，在處理浴前後之鉗緊滾筒賦予轉速差對薄膜施加張力，進行薄膜之拉伸，藉由導向滾筒改變薄膜之輸送方向，導入對處理液之薄膜，進行拉出。

已往，薄膜之乾燥處理係以一段進行(例如參照專利文獻1、專利文獻2)；此時，薄膜上有產生皺紋、或薄膜斷裂之情況。又，在螢光燈之反射下觀測所得偏光薄膜時，可觀測到多數線條，外觀有不良之情況。

專利文獻1：特開平10－153709號公報專利文獻2：特開2001－174634號公報

本發明所欲解決之主要課題為，提供極少在薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂，進而甚少線條之外觀良好的偏光薄膜之製造方法。

本發明的工作同仁，針對極少在薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂之偏光薄膜的製造方法重覆深入探討之結果，發現以多段進行乾燥處理同時賦予薄膜張力，在乾燥處理之各段中控制薄膜的單位寬度張力於實質上一定之張力，且在使後段之張力為前段之張力以下的情況下進行時，可進行極少在薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂之製造；進而其進行之際，使後段之乾燥溫度在前段之乾燥溫度以上的情況下進行時，可獲得甚少線條之外觀良好的偏光板，完成本發明。

即，本發明之偏光薄膜的製造方法係，以在使聚乙烯醇系薄膜依順序進行硼潤處理處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理及乾燥處理等處理之製造偏光處理的方法中，以多段進行乾燥處理同時賦予薄膜張力，在乾燥處理之各段中控制薄膜的單位寬度張力於實質上一定之張力，且在使後段之張力為前段之張力以下的情況下進行為特徵，藉此可進行極少在薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂之製造。

進而，以使後段中之乾燥溫度在前段中之乾燥溫度以上的情況下進行為特徵，藉此可獲得甚少線條之外觀良好的偏光薄膜。

乾燥處理，通常，以2段進行，前段的張力設定為600~1,500N/m之範圍，後段的張力設定為300~1,200N/m之範圍；又，前段的乾燥溫度設定為50~90℃之範圍，後段的乾燥溫度設定為70~100℃之範圍。

進而，本發明之偏光板係，在如上所述而得的偏光薄膜之至少單面上貼合保護薄膜者。此保護薄膜，以具備相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一機能為佳。又，光學層合體係，在至少於單面上貼合保護薄膜之該偏光板上，貼合選自相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射板之至少一種者。

依本發明之方法，可進行極少在偏光薄膜上產生皺紋或薄膜斷裂之製造，進而可製造甚少線條之外觀良好的偏光薄膜。藉由將由甚少線條之外觀良好的偏光薄膜、光學層合體使用於液晶顯示裝置，可獲得高品位之液晶顯示。

[發明之實施形態]

詳細說明本發明如下。

本發明中形成聚乙烯醇系薄膜之聚乙烯醇系樹脂，通常為將聚乙酸乙烯基酯系樹脂皂化者。皂化度約為85莫耳%以上，更佳為約90莫耳%以上，最佳為99莫耳%~100莫耳%。聚乙酸乙烯基酯，除乙酸乙烯基酯之單獨聚合物以外，尚有乙酸乙烯基酯，與可與其共聚合之其他單體的共聚合，例如乙烯－乙酸乙烯基酯共聚合等。可共聚合之單體有，例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度，約1,000~10,000，較佳為1,500~5,000。

此等聚乙烯醇系樹脂可予以改性，例如可使用以醛類改性之聚乙烯甲縮醛、聚乙烯乙縮醛、聚乙烯丁縮醛等。通常製造偏光薄膜之啟始材料，使用厚度約為20 μ m~100 μ m，較佳為30 μ m~80 μ m之聚乙烯醇系樹脂薄膜的未拉伸薄膜。工業上，薄膜之寬度以約為1,500mm~4,000mm較為實用。

使此未拉伸薄膜依順序進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理等處理，最後進行乾燥而得之聚乙烯醇系偏光薄膜的厚度為，例如5 μ m~50 μ m。

本發明之偏光薄膜係，為使二色性色素吸附定向之聚乙烯醇系單軸拉伸薄膜；其製造方法，可大略分為2個製造方法。其一為，使聚乙烯醇系薄膜在空氣或惰性氣體中進行單軸拉伸後，依順序進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理及水洗處理等溶液處理，最後進行乾燥之方法。

其二為，使未拉伸之聚乙烯醇系薄膜在水溶液中依順序進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理及水洗處理等溶液處理，硼酸處理步驟及/或其前之步驟以濕式進行單軸拉伸，最後進行乾燥之方法。

任一方法之單軸拉伸，可使用一個步驟進行，亦可使用兩個以上之步驟進行，以使用複數之步驟進行為佳。拉伸方法，可採用眾所周知的方法，有例如在輸送薄膜的兩個鉗緊滾筒之間施加轉速差進行拉伸的滾筒間拉伸，如專利第2,731,813號公報上記載之熱滾筒拉伸法、拉幅器拉伸法等。又，基本上步驟之順序係如上述的說明，處理浴之數或處理條件等沒有限制。

又，在上述步驟中可隨意以另外之目的插入未記載的步驟自不特言。此步驟之例有，在硼酸處理後，以不含硼酸之碘化物水溶液進行浸漬處理(碘化物處理)或以含有不含硼酸之氯化鋅的水溶液進行浸漬處理(鋅處理)步驟等。

膨潤步驟係，以去除薄膜表面之雜質，去除薄膜中之可塑劑，賦予下一步驟之易染色性，薄膜之可塑化等目的而進行。處理條件係在可達此等目的之範圍，且在不產生基材薄膜之極端溶解，透明消失等不適當情況的範圍而決定。使預先在氣體中拉伸之薄膜膨潤時，例如使薄膜浸漬於約20~70℃，較佳為約30~60℃之水溶液中而施行。薄膜之浸漬時間，約30~300秒，更佳為60~240秒。使從未拉伸之薄膜膨潤時，例如使薄膜浸漬於約10~50℃，較佳為約20~40℃之水溶液中而施行。薄膜之浸漬時間，約30~300秒，更佳為60~240秒。

在膨潤處理步驟中，薄膜於寬度方向膨潤，有容易使薄膜中產生線條的問題之故，以使用擴增寬度滾筒(膨脹器滾筒)、螺旋滾筒、凸面滾筒、導布器、彎管棒、拉幅器夾等眾所周知的擴幅裝置輸送去除薄膜之線條的薄膜為佳。以使浴中的薄膜輸送穩定化為目的，以水中噴淋控制膨潤浴中之水流，併用EPC裝置(Edge Position Control裝置：檢測薄膜之端部，防止薄膜之蛇行的裝置)等甚為適合。本步驟中，在薄膜之運行方向薄膜亦膨潤擴大之故，為不使在輸送方向之薄膜鬆弛，以採取例如控制處理槽前後之輸送滾筒的速度等措施為佳。又，使用之膨潤處理浴，除純水以外，可使用添加約0.01重量%~10重量%之範圍的硼酸(特開平10－153709號公報上記載)、氯化物(特開平06－281816號公報上記載)、無機酸、無機鹽、水溶性有機溶劑、醇類等的水溶液。

藉由二色性色素進行之染色步驟，係使二色性色素吸附、定向於薄膜為目的而施行。處理條件係在可達成此等目的之範圍，且在不產生基材薄膜之極端溶解、透明消失等不適當情況的範圍而決定。使用碘為二色性色素時，例如在約10~45℃，較佳為約20~35℃之溫度，且以重量比計碘/KI/水＝約0.003~0.2/約0.1~10/100之濃度下進行約30~600秒，較佳為60~300秒之浸漬處理。可使用其他之碘化物，例如碘化鋅等替代碘化鉀。又，碘化鉀可與其他之碘化物併用。又，亦可共存碘化物以外之化合物，例如硼酸、氯化鋅、氯化鈷等。添加硼酸時，在含有碘之點，與下述之硼酸處理區別。相對於水100重量份，含有約0.003重量份以上之碘者，視同染色槽。

使用水溶性二色性染料作為二色性色素時，例如在約20~80℃，較佳為30~70℃之溫度，且以重量比計二色性染料/水＝約0.001~0.1/100之濃度下進行約30~600秒，較佳為60~300秒之浸漬處理。所使用之二色性染料的水溶液，可含有染色助劑等，例如可含有硫酸鈉等無機鹽、界面活性劑等。二色性染料可單獨使用，或同時使用兩種以上之二色性染料。

可在如上所述之染色槽使薄膜拉伸。拉伸係以在染色槽之前後的鉗緊滾筒所具有之轉速差等的方法進行。又，與膨潤步驟同樣的，可在染色浴中及/或染色浴出入口設置擴幅滾筒(膨脹器滾筒)、螺旋滾筒、凸面滾筒、導布器，彎管棒等。

硼酸處理等，在含有相對於水100重量份硼酸為約1~10重量份之水溶液中，藉由使經二色性色素染色之聚乙烯醇系薄膜浸漬而施行。二色性色素為碘時，以含有約1~30重量份之碘化物為佳。

碘化物有碘化鉀、碘化鋅等。又，可共存碘化物以外之化合物，例如氯化鋅、氯化鈷、氯化鋯、硫代硫酸鈉、亞硫酸鉀、硫酸鈉等。

此硼酸處理係，為藉由交聯進行耐水化或色相調整(防止帶有藍色等)而實施。以交聯進行耐水化時，因應需求除硼酸以外，或與硼酸同時，可使用乙二醛、戊二醛等交聯劑。

還有，為進行耐水化之硼酸處理，亦有稱為耐水化處理、交聯處理，固定化處理之情況。又，為進行色相調整之硼酸處理，亦有稱為補色處理、再染色處理等之情況。

此硼酸處理，可依其目的，適當改變硼酸及碘化物之濃度、處理浴之溫度，而進行。

為進行耐水化之硼酸處理，及為進行色相調整之硼酸處理並非特別加以區別者，以下述之條件實施。

在使未拉伸薄膜進行膨潤、染色、硼酸處理之情況，硼酸處理為藉由交聯進行耐水化之目的時，以使用含有相對於水100重量份硼酸為約3~10重量份、碘化物為約1~20重量份之硼酸處理浴，在通常為約50~70℃，較佳為約55~65℃之溫度下進行。浸漬時間，通常為約30~600秒，較佳為60~420秒，更佳為90~300秒。

還有，在使預先經拉伸之薄膜進行染色、硼酸處理之情況，硼酸處理浴之溫度，通常為約50~85℃，較佳為55~80℃。

在為耐水化之硼酸處理後，可進行為色相調整之硼酸處理。例如二色性染料為碘時，為此目的，使用含有相對水100重量份硼酸為約1~5重量份，碘化物為約3~30重量份之硼酸處理浴，在通常為約10~45℃之溫度下進行。浸漬時間，通常為約3~300秒，較佳為10~240秒。

為色相調整之硼酸處理，與為耐水化之硼酸處理比較，通常在低硼酸濃度、高碘化物濃度、低溫度進行。

此等硼酸處理可以複數之步驟進行，通常，大多以2~5之步驟進行。此情況，所使用之各硼酸處理槽的水溶液組成、溫度，可為上述範圍內之相同或相異者。上述為耐水化之硼酸處理，為色相調整之硼酸處理可分別以複數之步驟進行。

硼酸處理步驟中，與染色步驟同樣的可施行薄膜之拉伸。最終之累積拉伸倍率為約4.5~7.0倍，較佳為5.0~6.5倍。

硼酸處理後，施行水洗處理。水洗處理係，藉由例如使經為耐水化及/或色相調整之硼酸處理的聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中，水以噴淋方式噴霧或併用浸漬與噴霧而進行。水洗處理中水之溫度，通常為2~40℃，浸漬時以2~120秒為佳。

在拉伸處理後之分別的步驟中，可進行張力控制使薄膜之張力分別為實質上固定。

於染色處理步驟完成拉伸之情況，在以後之硼酸處理步驟及水洗處理步驟施行張力控制。於染色處理步驟之前步驟完成拉伸的情況，在包含染色處理步驟及硼酸處理步驟之以後的步驟施行張力控制。

硼酸處理步驟為由複數之硼酸處理步驟所成的情況，以在最初或最初起第二階段為止之硼酸處理步驟，使該薄膜進行拉伸，在施行拉伸處理後之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟至水洗步驟為止之分別的步驟中，進行張力控制；或在最初起第三階段為止之硼酸處理步驟使該薄膜進行拉伸，在施行拉伸處理後之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟至水洗步驟為止之分別的步驟中，進行張力控制為佳；工業上，以在最初或最初起第二階段為止之硼酸處理步驟使該薄膜進行拉伸，於施行拉伸處理後之硼酸處理步驟的下一硼酸處理步驟至水洗步驟為止之分別的步驟中，進行張力控制更為適合。

在硼酸處理後，進行上述之碘化物處理或鋅處理時，亦於此等步驟中進行張力控制。

在膨潤處理至水洗處理之分別的步驟中，張力可為相同或相異者。

張力控制中對薄膜之張力沒有特別的限制，每一單位寬度約為150~2,000N/m，較佳為適當設定於約600~1,500N/m之範圍內。張力低於約150N/m時，薄膜上容易產生皺紋。另一方面，張力超過約2,000N/m，有由於薄膜之斷裂或軸承之磨損造成低壽命化等的問題。又，此每一單位寬度之張力，係由此步驟之入口附近的薄膜寬度與張力檢測器之張力值算出。

還有，進行張力控制時，雖有不可避免之若干拉伸．收縮的情況，本發明中，其不包含於拉伸處理。

本發明中，乾燥處理係以多段進行同時賦予薄膜張力。在各段中進行張力控制，使薄膜之單位寬度的張力實質上為一定，且在使後段之張力為前段之張力以下的情況下進行。即，各段中薄膜之每一單位寬度的張力(N/m)自第1段起依順序為N₁ 、N₂ 、N₃ ……時，設定N₁ 、N₂ 、N₃ ……於可滿足N₁ ≧N₂ ≧N₃ ……。

藉此，可進行極少在薄膜上產生皺紋，甚少薄膜斷裂之製造。

進而，本發明係，在使後段中之乾燥溫度為前段中之乾燥溫度以上的情況下進行。

即，各段中之乾燥溫度(℃)自第1段起依順序T₁ 、T₂ 、T₃ ……時，設定T₁ 、T₂ 、T₃ ……於可滿足T₁ ≦T₂ ≦T₃ ……。

乾燥處理以使用較多之段數，逐漸改變張力而進行的方法為佳，由設備上之限定等自然限制，通常以2~3段施行。以2段施行時，前段之張力設定於600~1,500N/m之範圍，後段之張力設定於300~1,200N/m之範圍。張力過大時，薄膜之斷裂增多；過小時，產生之皺紋增多，均不適合。

進而，此際，前段之乾燥溫度設定於50~90℃之範圍，後段之乾燥溫度設定70~100℃之範圍。溫度過高時，薄膜之斷裂增多，又光學特性降低；溫度過低時，線條增多，均不適合。

乾燥處理時間為60~600秒，各段之乾燥時間可為相同或相異者。時間過長時光學特性降低，過短時乾燥不充分，均不適合。

本發明中，為控制張力之鉗緊滾筒，為控制薄膜的輸送方向之導向滾筒，可使用橡膠滾筒、不銹鋼製研磨滾筒及海棉橡膠滾筒。

橡膠滾筒以由NBR等所成，其硬度使用JIS K 6301之試驗方法測定以JIS肖氏C比例尺表示為約60~90度，較佳為約70~80度；表面粗糙度以JIS B 0601(表面粗糙度)之粗糙度曲線的局部頂峰之平均間隔S表示，為約0.1~5S，以約0.5~1更佳。

不銹鋼製研磨滾筒，係由SUS 304、SUS 316等所成，為謀求膜厚之均勻化，表面粗糙度以JIS B 0601(表面粗糙度)之粗糙度曲線的局部頂峰之平均間隔S表示，以約0.2~1.0S者為佳；又，其動態摩擦係數為約0.1~0.4，以約0.15~0.35者更佳。本發明中之動態摩擦係數，係依據JIS K 7125之試驗方法，以測定與聚乙烯醇系薄膜在水中之值表示。

海棉橡膠滾筒，海棉之硬度使用JIS K 6301之試驗方法測定以JIS肖氏C比例尺表示為約20~60度，較佳為25~50度；密度為0.4~0.6g/cm³ ，較佳為0.42~0.57g/cm³ ；及表面粗糙度以JIS B 0601(表面粗糙度)之粗糙度曲線的局部頂峰之平均間隔S表示，為約10~30S，以約15~25S更佳。

在如此進行所製造之偏光薄膜的至少單面上，以黏著劑使保護薄膜貼合可獲得偏光板。

保護薄膜有，例如由三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素等乙醯基纖維素系樹脂所成之薄膜；由聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二羧酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系樹脂所成之薄膜；由聚碳酸酯系樹脂所成之薄膜；由環烯烴系樹脂所成之薄膜等。市售之熱塑性環烯烴系樹脂有，例如德國之梯口納(Ticona)公司所販賣之「多巴斯」(Topas)(註冊商標)，日本結甕股份有限公司所販賣之「結歐諾阿」、及「結歐內庫斯」(均為註冊商標)，三井化學股份有限公司所販賣之「阿佩魯」(註冊商標)等。使如此之環烯烴系樹脂的經製膜者，作為保護薄膜，製膜時可適當採用例如溶劑鑄造法、熔融擠壓法等眾所周知的方法。經製成膜之環烯烴系樹脂薄膜亦有市售者，例如積水化學工業股份有限公司所販賣之「耶斯西納」、「SCA40」等。

保護薄膜之厚度雖以較薄者為佳，但過薄時，強度降低，加工性劣化；另一方面，過厚時，有透明性降低，層合後必要的熟化時間增長等問題。因此，保護薄膜之適當的厚度，例如為約5~200 μ m程度，較佳為10~150 μ m，更佳為20~100 μ m。

為提升黏著劑與偏光薄膜及/或保護薄膜之黏著性，可在偏光薄膜及/或保護薄膜上，施行電暈處理、火焰處理、電漿處理、照射紫外線、啟發劑塗佈處理、皂化處理等表面處理。

可在保護薄膜上，單獨或組合施行防白處理、防反射處理、硬塗處理、防靜電處理、防污處理等表面處理。又，保護薄膜及/或保護薄膜表面保護層可含有二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物等吸收紫外線劑或，磷酸苯基酯系化合物、苯二甲酸酯系化合物等可塑劑。

如此之保護薄膜，可貼合於偏光薄膜之單面或雙面。

偏光薄膜與保護薄膜，可使用水溶劑系黏著劑、有機溶劑系黏著劑、熱熔膠系黏著劑、無溶劑系黏著劑等黏著劑進行層合。水溶劑系黏著劑有，例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸脂系乳膠黏著劑等；有機溶劑系黏著劑有，例如二液型胺基甲酸脂系黏著劑等；無溶劑系黏著劑有，例如一液型胺基甲酸酯系黏著劑等。使用以皂化處理等使與偏光薄膜之黏著面經親水化處理的乙醯纖維素系薄膜作為保護薄膜時，適合使用聚乙烯醇系樹脂水溶液為黏著劑。

作為黏著劑使用之聚乙烯醇系樹脂中，除使乙酸乙烯基酯之單獨聚合物的聚乙酯乙烯基酯進行皂化處理所得之乙烯醇勻聚物以外，尚有使乙酸乙烯基酯、與可與其共聚合之其他單體的共聚物進行皂化處理而得乙烯醇系共聚物，進而有使此等之羥基進行部份改性的改性聚乙烯醇系聚合物等。此黏著劑中，可使用多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物等作為添加劑。

使偏光薄膜與保護薄膜貼合之方法，沒有特別的限制，有例如在偏光薄膜或保護薄膜之表面均勻塗佈黏著劑，藉由重疊滾筒使另一方之薄膜貼合於塗佈面上，進行乾燥之方法等。

通常，黏著劑係在調製後，於約15~40℃之溫度下進行塗佈，貼合溫度通常為15~30℃之範圍。貼合後進行乾燥處理，去除黏著劑中所含之水等溶劑，此時之乾燥溫度，通常為約30~85℃，較佳為40~80℃之範圍。其後，可在約15~85℃，較佳為20~50℃，更佳為35~45℃之溫度環境下，進行通常為1~90天之熟化使黏著劑硬化。此熟化時間過長時，生產性惡化之故，熟化時間為約1~30天之程度，較佳為約1~7天。

如此，可獲得透過黏著劑層使保護薄膜貼合於偏光薄膜之單面或雙面的偏光板。

本發明中，可在保護薄膜上具有作為相位差薄之機能、作為提升亮度薄膜之機能、作為反射薄膜之機能、作為半透過反射薄膜之機能、作為擴散薄膜之機能、作為光學補償薄膜之機能等光學上的機能。此情況，例如可藉由在保護薄膜之表面上層合相位差薄膜、提升亮度薄膜、反射薄膜、半透過反射薄膜、擴散薄膜、光學補償薄膜等光學機能性薄膜，而具有如此之機能以外，可賦予保護薄膜本身如此之機能。又，可使保護薄膜本身具有如具有提升亮度薄膜之機能的擴散薄膜等複數之機能。

例如，在上述之保護薄膜上藉由施行專利第2,841,377號公報、專利第3,094,113號公報等記載之拉伸處理，施行專利第3,168,850號公報等記載之處理，可賦予作為相位差薄膜之機能。又，在上述之保護薄膜上藉由以特開2002－169025號公報或特開2003－29030號公報上記載之方法形成微細孔；又藉由使選擇反射之中心波長不同的2層以上之膽巢醇型液晶層重疊，可賦予作為提升高度薄膜之機能。

在上述之保護薄膜上，藉由以蒸鍍或濺鍍等形成金屬薄膜，可賦予作為反射薄膜或半透過反射薄膜之機能。在上述之保護薄膜上，藉由塗佈含微粒之樹脂溶液，可賦予作為擴散薄膜之機能。又，在上述之保護薄膜上，藉由塗佈不協調液晶性化合物等液晶性化合物而定向，可賦予作為光學補償薄膜之機能。又，可使用適當之黏著劑，使商品名：DBEF(3M股份有限公司製)等提升亮度薄膜，商品名：WV薄膜(富士照相膠卷股份有限公司製)等改善視角薄膜，商品名：斯密卡萊多(註冊商標)(住友化學工業股份有限公司製)等相位差薄膜，等市售之光學機能性薄膜直接貼合於偏光薄膜上。

[實施例]

以實施例更具體說明本發明如下：本發明並非限定於此等例者。

[實施例1]

使厚度75 μ m之聚乙烯醇薄膜(庫拉雷比尼龍VF－PS #7500，聚合度2,400，皂化度99.9莫耳%以上)置入30℃純水中，保持拉緊狀態不使薄膜鬆弛浸漬約130秒鐘，使薄膜充分膨潤。

其次，浸漬於碘/碘化鉀/水以重量比計為0.02/1.5/100之水溶液中，施行單軸拉伸。其後，浸漬於碘化鉀/硼酸/水以重量比計為10/5/100之60℃水溶液中，進行耐水化處理，施行自未拉伸至累積拉伸倍率達5.9倍止之單軸拉伸，進而，浸漬於碘化鉀/硼酸/水以重量比計為20/3/100之30℃水溶液30秒鐘，再於10℃之純水進行約10秒鐘之洗淨。

其次，使經水洗之薄膜在第1乾燥處理中賦予850N/m之張力，同時於80℃乾燥120秒鐘後，繼續在第2乾燥處理中賦予薄膜670N/m之張力，同時於85℃進行180秒鐘之乾燥，即得偏光薄膜。

在此偏光薄膜之雙面塗佈聚乙烯醇系黏著劑，即得保護薄膜(表面上施行皂化處理之三乙醯基纖維素薄膜，厚80 μ m)貼合於雙面之偏光板。

在乾燥步驟中，薄膜上極少產生皺紋，未發生薄膜斷裂。又，在螢光燈之反射下觀測所得偏光板的結果，為線條極少，外觀良好者。

[比較例1]

除第1乾燥處理中薄膜之張力為670N/m，第2乾燥處理中薄膜之張力為850N/m以外，與實施例1同樣進行，即製成偏光板。

在乾燥步驟中，薄膜上產生多量皺紋，發生薄膜之斷裂，於螢光燈之反射下觀測所得偏光板的結果，線條極少。

[比較例2]

除第1乾燥處理中溫度為85℃，第2乾燥處理中溫度為80℃以外，與比較例1同樣進行，即製成偏光板。

在乾燥步驟中，薄膜上產生多量皺紋，發生薄膜之斷裂，在螢光燈之反射下觀測所得偏光板的結果，為線條甚多，外觀不良者。

Claims (5)

1. 一種偏光薄膜之製造方法，其特徵為，在使聚乙烯醇系薄膜依順序進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理及乾燥處理等處理之製造偏光薄膜之方法中，以2段進行乾燥處理同時賦予薄膜張力；在乾燥處理之各段中，控制薄膜之單位寬度之張力於實質上一定之張力，且在使後段之張力為前段之張力以下之情況下，使前段中之張力設定為600~1500N/m之範圍，後段中之張力設定為300~1200N/m之範圍來進行。
2. 如申請專利範圍第1項之偏光薄膜之製造方法，其係在使後段中之乾燥溫度為前段中之乾燥溫度以上之情況下，使前段之乾燥溫度設定為50~90℃之範圍，後段之乾燥溫度設定為70~100℃之範圍來進行。
3. 一種偏光板，其特徵為在以如申請專利範圍第1或2項之方法製造所成之偏光薄膜之至少單面上，貼合保護薄膜而成。
4. 如申請專利範圍第3項之偏光板，其中該保護薄膜為具備相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之任一機能。
5. 一種光學層合體，其特徵為貼合如申請專利範圍第3項之偏光板，與選自相位差薄膜、提升亮度薄膜、改善視角薄膜及半透過反射薄膜之至少一種所成。