TWI449951B - 照明光學系統、曝光裝置及製造裝置的方法 - Google Patents

照明光學系統、曝光裝置及製造裝置的方法 Download PDF

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Description

照明光學系統、曝光裝置及製造裝置的方法
本發明有關照明光學系統、曝光裝置、及製造裝置的方法。
為改善曝光裝置之解析度，該RET(Resolution Enhancement Technology，解析度增強技術)或諸如環狀照明及四極照明之修改照明方法一般被採用。尤其於EUV(Extreme Ultraviolet，極紫外線)照明光學系統中，抵達基板的光之強度隨著鏡片數目中之增加而減少，故孔徑光闌被使用於擷取光線，代替提供用於修改照明之鏡片單元。於如此做中，藉由該孔徑光闌所遮蔽之光束的數量係增加，導致具有低效率之照明。譬如，日本專利公開申請案第11-312638號中之圖18敘述一實施例，其中來自光源之EUV光束進入蠅眼鏡片20a及20b，而未藉由鏡片15被一致化成平行之光束。於此實施例中，對應於想要之修改照明的孔徑光闌50a至50f被插入該蠅眼鏡片20b之前面，以局部地遮蔽該光束，藉此施行修改照明。於此一組構中，來自該光源之光束的角度分佈之非一致性係直接反映在該環狀強度分佈上，故該有效光源分佈之一致性降級，如此不利地影響該解析度性能。
本發明提供一技術，其在照明光學系統中有利於形成均勻之光強度分佈，同時消除來自該光源之光的角度分佈之非一致性。
本發明之第一態樣提供一照明光學系統，其以來自光源之光照明一照明表面，該系統包括：分隔器，其將來自該光源之光分隔，以產生複數光束；第一反射積分器，其使藉由該分隔器所產生之複數光束的光強度分佈一致；聚光器，其聚集來自該第一反射積分器之光束；第二反射積分器，其接收來自該聚光器之光束並照明該照明表面；以及孔徑光闌，被配置於該第二反射積分器及該照明表面之間，其中該分隔器產生複數光束，使得該複數光束進入其上配置該孔徑光闌的一平面，每一光束具有與被提供由該光源至該分隔器之光的截面形狀不同之截面形狀。
本發明之第二態樣提供一曝光裝置，其將基板暴露至光線，該裝置包括：如本發明的第一態樣所界定之照明光學系統，其被建構成照明一原件；以及投射光學系統，其將該原件之圖案投射至該基板上。
本發明之第三態樣提供製造裝置之方法，該方法包括以下步驟：使用如本發明的第二態樣所界定之曝光裝置將基板暴露至光線；以及使該基板顯影。
本發明的進一步特徵參考所附圖式由下述之示範實施例將變得明顯。
根據本發明之實施例的曝光裝置EX及照明光學系統IL將參考圖1被敘述。根據本發明之實施例的曝光裝置EX包含光源LS、該照明光學系統IL、投射光學系統PO、原件驅動機構26、及基板驅動機構29。該光源LS被容納在真空室8中。該照明光學系統IL、投射光學系統PO、原件驅動機構26、及基板驅動機構29構成該曝光裝置EX之主要本體，且被容納在真空室30中。雖然該曝光裝置EX能被建構成例如使用EUV(極紫外線)光當作曝光光線的EUV曝光裝置，其可被建構成使用另一光線(譬如，雷射光)之曝光裝置。然而，該曝光裝置EX被建構成EUV曝光裝置之詳細範例將在下文被給與。
該光源LS以藉由高功率脈衝式雷射、諸如藉由脈衝式電源所驅動之CO2 雷射所放射的光線照射該真空室8中之電漿介質，藉此由該電漿介質產生具有高能量密度之電漿2。譬如Sn液滴能被用作該電漿介質。具有約13.5奈米波長之EUV光係藉由來自該電漿2的熱輻射所產生。使用此雷射光的電漿產生方案之光源被稱為雷射產生之電漿EUV光源。
當作另一光源LS，一光源施加藉由用作電流供給源的脈衝式電源所激發之脈衝式電流至放電頭以放電，藉此使用藉由該放電所產生之能量由電極間之電漿介質產生具有高能量密度之電漿2。此一光源被稱為放電產生電漿EUV光源。諸如Z箍縮、電漿聚焦、及毛細管放電之各種放電激發方案係可用於放電產生電漿EUV光源。放電產生電漿 EUV光源中之電漿介質的範例係Xe氣體。該電漿介質之其他範例包含Sn蒸氣。在該後一情況中，具有約13.5奈米波長之光的光強度能被增加。
諸如球面鏡之聚光鏡4將藉由該電漿2所放射之EUV光5聚集在針孔孔徑7上，該針孔孔徑7設在該等真空室8及30間之邊界表面上。如需要，不只用於移除直接地由該電漿及其附近散佈至該前面之散佈微粒(碎屑)的濾光片6a能被配置於該聚光鏡4及該孔徑7之間，同時用於移除EUV曝光所不需要之波長分量的濾光片6b也能被配置於這些光學元件之間。該光源LS的真空室8及該曝光裝置EX之主要本體的真空室30係藉由連接器9彼此連接，且如需要被區別地抽空。
注意該聚光鏡4能藉由在基底材料上形成反射多層薄膜而被形成，以便有效率地反射EUV光。既然該聚光鏡4吸收由該電漿2在高溫所輻射之能量，其於基板28之曝光期間加熱至高溫。因此，該聚光鏡4之基底材料係藉由諸如具有高導熱性之金屬的材料所形成，並藉由冷卻機構、諸如水冷卻機構所冷卻。相同地，構成該照明光學系統IL及投射光學系統PO(待稍後敘述)之鏡片係設有抗反射薄膜，以便有效率地反射EUV光，故其基底材料能藉由諸如具有高導熱性之金屬的材料所形成，並藉由冷卻機構所冷卻。
該照明光學系統IL以已通過該孔徑7之EUV光照明一照明表面或原件(反射原件25)。該照明光學系統IL將例 示如下。自該光源LS經由該孔徑7所提供之EUV光5進入分隔器DIV。該分隔器DIV分隔來自該光源LS之EUV光5，以產生複數光束。注意該分隔器DIV包含具有不同功能之複數光學構件101、102及103(參見圖4，關於該光學構件103)，且選自該複數光學構件101、102及103的一光學構件被插入來自該光源LS之EUV光的光徑。於圖1所示範例中，該光學構件101被插入該光徑中。該照明光學系統IL能包括一操縱機構，用於互相交換該等光學構件101、102及103。在該等光學構件101、102及103之中，被插入該光徑中之光學構件101係藉由驅動機構11中所提供之固持機構所固持，且係藉由該驅動機構11所驅動。該驅動機構11驅動該分隔器DIV(光學構件101、102及103)，以便改變藉由該分隔器DIV所產生的複數光束之行進方向，且更特別地是，以便改變在其上配置孔徑光闌22(待稍後敘述)的平面上所形成之光強度分佈。
藉由該分隔器DIV所產生之複數光束能藉由用作任意之構成元件的轉換器12被轉換成平行光束。該轉換器12能包含複數凹鏡12a至12h，其分別將藉由該分隔器DIV所產生之複數光束轉換成平行光束，如圖2A至4B所說明。藉由該分隔器DIV所產生且藉由該轉換器12轉換成平行光束之複數光束進入第一反射積分器13。該第一反射積分器13使該複數入射光束之光強度分佈一致。該第一反射積分器13能包含複數反射積分器13a至13h，其分別使該複數光束之光強度分佈一致，該等光束係藉由該分隔器DIV所產生 及藉由該轉換器12轉換成平行光束。注意該圖1僅只顯示該等反射積分器13a至13h之中的反射積分器13a及13e。該複數反射積分器13a至13h能分別與該複數凹鏡12a至12h對應地被配置。
聚光器14聚集來自該第一反射積分器13之光線。該聚光器14可包含譬如分別對應於該複數反射積分器13a至13h之複數聚光鏡(凹鏡)14a至14h，且每一聚光鏡聚集來自該複數反射積分器13a至13h之中的對應反射積分器之光線。注意該圖1僅只顯示該聚光鏡14a至14h之中的聚光鏡14a及14e。該照明光學系統IL能包含驅動該聚光器14之驅動機構15，以便改變在其上配置該孔徑光闌22的平面上所形成之光強度分佈。該驅動機構15能包含複數致動器15a至15h，該等致動器分別驅動該複數聚光鏡14a至14h。注意該圖1僅只顯示該等致動器15a至15h之中的致動器15a及15e。
來自該驅動機構15之光經由平面鏡16進入第二反射積分器20。注意該平面鏡16用作任意之構成元件。該第二反射積分器20能包含複數圓柱形鏡片，如圖7所說明。當幾乎平行之EUV光進入包含該複數圓柱形鏡片之第二反射積分器20時，複數線性的第二光源係靠近該第二反射積分器20之表面形成。藉由該複數線性第二光源所放射之EUV光的角度分佈具有圓柱形表面形狀。進入該第二反射積分器20之EUV光於藉由該第二反射積分器20之複數圓柱形鏡片所分隔時發散，並通過該孔徑光闌22。在此時，來自該第 二反射積分器20之複數圓柱形鏡片的EUV光束之某些分量能被輔助鏡片21a及21b所反射，且進入該孔徑光闌22。
已通過該孔徑光闌22之EUV光係藉由弧形轉換光學系統塑形成弧形，該弧形轉換光學系統藉由球面或非球面凸鏡231及凹鏡232所形成，反射多層薄膜係形成在該等凸鏡及凹鏡上。於包含裂縫板251中所形成之弧形裂縫的區域中，塑形成弧形之EUV光形成一具有均勻照度分佈的弧形照明區域。於此弧形照明區域中，來自該第二反射積分器20之複數圓柱形鏡片的光束係彼此重疊，藉此使其可能改善該照度一致性，同時獲得高效率。亦即，均勻之弧形照明係在高效率下施行。藉由該原件驅動機構26所固持之反射原件25係以EUV光照明，該EUV光通過該裂縫板251中所形成之弧形裂縫，且具有弧形截面。
當作該孔徑光闌22，如將稍後被敘述之各種孔徑光闌能被製備，以致它們可藉由孔徑光闌切換機構(未示出)、諸如轉塔被互相切換。該輔助鏡片21a及21b可為一對相向之平面鏡，其被配置成垂直於該第二反射積分器20之陣列表面，該複數圓柱形鏡片係在該陣列表面上排成陣列。該孔徑光闌22可為一垂直於該第二反射積分器20之陣列表面配置的平板構件。平面鏡24能被配置於該凹鏡232及該裂縫板251之間，其朝向該反射原件25彎曲一照明光束241，該照明光束用作藉由該凸鏡231及凹鏡232所形成之弧形轉換光學系統的影像側面上之光束。該平面鏡24之鏡片表面的位置及角度係藉由驅動機構(未示出)細微地 調整，藉此使其可能調整該照明光束241在該反射原件25上之入射角度。於藉由該平面鏡24彎曲該照明光束241時，藉由該照明光束241所形成的弧形照明區域中之弧形的方向顛倒。該弧形照明區域中之弧形的中心與該投射光學系統PO之光學軸AX1重合。該弧形轉換光學系統之影像側主要光束及該投射光學系統PO之物件側主要光束互相重合，以具有該反射原件25當作其反射表面。於改善該弧形轉換光學系統之配置的自由度中，該平面鏡24係有用的。
於圖1所說明之照明光學系統IL中，由該分隔器DIV至該第二反射積分器20之所有光學元件能藉由全反射鏡片所形成。當EUV光被使用時，對於小入射角，多層鏡片需要被使用，而藉由單層薄膜所形成之全反射鏡片能被使用於大入射角。既然全反射鏡片具有高於多層鏡片之反射比，更有效率之照明光學系統能使用呈現大入射角之鏡片或積分器被形成。
以具有弧形截面之EUV光照明的反射原件25之電路圖案係藉由該投射光學系統PO投射至藉由該基板驅動機構29所固持的基板28上，藉此使該基板28暴露至光線。該基板驅動機構29包含基板架台，其安裝一固持該基板28之基板夾頭；及一機構，其驅動該基板架台，且能繞著六軸心(該X軸、Y軸、及Z軸，與沿著繞著該等先前軸心之旋轉方向的軸心)驅動該基板28。該基板架台之位置可藉由諸如雷射干涉儀之長度測量裝置所測量。讓M為該投射光學 系統PO之投射倍率，該基板28上之拍攝區域被掃瞄及曝光，而譬如該反射原件25係在速度v下於藉由箭頭A所指示之方向中掃瞄，且該基板28係在速度v/M下於藉由箭頭B所指示之方向中同步地掃瞄。
該投射光學系統PO係藉由複數多層反射鏡片所形成，且被設計，以致離開該光學軸AX1之狹窄的弧形區域具有良好之成像性能。該投射光學系統PO被建構，以減少及投射該反射原件25之圖案至該基板28上，且用作影像側(基板側)遠心系統。該投射光學系統PO之物件側(反射原件側)通常具有非遠心組構，以便避免與進入該反射原件25之照明光束241物理干涉，且該物件側主要光束係相對於至該反射原件25之法線方向傾斜達大約6度。
藉由該分隔器DIV分隔光束之方法將例示在下面參考圖2A至4B。當由該光源LS之側面觀看時，圖2A圖示地顯示該光學構件101(分隔器DIV)及凹鏡12a至12h(轉換器12)。用作該分隔器DIV之光學構件101具有被配置在楔子形狀中之二反射表面，以便將來自該光源LS之光分成二光束。該二反射表面用作全反射鏡片。該轉換器12包含該八面凹鏡12a至12h。該八面凹鏡12a至12h被固持機構111所固持，以便在垂直於該光學軸的截面中形成八邊形。該固持機構111被配置，以便不會遮蔽該等被分隔之光束。當來自該光源LS之光係藉由具有配置於楔子形狀中之二反射表面的光學構件101分成二光束時，藉由分隔所產生之二光束進入該八面凹鏡12a至12h之中的二凹鏡。
於圖2A所示範例中，該二光束進入該凹鏡12a及12e。在構成該第一反射積分器13的複數反射積分器13a至13h之中，藉由該凹鏡12a及12e所反射之二光束接著進入對應於該凹鏡12a及12e的反射積分器13a及13e。進入該反射積分器13a及13e的二光束之光強度分佈分別藉由該反射積分器13a及13e使一致化。在構成該聚光器14的複數聚光鏡14a至14h之中，來自該反射積分器13a及13e之光束被對應於該反射積分器13a及13e的聚光鏡14a及14e所聚集。來自該聚光鏡14a及14e之光束經由該平面鏡16進入該第二反射積分器20。該第二反射積分器20經由該凸鏡231、凹鏡232、及平面鏡24照明該反射原件25。
出自該聚光鏡14a及14e與離開該第二反射積分器20的光束形成一對應於在其上配置該孔徑光闌22的平面上之Y偶極照明的光強度分佈，如圖2B所說明。亦即，具有一截面形狀之光強度分佈係形成在於其上配置該孔徑光闌22的平面上，該截面形狀與由該光源LS至該分隔器DIV所提供之光的截面形狀(典型，圓形或環形截面形狀)不同。這是使用該分隔器DIV所做成，以分隔由該光源LS所提供之光。
圖2C圖示地顯示該光學構件101當其由圖2A所示狀態藉由該驅動機構11被旋轉經過90度時。於此情況中，藉由該光學構件101所產生之二光束進入在該八面凹鏡12a至12h之中的二凹鏡12c及12g。在構成該第一反射積分器13的複數反射積分器13a至13h之中，藉由該凹鏡12c及12g所 反射之二光束進入對應於該凹鏡12c及12g的反射積分器13c及13g。進入該反射積分器13c及13g的二光束之光強度分佈係藉由該反射積分器13c及13g一致化。在構成該聚光器14的複數聚光鏡14a至14h之中，來自該反射積分器13c及13g之光束被對應於該反射積分器13c及13g的聚光鏡14c及14g所聚集。來自該聚光鏡14c及14g之光束經由該平面鏡16進入該第二反射積分器20。以該前述之方式，出自該聚光鏡14c及14g與離開該第二反射積分器20之光束形成一對應於在其上配置該孔徑光闌22的平面上之X偶極照明的光強度分佈，如在圖2D所說明。
當由該光源LS之側面觀看時，圖3A圖示地顯示該光學構件102(分隔器DIV)及凹鏡12a至12h(轉換器12)。用作該分隔器DIV之光學構件102具有配置在四邊角錐形狀中之四個反射表面，以便將來自該光源LS之光分成四光束。該四個反射表面用作全反射鏡片。藉由該光學構件102所產生之四光束在其上配置該孔徑光闌22的平面上形成對應於四極照明的光強度分佈，如圖3B所說明。亦即，具有一截面形狀之光強度分佈係形成在於其上配置該孔徑光闌22的平面上，該截面形狀與由該光源LS至該分隔器DIV所提供之光的截面形狀(典型，圓形或環形截面形狀)不同。這是使用該分隔器DIV所做成，以分隔由該光源LS所提供之光。圖3C圖示地顯示該光學構件102當其由圖3A所示狀態藉由該驅動機構11被旋轉經過45度時。於此情況中，如圖3D所說明之光強度分佈係形成在於其上 配置該孔徑光闌22的平面上。
當由該光源LS之側面觀看時，圖4A圖示地顯示該光學構件103(分隔器DIV)及凹鏡12a至12h(轉換器12)。用作該分隔器DIV之光學構件103具有配置在八邊角錐形狀中之八個反射表面，以便將來自該光源LS之光分成八光束。該八個反射表面用作全反射鏡片。於此情況中，該轉換器12之八面凹鏡12a至12h、該第一反射積分器13的八個反射積分器13a至13h、及該聚光器14之八面聚光鏡14a至14h被使用。藉由該光學構件103所產生之八光束在其上配置該孔徑光闌22的平面上形成對應於環狀照明的光強度分佈，如圖4B所說明。雖然在此實施例中已給與一範例，其中該分隔器DIV將來自該光源LS之光分成八光束之最大值，但該分隔器DIV將來自該光源LS之光分成光束之最大數可為大於或小於八。
圖8係一立體圖，圖示地顯示構成該第一反射積分器13之反射積分器13a至13h的每一者之組構的範例。該反射積分器13a至13h之每一者具有複數凹鏡之陣列。該反射積分器13a至13h之每一者用作全反射鏡片，且能具有譬如拋物面或超環面的形狀。
於該前述之各種照明模式中，將相干度(σ)設定至一想要之值的方法將其次參考圖5A至6B敘述。該相干度(σ)係該投射光學系統之物件側NA及該照明光束的NA間之比率。大致上，具有高對比之影像係在低σ獲得，反之對罩幕圖案為正確的影像係在高σ獲得。圖5A圖示地顯 示在參考圖2A所敘述之偶極照明中增加σ值之方法。參考圖5A，來自該反射積分器13a及13e之光束分別進入該聚光器14之聚光鏡14a及14e。於該等聚光鏡14a及14e間之間隔加寬的方向中，該驅動機構15之致動器15a及15e分別驅動該聚光鏡14a及14e。這使其可能加寬在其上配置該孔徑光闌22之平面上的二極(偶極)間之間隔502，如圖5B所說明。這意指該σ值增加。同樣於四極照明及環狀照明中，該σ值能同樣地增加。
圖6A圖示地顯示在參考圖2A所敘述之偶極照明中減少σ值之方法。參考圖6A，來自該反射積分器13a及13e之光束分別進入該聚光器14之聚光鏡14a及14e。於該等聚光鏡14a及14e間之間隔變窄的方向中，該驅動機構15之致動器15a及15e分別驅動該聚光鏡14a及14e。這使其可能讓在其上配置該孔徑光闌22之平面上的二極(偶極)間之間隔602變窄，如圖6B所說明。這意指該σ值減少。同樣於四極照明及環狀照明中，該σ值能同樣地減少。
如上面所述，依據此實施例，最佳照明模式及σ值能按照待形成在該基板上之圖案被設定，而不會減少該基板表面上之照度。
雖然一範例已在該前述實施例中被敘述，其中包含複數圓柱形鏡片之積分器被採納當作該第二反射積分器20，一組構可被採納，其中呈現小入射角的二蠅眼鏡片係彼此相向。然而，為改善該效率，其更有利的是使用單一個全反射積分器當作該第二反射積分器20。
該第二反射積分器20、二輔助鏡片21、及孔徑光闌22之配置其次將參考圖7例示。參考圖7，參考數字801標示進入該第二反射積分器20的EUV光之中心主要光束的方向。此中心主要光束幾乎在該y-z截面內通過該第二反射積分器20之中心附近。位置802幾乎為藉由該凸鏡231及凹鏡232所形成之弧形轉換光學系統的光瞳平面之中心。圖7敘述具有該位置802當作其原點之x-y-z座標系。該z軸幾乎與該弧形轉換光學系統的同軸心AX2重合。
該輔助鏡片21a及21b係沿著垂直於該第二反射積分器20之陣列表面的方向配置，其中用作該第二反射積分器20之構成元件的每一者圓柱形鏡片之產生線延伸在該方向中，而該複數圓柱形鏡片係成陣列地排在該陣列表面上。在圖7所示範例中，該二輔助鏡片21a及21b係相向至夾住在它們之間的孔徑光闌22之孔徑。調整該二輔助鏡片21a及21b間之間隔的驅動機構可被提供。構成該孔徑光闌22的平板構件之表面被配置在幾乎垂直於該第二反射積分器20之陣列表面的出口側面上，而該複數圓柱形鏡片係成陣列地排在該陣列表面上。
為細微地調整該有效之光源分佈，該孔徑光闌22可被配置成相對於一平面傾斜達一小角度(大約1度至2度)，該平面正好垂直於該第二反射積分器20之陣列表面，而該複數圓柱形鏡片係成陣列地排在該陣列表面上。以此方式，當該孔徑光闌22相對於一平面具有小傾斜時，而該平面也同樣正好垂直於該陣列表面，此組構能落入一組構之 範疇，其中該孔徑光闌22係垂直於該陣列表面。譬如，為允許該有效光源分佈及該遠心之調整，調整該孔徑光闌22相對於該第二反射積分器20之陣列表面的角度之驅動機構可被提供，而該複數圓柱形鏡片係成陣列地排在該陣列表面上。
於配置該輔助鏡片21a及21b時，藉由該第二反射積分器20所反射之光的某一分量能被引導通過該孔徑光闌22及被使用於照明。這在有效率地照明該弧形區域中係有利的。日本專利公開申請案第2009-032938號敘述一提供輔助鏡片的方法之細節，以改善該照明系統之效率。
根據本發明之較佳實施例的製造裝置之方法係適合用於製造裝置、諸如半導體裝置或液晶裝置。此方法能包含使用該前述曝光裝置EX將塗以感光劑之基板暴露至光線的步驟、及使已曝光之基板顯影的步驟。此方法亦可包含隨後之習知步驟(譬如，氧化、薄膜形成、蒸氣沈積、加入摻雜劑、平面化、蝕刻、抗蝕劑移除、切割(dicing)、接合、及封裝)。
雖然本發明已參考示範實施例被敘述，應了解本發明不被限制於所揭示之示範實施例。以下申請專利之範圍將被給予最寬廣之解釋，以便涵括所有此等修改及同等結構與功能。
2‧‧‧電漿
4‧‧‧聚光鏡
5‧‧‧極紫外光
6a‧‧‧濾光片
6b‧‧‧濾光片
7‧‧‧孔徑
8‧‧‧真空室
9‧‧‧連接器
11‧‧‧驅動機構
12‧‧‧轉換器
12a‧‧‧凹鏡
12b‧‧‧凹鏡
12c‧‧‧凹鏡
12d‧‧‧凹鏡
12e‧‧‧凹鏡
12f‧‧‧凹鏡
12g‧‧‧凹鏡
12h‧‧‧凹鏡
13‧‧‧第一反射積分器
13a‧‧‧反射積分器
13b‧‧‧反射積分器
13c‧‧‧反射積分器
13d‧‧‧反射積分器
13e‧‧‧反射積分器
13f‧‧‧反射積分器
13g‧‧‧反射積分器
13h‧‧‧反射積分器
14‧‧‧聚光器
14a‧‧‧聚光鏡
14b‧‧‧聚光鏡
14c‧‧‧聚光鏡
14d‧‧‧聚光鏡
14e‧‧‧聚光鏡
14f‧‧‧聚光鏡
14g‧‧‧聚光鏡
14h‧‧‧聚光鏡
15‧‧‧驅動機構
15a‧‧‧致動器
15b‧‧‧致動器
15c‧‧‧致動器
15d‧‧‧致動器
15e‧‧‧致動器
15f‧‧‧致動器
15g‧‧‧致動器
15h‧‧‧致動器
16‧‧‧平面鏡
20‧‧‧第二反射積分器
21a‧‧‧輔助鏡片
21b‧‧‧輔助鏡片
22‧‧‧孔徑光闌
24‧‧‧平面鏡
25‧‧‧原件
26‧‧‧原件驅動機構
28‧‧‧基板
29‧‧‧基板驅動機構
30‧‧‧真空室
101‧‧‧光學構件
102‧‧‧光學構件
103‧‧‧光學構件
111‧‧‧固持機構
231‧‧‧凸鏡
232‧‧‧凹鏡
241‧‧‧照明光束
251‧‧‧裂縫板
502‧‧‧間隔
602‧‧‧間隔
801‧‧‧方向
802‧‧‧位置
AX1‧‧‧光學軸
AX2‧‧‧同軸心
DIV‧‧‧分隔器
EX‧‧‧曝光裝置
IL‧‧‧照明光學系統
LS‧‧‧光源
PO‧‧‧投射光學系統
圖1係一視圖，用於說明根據本發明之實施例的曝光 裝置及照明光學系統；圖2A至2D係視圖，顯示一範例，其中一光束被分成二光束；圖3A至3D係視圖，顯示一範例，其中一光束被分成四光束；圖4A及4B係視圖，顯示一範例，其中一光束被分成八光束；圖5A及5B係視圖，說明改變σ之方法；圖6A及6B係視圖，說明改變σ之另一方法；圖7係一視圖，說明第二反射積分器、輔助鏡片、與孔徑光闌；及圖8係立體圖，說明第一反射積分器。
2‧‧‧電漿
4‧‧‧聚光鏡
5‧‧‧極紫外光
6a‧‧‧濾光片
6b‧‧‧濾光片
7‧‧‧孔徑
8‧‧‧真空室
9‧‧‧連接器
11‧‧‧驅動機構
12‧‧‧轉換器
12a‧‧‧凹鏡
12e‧‧‧凹鏡
13‧‧‧第一反射積分器
13a‧‧‧反射積分器
13e‧‧‧反射積分器
14‧‧‧聚光器
14a‧‧‧聚光鏡
14e‧‧‧聚光鏡
15‧‧‧驅動機構
15a‧‧‧致動器
15e‧‧‧致動器
16‧‧‧平面鏡
20‧‧‧第二反射積分器
21‧‧‧輔助鏡片
22‧‧‧孔徑光闌
24‧‧‧平面鏡
25‧‧‧原件
26‧‧‧原件驅動機構
28‧‧‧基板
29‧‧‧基板驅動機構
30‧‧‧真空室
101‧‧‧光學構件
102‧‧‧光學構件
231‧‧‧凸鏡
232‧‧‧凹鏡
241‧‧‧照明光束
251‧‧‧裂縫板
AX1‧‧‧光學軸
AX2‧‧‧同軸心
DIV‧‧‧分隔器
EX‧‧‧曝光裝置
IL‧‧‧照明光學系統
LS‧‧‧光源
PO‧‧‧投射光學系統

Claims (8)

  1. 一種照明光學系統，其以來自光源之光照明一照明表面，該系統包括：分隔器，其將來自該光源之光分隔，以產生複數光束；第一反射積分器，包含複數反射積分器，分別對應於由該分隔器所產生之複數光束，其中該複數反射積分器被建構成分別使該複數光束的光強度分佈一致；聚光器，包含複數聚光鏡，對應於該複數反射積分器，且該聚光鏡之每一者聚集來自該複數反射積分器中的對應反射積分器之光束；第二反射積分器，其接收來自該聚光器之光束並照明該照明表面；以及孔徑光闌，被配置於該第二反射積分器及該照明表面之間，其中該分隔器產生複數光束，使得該複數光束進入其上配置該孔徑光闌的一平面，每一該光束具有與被提供由該光源至該分隔器之光的截面形狀不同之截面形狀。
  2. 如申請專利範圍第1項之照明光學系統，另包括驅動機構，其驅動該聚光器，以改變形成在其上配置該孔徑光闌的該平面上之光強度分佈。
  3. 如申請專利範圍第1項之照明光學系統，另包括轉換器，其被配置於該分隔器及該第一反射積分器之間，並將藉由該分隔器所產生之複數光束轉換成平行的光束。
  4. 如申請專利範圍第3項之照明光學系統，其中該轉換器包含複數凹鏡，該等凹鏡分別將藉由該分隔器所產生之複數光束轉換成平行的光束。
  5. 如申請專利範圍第1項之照明光學系統，另包括驅動機構，其驅動該分隔器，以改變藉由該分隔器所產生之複數光束的行進方向。
  6. 如申請專利範圍第1項之照明光學系統，其中該分隔器包含複數具有不同功能之光學構件，該複數光學構件之每一者被建構成分隔來自該光源之光，以產生該複數光束，且一個選自該複數光學構件的光學構件被插入來自該光源之光的光徑。
  7. 一種曝光裝置，其將基板暴露至光線，該裝置包括：在申請專利範圍第1至6項中任一項所界定之照明光學系統，其被建構成照明一原件；以及投射光學系統，其將該原件之圖案投射至該基板上。
  8. 一種製造裝置的方法，該方法包括以下步驟：使用如申請專利範圍第7項所界定之曝光裝置將基板暴露至光線；以及使該基板顯影。
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