TWI453168B - 含有界面活性劑排水的處理方法 - Google Patents

Description

含有界面活性劑排水的處理方法

本發明關於處理在半導體、液晶等電子設備製造領域中產生的含有界面活性劑的排水的方法。

在半導體、液晶等電子設備製造領域所使用的超純水的製造裝置中，作為有機物質(TOC)除去裝置，通常設置有逆滲透(RO)膜分離裝置。特別是在從TOC為數mg/L左右的含有低濃度TOC的排水中將TOC除去來作為超純水製造裝置的原水進行回收、再利用的排水回收系統中，RO膜分離裝置被廣泛使用。

但是，在RO膜分離裝置的原水(以下有時稱「RO給水」)中含有作為TOC成分的非離子性界面活性劑時，存在如下問題：RO膜分離裝置的RO膜被非離子性界面活性劑顯著污染，膜通量降低而導致處理水量降低。

以往，為了解決這種膜污染的問題，一般採用在RO膜分離裝置的前段設置活性碳吸附塔、來吸附除去非離子性界面活性劑的方法，但是，在這種方法中存在產生大量廢棄活性碳的問題。

關於該非離子性界面活性劑導致的RO膜污染的問題，在非專利文獻1中，報導了如果以某種程度分解非離子性界面活性劑，使其表面活性能力喪失，則其分解物質沒有RO膜污染性。

另外，在專利文獻1中，為了防止RO膜污染，提出了將原水進行臭氧氧化後進行RO膜分離的方法。在該專利文獻1中，雖然將臭氧氧化處理水的pH調整到8~10，但是向該pH鹼性的臭氧氧化處理水中添加酸使pH達到中性後進行RO膜分離處理。

另外，已知即使是含有界面活性劑的排水，只要是pH鹼性的條件，就不容易污染RO膜，在專利文獻2中，提案了將含有TOC的排水在pH為9.5以上的鹼性條件下進行RO膜分離的方法。

專利文獻1：特開2005－230731號公報專利文獻2：特開2005－169372號公報

非專利文獻1：《分離技術會講演要旨集》(2004年6月4日發行)

在專利文獻1的方法中，雖然在RO膜分離之前進行臭氧氧化，但是由於RO膜分離在pH中性的條件下進行，所以在RO膜分離裝置內微生物繁殖而污染膜面，存在隨時間經過膜通量降低的問題。

在專利文獻2的方法中，由於在pH鹼性的條件下進行RO膜分離，所以界面活性劑難於吸附於膜面，能夠防止膜通量的降低，但是，不能避免長期連續工作情況下的膜通量降低，另外，根據RO給水中的界面活性劑濃度，也有早期產生通量降低的情況。因此，希望RO給水中的界面活性劑盡可能預先除去。

本發明是鑒於上述以往的實際情況而完成的，其目的在於，提供將含有界面活性劑的排水進行膜分離處理時，防止膜通量的降低，長期連續穩定地處理的方法。

特別是，本發明涉及有效地防止膜通量降低的方法，其是在膜分離處理之前，藉由臭氧氧化將排水中的界面活性劑分解的方法。

本發明(第1項)的含有界面活性劑排水的處理方法，其是將含有界面活性劑排水用氧化製程和膜分離製程順次處理的方法，其特徵在於，該氧化製程是使該排水在鹼性條件下與臭氧接觸而將該排水中的界面活性劑氧化處理的製程；該膜分離製程是將從該氧化製程排出的鹼性氧化處理水進行膜分離的製程。

第2項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第1項中，從所述氧化製程排出的氧化處理水的pH為9~12，並且含有殘留TOC。

第3項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第2項中，所述氧化處理水中的殘留TOC濃度為2~20mg/L。

第4項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第1~3項的任意一項中，所述膜分離製程是逆滲透膜分離製程。

第5項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，對於第1~4項中的任意一項，在所述氧化製程中，相對於所述含有界面活性劑排水中的界面活性劑，向該排水中供給2~10倍重量的臭氧。

第6項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第1~5項的任意一項中，所述氧化製程是並用臭氧和過氧化氫的促進氧化製程。

第7項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第1~6項的任意一項中，具有將殘留在經過所述氧化製程的水中的氧化劑除去的氧化劑除去製程，經過該氧化劑除去製程的水被導入所述膜分離製程。

第8項的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，在第7項中，所述氧化劑除去製程是活性碳處理製程。

根據本發明的含有界面活性劑排水的處理方法，在膜分離處理之前，在鹼性條件下進行臭氧氧化，將排水中的界面活性劑氧化分解，並將該鹼性的氧化處理水進行膜分離處理，所以可以防止膜通量的降低、能夠長期連續穩定的處理。

即，如專利文獻1的方法，如果在pH中性條件下進行膜分離處理，則微生物繁殖而污染膜面，膜通量降低，但是，在本發明中，由於不將氧化處理水中和，而是鹼性直接或者根據需要、進一步添加鹼以達到規定的高pH來向膜分離裝置供水，所以抑制了膜分離裝置內因微生物引起的污染、可以長時間防止通量的降低。

另外，在專利文獻2的方法中，雖然形成pH鹼性防止界面活性劑的膜面吸附，但是，因為存在界面活性劑，所以在長期的工作中，不能避免因界面活性劑引起的通量降低，另外，界面活性劑濃度高時，有早期通量降低的問題。但是在本發明中，由於在膜分離之前在鹼性條件下進行了臭氧氧化，可以將排水中的界面活性劑分解除去，從而解決了這樣的問題。

本發明的氧化製程，可以是並用臭氧和過氧化氫的促進氧化製程。

在臭氧氧化處理、或者並用臭氧和過氧化氫的促進氧化處理中，排水中的TOC與來自臭氧或過氧化氫的羥基自由基反應，首先變成有機酸那樣的酸性化合物。由於有機酸的生成引起被處理水的pH降低，所以在這種pH降低了的狀態下，即使繼續原樣添加臭氧等，臭氧等的反應性也降低。因此，為了進一步將TOC分解除去，必須添加大量的臭氧。在本發明中，藉由將氧化製程(或促進氧化製程)的水或者氧化製程(或促進氧化製程)的流出水的pH調整到臭氧及羥基自由基的反應性高的、較佳為pH9~12的鹼性範圍，從而使用少量的臭氧就可以有效地分解除去含有界面活性劑的TOC。

本發明的鹼性條件下的臭氧氧化或者臭氧促進氧化，不僅如上述那樣使臭氧的使用量減少，還有下述的作用效果。

即，如果在鹼性條件下進行臭氧氧化或者臭氧促進氧化，則氧化處理後，在數分鐘以內氧化處理水中的臭氧濃度減少到檢測下限值以下。另一方面，在中性~酸性下，往往有反應後也能檢測出臭氧為數mg/L的情況。這是因為，臭氧的穩定性依賴於pH，特別是如果在處理物件的原水中存在有機成分，則在鹼性下氧化反應持續進行。在此，如果不將臭氧添加到有機成分完全無機化為止，則可以形成反應結束後TOC殘留、而沒有臭氧的狀態。另一方面，由於後段的RO膜容易被臭氧氧化而劣化，所以有必要將成為RO給水的氧化處理水中的殘留臭氧完全分解，但是，這樣，在有TOC殘留的臭氧氧化處理水中殘留臭氧不存在，所以沒有必要設置殘留臭氧的分解裝置。

另外，在成為RO給水的氧化處理水中，即使TOC殘留，也如後所述，界面活性劑顯示表面活性的活性部位(疏水性部分與親水性部分的介面)被臭氧改質，所以膜污染性被降低，解決了因界面活性劑導致的膜通量降低的問題。

因此，在臭氧氧化製程中，調整反應pH，使得氧化處理水的pH達到鹼性，以及使有機成分不完全分解、而剩餘TOC是重要的。

於是，在本發明中，藉由將該pH鹼性的氧化處理水供給到膜分離製程，可以防止因微生物繁殖而導致的膜通量降低。即，如後所述，在本發明中，由於排水中的界面活性劑藉由臭氧氧化而被分解，其活性部位被改質，形成易於生物降解，因此，如果將這樣的含有容易生物降解成分的氧化處理水導入到膜分離製程，則引起因微生物繁殖而導致的膜通量降低，為了防止這種情况，必須添加大量的黏泥防止劑(slime防止劑)，但是，根據本發明，藉由將微生物不易繁殖的鹼性氧化處理水供給到膜分離製程，可以防止這樣的因微生物繁殖而导致的膜通量降低。因此，不引起黏泥障礙的問題，所以，不需要添加黏泥防止劑，可以降低藥劑成本，進行穩定的處理。

在這樣的鹼性條件下進行膜分離處理的基礎上，在其前段進行鹼條件下的臭氧氧化，這在可以不需要臭氧氧化處理水的pH調整方面上是較佳的。但是，在本發明中，可以向臭氧氧化處理水中進一步添加鹼試劑來進行膜分離處理。

在本發明中，藉由臭氧氧化，不必將排水中的界面活性劑完全分解到無機化，只要將界面活性劑的表面活性部位改質即可。即，如非專利文獻1所記載，界面活性劑只要失去其表面活性的功能，膜污染性就被減輕。另一方面，就界面活性劑的臭氧氧化來說，在界面活性劑中，容易被氧化的活性部位優先被氧化。在本發明中，只要至少是界面活性劑的活性部位被氧化即可，藉由臭氧氧化而被改質的界面活性劑的分解物可以在氧化處理水中作為TOC殘留。在少許TOC殘留的臭氧氧化條件下，臭氧呈幾乎被消耗完的狀態，所以在可以防止臭氧流入膜分離裝置的方面講，也是較佳的。

因此，在本發明中，從氧化製程排出的氧化處理水較佳pH為9~12，並且含有殘留TOC(第2項)，特別較佳其殘留TOC濃度為2~20mg/L(第3項)。但是，為了在這樣的濃度下使TOC殘留，在氧化製程中，相對於含有界面活性劑排水中的界面活性劑，較佳為供給2~10倍重量的臭氧(第5項)。

另外，本發明的膜分離製程較佳為RO膜分離製程(第4項)。

另外，可以設置將殘留在經過氧化製程的水中的氧化劑除去的氧化劑除去製程，將經過氧化劑除去製程的水導入到膜分離製程(第7項)，在這種情況下，較佳為活性碳處理製程作為氧化劑除去製程(第8項)。

以下參照附圖詳細說明本發明含有界面活性劑排水的處理方法的實施方式。

圖1(a)、(b)表示本發明含有界面活性劑排水的處理方法的實施方式的系統圖。

在圖1(a)中，根據需要，向原水(含有界面活性劑排水)中添加過氧化氫(H₂ O₂ )等氧化劑，接著，添加氫氧化鈉(NaOH)等鹼，使得臭氧反應塔1內的水的pH呈鹼性、較佳為pH達到9~12，然後在臭氧反應塔1中進行臭氧氧化處理，在RO膜分離裝置2中對臭氧氧化處理水進行RO膜分離處理，得到處理水。3是臭氧產生機。

不一定必須向原水添加H₂ O₂ 等氧化劑，但是藉由添加氧化劑，利用產生比臭氧的氧化力強的羥基自由基，能夠提高氧化分解效率，能夠實現臭氧添加量的進一步減少，所以較佳為添加氧化劑。

作為使用的氧化劑，只要是能使羥基自由基產生的物質，就沒有特別的限定，但是，H₂ O₂ 是較佳的氧化劑。

氧化劑的添加位置只要在原水與臭氧接觸之前即可，也可以在鹼試劑添加之後。

另外，關於氧化劑的添加量沒有特別的限定，根據原水的水質、使用的氧化劑種類而適當決定，但是，一般來說，如果是H₂ O₂ ，較佳為相對於原水中添加的臭氧量、以重量比計為0.1~1的範圍。

另外，促進氧化的方法除了添加H₂ O₂ 等氧化劑以外，也可以應用紫外線照射。

作為臭氧反應塔1，只要能夠維持臭氧或羥基自由基的反應性高的鹼性範圍、能夠使原水有效地吸收臭氧而使反應進行，就沒有特別的限定，可以是如圖1所示，從設置在反應塔1上部的散水板1a散佈原水，將從臭氧產生機3送給的臭氧藉由塔下部的散氣管1b來散氣的型式，此外，也可以是具有機械式攪拌機的開放水槽。另外，也可以是設置於管道的管線攪拌器(line mixer)或者渦流泵那樣的流路內臭氧供給單元。但是，為了使臭氧與原水充分接觸，使原水中包括界面活性劑的TOC高度地氧化分解，較佳為設置反應槽。

在本發明中，添加鹼試劑，使得該臭氧反應塔1內的水或臭氧反應塔1的流出水的pH達到9~12、特別是達到10~11。該調整的pH在不足9時，不能充分獲得pH鹼性所致的提高臭氧氧化分解效率的效果。在pH超過12的強鹼性條件下，促進臭氧自身分解，未分解的界面活性劑有殘留，因而較為不佳。

作為用於該pH調整的鹼試劑，使用氫氧化鈉(NaOH)、氫氧化鉀(KOH)等無機物類鹼試劑。鹼試劑可以添加到向臭氧反應塔1導入原水的管道，也可以添加到臭氧反應塔1。

但是，該鹼試劑並不一定必須添加，在原水的pH為12左右的高pH值的情況下，無需特別對其進行調整pH，可以直接供給於臭氧氧化處理。

臭氧的添加方法沒有特別的限定，如圖1所示，可以依照如下方法進行：將來自臭氧產生機3的臭氧藉由散氣管1b散氣到臭氧反應塔1內的方法，或者用噴射器注入的方法等常用方法。另外，也可以用處理水等使臭氧溶解於其中，作為臭氧水來添加。

臭氧的添加量根據原水的水質(界面活性劑濃度)、有無並用氧化劑以及其添加量而異，但是，通常相對於原水中的TOC較佳在10倍重量以下，特別較佳為2~10倍重量，尤為較佳為6~8倍重量。

即，界面活性劑的活性部位與臭氧的反應，由於反應速度快，所以以少量的臭氧就快速反應。將界面活性劑完全氧化分解成二氧化碳氣體時，臭氧的必需量較佳相對於界面活性劑為20~50倍重量左右，但是如前所述，本發明不一定必須將界面活性劑完全分解，所以較佳用相對於界面活性劑為2~10倍重量左右的臭氧氧化分解至使界面活性劑的表面活性失去的程度。但是，在氧化處理水中殘留的改質的有機物(TOC)與界面活性劑不同，對膜通量的降低幾乎沒有影響，另外，藉由膜分離被有效地除去。

這樣，由於不用將界面活性劑完全氧化分解，只將活性部位改質，所以作為在氧化處理中殘留的TOC的程度沒有特別限定，但是通常為2~20mg/L左右。該殘留TOC的濃度過低時，有與臭氧的反應性變差的傾向，過高時，有界面活性劑的分解(改質)不充分的情況。

但是，作為RO給水的氧化處理水，只要pH呈鹼性即可，TOC可以不必殘留。但是，TOC殘留則表示臭氧沒有殘留，從防止膜氧化劣化的方面考慮是較佳的。

另外，在氧化處理中，在TOC不殘留、臭氧殘留的情況下，也可以在後述的氧化劑除去製程將其除去。

在圖1(a)中，臭氧反應塔1的氧化處理水接著在RO膜分離裝置2中進行RO膜分離處理。

在本發明中，導入到該RO膜分離裝置2的RO給水，是pH鹼性、較佳為pH9~12、特別較佳為pH10~11的氧化處理水。該RO給水的pH不足9時，引起因微生物繁殖而導致的膜通量降低的問題。但是，該RO給水的pH過高時，很可能有因原水的水質導致在RO膜分離裝置中的結垢危害，另外，即使在回收、再利用RO膜分離裝置2的透過水的情況下，或者在排放的情況下，也需要添加大量的酸將pH調整到中性，因而較為不佳。

作為該RO膜分離裝置2的RO膜，不能使用耐鹼性低的乙酸纖維素系RO膜，具有耐鹼性的物質，例如可以舉出聚醚醯胺複合膜、聚乙烯醇複合膜、芳香族聚醯胺膜等，較佳為芳香族聚醯胺系複合膜。該RO膜可以是螺旋型、中空絲型、管狀型等任意型式的膜。

該RO膜分離裝置2的透過水作為處理水被取出到系統外，通常被再利用於純水裝置的原水或冷卻塔的補充水等。

在圖1(b)中，來自於臭氧反應塔1的流出水被導入到活性碳過濾塔4，殘留的臭氧和/或H₂ O₂ 等氧化劑被除去後，導入到RO膜分離裝置2，這種方式與圖1(a)表示的方法不同，其他同樣地進行處理。該活性碳過濾塔4中的處理條件根據臭氧反應塔1的流出水中的氧化劑的殘留量而適當決定。藉由該活性碳處理，可以進一步將殘留於臭氧氧化處理水中的TOC除去。

如圖1(a)、(b)所示，將含有界面活性劑的原水進行臭氧氧化處理後，根據需要，進行活性碳處理後導入到RO膜分離裝置2中，由此，不引起在RO膜分離裝置2中的通量降低，可以長期進行穩定的處理，可以得到TOC被高度地除去的高品質處理水。

圖1是表示本發明的實施方式的一個例子，本發明只要不超過其要旨，不限於任何圖示的方式。例如，在導入到RO膜分離裝置的氧化處理水或活性碳處理水的pH不是足夠鹼性的情況下，可以向作為RO給水的氧化處理水或活性碳處理水中進一步添加鹼試劑，進行pH調整後進行RO膜分離處理。另外，在原水含有鈣離子、鎂離子等硬度成分的情況下，為了防止因濃縮而導致的結垢危害，可以向該RO給水中添加結垢防止劑。

在這種情況下，作為添加到RO給水中的結垢防止劑，較佳為使用在鹼性範圍內解離而容易與金屬離子形成錯合物的乙二胺四乙酸(EDTA)或氨三乙酸(NTA)等螯合類結垢防止劑，但是，除此之外，還可以使用(甲基)丙烯酸聚合物及其鹽、馬來酸聚合物以及其鹽等低分子量聚合物，乙二胺四亞甲基膦酸及其鹽、羥基亞乙基二膦酸及其鹽、次氮基三亞甲基膦酸及其鹽、膦基丁烷三羧酸及其鹽等的膦酸以及膦酸鹽，六偏磷酸及其鹽、三聚磷酸及其鹽等的無機聚合磷酸以及無機聚合磷酸鹽等。

另外，氧化處理後的膜分離處理不限於RO膜分離處理，也可以是奈米過濾(NF)膜分離處理。但是，從除去TOC的角度考慮，較佳為RO膜分離處理。

在本發明中處理的原水是含有界面活性劑的排水，但是，通常該界面活性劑的濃度為0.2~10mg/L左右，在本發明中，藉由將這樣的含有界面活性劑的排水進行氧化處理，得到界面活性劑濃度為0.1~1mg/L、TOC為5~15mg/L左右的氧化處理水，並對其進行RO膜分離處理，得到TOC為0.5~1mg/L左右的處理水。

以下舉出實施例及比較例更具體地說明本發明。

實施例1

把液晶製造製程的水洗水(TOC＝11mg/L，非離子界面活性劑為2mg/L)作為原水，向其中添加NaOH，將pH調整到10.5。向其中吹入臭氧氣體，使相當於50mg/L的臭氧溶解。所得到的臭氧氧化處理水，pH為9.6、導電率為19mS/m、TOC＝8mg/L、非離子界面活性劑＝0.5mg/L以下、殘留臭氧＝0.5mg/L以下。

將該氧化處理水向RO膜分離裝置通水。使用芳香族聚醯胺系複合膜作為RO膜，在膜間壓力差為約1.2MPa、回收率為75%的條件下工作。

其結果，可以維持透過水量(通量)為0.6m³ /m² /d連續2周處理，RO膜分離裝置的透過水的水質如下：pH為9.8，導電率為1.2mS/m，TOC＝0.8mg/L。

實施例2

向在實施例1中作為原水的液晶製造製程的水洗水中添加過氧化氫10mg/L後，加入NaOH，將pH調整到10.5。向其中吹入臭氧氣體，使相當於40mg/L的臭氧溶解。所得到的臭氧氧化處理水，pH為9.4、導電率為18mS/m、TOC＝9mg/L、非離子界面活性劑＝0.5mg/L以下、殘留臭氧＝0.5mg/L以下、過氧化氫＝5mg/L。

將該處理水以SV10hr^－1 的通水速度向活性碳過濾器通水後，在與實施例1相同的條件下，向RO膜分離裝置通水。

其結果，可以維持透過水量(通量)為0.7m³ /m² /d連續2周處理，透過水的水質如下：pH為9.5，導電率為1.0mS/m，TOC＝0.6mg/L。

比較例1

向與實施例1相同操作而得到的臭氧氧化處理水中添加鹽酸，將pH調整到6.5，添加作為結合氯系黏泥防止劑的Kishida Chemical公司製的“CHLORAMINE－T”10mg/L之後，在與實施例1相同的條件下，向RO膜分離裝置通水，其結果為，透過水量(通量)緩慢降低，1周後達到0.3m³ /m² /d。透過水的水質如下：pH為6.3，導電率為0.3mS/m，TOC＝0.2mg/L。

由以上結果可知，根據本發明，在將含有界面活性劑的排水用臭氧氧化處理後進行RO膜分離處理的情況下，可以防止因界面活性劑導致的RO膜污染，維持高的膜通量，持續穩定的處理。

1．．．臭氧反應塔

1a．．．散水板

1b．．．散氣管

2．．．RO膜分離裝置

3．．．臭氧產生機

4．．．活性碳過濾塔

圖1：是表示本發明含有界面活性劑排水的處理方法的實施方式的系統圖。

1．．．臭氧反應塔

1a．．．散水板

1b．．．散氣管

2．．．RO膜分離裝置

3．．．臭氧產生機

4．．．活性碳過濾塔

Claims (4)

1. 一種含有界面活性劑排水的處理方法，其將含有界面活性劑排水用氧化製程和膜分離製程順次處理，其特徵在於：該氧化製程是使該排水在鹼性條件下與臭氧接觸，將該排水中的界面活性劑氧化處理的製程，且所述氧化製程是並用臭氧和過氧化氫的促進氧化製程；以及該膜分離製程是對從該氧化製程排出的鹼性氧化處理水進行膜分離的製程，其中從所述氧化製程排出的氧化處理水的pH為9~12，且所述氧化處理水中的殘留有機物質(TOC)濃度為2~20mg/L，並且未殘留臭氧，並且在所述氧化製程中，相對於所述含有界面活性劑排水中的界面活性劑，向該排水中供給2~10倍重量的臭氧。
2. 如申請專利範圍第1項所述的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，所述膜分離製程是逆滲透膜分離製程。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，具有將殘留在經過所述氧化製程的水中的氧化劑除去的氧化劑除去製程，經過該氧化劑除去製程的水被導入所述膜分離製程。
4. 如申請專利範圍第3項所述的含有界面活性劑排水的處理方法，其特徵在於，所述氧化劑除去製程是活性碳 處理製程。