TWI439719B - 具兩組晶格層狀結構之透明光學元件及其製造方法 - Google Patents

Description

具兩組晶格層狀結構之透明光學元件及其製造方法

本發明關於一種具有兩組晶格的光學透明元件、適用於製造該元件的層狀結構、及製造該元件及該結構的方法。

專利申請案WO 2006/013250揭露以基礎元件的形式製造其表面具有一組並列晶格的光學元件。該元件結構通常稱為像素化結構。該晶格包含一或多種光學主動材料，其提供元件上的特定光學屬性。該製造光學元件的方法的優點在於經由改變導入晶格的主動材料便可獲得具有不同光學屬性的元件。

先前技術亦揭露製造結合位於基礎光學元件之表面上各疊置之層中的複數組晶格的光學元件。該光學元件具有由所有該組晶格所提供之光學屬性的組合。

然而該光學元件的透明度可能不適於某些應用，特別是眼科應用。一組晶格之間的分離器壁繞射光。此繞射本身提昇了肉眼可見的擴散。

在本發明的意義中，當影像經由一光學元件觀察而未察覺顯著的反差損失，便認為該元件是透明的。換言之，將透明光學元件插入於影像與觀察者之間不會顯著降低該影像的品質。特別是，繞射被定義為一種現象，藉此當光線實際上受限時仍經由散射而觀察到該光線(J－P.Perez、Optique、Fondements等人提出之[光學，基礎及應用]，2004年10月DUNOD第7版，262頁)。由於經由具有晶格之光學元件的壁之繞射，當經由光學元件觀看時，一光點便不再感覺為一點。結果肉眼可見的擴散或不一貫的擴散，由於光學元件的像素化結構，而產生了乳白色的外表或擴散暈。此導致經由該元件觀察之影像的反差損失。如上述定義的，此反差損失等於透明度損失。

本發明的目的在於提出一種具有晶格之新式光學元件，以改良元件的透明度。

為此目的，本發明提出一種透明光學元件，包含一基本光學元件及兩組透明晶格。該兩組晶格分別配置於基本元件之表面的疊置層中。每一晶格包含一光學主動材料，每組中的每一晶格由隔離部而彼此隔離並平行於基本光學元件之表面的晶格。此外，每組中晶格配置而沿垂直於該基本光學元件之軸線與有關另一組晶格之層的隔離部對齊。再者，彼此配置對齊的各個晶格及隔離部具有大致上相同的凸出，這些凸出係位於基本光學元件之表面上。

換言之，在本發明中，該二組晶格具有相對於光學元件之表面而互補的晶格圖樣。此外，在每一層中，晶格及隔離部交替位於平行於元件表面的方向，使得鄰近的兩晶格總是不相連。

在本發明的光學元件中，不論光線在光學元件之表面的撞擊點位置，穿越大致上垂直於各層之元件的光線必定穿越晶格及隔離部。與撞擊點相關而變化的唯一項目是光線路徑上晶格與隔離部的順序。一光束的所有光線因而以大致上相同的光學路徑穿越光學元件，使得觀察的影像幾乎沒有變形。換言之，根據前述關於透明的定義，此元件更加的透明。

由於光線穿越承載晶格組之光學元件表面的不同位置之間路徑相同，所以隔離部及晶格中所包含的主動材料不需具有相同的折射率。排除折射率匹配的限制使不同的光學元件可以使相同的晶格矩陣，這些不同的光學元件的各晶格所導入的主動材料係不相同。所以可以低成本大量製造基本光學元件及晶格組。

此外，在本發明的光學元件中，晶格之間的隔離部具有平行於基底之表面的尺寸，其與晶格的尺寸相當。因而其於附加縮放的繞射不會增加。元件的透明度亦因此原因而提昇。

再者，由於晶格的尺寸與隔離部的尺寸相當或相同，晶格組可易於製造，特別是以已知的平版印刷方法製造。

最後，當至少一組之晶格係經由應用於該組之外部膜而封閉時，該外部膜可輕易地附著於該晶格的隔離部上，例如經由黏著劑。假設該隔離部分別呈現大並可附著該膜的區域，即可確實地密封這些晶格。

特別是，本發明的光學元件可用來製作一光學透鏡，特別是一眼科透鏡。其亦可選擇地製作用於測量或瞄準之光學儀器的元件、特別用於運動或保護目的之護目鏡的透鏡、安全帽護罩、瞄準窗等。

本發明亦提供一種層狀透明晶格結構，其可應用於基本光學元件而獲得具上述兩層晶格的像素化元件。

本發明亦提供一種製造該結構的方法，該方法包含下列步驟：a)獲得疊置之層的透明結構，依序包含：平版印刷樹脂的第一層、一附加層以及一第二層，該附加層吸收蝕刻該樹脂之第一層的平版印刷法之輻射；b)於第二層上形成一遮罩，該遮罩定義將形成之晶格的位置；c)選擇地移除該遮罩所定義之第二層及附加層的部分，以便於該些層中形成第一組晶格；d)以至少一光學主動材料填充該第一組晶格；e)在遮罩移除後，選擇地相對於配置與該附加層之剩餘部分對齊的該第一層的部分，而經由第二層及附加層照射平版印刷樹脂的第一層，使得與第一組晶格對齊之該第一層的部分變成永久固定；f)顯影第一樹脂層，以便於該第一樹脂層中形成第二組晶格；及g)以光學主動材料填充第二組晶格。

經由使用該方法，以自我校準及彼此互補並僅需使用一遮罩的方式而形成兩組晶格。因而不需特定校準步驟即可獲得具有晶格的二疊置層，兩組晶格其中之一與另一組晶格中隔離部相對齊。。此外，晶格及隔離部自動地一個在另一個之上，且具有平行於層結構之相同輪廓。

最後，本發明提供一種製造光學元件的方法，其中上述層狀晶格結構係配置於基本光學元件上。所形成的光學元件可為一光學透鏡，特別是一眼科透鏡。

有關本發明的特徵與實作，茲配合圖式作最佳實施例詳細說明如下。

為求圖式清晰，所示元件未以實際尺寸或實際尺寸比例呈現。再者，不同圖式中相應元件或執行相同功能之元件使用相同編號。

請參照「第1圖」及「第2A圖」至「第2C圖」開始說明本發明的晶格結構。

結構100包含兩組晶格1，其係分別置於相應於每一組晶格的兩層10及20之上。層10及20係沿垂直於結構100之外部面S1及S2之軸線N而疊置於結構100之內。每一組(即置於層10或20中)中晶格1經由隔離部2而彼此隔離。

此外，層10中晶格組之晶格1配置而沿軸線N與層20之隔離部2對齊。相反地，層20中晶格組之晶格1配置與層10之隔離部2對齊。再者，彼此配置對齊之晶格1與隔離部2的輪廓具有大致上相同的凸出，這些凸出係位於一平行於外部面S1及S2之表面上上。

由於兩組中晶格之輪廓匹配，層10之晶格1形成一圖樣，其與層20之晶格1的圖樣互補。每一組中晶格之圖樣可為三角形(如「第2A圖」所示)、方形(如「第2B圖」所示)、矩形或不規則形(如「第2C圖」所示)。平行於結構100之晶格1的橫向尺寸d(亦即隔離部2的橫向尺寸)(如「第1圖」所示)大約在1微米(μm)至200μm的範圍，較佳的範圍為5μm至100μm。每一晶格1或隔離部2因而無法以裸眼見到，而且無法提昇光的繞射。

層10及20內個別的兩組晶格較佳地具有大致上相同的填充因子。當應用於晶格組時，「填充因子」一詞係用以表示層10、20內該組中晶格1所佔有結構100之區域的百分比。假定兩組晶格中圖樣為互補，該二填充因子因而大致上等於50%。

每一晶格1包含光學主動材料。該主動材料可包含折射材料、極化材料、吸收材料、彩色材料、濾光鏡材料、電主動材料等。該材料係以已知方式選擇而做為晶格結構100以提供與其所結合而成之光學元件的光學屬性的功能。例如，可將折射材料導入晶格1中，這種材料的折射率在晶格之間會改變，這些晶格係平行且偏移於晶格結構100。因而，晶格結構100可展現以屈光度表示的一預定之光功率。再者，在本發明，電主動材料為具有可回應電控制信號而改變之特徵的材料。

至少一晶格1中的主動材料可為液體或凝膠。在該環境下，外部膜4及外部膜5可置於晶格結構100的任一側，以確實地密封層10、20之晶格1。如此一來，各晶格1中所包含的主動材料可免於混合或自結構100洩漏。每一外部膜4、5可經由例如一層壓敏黏著劑(PSA)材料6、7而附著至相應的層10、20之隔離部2。例如當層10、20之一的晶格1中所包含之主動材料於導入該晶格後即交叉結合(cross－linked)，可選擇性地僅於晶格結構100的一側設置一單一外部膜。

結構100亦可包括置於層10、20之間的中間膜3。中間膜3可提供提昇的內聚力予結構100，因而使該結構更易於操控。

結構100係以透明的材料製成，使其本身透明而可使光線在兩外部面之間穿越。特別是層10、20的至少之一中的隔離部2可以樹脂製成，且膜3、4、5可以聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)為主。膜3、4、5在軸線N上的個別厚度大約在2μm至50μm的範圍之間，。層10、20的個別厚度e1、e2大約在5μm至500μm範圍之間(如「第1圖」所示)。

下列請參照「第3A圖」至「第3F圖」，描述獲得該層狀晶格結構的方法。

結構100最初於「第3A圖」中沿軸線N向上依序包含：平版印刷樹脂層10、吸收用於蝕刻層10之平版印刷輻射的樹脂附加層21、及另一樹脂層22。如上述，樹脂附加層21及樹脂層22共同形成層20。層10、21及22最初係同質的，並呈現均勻的厚度。例如，層21的厚度e21約在10μm至200μm的範圍之間，且層22的厚度e22約在10μm至400μm的範圍之間。結構100最初可選擇地包括置於層10與20之間的中間膜3，及/或置於與層22相對之層10側面的支撐膜8。當中間膜3呈現於結構100中時，對於用於平版印刷蝕刻層10之輻射而言是透明的。

遮罩30接著形成於層22上。在一種可能性中，遮罩30本身可使用平版印刷方法而形成。遮罩30具有一開口O，層22及接著的層21經由通過開口O移除其中部分而蝕刻。如此一來，第一組晶格1形成於層21及22中，其中晶格相應於遮罩30的開口O。

遮罩30於結構100的面S2上呈現一覆蓋因子，其相應於層20中晶格1的所需填充因子。較佳地，覆蓋因子約等於50%，以便鋪滿晶格1所佔的表面部分，其以平衡的方式共用層10與20之間。

以相同的方式，遮罩30呈現相應於層20所需之晶格圖樣的開口圖樣。特別是，開口可因而展示三角形、方形、矩形或不規則形的圖樣。

兩種不同的方法可用於蝕刻層21及22。

在第一種方法中，至少層22係由平版印刷樹脂製成，並使用適當的平版印刷方法蝕刻。為此原因，輻射F1(「第3B圖」)可為紫外線輻射或電子束，係以軸線N的相反方向背對層22通過遮罩30中的開口O。遮罩30的其餘部分吸收輻射F1，以照射層22的未覆蓋部分。照射造成層22的樹脂聚合化或未覆蓋的部分交叉結合，使得該些部分變成永久固定。

遮罩30的其餘部分被移除。

層22接著顯影：未照射的部分被排除(「第3C圖」)。換言之，層22為一樹脂底片。將層22的平版印刷樹脂顯影是已知作法，並可經由將層22與洗滌液接觸以溶解未聚合化的樹脂而實施。配置與自層22排除之部分對齊的層21的部分可同步移除，例如由於如同層22中所使用的相同平版印刷樹脂為層21中的材料元件。另一方面，層21可僅於已移除之層22部分的位置之適當溶液接觸時溶解。

在未顯示於圖式的第二種方法中，層22的未覆蓋部分可經由使用離子束蝕刻而予移除。此反應性蝕刻(RIE)的技術對於熟悉本技藝之人士而言亦是已知的。為此目的，結構100的表面S2係以具有足以使遮罩30之開口區中樹脂成為粉末之高能量的離子束進行掃瞄。層21可選擇地以該離子束同步蝕刻。

「第3C圖」中層22的剩餘部分22a及層21的剩餘部分21a，形成層20的隔離部2，且層21及22的空缺部分構成晶格1。

一或多項光學主動材料被填充於層2的晶格1中(如「第3D圖」所示)。當該主動材料為液體或凝膠時，可使用例如噴墨印表機型之噴頭導入晶格1。該噴頭被移至表面S2上方，並於面對晶格時啟動而噴灑其中主動材料。以此方式填充晶格特別快速及經濟，特別是因為其可程控並可相容用於複數種特定晶格結構的主動材料。此外，使用與各主動材料之儲存器相連之噴頭的不同噴嘴，以將適量的每一材料導入晶格，複數種主動材料可於特定晶格中混合。

可選擇地，層20中填充主動材料的晶格1可經由附著於隔離部2之自由表面上的膜5而密封。例如，膜5可經由PSA材料層7覆蓋，並相對於結構100的面S2壓製，其中層7面對層20。關於層7的替代材料，可使用其他黏著劑材料。

接著經由面S2照射平版印刷樹脂層10，穿越晶格層20(「第3E圖」)，使得選擇地相較於配置與層21及22之剩餘部分21a及22a對齊的層10部分，配置與層20之晶格1對齊的層10部分變成永久固定。為此目的，輻射F2可為紫外線輻射或電子束，係以平行於軸線N的相反方向背對結構的表面S2。層21的剩餘部分21a經由吸收輻射F2而執行遮罩功能，以僅照射配置與層20之晶格1對齊的層10部分。為此目的，膜3及5對輻射F2而言是透明的。

當結構100的面S1上包括支撐膜8時，便經由例如脫去而予移除(「第3F圖」)。

層10為負平版印刷樹脂，可與層22相同。顯影時，僅未照射的部分被排除。如此一來，亦於層10中製造與層20中晶格1對齊的隔離部2。層10中該些隔離部2定義該層10中晶格1，其輪廓與層20中晶格1及隔離部2的輪廓相符。因而，層10及20包含以互補方式配置的各組晶格1。

最後，層10的晶格1使用層20之晶格1已使用的類似方法而填充光學主動材料。選擇地，層10之己填充的晶格隨後經由應用結構100之面S1上第二外部膜而密封。有利地，結構100於最後兩步驟被翻面，使得層10的晶格1開口向上。結構100接著具有「第1圖」中所示組態。

本發明之晶格結構100接著可用於製造一光學元件，特別是眼科透鏡。為此目的，最初獲得基本光學元件200(「第4圖」)以做為基底。基本光學元件200本身可為光學透鏡或眼科透鏡。「眼科透鏡」一詞表示經設計而符合鏡頭或一付眼鏡的透鏡。該透鏡可於切割為鏡頭外罩之尺寸之前獲得。此構成眼科透鏡毛胚。另一方面，其可能已切割為鏡頭的尺寸。結構100接著安裝在基本光學元件200的面S200上，同時具有與面S200相同的曲率。為此目的，結構使用已知的方法小心地使其變形，以避免壓碎或傷害層10或20中的晶格1或隔離部2。結構100接著經由例如黏著劑而附著在基本光學元件200的面S200上。

以此方式所獲得之具晶格的光學元件產生通過其光束降低的繞射。換言之，發現最初的光束強度(即其通過該元件之前的強度)在通過該元件後幾乎完全處於零階繞射。特別是，已製成之本發明的光學元件，對於垂直入射該元件之表面的方向而言，其中入射光束的能量部分超過95%包含在零階繞射中。此外，當相同厚度的層10及20同時改變時，該部分大致上保持不變。

該元件亦展現極小的彩色效果。特別是，在該元件上看不見彩虹色，即使以不同的入射角度觀察亦然。該元件因而特別適於許多應用，特別是在外觀方面特別嚴格要求者，例如眼科應用。

當然，相較於上述實施例可採用本發明的各式修改。特別是，結構100亦可包括在其面S1或S2的至少之一上的功能性塗層，特別是在其於最後光學元件中保持暴露的一面上。該功能性塗層可置於外部膜4或5上，可包括特別是防撞擊塗層、防反射塗層、防刮傷塗層、防污塗層或若干該些塗層的結合。

此外，蝕刻的樹脂層22最初可以正樹脂替代。在此情況下，層20的晶格1可於遮罩30中開口O的位置形成。

在「第5圖」中所示本發明的變化實施例中，在層10、20之一內彼此相鄰的晶格1及隔離部2可呈現相對於軸線N而傾斜的介面I1。屬於另一層之亦彼此相鄰的晶格及隔離部，配置而分別對齊隔離部2及晶格1，並具有以相對於介面I1之相反方向傾斜的介面I2。換言之，兩介面的角度α10及α20相對於軸線N而具有相等絕對值及相反方位。由於通過該結構的光線平行於軸線N，到主動材料及構成隔離部之材料具有相同的路徑長度，無關乎光線相對於介面I1及I2的偏移，所以該晶格結構亦導致降低的繞射(參照「第5圖」中光線R1至R4)。

最後，該層狀結構可為彈性的或堅硬的、平面的或曲面的，及可選擇地用於其本身做為個別的光學元件。

雖然本發明以前述之較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。

1．．．晶格

10、20、21、22．．．層

100．．．層狀透明晶格結構

2．．．隔離部

21a、22a．．．剩餘部分

200．．．基本光學元件

3．．．中間膜

30．．．遮罩

4、5．．．外部膜

6、7．．．壓敏黏著劑(PSA)材料

8．．．支撐膜

d．．．橫向尺寸

e₁ 、e₂ 、e₂₁ 、e₂₂ ．．．厚度

F₁ 、F₂ ．．．輻射

I₁ 、I₂ ．．．介面

N．．．軸線

O．．．開口

R₁ 、R₂ 、R₃ 、R₄ ．．．光線

S₁ 、S₂ 、S₂₀₀ ．．．面

α ₁₀ 、α ₂₀ ．．．角度α

第1圖為本發明之晶格結構的截面圖。

第2A至2C圖為依據「第1圖」之晶格結構的平面圖。

第3A至3F圖為製造依據前述各圖之晶格結構的方法之連續步驟。

第4圖顯示本發明之光學元件的製造。

第5圖為本發明之晶格結構的變化組態之截面圖。

1．．．晶格

10、20．．．層

100．．．層狀透明晶格結構

2．．．隔離部

3．．．中間膜

4、5．．．外部膜

6、7．．．壓敏黏著劑(PSA)材料

d．．．橫向尺寸

e1、e2．．．厚度

N．．．軸線

S1、S2．．．面

Claims (35)

1. 一種透明光學元件，包含一基本光學元件及兩組分別配置於疊置在該基本光學元件之表面的層中的透明晶格，每一晶格包含一光學主動材料，且各組中該晶格經由相應層內隔離部而彼此隔離，平行於該基本光學元件之該表面，該元件的特徵在於各組中晶格配置而與另一組晶格之隔離部對齊，沿垂直於該基本光學元件之該表面的軸線，該晶格的各個輪廓與該隔離部在該基本光學元件的該表面上具有大致上相同的凸出。
2. 如申請專利範圍第1項所述之元件，其中各層中該組晶格具有大致上相同的填充因子。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之元件，其中各層中該組晶格具有三角形、方形、矩形或不規則形的各個圖樣。
4. 如申請專利範圍第1項所述之元件，其中至少一層中該隔離部係由樹脂組成。
5. 如申請專利範圍第1項所述之元件，進一步包含中間膜，其置於該兩組晶格的各層之間。
6. 如申請專利範圍第1項所述之元件，進一步包含至少一外部膜，其置於該晶格組之層之一的一側上，與置放該晶格組之另一層的該側相對。
7. 如申請專利範圍第1項所述之元件，其中至少一該晶格中所包括之該光學主動材料包含折射材料、極化材料、吸收材料、彩 色材料、濾光鏡材料或電主動材料。
8. 如申請專利範圍第1項所述之元件，其中至少一該晶格中所包括之該光學主動材料為液體或凝膠。
9. 如申請專利範圍第1項所述之元件，其中該層內相鄰的第一晶格及第一隔離部具有第一介面，其相對於垂直該光學元件之該表面的方向而傾斜，且其中彼此相鄰並形成該另一層之第二晶格及第二隔離部配置而分別與該第一隔離部及第一晶格對齊，並具有相對於該第一介面而傾斜的第二介面。
10. 如申請專利範圍第1項所述之元件，形成一光學透鏡。
11. 如申請專利範圍第10項所述之元件，其中該基本光學元件本身包含一光學透鏡。
12. 如申請專利範圍第10項或第11項所述之元件，形成一眼科透鏡。
13. 一種層狀透明晶格結構，包含兩組分別配置於疊置在該結構之層中的透明晶格，每一晶格包含一光學主動材料，且各組中該晶格經由相應層內隔離部以平行於該層結構之方向彼此隔離，該結構的特徵在於各組中晶格配置而與有關另一組晶格之該層的隔離部對齊，沿垂直於該晶格結構的軸線，該晶格的各個輪廓與該隔離部在平行於該層狀結構的表面上具有大致上相同的凸出。
14. 如申請專利範圍第13項所述之結構，其中各層中該組晶格具有大致上相同的填充因子。
15. 如申請專利範圍第13項或第14項所述之結構，其中各層中該組晶格具有三角形、方形、矩形或不規則形的各個圖樣。
16. 如申請專利範圍第13項所述之結構，其中該結構的一層中該隔離部係由樹脂組成。
17. 如申請專利範圍第13項所述之結構，進一步包含中間膜，其置於該兩組晶格的各層之間。
18. 如申請專利範圍第13項所述之結構，進一步包含至少一外部膜，其置於該晶格組之層之一的一側上，與置放該晶格組之另一層的該側相對。
19. 如申請專利範圍第13項所述之結構，其中至少一該晶格中所包括之該光學主動材料包含折射材料、極化材料、吸收材料、彩色材料、濾光鏡材料或電主動材料。
20. 如申請專利範圍第13項所述之結構，其中至少一該晶格中所包括之該光學主動材料為液體或凝膠。
21. 如申請專利範圍第13項所述之結構，其中該層內相鄰的第一晶格及第一隔離部具有第一介面，其相對於垂直該結構之軸線而傾斜，且其中彼此相鄰並形成該另一層之第二晶格及第二隔離部配置而分別與該第一隔離部及第一晶格對齊，並具有相對於該第一介面而傾斜的第二介面。
22. 一種製造層狀透明晶格結構的方法，包含下列步驟：a)獲得疊置之層的透明結構，該層依序包含：平版印刷樹脂的第一層、用於吸收適於蝕刻樹脂之第一層的平版印刷法之輻射的附加層及第二層；b)於該第二層上形成遮罩，該遮罩定義將形成之晶格的位置；c)選擇地移除該第二層及該遮罩所定義之該附加層的部分，以便於該第二層及該附加層中形成第一組晶格；d)以至少一光學主動材料填充該第一組晶格；e)於移除該遮罩後，選擇地相對於配置與該附加層之剩餘部分對齊的該第一層的部分，而照射該平版印刷樹脂的第一層，穿越該第二層及該附加層，使得配置與該第一組晶格對齊的該第一層的部分變成永久固定；f)顯影該第一樹脂層，以便於該第一樹脂層中形成第二組晶格；及g)以光學主動材料填充該第二組晶格。
23. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該第二層係以平版印刷樹脂製成，且其中步驟c)係使用平版印刷法而實施。
24. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中步驟c)係以離子束蝕刻該第二層而實施。
25. 如申請專利範圍第22項至第24項之任一項所述之方法，其中該遮罩具有約等於50%之該第二層的覆蓋因子。
26. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該遮罩具有三角形、方形、矩形或不規則形之圖樣。
27. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該層狀結構包括中間膜，其位於該第一層與該附加層之間。
28. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該層狀結構進一步包括支撐膜，其置於相對於其上配置該第二層之側的該第一樹脂層之側上，且其中該方法進一步包括移除該支撐膜的步驟，該移除之步驟係於步驟f)之前實施。
29. 如申請專利範圍第22項所述之方法，進一步包括經由附著於該組晶格之外部膜而密封該第一及第二組晶格之一的該晶格的至少一步驟。
30. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中用於步驟d)及g)之該光學主動材料包含折射材料、極化材料、吸收材料、彩色材料、濾光鏡材料或電主動材料。
31. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中用於步驟d)及g)之該光學主動材料為液體或凝膠。
32. 一種製造透明光學元件的方法，包含下列步驟：．獲得基本光學元件；．獲得如申請專利範圍第13項至第21項之任一項所述之層狀透明晶格結構；及．將該層狀結構附著於該基本光學元件的表面上。
33. 如申請專利範圍第32項所述之方法，其中該光學元件形成一光學透鏡。
34. 如申請專利範圍第33項所述之方法，其中該基本光學元件本身包含一光學透鏡。
35. 如申請專利範圍第33項或第34項所述之方法，其中該光學元件形成一眼科透鏡。