TWI455980B - 正型感光性樹脂組成物 - Google Patents
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- 一種感光性樹脂組成物,其係由成分(A)、(B)及(C)所組成,其特徵為,成分(A)係由下述構成單位所組成的共聚物:由下述式(1)所示之反丁烯二酸(fumaric acid)二酯單體所衍生的構成單位(a1);由下述式(2)所示之芳香族乙烯(vinyl)單體所衍生的構成單位(a2);由下述式(3)所示之α,β-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位(a3);及由下述式(4)所示之(甲基)丙烯酸酯單體所衍生的構成單位(a4),該共聚物中,構成單位(a1)與構成單位(a2)之合計量在該成分(A)中為40至85質量%,構成單位(a3)與構成單位(a4)之質量比(a4)/(a3)為0.2至7.0, 式中,R1 及R2 係各自為碳數3至8之分支烷基、碳數4至12之環烷基或經取代的分支之環烷基 式中,R3 為氫原子或甲基;R4 為碳數6至12之芳香族烴基 式中之R5 為氫原子、甲基或羧甲基 式中之R6 為氫原子或甲基;R7 為碳數6至12之芳香族烴基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之分支烷基、碳數2至12之羥烷基或主環(principle ring)構成碳數為5至12之脂環式烴基成分(B)係將具有羥基的酚性化合物與醌二疊氮化合物予以酯化反應所得,具有醌二疊氮基(quinonediazide group)的感光劑,成分(C)係具有2個以上環氧基的硬化劑,相對於成分(A)100質量份,成分(B)及(C)之構成比率為:(B)為5至50質量份及(C)為1至40質量份。
- 一種平面顯示器,其係具有將如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物予以硬化之層。
- 一種半導體裝置,其係具有將如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物予以硬化之層。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200307722A (en) * | 2002-05-24 | 2003-12-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Photocurable resin composition for forming overcoats, RGB pixels, black matrixes or spacers in color filter production, and color filters |
TW574615B (en) * | 2001-09-27 | 2004-02-01 | Clariant Int Ltd | Photosensitive resin composition |
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JP2006259083A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 |
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---|---|---|---|---|
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