JP5851307B2 - 遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法に関する。

例えば、カラー表示装置に用いられるカラーフィルタにあっては、一般に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色からなる画素が、ブラックマトリクスと呼ばれる格子状の黒色遮光層で囲まれている構成を有する。
かかるカラーフィルタの製造方法の一つとして、ブラックマトリクスを隔壁として、カラーフィルタの着色層をインクジェット方式で形成する方法が提案されている（例えば、下記特許文献１）。
またカラーフィルタに限らず各種表示装置において、各画素間の境界上にブラックマトリクスを設けることによって画像のコントラスト向上を図ることもある。

ブラックマトリクスは、例えば、黒色顔料を含有するレジスト組成物を用い、リソグラフィーによって形成される。黒色顔料としてはカーボンブラックが一般的に用いられている（例えば、特許文献１）。

ところで、レジスト組成物中に存在する不純物や異物は、レジストパターンのディフェクト（表面欠陥）やピンホールを発生させる原因となる。特許文献２には、レジスト溶液保管中に発生する、微細粒子を除去するため、レジスト組成物を特定の電位を有するフィルタを用いてろ過する工程を有するレジスト組成物の製造方法が記載されている。

特開２００４−３２５７３６号公報 特開２００４−２１２９７５号公報

上記のようなろ過工程を含むレジスト組成物の製造方法においては、基材成分等をすべて混合した後に、ろ過工程を経るのが通常である。

ブラックマトリクスを製造する際、感光性樹脂や有機溶剤中に存在する不純物や異物は、
ブラックマトリクス表面にピンホール等を生じさせ、パターンの不均一化等を発生させる。
ピンホール等が発生しない、高品質なブラックマトリクスを製造するためには、感光性樹脂や有機溶剤中の不純物や異物を除去する必要がある。

上記事情に鑑みて、本発明者らは、ブラックマトリクスを製造する際、感光性樹脂や有機溶剤中に存在する不純物や異物を、ＰＴＦＥ膜（ポリテトラフルオロエチレン膜）を用いてろ過することにより除去し、ピンホール等が発生しない、高品質のブラックマトリクスを提供する方法を見出した。

本発明は、感光性基材成分（Ａ）を有機溶剤成分（Ｓ）に溶解させ、得られた基材溶液を孔径が１μｍ以下のＰＴＦＥ膜にてろ過した後、該基材溶液に顔料成分（Ｇ）を分散させ、前記感光性基材成分（Ａ）が光重合性化合物（Ａ２）を含有することを特徴とする遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法である。

本発明の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法によれば、ピンホール等が発生しない、高品質のブラックマトリクスを提供できる。

≪遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法≫
本発明の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法は、感光性基材成分（Ａ）（以下、（Ａ）成分という。）を有機溶剤成分（Ｓ）（以下、（Ｓ）成分という。）に溶解させ、得られた基材溶液を、孔径が１μｍ以下のＰＴＦＥ膜を用いてろ過した後、該基材溶液に顔料成分（Ｇ）（以下、（Ｇ）成分という。）を分散させることを特徴とする。

本発明の製造方法により製造される感光性基材組成物は、ＰＴＦＥ膜によるろ過工程を経るため、基材溶液中に存在する異物や不純物の影響を受けることなく、遮光層を形成した際にピンホール等が発生しない、高品質なものである。

（Ａ）成分
本発明の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法に用いる（Ａ）成分は、特に限定されず、従来公知となっているものを用いることができる。例えば、アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）（以下、（Ａ１）成分という。）と、光重合性化合物（Ａ２）（以下、（Ａ２）成分という。）と、光重合開始剤（Ａ３）（以下、（Ａ３）成分という。）とを含むものであり、紫外線等の光を照射することにより、硬化するものが挙げられる。光を照射した部分を硬化させることにより、所望の形状のパターンを得ることができる。

（Ａ１）成分
本発明において、（Ａ１）成分は、下記アルカリ可溶性樹脂（Ａ１−１）（以下、（Ａ１−１）成分という。）または下記光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ１−２）（以下、（Ａ１−２）成分という。）が適用できる。

（Ａ１−１）成分
（Ａ１−１）成分としては、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ基を有するモノマーから選ばれる１種以上と、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルアクリレート、Ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどから選ばれる１種以上との共重合体や；
フェノールノボラック型エポキシアクリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールＳ型エポキシアクリレート重合体などの樹脂が挙げられる。
これらの樹脂はアクリロイル基またはメタクリロイル基が導入されていることから架橋効率が高められ塗膜の耐光性、耐薬品性が優れている。
前記（Ａ１−１）成分を構成するモノマー成分のうち、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ基を有するモノマー成分の含有量が５〜４０質量％の範囲であることが好ましい。

（Ａ１−２）成分
（Ａ１−２）成分としては、下記一般式（１）で示される重合体が挙げられる。該一般式（１）で示される化合物は、それ自体が光重合性（光硬化性）を有するので、これを含有する遮光膜形成用感光性樹脂では、紫外線の透過率を高めることにより、一層感度を向上させることをできる。

（式中Ｘは、下記化学式（２）で示される基であり、Ｙはジカルボン酸無水物からカルボン酸無水物基（−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−）を除いた残基であり、Ｚはテトラカルボン酸二無水物から２個のカルボン酸無水物基を除いた残基である。）

前記Ｙを誘導するジカルボン酸無水物（カルボン酸無水物基を除く前のジカルボン酸無水物）の具体例としては、例えば無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。
また、前記Ｚを誘導するテトラカルボン酸二無水物（２個のカルボン酸無水物基を除く前のテトラカルボン酸二無水物）の具体例としては、例えば無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

（Ａ１）成分は一種単独でもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また前記（Ａ１−１）成分だけを用いてもよく、（Ａ１−２）成分だけを用いてもよく、両者を併用してもよい。
本発明における（Ａ１）成分の質量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算基準）は、特に限定するものではないが、１０００〜１００００００が好ましく、３０００〜５００００がより好ましく、５０００〜１５０００が最も好ましい。この範囲の上限よりも小さいと、レジストとして用いるのに充分なレジスト溶剤への溶解性があり、この範囲の下限よりも大きいとレジストパターン断面形状が良好である。

（Ａ２）成分
本発明における（Ａ２）成分としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、カルドエポキシジアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（Ａ２）成分は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお本発明において、光重合性を有するアルカリ可溶性の重合体は上記（Ａ１）成分に含まれ、光重合性を有する単量体は（Ａ２）成分に含まれるものとする。

（Ａ２）成分は、前記（Ａ１−１）成分を用いる場合、該（Ａ１−１）成分１００質量部に対して、５〜５００質量部の範囲が好ましい。より好ましい範囲は２０〜３００質量部である。
（Ａ２）成分の配合量を上記範囲の下限値以上とすることにより、露光時の硬化不良が生じ難く、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができる。また良好な被膜形成能を得、現像後の膜残りを防止するうえで、上記範囲の上限値以下とすることが好ましい。

（Ａ３）成分
本発明における（Ａ３）成分としては、特に限定されず、これまで感光性組成物用の光重合開始剤として提案されているものを使用することができる。（Ａ３）成分としてオキシム系光重合開始剤を含有することが好ましく、下記式（３）で表されるオキシム系光重合開始剤を含有することがより好ましい。式（３）中、Ｒ^ａ基として表されるカルバゾール基と、Ｒ^ｃ基に含まれるオキシム酸素とが、Ｃ＝Ｎ結合に対してアンチの立体配座、すなわち下記式（６）のような立体配座となるような異性体（アンチ体）の割合が、９０％以上であることがより好ましい。このような異性体の割合が高くなるにつれて、露光後の遮光層形成用感光性樹脂組成物の現像剤に対する溶解性が低下し、形成されたパターンの直進性が向上する。

［ここで、Ｒ^ａは下記式（４）を表し、Ｒ^ｂは一価の有機基を表し、Ｒ^ｃは下記式（５）を表す。］

（Ｒ^ａ１は置換基を有していてもよい、複素環基、縮合環式芳香族基、又は芳香族基を表し、Ｒ^ａ２は一価の有機基を表す。）

（Ｒ^ｃ１は一価の有機基を表す。）

［ここで、Ｒ^ａは上記式（４）を表し、Ｒ^ｂは一価の有機基を表し、Ｒ^ｃは上記式（５）を表す。］

上記式（４）中、Ｒ^ａ１は、置換基を有していてもよい、複素環基、縮合環式芳香族基、又は芳香族基を表す。複素環基としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５員環又は６員環の複素環基が挙げられる。この複素環基には、縮合環が含まれていてもよい。複素環基の例としては、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の含窒素５員環基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ピリダジニル基等の含窒素６員環基；チアゾリル基、イソチアゾリル基等の含窒素含硫黄基；オキサゾリル基、イソオキサゾリル基等の含窒素含酸素基；チエニル基、チオピラニル基等の含硫黄基；フリル基、ピラニル基等の含酸素基；等が挙げられる。この中でも、窒素原子又は硫黄原子を１つ含むものが好ましい。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。縮合環が含まれる複素環基の例としてはベンゾチエニル基等が挙げられる。Ｒ^ａ１が有していてもよい置換基としては、炭素数１〜５のアルキル基、炭素１〜５のアルコキシ基等が挙げられる。

縮合環式芳香族基としては、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。また、芳香族基としては、フェニル基が挙げられる。

複素環基、縮合環式芳香族基、又は芳香族基は、置換基を有していてもよい。特にＲ^ａ１が芳香族基である場合には、置換基を有していることが好ましい。このような置換基としては、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＳＯ_２Ｒ^３、−ＣＯＲ^３、−ＮＲ^４Ｒ^５、−Ｒ^６等が挙げられる。

上記Ｒ^３は、それぞれ独立にアルキル基を表し、これらはハロゲン原子で置換されていてもよく、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。Ｒ^３におけるアルキル基は、炭素数１〜５であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

上記Ｒ^４、Ｒ^５は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、これらはハロゲン原子で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアルコキシ基のアルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、又はエステル結合により中断されていてもよい。また、Ｒ^４とＲ^５とが結合して環構造を形成していてもよい。Ｒ^４、Ｒ^５におけるアルキル基又はアルコキシ基は、炭素数１〜５であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、メトキシ基、エトキシ基、又はプロポキシ基等が挙げられる。

Ｒ^４とＲ^５とが結合して形成し得る環構造としては、複素環が挙げられる。この複素環としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環が挙げられる。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。複素環の例としては、ピペリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環等が挙げられる。これらの中でも、モルホリン環が好ましい。

上記Ｒ^６は、水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を表す。Ｒ^６におけるアルキル基は、炭素数１〜５であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

上記の中でも、Ｒ^ａ１は、ピロリル基、ピリジル基、チエニル基、チオピラリル基、ベンゾチエニル基、ナフチル基、置換基としてメチル基又はモルホリノ基が結合したフェニル基が好ましい例として挙げられる。

上記式（４）中、Ｒ^ａ２は、一価の有機基を表す。この有機基としては、−Ｒ^７、−ＯＲ^７、−ＣＯＲ^７、−ＳＲ^７、−ＮＲ^７Ｒ^８で表される基が好ましい。上記Ｒ^７、Ｒ^８は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び／又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。また、Ｒ^７とＲ^８とが結合して窒素原子とともに環構造を形成していてもよい。

上記Ｒ^７、Ｒ^８で表されるアルキル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、炭素数１〜５のものがより好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、イソデシル基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。また、このアルキル基は置換基を有していてもよい。置換基を有するものの例としては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピロキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基等が挙げられる。

上記Ｒ^７、Ｒ^８で表されるアルケニル基としては、炭素数１〜２０のものが好ましく、炭素数１〜５のものがより好ましい。アルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、エテニル基、プロピニル基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。また、このアルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基を有するものの例としては、２−（ベンゾオキサゾール−２−イル）エテニル基等が挙げられる。

上記Ｒ^７、Ｒ^８で表されるアリール基としては、炭素数６〜２０のものが好ましく、炭素数６〜１０のものがより好ましい。アリール基の例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。

上記Ｒ^７、Ｒ^８で表されるアラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、炭素数７〜１２のものがより好ましい。アラルキル基の例としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルエテニル基等が挙げられる。

上記Ｒ^７、Ｒ^８で表される複素環基としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられる。この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。複素環基の例としては、ピロリル基、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。

これらのＲ^７、Ｒ^８は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたものの例としては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、クロロフェニル基、クロロベンジル基等が挙げられる。

さらに、これらのＲ^７、Ｒ^８のうち、アルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。

また、Ｒ^７とＲ^８とが結合して形成し得る環構造としては、複素環が挙げられる。この複素環としては、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子の少なくとも１つの原子を含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環が挙げられる。この複素環には縮合環が含まれていてもよい。複素環の例としては、ピペリジン環、モルホリン環、チオモルホリン環等が挙げられる。

これらの中でも、Ｒ^ａ２としては、エチル基であることが最も好ましい。

上記式（３）又は式（６）中、Ｒ^ｂは、一価の有機基である。中でも、下記式（７）で表される一価の有機基であることが好ましい。

上記式（７）中、Ｒ^ｂ１は、酸素原子で中断されていてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を表す。このようなアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ｓｅｃ−ペンチレン基等の直鎖状又は分枝鎖状の基が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｂ１はイソプロピレン基であることが最も好ましい。

上記式（７）中、Ｒ^ｂ２は、−ＮＲ^ｂ３Ｒ^ｂ４で表される一価の有機基を表す（Ｒ^ｂ３、Ｒ^ｂ４は、それぞれ独立に一価の有機基を表す）。そのような有機基の中でも、Ｒ^ｂ２の構造が下記式（８）で表されるものであれば、オキシム系光重合開始剤の溶解性を向上することができる点で好ましい。

上記式（８）中、Ｒ^ｂ５、Ｒ^ｂ６は、それぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基である。このようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｂ５、Ｒ^ｂ６はメチル基であることが最も好ましい。

上記式（３）又は式（６）中、Ｒ^ｃは、一価の有機基を表す。中でも、下記式（９）のような有機基を表すことが好ましい。

上記式（９）中、Ｒ^ｃ１は、炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましい。このようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^ｃ１はメチル基であることが最も好ましい。

上記式（３）又は式（６）で表されるオキシムエステル系の光重合開始剤のうち、特に好ましい具体例としては、下記式（１０）〜（１５）で表される化合物が挙げられる。

本発明において、感光性基材成分（Ａ）には、上記（３）で表されるオキシム系光重合開始剤に加えて、各種の光重合開始剤を含むことができる。例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ−２−エチルヘキシル安息香酸、４−ジメチルアミノ−２−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２−クロロチオキサンテン、２,４−ジエチルチオキサンテン、２−メチルチオキサンテン、２−イソプロピルチオキサンテン、２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１,２−ベンズアントラキノン、２,３−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、２−メルカプトベンゾイミダール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ,ｐ'−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２,２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパン、ｐ−メトキシトリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジンなどを挙げることができる。

これらの中でも、ｐ−メトキシトリアジン等のトリアジン類；２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン類；等のトリアジン化合物、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体；等のイミダゾリル化合物、及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１オン；等のアミノケトン化合物が好ましく用いられる。

本発明において、（Ａ３）成分として、複数の種類を併用してもよい。とくに、上記式（３）で表される化合物と、その他の少なくとも一種の化合物とを併用することが好ましい。このように少なくとも二種の化合物（（Ａ３）成分）を併用することは、わずかな照射量の光によって効率的に活性化して、感度や現像マージンをさらに高めるうえで好ましい。

上記式（３）で表される化合物と、上記式（３）で示される化合物以外のその他の化合物（特にトリアジン化合物、イミダゾイル化合物及びアミノケトン化合物）との配合割合は、質量比で１０：９０〜９０：１０であることが好ましく、特に２０：８０〜８０：２０であることが好ましい。上記式（３）で示される化合物と、上記式（３）で示される化合物以外のその他の化合物との配合割合が上述の範囲内であることで、両者の化合物が効果的に相互作用して、遮光層形成用感光性樹脂組成物の感度、現像マージンをさらに向上させることができる。

本発明の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法において、上記（Ａ３）成分の配合量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．１〜３０質量部の範囲が好ましい。

尚、（Ａ３）成分として、オキシム系光重合開始剤を含有するもの、特に、上記式（６）で表されるオキシム系光重合開始剤のうち、上記式（６）のような立体配座となるような異性体（アンチ体）の割合が、９０％以上であるものを使用すると、レジスト特性は改善されるが、溶剤溶解性が損なわれ、その結果ピンホールが発生しやすくなる。しかし、本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物の製造方法では、顔料成分の分散前に、基材溶液を孔径が１μｍ以下のＰＴＦＥ膜にてろ過することで、上記式（６）で表されるオキシム系光重合開始剤を含有する成分を用いても、ピンホールの発生を軽減することができる。

本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物の製造方法において、塗布性の改善、粘度調整のため、（Ａ）成分を（Ｓ）成分に溶解させる。
（Ｓ）成分としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチルなどが挙げられる。中でも３−メトキシブチルアセテートは遮光層形成用感光性樹脂組成物中の可溶成分に対して優れた溶解性を示すのみならず、顔料などの不溶性成分の分散性を良好にするところから好適である。
（Ｓ）成分の使用量は特に限定しないが、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。本発明における遮光層形成用感光性樹脂組成物の粘度は、５〜１００ｃｐ、好ましくは１０〜５０ｃｐ、より好ましくは２０〜３０ｃｐである。また、固形分濃度は、５〜１００質量％、好ましくは２０〜５０質量％の範囲である。

また、本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物には、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等を添加してもよい。
上記熱重合禁止剤としては、従来公知のものであってよく、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられる。
上記消泡剤としては、従来公知のものであってよく、シリコーン系、フッ素系化合物が挙げられる。
上記界面活性剤としては、従来公知のものであってよく、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられる。

本発明の製造方法は、（Ａ）成分を（Ｓ）成分に溶解させ、得られた基材溶液を、孔径が１μｍ以下のＰＴＦＥ膜にてろ過する工程を有する。本発明において用いるＰＴＦＥ膜は、孔径が、０．０１〜０．９μｍが好ましく、０．０５〜０．６μｍがより好ましく、０．１〜０．３μｍが特に好ましい。本発明の製造方法において、ろ過装置やろ過方法は特に限定されず、公知のものを用いることができる。

本発明の製造方法は、（Ａ）成分を（Ｓ）成分に溶解させた後に、得られた基材溶液をろ過する工程を経るため、孔径が１μｍ以下と、小径のＰＴＦＥ膜を用いてろ過することができる。それ故、微細な不純物や異物も除去することができ、ピンホールの発生を軽減させることができると推察される。

（Ｇ）成分
本発明では（Ｇ）成分として、カーボンブラック等の黒色顔料を用いることができる。また、黒、赤、青、緑、黄、紫の色素を併用して、色調等を調整したものも用いることができる。色素は公知のものを適宜用いることができる。
特に、顔料として、カーボンブラックと他の色素を併用して用いた場合、カーボンブラックが全顔料中の１５質量％未満であると、上記遮光層形成用感光性樹脂組成物の感度を低下させることなく、遮光率を向上させることができる。

本発明では（Ｇ）成分としてペリレン系黒色顔料（以下、単にペリレン系顔料と称する。）が好適に用いられる。具体例としては、下記一般式（Ｉ）で表されるペリレン系顔料および下記一般式（II）で表されるペリレン系顔料が挙げられる。また市販品では製品名；Ｋ００８４、Ｋ００８６、ＢＡＳＦ社製等を好ましく用いることができる。

（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、それぞれ独立して炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、メトキシ基又はアセチル基を表す。）

（式中、Ｒ^５，Ｒ^６は、それぞれ独立して炭素数１〜７のアルキレン基を表す。）

前記一般式（Ｉ）で表される化合物および一般式（II）で表される化合物は、例えば特開昭６２−１７５３号公報、特公昭６３−２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−３，５，９，１０−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。

本発明において、ペリレン系顔料は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、遮光層形成用感光性樹脂組成物中においてペリレン系顔料を分散状態にするためには、ペリレン系顔料の平均粒径が１０〜１０００ｎｍであることが好ましい。
本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物におけるペリレン系顔料の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、５〜２５０質量部が好ましい。より好ましい範囲は１０〜２００質量部である。ペリレン系顔料の含有量を上記範囲の下限値以上とすることにより、良好な遮光性が得られる。また上記範囲の上限値以下とすることが露光不良や硬化不良を防止するうえで好ましい。

ペリレン系顔料と、前記の顔料や色素を混合して用いる場合、他の顔料や色素の使用量は、色素全体、すなわちペリレン系顔料と他の色素の合計のうちペリレン系顔料が占める割合が８５質量％以上となるように設定することが好ましい。より好ましくは９０質量％以上であり、１００質量％でもよい。
上記の下限値以上とすることにより、上記遮光層形成用感光性樹脂組成物を用いて２μｍ超の厚膜を形成する際の感度を得ることができるとともに、遮光膜の良好な遮光率を達成することができる。

尚、本発明の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法においては、（Ｇ）成分を分散させた後に、再度ろ過する工程を経ることが好ましい。その際、分散させた（Ｇ）成分が除去されてしまうことを防ぐため、孔径の大きいフィルタ、例えば、孔径が０．６〜１．５μｍのフィルタを用いることが好ましい。再度のろ過工程において用いるフィルタは、顔料が除去されないものであれば特に限定されず、公知のものを用いることができる。好ましくは、ＰＴＦＥ膜（ポリテトラフルオロエチレン膜）、ＰＰ膜（ポリプロピレン膜）、ＰＥ膜（ポリエチレン膜）を用いることができる。

本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物を用いて遮光層を形成する方法において、所望により、混和性のある添加剤、例えば界面活性剤、安定剤などを適宜添加含有させることができる。

＜遮光層の形成方法＞
以下、本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物を用いて遮光層を形成する方法の一実施形態として、ブラックマトリクスを形成する方法の例を説明する。
まず遮光層形成用感光性樹脂組成物を、基板上にロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて塗布する。基板は、光透過性を有する基板が用いられ、例えば厚さ０．５〜１．１ｍｍのガラス基板である。
ガラス基板と遮光層形成用感光性樹脂組成物との密着性を向上させるために、予めガラス基板上にシランカップリング剤を塗布しておいてもよい。あるいは遮光層形成用感光性樹脂組成物の調製時にシランカップリング剤を添加しておいてもよい。
上記塗布後、乾燥させて溶剤を除去する。乾燥方法は特に限定されず、例えば（１）ホットプレートにて８０℃〜１２０℃、好ましくは９０℃〜１００℃の温度にて６０秒〜１２０秒間乾燥する方法、（２）室温にて数時間〜数日放置する方法、（３）温風ヒーターや赤外線ヒーター中に数十分〜数時間入れて溶剤を除去する方法、のいずれでもよい。
次いで、ネガ型のマスクを介して、紫外線、エキシマレーザー光等の活性性エネルギー線を照射して部分的に露光する。照射するエネルギー線量は、遮光層形成用感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば３０〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。
露光後の膜を、現像液を用いて現像することによってブラックマトリクスパターンを形成する。現像方法は特に限定されず、例えば浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物によれば、膜厚が２μｍ超であってもホトリソグラフ法により良好なパターンを形成することができる。したがって、厚膜のブラックマトリクス等、厚膜の遮光層を形成することができる。
これは、遮光性色素としてペリレン系顔料を用いることにより、樹脂組成物が露光光を透過し、かつ可視光を遮光するという特性を実現できるものと考えられる。

＜スペーサー＞
また本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物を用いて形成される、膜厚が一定の遮光層は、２枚の基板間に液晶が収容された構成を有する液晶ディスプレイにおいて、２枚の基板間の間隔を一定に保つために、該２枚の基板間に挟まれた状態で設けられるスペーサーを兼ねることができる。このようなスペーサー機能を有する遮光層の膜厚は、特に限定されるものではないが、２μｍ超であることが好ましい。

従来の液晶ディスプレイにあっては、球状のスペーサー粒子あるいは感光性樹脂組成物で形成されたスペーサーを２枚の基板間に配していた。球状のスペーサー粒子を用いた場合には、振動や衝撃が加わった時に液晶中でスペーサーが移動し、基板内面上に設けられている配向膜を傷つけるおそれがあったが、本発明によればかかる問題を解決することができる。また上記のように感光性樹脂組成物で形成されたスペーサーを用いた場合には、ブラックマトリクスを別個に形成する必要があったが、本発明によれば別個に形成する必要はなく、液晶ディスプレイの製造工程を減らすことができる。
さらに、スペーサーが遮光性を有するので、スペーサー部分が常に光透過状態にあることによる「白抜け」を防止することができる。

＜カラーフィルタ＞
本発明によれば、ブラックマトリクスを厚膜に形成することができる。したがって、本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物は、特に、予め形成したブラックマトリクスの開口部内にインクジェット方式で着色層を形成してカラーフィルタを形成する方法におけるブラックマトリクスの形成に好適である。該方法におけるブラックマトリクスは、いわゆる隔壁（バンク）としての役割を果たす。
本発明において、インクジェット方式における隔壁（バンク）として用いられるブラックマトリクスの膜厚は、特に限定されるものではないが、２μｍ超であることが好ましい。

本発明の遮光層形成用感光性樹脂組成物を用いて、隔壁（バンク）としてのブラックマトリクスを形成する方法は、上記遮光層の形成方法と同様にして行うことができる。
そして、隔壁（バンク）としてのブラックマトリクスを形成した後、該ブラックマトリクスの開口部内にインクジェット方式で着色インクを塗布する工程と、該着色インクを硬化させる工程とを繰り返して着色層を形成し、さらに必要に応じて透明保護膜を形成することによりカラーフィルタを製造することができる。インクジェット方式により着色層を形成する方法は、公知の手法を用いることができる。

本発明によれば、インクジェット方式における隔壁（バンク）として用いるブラックマトリクスを厚膜に形成することができるので、ブラックマトリクスの開口部に付与される着色インクが隔壁を超えてあふれ画素間で混色が生じるのを防止することができる。
またブラックマトリクスが薄い（隔壁が低い）場合に比べて、低粘度の着色インクを使用することができる。
また、従来どおりホトリソグラフ法によってもカラーフィルタを形成することができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（樹脂（Ａ）の合成）
特開２００１−３５４７３５号公報に従い、５００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂２３５ｇ（エポキシ当量２３５）とテトラメチルアンモニウムクロライド１１０ｍｇ、２,６−ジ−ｔｅｒｔブチル−４−メチルフェノール１００ｍｇ及びアクリル酸７２.０ｇを仕込み、これに２５ｍＬ／分の速度で空気を吹き込みながら９０〜１００℃で加熱溶解した。
次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、１２０℃に加熱して完全溶解させた。ここで溶液は次第に透明粘稠になったがそのまま攪拌を継続した。
この間、酸価を測定し、１.０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱攪拌を続けた。酸価が目標に達するまで１２時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の、下記化学式（３）で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート３０７.０ｇにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６００ｇを加えて溶解した後、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物７８ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇを混合し、徐々に昇温して１１０〜１１５℃で４時間反応させた。
酸無水物基の消失を確認した後、１,２,３,６−テトラヒドロ無水フタル酸３８.０ｇを混合し、９０℃で６時間反応させ、上記化学式（１）（式中、Ｘは前記化学式（３）で表される化合物から２個の水酸基を除いた２価の残基であり、Ｙは、１,２,３,６−テトラヒドロ無水フタル酸からカルボン酸無水物基を除いた２価の残基であり、Ｚはビフェニルテトラカルボン酸二無水物から２個のカルボン酸無水物基を除いた４価の残基である。式中のＹ／Ｚのモル比＝５０.０／５０.０である。）で表される化合物１を得た。酸無水物の消失はＩＲスペクトルにより確認した。

［オキシム系光重合開始剤（Ｂ）の合成］

Ｎ−エチルカルバゾール ７．８ｇ（４０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン ４０ｍｌに溶解し、塩化アルミニウム ５．８ｇ（４４ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴で冷却しながら１−ナフトイルクロリド ８．４ｇ（４４ｍｍｏｌ）を、反応液を５℃に保ちながら滴下した。１時間かけて徐々に室温まで上げながら撹拌し、その後室温で３時間反応させた。さらに反応液を氷浴で冷却し、塩化アルミニウム ５．８ｇ（４４ｍｍｏｌ）を加えた後、氷浴で冷却しながら２−ブテノイルクロリド ４．６ｇ（４４ｍｍｏｌ）を反応液の温度を５℃以下に保ちながら滴下した。１時間かけて徐々に室温まで上げながら撹拌した後、さらに室温で３時間反応させた。反応液を氷水 ３００ｍｌに滴下し、酢酸エチル ２００ｍｌを加えて抽出し、さらに水層を酢酸エチル １００ｍｌで抽出し、有機層と合わせて１０％炭酸ナトリウム水溶液 ３００ｍｌで抽出した。さらに有機層を水 ３００ｍｌで抽出し、その有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒溜去したところ、オイル状物質が得られた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１（質量比））にて精製を行い、淡黄色固体を得た。

得られた淡黄色固体（０．８１ｇ、０．００２ｍｏｌ）をエタノール １０ｍｌに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（０．１５ｇ、０．００２１ｍｍｏｌ）を加え、２時間還流した。エタノールを溜去した後、水を加えて無機物を溶解し、濾過した。濾過物を酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレーターでオキシム体の物質を得た。得られた物質をＴＨＦ ６ｍｌに溶解し、アセチルクロリド（０．４６ｇ、０．００４４ｍｏｌ）を加え撹拌した。反応液にトリエチルアミン（０．４２ｇ、０．００４６ｍｏｌ）を室温で滴下した。滴下とともに塩の沈降が確認された。２時間撹拌後、水 ４０ｍｌを添加し、酢酸エチル ４０ｍｌで抽出した。有機層を水 ４０ｍｌで２回洗浄し、続いて飽和炭酸カリウム水溶液 ４０ｍｌで２回洗浄を行い、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒溜去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１（質量比））にて精製を行い、淡黄色固体の上記式（２３）で表されるオキシム系光重合開始剤（Ｂ）を得た。

当該化合物の構造は^１Ｈ ＮＭＲで同定した。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ ８．７（ｓ，１Ｈ），８．５（ｓ，１Ｈ），８．２−７．９（ｍ，５Ｈ），７．７−７．４（ｍ，６Ｈ），４．９（ｓ，１Ｈ），４．４（ｑ，２Ｈ），３．３（ｄ，２Ｈ），２．４（ｓ，３Ｈ），２．２（ｓ，３Ｈ），１．８（ｓ，３Ｈ），１．４（ｔ，３Ｈ），１．２（ｄ，３Ｈ）

［光重合開始剤の調製］
得られたオキシム系光重合開始剤（Ｂ）は、その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 水：アセトニトリル＝９：１（質量比））にて、アンチ体とシン体とに分離し、式（２４）に示すアンチ体のオキシム系光重合開始剤（ａｎｔｉ−（Ｂ））と、式（２５）に示すシン体のオキシム系光重合開始剤（ｓｙｎ−（Ｂ））とを得た。これらを表１に示す割合にて混合し、光重合開始剤１〜３を調製した。

（実施例１〜３）
次に、表２に示す組成のうち、着色剤成分を除いた基材溶液１〜３を調製し、これを、孔径が０．２μｍのＰＴＦＥ膜（アドバンテック社製）にてろ過した後、それぞれの基材溶液に、（Ｇ）成分として前記着色剤を所定量分散させて、表２に示す組成の遮光層形成用感光性基材組成物を調製した。なお、表２における数値の単位は質量部である。

ＤＰＨＡ（Ａ２）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
光重合開始剤（Ａ３）：実施例１では光重合開始剤１（基材溶液１）を用いた。実施例２では光重合開始剤２（基材溶液２）を用いた。実施例３では光重合開始剤３（基材溶液３）を用いた。
着色剤（Ｇ）：カーボンブラック２５質量％、溶剤：３−メトキシブチルアセテート、御国色素社製
ＭＡ（Ｓ）：３−メトキシブチルアセテート
ＰＭ（Ｓ）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＡＮ（Ｓ）：シクロヘキサノン

得られた遮光層形成用感光性基材組成物を厚さ１ｍｍの清浄な表面を有するガラス基板上にスピンコーター（ＴＲ２５０００：東京応化工業社製）を用いて乾燥膜厚が１．２μｍとなるように塗布し、９０℃で２分間乾燥して遮光層形成用感光性基材組成物の膜（感光層）を形成した。

次いで、露光機（ＥＸＭ−１０６６−Ｅ０１：オーク社製）にて照射エネルギー線量２０ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。露光後、水酸化カリウム０．０４％現像液にてスプレー方式により６０秒間現像した。さらに２００℃で３０分間のポストベークを行って、膜厚２．５である２０μｍのマトリクスパターン、ドットパターン、孤立パターンのブラックマトリックスを形成した。形成されたブラックマトリクスのＯＤ値は３.０であった。
得られたブラックマトリクスのピンホールの有無を目視で確認したところ、ピンホールは認められず、良好なブラックマトリクスを得ることができた。

（比較例１）
ろ過膜を、孔径が０．２μｍのＰＥ膜（インテグリス社製）としたこと以外、実施例１と同様の方法でブラックマトリクスを得た。目視でピンホールの有無を確認したところ、ピンホールが数十個確認された。

（比較例２）
ろ過膜を、孔径が０．１μｍのＰＰ膜（キッツマイクロフィルター社製）としたこと以外、実施例１と同様の方法でブラックマトリクスを得た。目視でピンホールの有無を確認したところ、ピンホールが数十個確認された。

上記の結果より、本発明に係る遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法において、ピンホールが発生しない、高品質のブラックマトリクスを得ることができることが示された。

Claims (5)

1. 感光性基材成分（Ａ）を有機溶剤成分（Ｓ）に溶解させ、得られた基材溶液を孔径が１μｍ以下のＰＴＦＥ膜にてろ過した後、該基材溶液に顔料成分（Ｇ）を分散させ、
   前記感光性基材成分（Ａ）が光重合性化合物（Ａ２）を含有することを特徴とする遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。
2. 前記感光性基材成分（Ａ）が、アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）を含有する請求項１に記載の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。
3. 前記感光性基材成分（Ａ）が、光重合開始剤（Ａ３）を含有する請求項１又は２に記載の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。
4. 前記光重合開始剤（Ａ３）が、オキシム系光重合開始剤を含有する請求項３に記載の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。
5. 前記顔料成分（Ｇ）が、黒色顔料を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。