TWI436857B - 玻璃板端面研削裝置及其方法 - Google Patents

Description

玻璃板端面研削裝置及其方法

本發明是關於一種玻璃板的端面研削裝置及其方法，詳細地說，是關於一種藉由使旋轉的砥石與玻璃板的端面接觸，並對該接觸部供給研削液，且使磨石和玻璃板沿著玻璃板的端面的長邊方向相對移動，從而對玻璃板的端面進行研削之技術。

眾所周知，在液晶顯示器、電漿顯示器、電致發光顯示器和場發射顯示器等各種圖像顯示機器的製作時，現在是採用所謂的多面成形的方法，對大型的玻璃基板形成多個顯示元件後，按照各顯示區域的每一區畫來進行分割。因此，形成推進了玻璃工廠等所製造的玻璃基板的大型化之現狀。

這些玻璃基板是藉由將成形後的原料玻璃切斷為矩形狀及規定的大小後，對其切斷端面進行研削之處理等，而得到玻璃基板製品。

這種玻璃基板的端面研削通常是在使旋轉狀態的磨石接觸玻璃基板的端面之狀態下，使該磨石對玻璃基板在沿著其端面的方向上進行相對移動而實施。此時，為了磨石和玻璃基板的端面之接觸部(研削部)的冷卻或減輕摩擦等，多數情況下要對研削部供給研削液。但是，對研削部所供給的研削液因為研削液的供給方向或磨石的旋轉等，會飛散到玻璃基板的表面上，且該飛散的研削液中所包含的切粉等會附著在玻璃基板的表面上，從而招致玻璃基板的表面性狀惡化，或之後的清洗過程煩雜之事態。因此，在這種端面研削裝置中要採取以下所示的對策。

例如，在下述的專利文獻1中揭示有一種這樣的研削方法，在大致保持垂直的玻璃基板的表面背面中的形成有電漿顯示面板的構成要素的面上，配置用於將位於玻璃基板的垂直下方的磨石和前述構成要素之間進行遮蔽的遮蔽板，並在該狀態下，使磨石與應研削的割斷面相接觸，且對磨石供給液體，並使所保持的玻璃基板沿著割斷面的長邊方向移動，且使磨石旋轉而對割斷面進行研削。

專利文獻1：日本專利早期公開之特開2005-317235號公報

然而，最近液晶顯示器或電漿顯示器等各種圖像顯示器趨向高精細化，隨之對以PDP為代表的各種顯示器用玻璃基板的高精細化要求也正在提高。為了對應這種要求，需要使玻璃基板的表面性狀更加良好，因此，不使供給到研削部的研削液飛散到玻璃基板的表面上就成為至關重要的問題。

這裡，上述專利文獻1所揭示的遮蔽板形成平面形狀，對成為研削對象的玻璃板的端面平行地配置在只隔開規定距離的上方。對磨石和玻璃板的端面之接觸部所供給的研削液，隨著磨石的旋轉和玻璃板的相對移動而從該接觸部向斜上方飛散並達到遮蔽板。繼而，到達遮蔽板的研削液的大部分沿著遮蔽板而在與玻璃板的端面平行的方向上流動，在流速低下的位置因自重而流下，並由玻璃板的下方落下。因此，在飛散的研削液到達遮蔽板並沿著遮蔽板而在與玻璃板的端面平行的方向上流動之區域，研削液容易通過遮蔽板和玻璃板之間的間隙而侵入至玻璃板的平面中央側，即使設置同文獻的圖3所示的那種氣體供給噴嘴23，也難以有效地抑制研削液向玻璃板的平面中央側的侵入。特別是在使玻璃板成為水平姿勢而進行加工的情況下，上述的傾向顯著。而且，同文獻對供給到接觸部(研削部)的研削液的回收並未特別考慮。

鑒於以上問題，本發明的技術課題是在玻璃板的端面研削過程中，有效地抑制研削液向玻璃板平面的飛散，而且，謀求研削液的有效的回收。

前述課題的解決是藉由本發明的玻璃板的研削裝置而達成。亦即，該玻璃板的研削裝置為一種玻璃板的端面研削裝置，包括：磨石，其藉由旋轉並與玻璃板的端面相接觸，而對端面進行研削；研削液供給部，其對磨石和玻璃板的端面之接觸部供給研削液；以及遮蔽板，其遮蔽玻璃板的平面以免接觸到被供給到接觸部的研削液；該研削裝置的特徵在於：遮蔽板具有從玻璃板的平面中央側包圍接觸部之包圍部；包圍部的一端在較接觸部更靠近磨石的旋轉方向前方側，與玻璃板的端面相交差並延伸。

如利用這種構成，則供給到接觸部的研削液在接觸部的加工中發揮作用後，到達包圍接觸部的包圍部，並沿著包圍部，被引導至在較接觸部更靠近磨石的旋轉方向前方側超過與玻璃板的端面相交差之位置的位置處。亦即，在較接觸部更靠近磨石的旋轉方向前方側，研削液沿著包圍部而從玻璃板的平面中央側離開的方向上流動，並被引導至超過玻璃板的端面之位置處。藉此，可有效地防止在接觸部飛散的研削液流向玻璃板的平面中央側並附著在平面中央側上之問題。而且，研削液由包圍部而賦予流動的方向性，也可將研削液有效地回收。

在這種情況下，包圍部在對玻璃板平面的平面視圖下，具有沿著磨石的外周面之彎曲形狀較佳。

由於使包圍部為上述的形狀，所以可將到達包圍部的研削液沿著磨石的旋轉方向而順利地進行引導，提高上述的效果。

而且，包圍部除了採用位於玻璃板的一面側之構成以外，也可採用位於其兩面側之構成。

藉由使包圍部位於玻璃板的兩面側而設置遮蔽板，可在玻璃板的兩面上得到由包圍部所形成的上述作用。因此，可將由該研削裝置所得到的玻璃板，作為高精細液晶顯示器或電漿顯示器等的各種圖像顯示機器用的玻璃基板而廣泛提供。

而且，在採用包圍部位於玻璃板的兩面側之構成的情況下，包圍部具有用於插通玻璃板的含有端面的一部分之縫隙(slit)較佳。

藉由採用這種形狀，可由1個遮蔽板而構成位於玻璃板的兩面側之包圍部，以謀求構造的簡潔化。

而且，除了上述構成以外，也可採用在挾持包圍部且與磨石相反側的位置上，設置噴射淨化流體的淨化噴嘴之構成。在這種情況下，淨化流體是供給到前述包圍部和玻璃板之間的間隙中。

藉由採用這種構成，要通過包圍部和玻璃板之間的間隙而侵入到玻璃板的平面中央側之研削液，藉由從淨化噴嘴噴出的淨化流體而被壓回到磨石側。因此，可更加有效地防止研削液向玻璃板的平面中央側的附著。另外，這裏所說的”淨化流體”包括水等液體、空氣等氣體，但從為了將要通過包圍部和玻璃板之間的間隙而侵入到玻璃板的平面中央側之研削液壓回到磨石側，而賦予足夠的壓力之觀點來看，以水等液體更佳。而且，該壓力可依據研削液的供給量而適當地進行設定。

在這種情況下，對淨化噴嘴的設置角度進行設定，以使淨化流體通過包圍部和玻璃板之間的間隙而到達玻璃板較佳。

藉由如上述那樣來設定淨化噴嘴的設置角度，則可利用淨化流體，在較遮蔽板和玻璃板的間隙更靠近磨石的位置將研削液壓回，能夠更加有效地防止研削液通過該間隙而侵入到玻璃板的平面中央側之問題。

而且，淨化噴嘴與遮蔽板的包圍部同樣，除了配置在玻璃板的一面側以外，也可配置在其兩面側。

藉由採用這種構成，可在玻璃板的兩面側上得到由上述淨化噴嘴所形成的作用相同之作用。

而且，在這種情況下，也可使具有包圍部的遮蔽板和淨化噴嘴單元化。

如像這樣被單元化，則即使在為了更換磨石而將上述端面研削裝置分解的情況下，也可在維持遮蔽板和淨化噴嘴相互的位置關係之狀態下，拆除該單元。因此，在磨石更換後的再組裝時，只需調整磨石和上述單元的位置關係即可，能夠縮短磨石的更換作業所需的時間。

當然，除了遮蔽板和淨化噴嘴以外，也可使研削液供給部也單元化。亦即，也可使遮蔽板和研削液供給部及淨化噴嘴單元化。

採用上述構成的玻璃板的端面研削裝置，還具有至少收納磨石和研削液供給部的罩殼(housing)，該罩殼在規定的端面上具有開口部，用於插通玻璃板的一部分，使該玻璃板的端面可與磨石相接觸較佳。

藉由採用這種構成，可除了作為玻璃板的插通側之開口部以外，使磨石由罩殼所覆蓋。因此，可與上述遮蔽板或淨化噴嘴所形成的上述作用相互結合，更加確實地防止研削液向玻璃板平面中央側的飛散。而且，由於磨石和研削液供給部由罩殼來覆蓋，所以可利用包圍部，將沿著從玻璃板遠離的方向而被引導的研削液不洩漏地進行回收。

而且，上述構成的玻璃板的端面研削裝置特別適用於使玻璃板成為水平姿勢以進行加工的情況。

另一方面，前述課題的解決也是由本發明的玻璃板的端面研削方法而達成。亦即，該玻璃板的研削方法是一種藉由使磨石旋轉並與玻璃板的端面相接觸而進行端面的研削之方法，是在對磨石和玻璃板的端面之接觸部供給研削液，且在設置用於遮蔽玻璃板的平面以與供給到接觸部的研削液隔開的遮蔽板之狀態下，進行端面的研削；該研削方法的特徵在於，遮蔽板具有從玻璃板的平面中央側包圍接觸部的包圍部，而且，包圍部的一端在較接觸部更靠近磨石的旋轉方向前方側，與端面交差並延伸。

如利用這種方法，則適用與前面所說明的關於本發明的玻璃板的研銷裝置之事項相同的事項，所以可得到與該裝置的作用效果相同的作用效果。

而且，在這種情況下，在挾持包圍部並與磨石相反側的位置上，配置噴射該淨化流體的淨化噴嘴，並對遮蔽板和玻璃板之間的間隙供給淨化流體，這樣之構成較佳。

這樣，在上述的端面研削方法中，藉由設置上述供給形態的淨化噴嘴，而適用與前面所說明的端面研銷裝置中的淨化噴嘴之事項相同的事項，所以可得到與該裝置的作用效果相同的作用效果。

如上所述，如利用本發明的玻璃板的研削裝置及其方法，則在玻璃板的端面研削過程中，可盡可能地抑制研削水向玻璃板的平面的飛散。因此，可使玻璃板的表面性狀良好，並謀求液晶顯示器或電漿顯示器等各種圖像顯示機器用的顯示元件的高精細化。而且，能夠謀求研削液的有效的回收。

以下參照附圖來對本發明的實施形態進行說明。

首先，根據圖1所示的平面圖，對關於本發明的一實施形態之玻璃板的研削裝置的全體構成進行說明。另外，在本實施形態中，是將對液晶顯示器用的玻璃基板的端面進行研削之情況作為例子進行說明。

如圖1所示，玻璃基板的端面研削裝置1是用於對從成形後的原板玻璃所切出的玻璃基板2的端面2a(切斷面)施行研削加工的裝置，配置在以水平姿勢沿著規定的方向而搬運之玻璃基板2的一側(或兩側)。在這裏，該端面研削裝置1包括：磨石3，其伴隨著旋轉而對沿著玻璃基板2的搬運方向的一邊之端面2a進行研削；研削液供給噴嘴5，其以磨石3和玻璃基板2的接觸部(研削部)4作為基準而設置在磨石3的旋轉方向後方側(在圖1中可說成是較接觸部更靠近右側的區域)，並朝著接觸部4的周邊而供給研削液(在這裏為純水)；後述的遮蔽板6；以及淨化噴嘴7。而且，在本實施形態中是採用這樣的構成，即：上述構成要素(磨石3、研削液供給噴嘴5、遮蔽板6和淨化噴嘴7)收納在大致矩形形狀的罩殼8內，且可利用該罩殼8的一端面上所設置的開口部8a，使玻璃基板2的一部分插可通到罩殼8內部，而且，可使與所插通的玻璃基板2的一部分相關之端面2a與磨石3的外周面相接觸。

磨石3採用一種在與玻璃基板2的平面相直交的軸平行之軸系中旋轉的構成，其旋轉方向為在玻璃基板2的研削部(接觸部4)中，與玻璃基板2的搬運方向相對的方向(圖1中的逆時針旋轉方向)。另外，成為研削面的磨石3的外周面3a採用例如圖4所示的構成，形成大致凹部圓弧狀的斷面輪廓形狀，並使玻璃基板2的端面2a的兩邊部可同時成R倒角配置。

研削液供給噴嘴5採用以玻璃基板2和磨石3的接觸部4作為基準，從磨石3的旋轉方向後方側，對接觸部4供給研削液之構成。

遮蔽板6如圖2所示，具有沿著長邊方向形成彎曲狀例如大致圓弧狀(包括圓弧狀)的部分，且該圓弧狀部成為用於包圍含有接觸部4在內的磨石3的玻璃基板2側的周圍之包圍部9。詳細地說，包圍部9在對玻璃基板2的平面進行平面視的狀態下，如圖1所示，成為沿著磨石3的外周面3a之大致圓弧狀，而且，沿著其長邊方向具有寬度尺寸一定的縫隙10。而且，在該縫隙10中插通玻璃基板2的一部分，並使插通部分的端面2a與磨石3相接觸之狀態下，如圖4所示，包圍部9配置在較接觸部4更靠近玻璃基板2的平面中央側的位置處。而且，包圍部9的一端以接觸部4為基準，在磨石3的旋轉方向前方側(在圖1中為接觸部4更左側的區域)與玻璃基板2的端面2a交差而延伸，而使遮蔽板6固定在罩殼8上。上述構成的包圍部9是配置在玻璃基板2的表面背面兩方的平面側。另外，關於縫隙10的寬度尺寸，至少需要如上述那樣可插通玻璃基板2之程度的大小，如果可以，考慮研削時的玻璃基板2的差異(朝向板厚方向的振幅)而設定該寬度尺寸較佳。

淨化噴嘴7在本實施形態中如圖3所示，採用使多個噴嘴開口部11集約而形成之噴嘴單元的構成，並挾持遮蔽板6而設置在與磨石3相反側的位置上。在這裏，淨化噴嘴7與遮蔽板6同樣具有用於插通玻璃基板2的縫隙，且在將該縫隙夾於其間而對向的一對斜面12、12上，沿著各斜面12、12的長邊方向，多個噴嘴開口部11分別成一列而配置。而且，這些噴嘴開口部11一律指向相同方向而配置著。因此，在淨化噴嘴7的斜面12、12間(縫隙)插通玻璃基板2的一部分，並使該端面2a與磨石3相接觸之狀態下，從這些多個噴嘴開口部11所噴射的淨化水(例如純水)13，可在這些多個噴嘴開口部11和玻璃基板2的平面之間形成窗簾狀的水壁。另外，關於在淨化噴嘴7上所設置的縫隙的寬度尺寸，可與遮蔽板6的縫隙10同樣地，依據所插通的玻璃基板2的厚度而設定，較佳是也考慮研削時的玻璃基板2的差異程度而進行設定。

這裏，對從淨化噴嘴7所噴出的淨化水13的垂直方向上的定向形態，詳細地進行說明。如圖5所示，對各噴嘴開口部11進行定向，使從該噴嘴開口部11所噴射的淨化水13被供給到與磨石3處於接觸狀態之玻璃基板2和遮蔽板6的間隙中。這裏，較佳是以使從噴嘴開口部11所噴射的淨化水13對玻璃基板2的平面所形成之入射角θ₁ 大於等於10度且小於等於45度，更佳是以使入射角θ₁ 大於等於25度且小於等於35度之形態，而設定淨化噴嘴7的安裝角度或噴嘴開口部11的形成角度。其依據的理由是，淨化水13在玻璃基板2平面上的著地點越接近磨石3側，研削液的壓回作用越高，另一方面，為了避免與玻璃基板2的干涉，使兩者間(玻璃基板2和淨化噴嘴7)的垂直方向間隙盡可能大較佳。反之，因為上述的理由，淨化噴嘴7的噴嘴開口部11以使淨化水13通過包圍部9和玻璃基板2間的間隙而到達玻璃基板2的平面之形態，來對其設置角度進行設定較佳。

而且，在對玻璃基板2的平面進行平面視的狀態下詳細地說明淨化水13的定向形態，如圖6所示，各噴嘴開口部11是以使從該噴嘴開口部11所噴射的淨化水13，傾斜地橫穿與磨石3處於接觸狀態的玻璃基板2的端面2a中的未研削部分而朝向磨石3之形態來進行定向。換言之，是以從噴嘴開口部11所噴射的淨化水13的噴出方向與磨石3的接觸部4的切線方向V(旋轉方向前方側。參照圖6)所形成之角度θ₂ 大於90度且小於180度的形態，而設定噴嘴開口部11的定向角度。

以下，對利用上述構成的裝置之玻璃基板的研削方法，參照圖7及圖8進行說明。另外，圖7是著眼於遮蔽板6的作用而用於對該作用進行說明的要部平面圖，圖8是著眼於淨化噴嘴7的作用而用於對該作用進行說明的要部平面圖。

首先，對遮蔽板6的作用進行說明。如圖7所示，在研削時，朝向接觸部4的附近供給的研削液(圖7中以粗箭頭符號表示)在到達接觸部4後，朝著其周圍飛散。此時，接觸部4是由遮蔽板6上所設置的包圍部9包圍著，所以向接觸部4的周圍飛散的研削液沿著包圍部9，被引導至在較接觸部4更靠近磨石3的旋轉方向前方側，超出與玻璃基板2的端面2a的交差位置之位置處。亦即，在從接觸部4更靠近磨石3的旋轉方向前方側，研削液沿著包圍部9，在從玻璃基板2的平面中央側離開的方向上流動，並被引導至超過玻璃基板2的端面2a之位置。藉此，可有效地防止在接觸部4飛散的研削液流向玻璃基板2的平面中央側並附著在平面中央側上之問題。而且，研削液藉由包圍部9而被賦予了流動的方向性，所以可有效地回收研削液。

而且，如像本實施形態那樣，使包圍部9沿著磨石3的外周面3a而大致形成圓弧狀，則可沿著磨石3的旋轉方向而順利地對到達包圍部9的研削液進行引導，提高上述的效果。而且，由於形成該形狀，從而在對玻璃基板2的平面視的狀態下，在包圍部9和磨石3之間形成半徑方向的對向間隔大致一定之流路，藉此也使研削液的送出可順利地進行。

接著，對淨化噴嘴7的作用進行說明，如圖8所示，從淨化噴嘴7(的噴嘴開口部)所噴射的淨化水13，由接觸部4看是從斜前方側被供給到遮蔽板6和玻璃基板2的間隙中。因此，要通過包圍部9和玻璃基板2之間的間隙而侵入到玻璃基板2的平面上之研削液，藉由淨化水13而被壓回到磨石3的一側。而且，從接觸部4向磨石3的旋轉方向前方側飛散的研削液，減弱了向該飛散方向的勢能，且改變其飛散方向(流動方向)而被引導至從玻璃基板2遠離的方向。除此以外，對利用包圍部9而沿著從玻璃基板2遠離的方向被引導之研削液，沿著促進包圍部9所形成的引導之方向而進行壓入作用。藉此，可防止研削液通過遮蔽板6和玻璃基板2的間隙而向玻璃基板2的平面中央側侵入之問題，且防止研削液通過該遮蔽板6和玻璃基板2的間隙而向罩殼8的外部漏出之問題。

而且，藉由像本實施形態那樣設置用於收納磨石3或研削液供給噴嘴5的罩殼8，從而除了形成玻璃基板2的插通側之開口部8a以外，使磨石3由罩殼8覆蓋。因此，與上述遮蔽板6所形成的遮蔽作用或上述淨化噴嘴7所形成的淨化作用(排出作用)相乘地彼此作用，不只是防止研削液向玻璃基板2的平面中央側的漏出，還可盡可能地防止研削液向罩殼8外的漏出。而且，利用包圍部9，可不洩漏地回收沿著從玻璃基板2遠離的方向而漏出的研削液。藉此，可使在例如研削過程後的檢查過程中偵測困難的微小玻璃微粒或砥粒殘渣殘存附著於玻璃板的平面上之可能性盡可能地接近於零，謀求上述顯示用面板的高精細化。

以上，對本發明的一實施形態進行了說明，但關於本發明的玻璃板的端面研削裝置或其方法，當然可在本發明的範圍內任意地進行變更。

例如，在上述實施形態中是使包圍部9的形狀為一部分略呈圓弧狀而彎曲的形狀，但並不特別限定於此。只要具有作為包圍部9的機能，其形狀可為任意形狀。例如，包圍部9可具有除了圓弧狀以外的彎曲形狀，而且，也可部分地包含平坦的面，但省略圖示。或者，也可不只是沿著上述長邊方向的形狀，也可形成沿著與長邊方向直交的方向(玻璃基板2的厚度方向)進行彎曲之形狀。

而且，關於在淨化噴嘴7上所形成的噴嘴開口部11的排列形態，沒有必要使全部的噴嘴開口部11都配置在玻璃基板2上，也可使並列的多個噴嘴開口部11的一部分以玻璃基板2的端面2a為邊界而配置在磨石3的一側。而且，在上述實施形態中，在玻璃基板2的兩面側成1列而配置多個噴嘴開口部11，但也可採用大於等於2列的多個排列。另外，關於噴嘴開口部11的形狀，並不限定於圓孔形狀，也可為例如縫隙狀。

而且，在上述實施形態中，也可採用使分別單獨形成並配置的遮蔽板6和淨化噴嘴7一體化的構成。在這種情況下，列舉這樣的構成作為上述一體化(單元化)的一個例子，即：對遮蔽板6上所設置的縫隙10的磨石3側的角部進行倒棱化處理，並在沿著該縫隙長邊方向的倒棱部上並列配置例如圖3所示的多個噴嘴開口部11，但省略圖示。如利用該構成，則可將對罩殼8上的安裝構件集中為1構件上，以提高對罩殼8的安裝精度。當然，也可使遮蔽板6或淨化噴嘴7分別與罩殼8一體化。

這裏，圖9所示為上述單元化的另外的構成例，具體地說，所示為將遮蔽板、研削液供給噴嘴及淨化噴嘴單元化之防止研削液飛散單元20的立體圖。而且，圖10所示為組入了上述防止研削液飛散單元20之端面研削裝置的要部平面圖。該防止研削液飛散單元20大致形成一體地具有圖2所示的遮蔽板6之箱形形狀，且其側面上所設置的包圍部9^， 形成利用縫隙10^， 而上下分割的形態。而且，在與上述實施形態同樣地，在該縫隙10^， 中插通玻璃基板2的一部分，並使插通部分的端面2a與磨石3相接觸之狀態下，如圖10所示，為了使包圍部9^， 的一端以接觸部4為基準而在磨石3的旋轉方向前方側(圖10中為接觸部4的更左側區域)與玻璃基板2的端面2a交差並延伸，而在例如圖1所示之形狀的罩殼8上固定著防止研削液飛散單元20。而且，在挾持包圍部9^， 並與磨石3相反的一側，配置多個噴嘴開口部11^， (參照圖10)，並以研削時可朝著玻璃基板2的平面以噴射淨化水13之形態而配置在防止研削液飛散單元20內。另外，在該圖示例中，是在防止研削液飛散單元20的上部一體地設置研削液供給噴嘴5^， ，但也可代之以在下部設置研削液供給噴嘴5^， ，或者在上部和下部兩者分別都設置。

藉由採用這樣的構成，在磨石3的更換時，只裝卸該防止研削液飛散單元20，即可進行磨石3的更換。除此以外，沒有必要重新調整修正研削液供給噴嘴5^， 或包圍部9^， 及淨化噴嘴的噴嘴開口部11^， 相互間的位置關係，所以使磨石3的更換所需的時間縮短。

而且，上述實施形態所示為在玻璃基板2的上下兩面側配置遮蔽板6或淨化噴嘴7(噴嘴開口部11)的情況，但沒有必要一定要在兩面側配置，也可只在例如玻璃基板2的上面側配置遮蔽板6和淨化噴嘴7中的一個或兩者。而且，此時為了只在玻璃基板2的一面側配置遮蔽板6(包圍部9)和淨化噴嘴7，也可採用使兩構成要素9、7單元化的構成。

而且，以上所說明的玻璃基板的端面研削裝置1是配置在玻璃基板2的兩側，但在對從原板玻璃所切出的玻璃基板2的4邊的全部端面進行研削之情況下，也可採用這樣的構成，即：在例如玻璃基板2的搬運線的相對上流側的位置及下流側的位置，沿著與該搬運方向直交的方向，分別對向配置2台端面研削裝置1。而且，為了可利用同一端面研削裝置1而對應於玻璃基板2的尺寸變更等，也可採用使端面研削裝置1可沿著與搬運方向直交的方向進行移動之構成。或者，也可採用只使磨石3等特定的構成要素，在罩殼8內沿著搬運直交方向可相對地進行移動之構成。

另外，搬運裝置也可由傳送帶等的搬運裝置構成，但這裏省略圖示。而且，此時，也可採用一種利用真空吸附等，將玻璃基板2固定在構成搬運裝置的要素(例如皮帶)的規定位置上之構成。當然，只要可在玻璃基板2和磨石3之間進行相對移動，其構成是任意的，例如，也可採用將玻璃基板2予以固定，並使含有磨石3的玻璃板的端面研削裝置1可沿著玻璃基板2的排列方向進行移動之構成。

以上，以將本發明應用在液晶用顯示器用的玻璃基板之研削過程中的情況作為例子進行了說明，但關於本發明的玻璃板的研削裝置及其方法，除了應用於液晶顯示器用的玻璃基板以外，在對電漿顯示器、電致發光顯示器和場發射顯示器等各種圖像顯示機器用的玻璃基板，或作為用於形成各種電子顯示機能元件或薄膜的基材而使用的玻璃基板那樣，要求高的面精度的玻璃板的端面進行研削時，也可較佳地利用。

1．．．端面研削裝置

2．．．玻璃基板

2a．．．端面

3．．．磨石

3a．．．外周面

4．．．接觸部

5、5’．．．研削液供給噴嘴

6．．．遮蔽板

7．．．淨化噴嘴

8．．．罩殼

8a．．．開口部

9、9’．．．包圍部

10、10’．．．縫隙

11、11’．．．噴嘴開口部

12．．．斜面

13．．．淨化水

20．．．防止研削液飛散單元

23．．．氣體供給噴嘴

θ₁ ．．．入射角

θ₂ ．．．淨化水的噴射方向和端面的切線方向所形成的角

圖1為關於本發明的一實施形態之玻璃基板的研削裝置的平面圖。

圖2為構成玻璃基板的研削裝置之遮蔽板的立體圖。

圖3為構成玻璃基板的研削裝置之淨化噴嘴的要部立體圖。

圖4為圖1所示之玻璃基板的研削裝置的要部A-A剖面圖。

圖5為用於說明淨化噴嘴在垂直方向上的定向形態之研削裝置的要部擴大剖面圖。

圖6所示為用於說明對玻璃基板進行平面視的狀態下的淨化噴嘴的定向形態之研削裝置的要部擴大平面圖。

圖7所示為對遮蔽板的作用進行說明之研削裝置的要部平面圖。

圖8為用於對淨化噴嘴的作用進行說明之研削裝置的要部平面圖。

圖9為一體地具有遮蔽板和研削液供給噴嘴及淨化噴嘴之防止研削液飛散單元的立體圖。

圖10為具有防止研削液飛散單元之端面研削裝置的要部平面圖。

1．．．端面研削裝置

2．．．玻璃基板

2a．．．端面

3．．．磨石

4．．．接觸部

5．．．研削液供給噴嘴

6．．．遮蔽板

7．．．淨化噴嘴

8．．．罩殼

8a．．．開口部

Claims (13)

1. 一種玻璃板的端面研削裝置，包括：磨石，藉由旋轉並與玻璃板的端面相接觸，而對該端面進行研削；研削液供給部，對該磨石和前述玻璃板的端面之接觸部供給研削液；以及遮蔽板，遮蔽前述玻璃板的平面以免接觸到被供給到前述接觸部的研削液；該玻璃板的端面研削裝置的特徵在於：前述遮蔽板具有由前述玻璃板的平面中央側包圍前述接觸部之包圍部，且前述包圍部在對前述玻璃板平面的平面視圖下，具有沿著前述磨石的外周面之彎曲形狀；該包圍部的一端在較前述接觸部更靠近前述磨石的旋轉方向前方側，與前述玻璃板的端面相交差並延伸。
2. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，前述包圍部位於前述玻璃板的兩面側。
3. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，前述包圍部具有用於插通前述玻璃板的含有前述端面的一部分之縫隙。
4. 如申請專利範圍第1或2項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，採用這樣的構成，即：在挾持前述包圍部且與前述磨石相反側的位置上，設置著噴射淨化流體的淨化噴嘴，並使淨化流體供給至前述遮蔽板和前述玻璃板之間的間隙中。
5. 如申請專利範圍第4項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，對前述淨化噴嘴的設置角度進行設定，以使前 述淨化流體通過前述包圍部和前述玻璃板之間的間隙而到達前述玻璃板。
6. 如申請專利範圍第4項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，前述淨化噴嘴分別配置在前述玻璃板的兩面側。
7. 如申請專利範圍第1或2項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，還具有至少收納前述磨石和前述研削液供給部的罩殼，該罩殼在規定的端面上具有開口部，用於插通前述玻璃板的一部分，使該玻璃板的前述端面可與前述磨石相接觸。
8. 如申請專利範圍第4項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，還具有至少收納前述磨石和前述研削液供給部的罩殼，該罩殼在規定的端面上具有開口部，用於插通前述玻璃板的一部分，使該玻璃板的前述端面可與前述磨石相接觸。
9. 如申請專利範圍第7項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，採用使前述玻璃板為水平姿勢而進行加工的構成。
10. 如申請專利範圍第8項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，採用使前述玻璃板為水平姿勢而進行加工的構成。
11. 如申請專利範圍第4項所述的玻璃板的端面研削裝置，其中，使具有前述包圍部的遮蔽板和前述淨化噴嘴單元化。
12. 一種玻璃板的端面研削方法，是一種藉由使磨石旋 轉並與玻璃板的端面相接觸而進行該端面的研削之方法，在對前述磨石和前述玻璃板的前述端面之接觸部供給研削液，且設置用於遮蔽前述玻璃板的平面的遮蔽板以免接觸到被供給到前述接觸部的前述研削液之狀態下，進行前述端面的研削；該研削方法的特徵在於，前述遮蔽板具有由前述玻璃板的平面中央側包圍前述接觸部的包圍部，且前述包圍部在對前述玻璃板平面的平面視圖下，具有沿著前述磨石的外周面之彎曲形狀；該包圍部的一端在較前述接觸部更靠近前述磨石的旋轉方向前方側，與前述玻璃板的端面相交差並延伸。
13. 如申請專利範圍第12項所述的玻璃板的端面研削方法，其中，採用這樣的構成，即，在挾持前述包圍部且與前述磨石相反側的位置上，設置著噴射淨化流體的淨化噴嘴，並使淨化流體供給至前述遮蔽板和前述玻璃板之間的間隙中。