TWI435799B - 聚合物薄膜之製造設備及製造方法 - Google Patents

Description

聚合物薄膜之製造設備及製造方法

本發明關於聚合物薄膜之製法。

醯化纖維素薄膜係自醯化纖維素而形成。例如，特別是三乙酸纖維素(以下簡稱TAC)薄膜係由乙醯化程度58.0%至62.5%之範圍的TAC所形成。由於具有強度及易燃性，TAC薄膜被用來做為薄膜材料(如感光性材料)之薄膜基底。此外，TAC薄膜之光學各向同性優異，而因此可用來做為近年來市場逐漸增大之液晶顯示器的保護膜。

TAC薄膜通常藉由溶液流延法製造，相較於其他薄膜製造方法(如融熔擠出法)，其中所製造之薄膜的物理性質更佳地優異，例如光學性質等。溶液流延法，係將聚合物溶解於其中二氯甲烷或乙酸甲酯為主要溶劑成分之混合物溶劑，因而製備做為聚合物溶液之塗布液。然後將塗布液從流延模流延在支撐體上，以形成流延薄膜，同時在流延模與支撐體之間形成塗布液之熔珠。在流延薄膜具有自撐性質時，自支撐體將流延薄膜撕除做為濕膜。將濕膜乾燥並捲繞。(見日本發明與革新協會期刊(JIII)之技術揭露No.2001－1745)。

溶液流延法中，為了進行流延薄膜之乾燥，將乾空氣施加至流延薄膜的表面。然而，在施加乾空氣的某些方式中，流延薄膜的表面條件有時會變差。因此，日本專利公開公告第11－123732號教示一種TAC薄膜之製法，其中使用之塗布液的溶劑含量為至少300重量%。在此情形中，當乾燥流延薄膜之表面時，在一分鐘內從流延薄膜蒸發的溶劑含量降低為至多300重量%/分鐘。因此表面平滑度變高。

在流延位置將塗布液排出並接觸支撐體表面。在流延位置與開始施加乾空氣的位置之間的區域，自然產生類似風的空氣運動。因此流延薄膜的表面條件變差，且有時在表面上發生線條狀或點狀圖案，即不均勻。在日本專利公開公告第2004－314527號中，配置一空氣遮蔽板，以在支撐體移動方向從流延模至下游之約1000毫米的區域內側覆蓋流延薄膜因而防止了空氣運動吹向流延薄膜之表面。

然而，在公告第11－123732號之方法中，使得流延薄膜之乾燥素度變慢，因此薄膜生產力減低。此外，公告第2004－314527號中，移動支撐體以具有對空氣遮蔽板之相對速度。因而在配置空氣遮蔽板的區域發生風。結果流延薄膜的表面條件亦變差。

本發明的一個目的為提供一種聚合物薄膜的製造設備與製造方法，其藉由形成平滑的流延薄膜來增加聚合物薄膜的平滑度。

為了達成此目的及其他目的，本發明的聚合物薄膜之製造設備包括一移動支撐體、一用來將含聚合物與有機溶劑之流延塗布液流延在支撐體上之流延模、及一用來對流延薄膜饋入乾燥空氣的空氣饋入裝置(其配置成與支撐體相對)。支撐體與空氣饋入裝置之間的距離為20毫米至300毫米之範圍。該製造設備具有用來乾燥藉由剝除流延薄膜所得之聚合物薄膜的乾燥設備。

較佳為空氣饋入裝置具有盒狀外型，其底部具有用來饋入空氣之噴嘴，且該距離即為支撐體至底部之間的高度。特佳為，在將乾燥空氣之風速敘述為V(米/秒)且高度為H(米)時，定義為α＝V/H^1/2 的α值為20至150之範圍。此製造設備特佳為包括根據風速V移動空氣饋入裝置的移動裝置，且更特別是用來控制風速V與移動裝置之位置的控制裝置。

在本發明較佳之具體實施例中，空氣饋入裝置具有朝向支撐體移動方向之空氣出口，且該距離為支撐體至該空氣出口上緣之高度。特佳為，在將乾燥空氣之風速敘述為V(米/秒)且高度為H(米)時，定義為α＝V/H^1/2 的α值為20至150之範圍。此製造設備特佳為包括根據風速V移動空氣饋入裝置的移動裝置，且更特別是用來控制風速V與移動裝置之位置的控制裝置。

在另一較佳具體實施例中，從形成聚合物薄膜到將乾燥空氣施加至流延薄膜之時間為至多15秒。特佳為施加乾燥空氣至少3秒。

在本發明之聚合物薄膜的製造方法中，將含有聚合物與有機溶劑之塗布液流延至支撐體上以形成流延薄膜，並使用距離支撐體20毫米至300毫米之空氣饋入裝置將乾燥空氣饋至流延薄膜。使得流延薄膜可具有一具有比未乾燥內部層之表面張力較大的外部層。乾燥藉由剝除聚合物薄膜而得之聚合物薄膜。

較佳為空氣饋入裝置具有盒狀外型，其底部具有用來饋入空氣之噴嘴，且該距離即為支撐體至底部之間的高度。特佳為，在將乾燥空氣之風速敘述為V(米/秒)且高度為H(米)時，定義為α＝V/H^1/2 的α值為20至150之範圍。

在本發明較佳之具體實施例中，空氣饋入裝置具有朝向支撐體移動方向之空氣出口，且該距離為支撐體至該空氣出口上緣之高度。特佳為，在將乾燥空氣之風速敘述為V(米/秒)且高度為H(米)時，定義為α＝V/H^1/2 的α值為20至150之範圍。

在另一較佳具體實施例中，從形成聚合物薄膜到將乾燥空氣施加至流延薄膜之時間為至多15秒。特佳為施加乾燥空氣至少3秒。

較佳為乾燥空氣之溫度為40℃至150℃之範圍。

根據本發明，將乾燥空氣自距離支撐體20毫米至300毫米之空氣饋入裝置饋至流延薄膜，然後乾燥流延薄膜的上部以形成表面層，其表面張力比內部層高。因此流延薄膜之表面變得平滑，因而所製造之薄膜的平滑度變大。

本具體實施例之聚合物，可使用已知用於薄膜生產的聚合物。例如，較佳為醯化纖維素，特佳為三乙醯纖維素(TAC)。TAC可由棉絨或木漿，或分別得自棉絨與木漿之材料的混合物予以製造，而且TAC較佳為自棉絨製得。較佳為醯化纖維素的醯基對纖維素之羥基上氫原子的取代度滿足下式(I)－(III)全部。在此些式(I)－(III)中，A為醯化纖維素的醯基對纖維素之羥基上氫原子的取代度，B為在各醯基具有之碳原子數為3至22時，醯基對氫原子的取代度。應注意的是，至少90質量%之TAC為具有0.1毫米至4毫米之直徑的顆粒。

此外，用於本發明之聚合物不限於醯化纖維素。

構成具有β－1,4鍵之纖維素的葡萄糖單元在第二、第三及第六位置具有自由羥基。醯化纖維素為一種其中藉酯化將一部份或所有羥基之氫原子以具有至少兩個碳原子之醯基取代之聚合物。醯化程度為第二、第三、第六位置羥基之酯化程度。在各羥基中，如果酯化為100%，則醯化程度為1。

在此，如果醯基係取代葡萄糖單元中第二位置之氫原子，則將醯化程度稱為DS2(第二位置之醯化取代程度)，及如果醯基係取代葡萄糖單元中第三位置之氫原子，則將醯化程度稱為DS3(第三位置之醯化取代程度)。此外，如果醯基係取代葡萄糖單元中第六位置之氫原子，則將醯化程度稱為DS6(第六位置之醯化取代程度)。醯化程度總和DS2＋DS3＋DS6，較佳為2.00至3.00，特別是2.22至2.90，而且特別是2.40至2.88。此外，DS6/(DS2＋DS3＋DS6)較佳為至少0.28，特別是至少0.30，而且特別是0.31至0.34。

在本發明中，醯化纖維素中醯基之數量及種類可為僅一種或至少二種。如果有至少兩種之醯基，則其中一者較佳為乙醯基。如果第二、第三及第六位置羥基之氫原子係經乙醯基取代，則將總取代程度稱為DSA，及如果第二、第三及第六位置羥基之氫原子係經乙醯基以外之醯基取代，則將總取代程度稱為DSB。在此情形，DSA＋DSB值較佳為2.22至2.90，特別是2.40至2.88。此外，DSB較佳為至少0.30，而且特別是至少0.7。根據DSB，在第六位置之取代百分比對在第二、第三及第六位置為至少20%。然而，此百分比較佳為至少25%，特別是至少30%，而且最特別是至少33%。此外，醯化纖維素之第六位置的DSA＋DSB較佳為至少0.75，特別是至少0.80，而且特別是至少0.85。在使用這些種類之醯化纖維素之情形，可製造具有較佳溶解度之溶液(或塗布液)，此溶液特別是對非氯型有機溶劑具有較佳溶解度。此外，在使用上述醯化纖維素時，所製造之溶液具有低黏度及良好之過濾力。

在醯化纖維素中，具有至少2個碳原子之醯基可以是脂族基或芳族基。此醯化纖維素為，例如，醯化纖維素之烷基羰基酯與烯基羰基酯。此外，有芳族羰基酯、芳族烷基羰基酯等，而且這些化合物可具有取代基。至於此化合物之較佳實例有丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、辛醯基、癸醯基、十二碳醯基、十三碳醯基、十四碳醯基、十六碳醯基、十八碳醯基、異丁醯基、第三丁醯基、環己烷羰基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等。其中，特佳之基為丙醯基、丁醯基、十二碳醯基、十八碳醯基、第三丁醯基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等，而且特佳之基為丙醯基與丁醯基。

此外，用於製備塗布液之溶劑，有芳族烴類(例如苯、甲苯等)、鹵化烴類(例如二氯甲烷、氯仿、氯苯等)、醇類(例如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、二乙二醇等)、酮類(例如丙酮、甲乙酮等)、酯類(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯等)、醚類(例如四氫呋喃、甲基賽珞蘇等)等。應注意的是，塗布液為一種其中將聚合物等溶解於或分散於溶劑中而得之聚合物溶液或分散液。

溶劑較佳為具有1至7個碳原子之鹵化烴，而且特別是二氯甲烷。然後，就醯化纖維素之溶解度、流延薄膜自支撐體之剝除力、薄膜之機械強度、薄膜之光學性質等而言，較佳為將一或多種具有1至5個碳原子之醇類與二氯甲烷混合。醇類含量對全部溶劑較佳為2質量%至25質量%之範圍，而且特別是在5質量%至20質量%之範圍。具體而言，有甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等。其中醇類之較佳實例為甲醇、乙醇、正丁醇、或其混合物。

順帶一提，近年來為了將對環境之影響降低至最小，已積極考慮不使用二氯甲烷之溶劑。為了達成此目的，其較佳為具有4至12個碳原子之醚類、具有3至12個碳原子之酮類、具有3至12個碳原子之酯類及具有1至12個碳原子之醇類，而且亦可適當地使用其混合物。此等醚類、酮類、及酯類可具有環結構。此外，亦可使用具有至少兩種醚、酮、酯、與醇之官能基(即，-O-、-CO-、-COO-、與-OH)的化合物作為溶劑。

應注意的是，醯化纖維素之詳細敘述描述於日本專利公開公告第2005-104148號之[0140]至[0195]段，而且此公告之敘述可應用於本發明。應注意的是，溶劑與添加劑之添加材料(如塑性劑、退化抑制劑、UV吸收劑、光學各向異性控制劑、遲滯控制劑、染料、消光劑、釋放劑、剝除加速劑等)之詳細敘述描述於日本專利公開公告第2005-104148號之[0196]至[0516]段。

[塗布液製法]

如第1圖所示，塗布液生產線10係由用於儲存溶劑之溶劑槽11、用於在其中混合TAC與混合溶劑之混合槽12、用於供應TAC之加料漏斗13、及用於儲存添加劑之添加劑槽14所構成。此外，具有用於加熱潤漲液體25之加熱器15(詳述於以下)、用於控制所製備之聚合物溶液溫度的溫度控制器16、及過濾裝置17。此外，有用於濃縮聚合物溶液之閃蒸裝置30、及過濾裝置31。另外，具有用於回收溶劑蒸氣之回收裝置32、及用於精製並回收溶劑之精製裝置33。塗布液生產線10係經原料槽41連接至薄膜生產線40。

在塗布液生產線10中，依以下順序製造塗布液27。在打開閥18時，將溶劑自溶劑槽11送入混合槽12。藉由調整閥18控制溶劑量。然後將加料漏斗13中的TAC饋入混合槽12。之後打開閥19以將所需量之添加劑液體自添加劑槽14饋入混合槽12。

將添加劑饋入混合槽的方式不限於以上敘述。如果添加劑在室溫為液體時，其可以液體狀態饋入混合槽12而不需製備為添加溶液。此外，當添加劑在室溫為固體時，其可使用加料漏斗13以固體狀態饋入混合槽12。如果使用複數種添加劑組成物，其可將其中溶解數種添加劑之溶液累積於添加劑槽14。否則，亦可使用複數個各含不同添加劑之溶液的添加劑槽，其係經由獨立管線饋入混合槽12。

在以上說明中，將溶劑、TAC與添加劑依序饋入混合槽12中。然而，饋入次序不限於此。例如，可在將預定數量之TAC饋入混合槽12後，可進行饋入預定數量的溶劑與添加劑以獲得TAC溶液。此外，其未必需要預先將添加劑置入混合槽12中，且添加劑可在之後的程序中加入TAC與溶劑之混合化合物。

混合槽12具有覆蓋於混合槽12外表面之夾套20、藉馬達21轉動之第一攪拌器22、及以馬達23轉動之第二攪拌器24。第一攪拌器22較佳為具有固定輪葉，及第二攪拌器24較佳為溶解器型同心攪拌器。夾套20具有用來控制在夾套中流動的熱轉移介質之溫度的溫度控制裝置。因而控制混合槽12之內部溫度。內部溫度較佳為－10℃至55℃之範圍。適當地選擇第一攪拌器22與第二攪拌器24中至少之一用來進行攪拌。因此，獲得其中TAC在溶劑中潤漲之混合物25。

驅動泵26使混合槽12中之膨脹液體25饋入加熱器15(其較佳為具夾套之管)。此外，較佳為加熱裝置15加壓混合物25。同時混合物25係連續地僅在加熱條件下或是同時在加熱及加壓條件下進行TAC之溶解，使混合物25可為聚合物溶液。應注意，聚合物溶液可為其中聚合物完全溶解之溶液或其中聚合物潤漲之潤漲溶液。此外，混合物25之溫度較佳為50℃至120℃。除了使用加熱裝置15之熱溶解法，亦可使混合物25在－100℃至－30℃冷卻以進行溶解，其係已知的冷卻溶解法。在此具體實施例中，可根據材料之性質選擇熱溶解法或冷卻溶解法，以控制溶解度。因此可使TAC對溶劑之溶解度足夠。將聚合物溶液饋至溫度控制器16以將溫度控制為接近室溫。

接著將聚合物溶液饋至過濾裝置31，以自聚合物溶液移除雜質。過濾裝置31之過濾材料較佳為具有至多100微米的平均公稱直徑。在過濾裝置31中之過濾流率較佳為至少50公升/小時。將過濾後之聚合物溶液經由閥28饋至原料槽41。

可使用聚合物溶液作為用於薄膜製造之流延塗布液27，其將解釋於下。然而，在其中製備潤漲溶液後進行TAC溶解之方法中，如果其係設計為製造高濃度的聚合物溶液，則其用於製造此塗布液之時間變長。因而生產成本變高。因此，其較佳為首先製造比預定值的濃度低之聚合物溶液，然後再進行聚合物溶液之濃縮。在此具體實施例中，在過濾後將聚合物溶液經由閥28饋入閃蒸裝置30。在閃蒸裝置30中，溶劑在其中被部分地蒸發。藉由冷凝器(未示)將蒸發所產生之溶劑蒸氣予以冷凝至液體狀態，然後藉由回收裝置32回收。將回收之溶劑藉由精製裝置33循環且再使用。根據此方法，由於生產效率提高且溶劑為再使用，因此可降低成本。

聚合物溶液在如上敘述的濃縮之後，藉由泵34從閃蒸裝置30取出此外，為了移除聚合物溶液中所產生之泡沫，較佳為進行除泡處理。已知數種用於除泡的方法，例如超因波法。然後將聚合物溶液饋至過濾裝置17，其中移除未溶解之物質。應注意，在過濾裝置17中聚合物溶液之溫度較佳為0℃至200℃之範圍。在過濾之後，將聚合物溶液儲存於原料槽41，其具有藉由馬達60轉動之攪拌器61。轉動攪拌器61以持續攪拌流延塗布液27。

[溶液流延法]

在此參照第2圖敘述用於製造本發明薄膜之溶液流延法的具體實施例。然而，本發明並非限於此具體實施例。如第2圖所示，薄膜生產線40包括原料槽41、過濾裝置63、流延模42、支撐輥44、45、藉由支撐輥44、45支撐之流延帶46、與拉幅裝置48。此外，具有邊緣切割裝置50、乾燥室51、冷卻室52、與捲繞室53。

原料槽41具有藉由馬達60轉動之攪拌器61。原料槽41將塗布液生產線10連接至薄膜生產線40，同時經由泵62與過濾裝置63連結至流延模42。

從原料槽41將流延塗布液27饋出，並藉由流延模42在流延帶46上流延以形成流延薄膜69。在流延模42之下游具有藉由將乾空氣饋出至流延薄膜69以乾燥流延薄膜69的乾燥裝置43。此外，在流延模42與乾燥裝置43之間有迷宮式封閉54。此迷宮式封閉54防止自乾燥裝置饋出之乾空氣流向流延模42。

支撐輥44、45係藉由驅動裝置(未示)轉動。依照轉動，流延帶46在行進方向(或移動方向)X上循環行進或移動。流延帶之行進速度較佳為10米/分鐘至200米/分鐘之範圍，特別是15米/分鐘至150米/分鐘，尤其是20米/分鐘至120米/分鐘。如果流延速度小於10米/分鐘，則薄膜生產力不高。如果流延速度大於200米/分鐘，則排出之流延塗布液27無法在流延模42與流延帶46之間穩定地形成熔珠，其引起流延薄膜69表面之惡化情形。

為了將流延帶46之表面溫度控制為預定值，較佳為提供熱轉換介質循環機70。較佳為藉由自支撐輥44、45之熱傳遞將流延帶46之表面溫度調整為－20℃至40℃之範圍。在此具體實施例中，熱轉換介質的路徑(未示)係形成在支撐輥44、45中，且熱轉換介質之溫度係經由路徑藉由熱轉換介質循環機70予以控制。因而將支撐輥44、45之溫度維持在預定值。

流延帶46之寬度與長度並無特別限制。但是流延帶46之寬度較佳為流延寬度的1.1至2.0倍大。長度較佳為20米至200米，且厚度為0.5毫米至2.5毫米。較佳為研磨其表面，以具有至多0.05毫米之表面粗度。流延帶46較佳為由不銹鋼製成，且特別是SUS316以具有足夠的腐蝕及強度抗性。整個流延帶46之厚度不均勻度至多為0.5%。

應注意，可使用支撐輥44、45之一作為支撐體。在此情形時，輥較佳為高精密轉動，使得轉動之顫動為至多0.2毫米。因此表面粗度較佳為至多0.01微米。此外，較佳為對鼓實施鍍鉻，使得鼓可具有足夠之硬度及耐性。如上所述，較佳為支撐體之表面缺陷必須減低至最少。具體而言，每1平方米中，其沒有至少30微米之針孔，至少10微米且小於30微米之針孔為至多一個，且小於10微米之針孔至多兩個。

流延模42、流延帶46等係包括在流延室64中。在流延室64中提供一溫度控制裝置65以將流延室64之溫度控制為預定值，及提供一冷凝器66用來冷凝蒸發之有機溶劑。此外，在流延室64外具有一回收裝置67用來回收冷凝之有機溶劑。在此具體實施例中，具有一減壓室68用來控制熔珠後側之壓力。因而穩定流延塗布液之熔珠形成。

在間隔段80中，具有用來將溫度為預定值之乾空氣饋入的鼓風機81。此外，在拉幅裝置48之下游具有邊緣切割裝置50，其連接有一壓碎機90用來壓碎薄膜82之切割邊緣部分的尖端。應注意，拉幅裝置48之解釋將於後敘述。

乾燥室51具有許多個輥91。此外，乾燥室51附有吸收裝置92用來吸收來自薄膜82之溶劑蒸發所產生的溶劑蒸氣。此外，在乾燥室51之下游，具有用來冷卻薄膜82的冷卻室52。另外，可提供濕度控制室以調整在乾燥室與冷卻室52之間濕度。

在冷卻室52的下游，有強制中和裝置(或中和棒)93將薄膜82的帶電靜電勢消除至預定值(例如在－3kV至＋3kV之範圍內)。中和步驟之位置並不限於本具體實施例。例如，此位置可以是在乾燥區段或滾花輥94下游中之預定位置，不然中和亦可在複數個位置進行。在中和之後，藉由滾花輥進行薄膜82兩側部分的浮雕，以提供滾花。此外，在捲繞室53中具有用來捲繞薄膜82的捲繞軸95與用來控制捲繞中薄膜之張力的壓力輥96。應注意，從浮雕的底部至頂部之浮雕高度為1微米至200微米之範圍。

如第3A圖所示，乾燥裝置43包括空氣導管55與用來將乾空氣56饋至空氣導管55的空氣饋入器57。空氣導管55之出口係設置在流延帶46之行進方向(X方向)。

空氣導管55為盒狀外型，且具有將空氣饋入器之乾空氣饋入其中的第一室5及第二室，經由其將排出之乾空氣吸入空氣導管55。在第一室5中，具有用來將乾空氣56饋出的噴嘴55b，以從面對流延帶46上之流延薄膜69的底部55a突出。此外，第二室6具有一接近噴嘴55b之出口的入口55c，並經由入口55c將乾空氣吸入。噴嘴55b之末端在流延帶46之寬度上延伸且噴嘴55b之數目為至少一個。此外，如果噴嘴55b之數目為至少兩個，則其被排列在流延帶46之行進方向X上。乾空氣56經由噴嘴55b從空氣導管饋出，因而施加至流延薄膜69，因此流延薄膜之上部比下部更加地乾燥。接著部分之乾空氣56經由入口55c抽至空氣導管55。由於乾空氣56施加至流延薄膜69之暴露表面，因此從流延薄膜69之暴露表面側有溶劑之蒸發。因此，如第3B圖所示，在施加乾空氣56後，由於上部已妥善乾燥，因此流延薄膜69具有內層69a與表面層69b(其中溶劑含量低於內層69a)。因此，表面層69之表面張力大於內層69a，因而流延薄膜69之薄膜表面平滑度變大。此外，在以下步驟中，由於表面層69b已經形成，因此內層69之溶劑含量逐漸地降低。當將流延薄膜69從流延待46剝除時，流延薄膜69中之固體材料含量變為大約50%，使得流延薄膜69可具有自撐性質。應注意，入口55c係配置在行進方向X於噴嘴55b的下游。但是，入口55c亦可配置相反側，即配置在行進方向X於噴嘴55b的上游。此外，亦可不提供入口55c。

本發明中，從流延帶46至空氣導管55之底部55a之高度H為20毫米至300毫米之範圍，使得表面層69b具有平坦表面。因此製造之薄膜具有良好的表面狀態。此外，在本發明中，如果乾空氣56之風速描述為V(米/秒)，則定義為α＝V/H^1/2 的α值較佳為20至150之範圍，使得表面層69b可具有平坦表面。應注意，乾空氣56之風速V為在空氣導管55出口之風速。此外，在本具體實施例中，風速V被認為是在流延帶46與空氣導管55之間的空間59之風速，雖然事實上風速V與在空間59之風速有微小的差異。如果不將風速V視為在空間59之風速，則可在空間59之預定位置提供一風速計。在此情況下，藉由控制器等來控制風速。

此外，有一些形成表面層69b之條件。從在流延帶46之流延位置P形成流延薄膜69到將乾空氣56施加至流延薄膜69之時間較佳為至多15秒，特別是至多5秒，尤其是至多3秒。此外，在形成流延薄膜69後，較佳為施加乾空氣56至流延薄膜69至少3秒、至多15秒。另外，乾空氣56之溫度較佳為40℃至150℃，特別是80℃至145℃，尤其是100℃至140℃。如果溫度小於40℃，則從流延薄膜69蒸發溶劑無法進行，因此流延薄膜69中之溶劑含量難以減低。如果溫度高於150℃，則蒸發太快而在流延薄膜69發生起泡。總之，在此兩種情況下，均難以形成表面層69b。

乾燥裝置43進一步具有控制器58、作為數據輸入裝置的鍵盤100、作為數據顯示器的顯示器101、與將空氣導管切換為方向Y之切換裝置102。鍵盤100與顯示器101連接至控制器58。控制器58係進一步連接至用來將乾空氣饋至空氣導管55的空氣饋入器57，且具有用來記憶鍵盤100之輸入數據的記憶裝置(未示)。如果在鍵盤100上輸入數據，則控制器58會控制乾空氣56之風速V並驅動切換裝置102，以將空氣導管切換至切換方向Y，即向上與向下之方向。欲輸入之數據包括風速V及α值。操作員將α值設定在20至150之範圍，使得製造之薄膜成為最平坦，然後將α值在鍵盤100上輸入。然後，考慮環境條件(例如，溫度、濕度等)將風速V在鍵盤100上輸入至控制器58。接著控制器58根據式H^1/2 ＝V/α(得自α＝V/H^1/2 )計算值H^1/2 ，將所得之H^1/2 值提高至第二能量。因此得到高度H。然後控制器58驅動切換裝置102將空氣導管55切換至所得之高度H值之位置。

例如，有一個其中已輸入α值與風速V之值V1的情況。在此情況下，如果輸入一個比值V1大之風速值V2，則切換裝置102將空氣導管55切換至向上。否則，如果輸入一個比值V1小之值V3，切換裝置102將空氣導管切換至向下。在此實施例中，如果改變值α與乾空氣56之風速V，則即使製造條件改變，製造之薄膜仍可具有高品質。應注意，高度H可輸入控制器58使得可驅動切換裝置102。然而，在此情況下，為了使流延薄膜69之表面平坦，高度係設定在20毫米至300毫米之範圍。

如第4A及4B圖所示，乾燥裝置43具有其中提供空氣導管105的乾燥裝置143。空氣導管105之出口104係配置在行進方向X之方向。在此具體實施例中，經由從空氣導管105之出口104饋出乾空氣106來將流延薄膜69乾燥。此外，從流延帶46至出口106最上端之高度H1為20毫米至300毫米之範圍。應注意，如第3圖所示將同樣的數目施加至同樣的組件。

在本發明之溶液流延法中，有多種流延複數種塗布液之方法，例如共流延法及系列流延法。在共流延法中，於本具體實施例中可將一進料方塊附加至流延模，或可使用多岐管型流延模(未示)。在具有多層結構之薄膜的製造中，將複數種塗布液流延至支撐體上以形成具有第一層(最上層)與第二層(最下層)之流延薄膜。且於所製造之薄膜中，第一層之厚度與相對於它的第二層之厚度中的至少一者為總膜厚的0.5%至30%。此外，當指定實施共流延時，以較低黏度的塗布液夾持較高黏度之塗布液。具體而言，較佳為用來形成表面層的塗布液的黏度比用來形成被表面層夾持的層之黏度較低。此外，當指定為共流延時，較佳為在膜狹縫(或膜脣)與支撐體之間的熔珠之醇組成為兩外側塗布液高於內側塗布液。

在此具體實施例中，產物薄膜之寬度較佳為1400毫米至2500毫米之範圍。然而，即使寬度大於2500毫米，仍可得本發明之效果。此外，產物薄膜之厚度較佳為20微米至100微米之範圍，特別是30微米至90微米，尤其是40微米至80微米。

日本專利公開公告第2005－104148號的[0617]至[0889]詳述了流延模的結構、減壓室、支撐體等，且進一步關於共流延、剝除、拉伸、各步驟之乾燥條件、處理方法、捲曲、整平後之捲繞方法、溶劑回收法、與薄膜回收法。其敘述可應用於本發明。

[特性與測量方法]

(捲曲程度及厚度)日本專利公開公告第2005－104148號在[0112]至[0139]敘述捲許醯化纖維素薄膜之特性及其測量方法。該特性與測量方法可應用於本發明。

[表面處理]

醯化纖維素薄膜較佳為在至少一表面之表面處理後使用於數種用途。較佳之表面處理為真空輝光放電、在大氣壓力下電漿放電、UV射線照射、電暈放電、火燄處理、酸處理與鹼處理。其進一步較佳為進行此等表面處理中之一種。

[功能層]

(抗靜電層、捲曲層、抗反射層、易黏著層、及抗眩層)醯化纖維素薄膜可在其至少一個表面上提供底塗層，且可用於數種用途。

較佳為使用醯化纖維素薄膜作為基底薄膜，且在其上可提供至少一種功能層。較佳之功能層為抗靜電層、硬化樹脂層、抗反射層、易黏著層、抗眩層、與光學補償層至少之一。

形成表面功能層以在醯化纖維素薄膜中之條件及方法詳述於日本專利公開公告第2005－104148號之[0890]至[1087]段，其可應用於本發明。因此，製得之薄膜可具有數種功能及性質。

此等功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種界面活性劑。此外，功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種潤滑劑。功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種消光劑。功能層較佳為含1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種抗靜電劑。

(各種用途)製得之醯化纖維素薄膜可有效地做為偏光濾色片用保護膜。在偏光濾色片中，將醯化纖維素薄膜黏附至偏光片。通常將兩片偏光濾色片黏附至液晶層以製造液晶顯示器。應注意，液晶層及偏光濾色片之排列不限於此，而且已知可有數種排列。日本專利公開公告第2005－104148號詳細揭示液晶顯示器之TN型、STN型、VA型、OCB型、反射型、及其他型式。此敘述可應用於本發明。此外，在此公告第2005－104148號中敘述具有光學各向異性層及具有抗反射與抗眩功能之醯化纖維素薄膜。此外，由於雙軸醯化纖維素薄膜具有適當之光學特性，因而製得之薄膜可用來當作光學補償膜。再者，此光學補償膜可做為偏光濾色片之保護膜。其詳細敘述於第2005－104148號公告的[1088]至[1265]。

在形成本發明之聚合物薄膜之方法中，形成之醯化纖維素薄膜具有優異之光學特性。此TAC薄膜可用來當作偏光濾色片之保護膜、感光性材料之基底膜等。此外，為了改良液晶顯示器(用於電視等)之視角依附性，亦可將製造之薄膜用為光學補償膜。尤其是，當其使用兩層作為偏光濾光片之保護膜時，製造之薄膜有效地被使用。因此，此薄膜不只在先前模式的TN型中被使用，亦可用於IPS型、OCB型、VA型等。此外，可構形偏光濾色片使具有保護膜作為構件。

進行本發明之實驗，且以下將詳述實驗中之實施例1至6與比較例1至4。實施例1至6與比較例1至4之薄膜製造條件均相同，除了在流延後立即乾燥流延薄膜表面之乾燥條件。

[實驗]

實施例1至6與比較例1至4之製造條件如下：

<塗布液之組成>

根據本實驗中使用的三乙酸纖維素，乙酸殘餘含量為至多0.1質量%，Ca含量為58 ppm，Mg含量為42 ppm，Fe含量為0.5 ppm，游離乙酸為40 ppm，及硫酸離子含量為15 ppm。第6位置處之乙醯化程度為0.91，及第6位置處乙醯基對所有乙醯基之百分比為32.5%。丙酮萃取物為8質量%，及重量平均分子量對數量平均分子量之比例為2.5。此外，黃化指數為1.7，霧值為0.08，及透明度為93.5%。Tg(藉DSC測量)為160℃，及結晶之卡值為6.4焦耳/克。此三乙酸纖維素係由得自棉之材料做為纖維素予以合成，且在以下解釋中稱為棉TAC。

(1)塗布液之製備使用具有第一與第二攪拌器之不鏽鋼製、體積4000公升之溶解槽製備聚合物溶液。在溶解槽內混合複數種溶劑而得到混合溶劑。在進行混合溶劑之攪拌時，將三乙酸纖維素薄片從加料漏斗逐漸加至混合溶劑，而使混合物溶液與三乙酸纖維素薄片之總質量為2000公斤。應注意，在各溶劑成分中之水含量為至多0.5質量%。攪拌係藉由使用具有固定葉片的第一攪拌器與溶解型同心軸第二攪拌器來進行。首先，第一攪拌器以米/秒之圓週速率(剪切應力為9.8×104米/秒)進行攪拌，且第二攪拌器一開始以5米/秒之剪切速率進行攪拌。因此在攪拌期間進行分散30分鐘。在25℃開始溶解，且分散液溫度最後為48℃。分散之後，停止高速攪拌(第二攪拌器)，且以第一攪拌器之圓週速率為0.5米/秒攪拌100分鐘。因而潤漲三乙酸纖維素薄片，而得潤漲溶液。至潤漲結束時，使用氮氣使混合槽之內部壓力增加至0.12MPa。此時混合槽中之氫濃度為小於2體積%，其不引起爆炸。此外，聚合物溶液中之水含量為0.3質量%。

(2)溶解與過濾將混合物25饋至加熱裝置15。使其完全溶解。加熱時間為15分鐘。藉由溫度控制裝置將混合物25之溫度降低至36℃，然後通過具有公稱直徑8微米之過濾材料的過濾裝置予以過濾。

(3)冷凝、過濾、與除泡將聚合物溶液饋至溫度與壓力控制在80℃及大氣壓下之閃蒸裝置30，以進行聚合物溶液之閃蒸。藉由冷凝器將溶劑蒸氣冷凝為液體狀態，並藉由回收裝置32回收。閃蒸後，聚合物溶液中之固體化合物含量為21.8質量%。應注意，回收溶劑係藉由精製裝置33回收並再使用。在閃蒸裝置30之閃蒸槽之中心軸提供有固定葉片，藉由固定葉片以0.5米/秒之圓周速度轉動攪拌聚合物溶液。閃蒸槽中聚合物溶液之溫度為25℃，聚合物溶液在閃蒸槽中的停留時間為50分鐘。

然後藉由照射非常微弱的超音波進一步進行去泡沫。之後在施加1.5MPa之壓力下以泵將聚合物溶液饋至過濾裝置31。在過濾裝置31中，聚合物溶液首先饋經公稱直徑10微米的燒結纖維金屬過濾器，接著通過公稱直徑10微米的相同過濾器。在前方與後面的過濾器中，其上游側之濾壓分別為1.5MPa與1.2MPa，且下游側的濾壓分別為1.0MPa與0.8MPa。過濾後聚合物溶液的溫度控制為36℃，並儲存在體積2000公升的不鏽鋼原料槽41中做為塗布液27。原料槽41之中心軸提供有固定葉片，而且藉由此固定葉片以0.3米/秒之圓週速率恆攪拌塗布液27。應注意，當聚合物溶液進行濃縮時，並非總是發生接觸裝置中之聚合物溶液之部分或區域之腐蝕。

此外，用來製備添加液的混合物溶劑A含有86.5質量份的二氯甲烷、13質量份的甲醇、與0.5質量份的正丁醇。

(4)排出薄膜在第1圖所示之薄膜生產線40中形成。用來增加一級壓力的泵62為高精密度齒輪泵，且當以變流馬達進行回饋控制時驅動以饋入塗布液27。至於泵62，體積效率為99.2%，及排放量之波動比例為至多0.5%。此外，排放壓力為1.5 MPa。接著通過過濾裝置將塗布液27饋入流延模42。

控制塗布液27靠近流延模42之模口的流率，使乾燥薄膜厚度為80微米，同時塗布液27之黏度為20 Pa．s。自模口之塗布液27的流延寬度為1700微米。流延速度為20公尺/分鐘。此外，流延模42提供有夾套(未示)。在夾套之入口的熱轉換介質溫度控制為36℃，使得塗布液27之溫度可控制為36℃。

流延模42為塗架型，其中在螺距20毫米配置有熱螺栓以調整薄膜之厚度。因此藉由熱螺栓自動地調整薄膜厚度(或塗布液厚度)。可基於事先設定程式，依照高精確度齒輪泵之流率設定外形。因此藉由控制程式，依照配置於薄膜生產線40上紅外線厚度計(未示)的外形，可以進行反饋控制。

在流延模42上游具有減壓室68。減壓室68之減壓速率係調整根據流延速度來控制，使得流延模上之塗布液的熔珠在上游與下游區域間之壓力差可以在1 Pa至5000 Pa之範圍。此時，測定塗布液之熔珠的兩側之壓力差，使得流延熔珠之長度為20毫米至50毫米。此外，流延帶46之行進方向的上游側之壓力較下游側低150 Pa。再者，可提供一儀器使減壓室68之溫度可設定為比流延部分附近氣體之冷凝溫度較高。此外，流延模42提供有邊緣吹氣裝置(未示)以控制流延熔珠邊緣部分之不穩定。調整邊緣吹氣裝置，使風之流率可在1公升/分鐘至100公升/分鐘之範圍。在此具體實施例中，調整邊緣吹氣裝致使流率可以在30公升/分鐘至40公升/分鐘之範圍。另外，減壓室68具有夾套(未示)，其中饋入35℃之熱轉換介質。因此將減壓室68之內部溫度維持在預定值。

(5)流延薄膜之乾燥

將流延塗布液27在流延帶46上流延以形成流延薄膜69。之後，在本實驗中改變三個條件，即，從在流延帶46上之流延位置P形成流延薄膜到對流延薄膜69施加乾空氣56之時間T、乾空氣56之風速V(米/秒)、及高度H。實驗之條件與結果將於後詳述。根據除了時間T、風速V與高度H之外的乾燥條件，乾空氣之溫度為60℃，溶劑蒸氣的百分比為16%及流延室64中之溫度係藉由溫度控制裝置65維持在35℃。此外，靠近流延模42隻固定壓漲落係藉由迷宮式密封控制在±1。

(6)支撐輥與流延帶

將5℃之熱轉換介質饋入在流延模側的支撐輥45，並將40℃之熱轉換介質饋入在另一側的支撐輥44。恰在流延前之流延帶46中間區域的溫度為15℃，及兩側區域的溫差為至多6℃。

流延帶46為寬度2.1米、長度70米的循環(endless)鋼帶。流延帶46的厚度為1.5毫米，且流延帶46之表面為經研磨使得表面粗度為至多0.05微米。材質為SUS316，其具有足夠的腐蝕抗性及強度。流延帶46整體之厚度不均勻度至多為預定值的0.5%。藉由轉動支撐輥44、45移動流延帶46。此時，流延帶46的張力被控制在1.5×10⁵ 牛頓/平方米。此外，改變各輥對流延帶46之相對速度。然而，在本實驗中，進行控制使得支撐輥44、45之間的相對速度差為至多0.01米/分鐘。此外，進行控制使得流延帶46的速度改變至多為預定值的0.5%。以偵測側端之位置來控制流延帶在寬度方向之位置，使得移動之流延帶46在一個循環中之扭曲降低至1.5毫米內。

當流延薄膜69之溶劑含量按乾基計成為50質量%時，藉由輥75從流延帶46剝除流延薄膜69做為濕膜74。此外，剝除張力為1×10² 牛頓/平方米。為了減少剝除缺陷，將剝除速度(剝除輥之拉引)對流延帶46之速度的百分比控制在100.1%至110%。濕膜74之表面溫度為15℃。藉由－10℃之冷凝器66將蒸發中產生的溶劑蒸氣冷凝為液體狀態，並藉由回收裝置67回收。將回收溶劑之水含量調整為至多0.5%。此外，將移除溶劑成分之空氣再次加熱，並再次用於乾空氣。

(7)拉幅機傳輸、乾燥、切割將饋入拉幅裝置48的濕膜74傳輸至拉幅裝置48的乾燥區，並且使用乾空氣予以乾燥，同時以拉幅夾固定濕膜74的兩側邊緣。藉由饋入20℃之熱轉換介質以控制拉幅夾的溫度。拉幅夾的轉移係使用鏈來進行，且扣鏈齒輪的波動為至多0.5%。

拉幅裝置48被分為三個區域。從上游開始在各區域中之乾燥空氣的溫度為90℃、110℃、120℃。拉幅裝置48中之平均乾燥速度按乾基計為120質量%/米。控制各區域中的條件，使得在拉幅裝置48出口處之薄膜82中殘留溶劑含量為7質量%。在拉幅裝置48中，在進行傳輸時實行濕膜74在寬度方向之拉伸。如果在拉幅裝置48之前的薄膜寬度百分比定義為100%，則在拉幅裝置48之後薄膜的拉伸比例為103%。此外，在輥75與拉幅裝置48之間在長度方向拉伸濕膜74。拉伸比例之百分比為102%。

根據在拉幅裝置48中之拉伸比，在距離夾子夾持位置的至少10毫米處，兩位置間的實際拉伸比為至多10%；在距離夾持位置的至少20毫米處，兩位置間的實際拉伸比為至多5%。在拉幅裝置48的側邊緣部分，長度(其中已進行固定)比例為90%。拉幅裝置48中產生的溶劑蒸氣在-10℃冷凝為液體狀態並回收。為了冷凝，提供一冷凝器(未示)，及在其出口之溫度為-8℃。回收溶劑之水含量控制在至多0.5質量%，然後將回收溶劑再使用。從拉幅裝置48將濕膜74饋出成為薄膜82。

在從拉幅裝置48輸出之30秒內，於邊緣切割裝置50中切除兩側邊緣部分。在本實驗中，將濕膜74在寬度方向側邊緣的50毫米部分定義為側邊緣部分，其係藉由邊緣切割裝置50的TN型裁減器切除。藉由施加來自鼓風機(未示)之鼓風將切除的側邊緣部分送至壓碎機90，並且壓碎成約80平方毫米的碎片。將碎片用來再使用當作原料、與TAC薄片一起用於塗布液製造。將拉幅裝置48之乾空氣的氧濃度維持在5體積%。應注意，為了將氧濃度維持在5體積%，以氮氣置換空氣。在於乾燥室51高溫乾燥之前，在預熱室(未示，其中供應100℃之熱空氣)中進行薄膜82的預熱。

(8)乾燥與中和薄膜82在乾燥室64中於高溫乾燥，其中乾燥室被分為四個部分。鼓風機(未示)吹入各部分之鼓風從上游開始分別為120℃、130℃、130℃、與130℃。各輥91對薄膜82之運輸張力為100牛頓/米。進行乾燥十分鐘，使殘留溶劑含量成為0.3質量%。在輥4之餘面角(lapping angle)為90°與180°。輥91係由鋁或碳鋼製造。對其表面施加鍍硬鉻。輥91之表面為平滑表面或藉由消光處理之噴砂處理。輥轉動的波動為50微米。此外，在張力100牛頓/米中輥91的彎曲降為至多0.5毫米。

含於乾燥空氣之溶劑氣體係藉使用吸附裝置92移除，其中使用吸附劑。吸附劑為活性碳並藉使用無水氮實行脫附。將所回收溶劑之水含量調整為至多0.3質量%後，將所回收溶劑再用於塗布液製備。乾燥空氣不僅含有溶劑蒸氣，亦含塑性劑、UV吸收劑、及高沸點物質。因此，使用藉冷卻移除之冷卻裝置及前吸附器移除該等。因此可將乾燥空氣再使用。設定吸附及脫附條件使得廢氣中VOC(揮發性有機化合物)變成至多10 ppm。此外，在全部蒸氣溶劑中，藉冷凝法回收之溶劑量為90質量%，且大部份之殘留溶劑蒸氣係藉吸附回收。

將薄膜82運輸至第一濕度控制室(未示)。在乾燥室64與第一濕度控制室中間之區段饋入110℃之乾空氣。在第一濕度控制室中饋入溫度50℃且露點20℃之空氣。此外，將薄膜82饋入第二濕度控制室(未示)其中降低薄膜82捲曲。在第二濕度控制室中將溫度90℃及濕度為70%之空氣施加於薄膜82上。

(9)滾紋與捲曲在調整濕度後，將薄膜82在冷卻裝置52中冷卻至至多30℃，然後進行邊緣切割。提供強制中和裝置(中和棒)93，以在運輸時使薄膜之帶電電位為－3 kV至＋3 kV之範圍。此外，其藉滾紋輥94對薄膜82表面之兩個側邊進行薄膜滾紋。施加滾紋之寬度為10毫米，且設定滾紋壓力使得薄膜表面之底部至頂部的高度為較平均薄膜厚度高至多12微米。

將薄膜82運輸至捲繞室110中，其內部溫度及濕度分別維持在28℃及70%。此外，提供有強制中和裝置(未示)，以將薄膜的帶電電位保持在－1.5 kV至＋1.5 kV之範圍。所得薄膜為厚度80微米且寬度1900毫米。捲繞軸95的直徑為169毫米。設定張力格式(pattern)使捲繞張力開始為300牛頓/米，且在最後為200牛頓/米。薄膜82之整體長度為3940米。捲繞位錯之循環為400公尺，及震盪寬度為±5毫米。捲繞溫度開始時為25℃、水含量為1.4質量%、且殘留溶劑含量為0.3質量%。此外，不發生捲繞鬆散及皺折，即使在10G衝擊測試下薄膜在薄膜輥(roll)中不會傳送。此外，輥外觀良好。

將薄膜82之薄膜輥在55% RH之儲存架於25℃儲存一個月。然後以如上之相同方式進行檢查，但是沒發現薄膜狀況的顯著改變。此外，在薄膜輥中沒發生薄膜之黏附。在製造薄膜82後，在流延帶46上並沒有發現塗布液所形成之流延薄膜69的任何部分。

<薄膜表面之評價>在實施例1至6與比較例1至4中，時間T、乾空氣56之風速V、及高度H設定如下，以目視製造之薄膜82之表面狀態來進行薄膜表面之評價。

在實施例1中，時間T為3秒、風速V為20米/秒、及高度H為0.02米。α值為141.4。

在實施例2中，時間T為5秒、風速V為7米/秒、及高度H為0.02米。α值為49.5。

在實施例3中，時間T為5秒、風速V為12米/秒、及高度H為0.05米。α值為53.7。

在實施例4中，時間T為10秒、風速V為7米/秒、及高度H為0.05米。α值為31.3。

在實施例5中，時間T為5秒、風速V為12米/秒、及高度H為0.20米。α值為26.8。

在實施例6中，時間T為10秒、風速V為7米/秒、及高度H為0.12米。α值為20.0。

在比較例1中，時間T為30秒、風速V為20米/秒、及高度H為0.02米。α值為141.4。

在比較例2中，時間T為5秒、風速V為30米/秒、及高度H為0.02米。α值為212.1。

在比較例3中，時間T為3秒、風速V為3米/秒、及高度H為0.20米。α值為6.7。

在比較例4中，時間T為10秒、風速V為7米/秒、及高度H為0.50米。α值為9.9。

本實驗中薄膜82之表面條件的評價將示於表1。

在本發明中可以有各種改變與修正，且可藉由本發明被瞭解。

10．．．塗布液生產線

11．．．溶劑槽

12．．．混合槽

13．．．加料漏斗

14．．．添加劑槽

15．．．加熱器

16．．．溫度控制器

17．．．過濾裝置

18．．．閥

19．．．閥

20．．．夾套

21．．．馬達

22．．．第一攪拌器

23．．．馬達

24．．．第二攪拌器

25．．．潤漲液體

26．．．泵

27．．．塗布液

28．．．閥

30．．．閃蒸裝置

31．．．過濾裝置

32．．．回收裝置

33．．．精製裝置

34．．．泵

40．．．薄膜生產線

41．．．原料槽

42．．．流延模

43．．．乾燥裝置

44．．．支撐輥

45．．．支撐輥

46．．．流延帶

48．．．拉幅裝置

50．．．邊緣切割裝置

51．．．乾燥室

52．．．冷卻室

53．．．捲繞室

54．．．迷宮式封閉

55．．．空氣導管

55a．．．底部

55b．．．噴嘴

55c．．．入口

56．．．乾空氣

57．．．空氣饋入器

58．．．控制器

59．．．空間

60．．．馬達

61．．．攪拌器

62．．．泵

63．．．過濾裝置

64．．．流延室

65．．．溫度控制裝置

66．．．冷凝器

67．．．回收裝置

68．．．減壓室

69．．．流延薄膜

69a．．．內層

69b．．．表面層

70．．．熱轉換介質循環機

74．．．濕膜

75．．．輥

80．．．間隔段

81．．．鼓風機

82．．．薄膜

90．．．壓碎機

91．．．輥

92．．．吸附裝置

93．．．強制中和裝置

94．．．滾紋輥

95．．．捲繞軸

96．．．壓力輥

100．．．鍵盤

101．．．顯示器

102．．．切換裝置

104．．．出口

105．．．空氣導管

106．．．出口

143．．．乾燥裝置

第1圖為本發明之塗布液生產線的略示圖。

第2圖為薄膜生產線的略示圖。

第3A圖為薄膜生產線中乾燥裝置之具體實施例的略示圖。

第3B圖為藉由第3A圖中乾燥裝置乾燥的流延薄膜的分解圖。

第4A圖為塗布液生產線中乾燥裝置的另一具體實施例之略示圖。

第4B圖為藉由第4A圖中乾燥裝置乾燥的流延薄膜的分解圖。

42．．．流延模

43．．．乾燥裝置

45．．．支撐輥

46．．．流延帶

54．．．迷宮式封閉

55．．．空氣導管

55b．．．噴嘴

55c．．．入口

56．．．乾空氣

57．．．空氣饋入器

58．．．控制器

59．．．空間

68．．．減壓室

69．．．流延薄膜

69a．．．內層

69b．．．表面層

100．．．鍵盤

101．．．顯示器

102．．．切換裝置

Claims (10)

1. 一種聚合物薄膜之製造裝置，其包括：移動之支撐體；流延模，其係用於將含有聚合物與有機溶劑之流延塗布液在該支撐體上流延，以形成流延薄膜；空氣饋入器，其係配置為與該支撐體相對而用來對該流延薄膜進給乾燥空氣，該支撐體與該空氣饋入器之間的距離係在20毫米至300毫米之範圍內；與乾燥裝置，其係用於將藉由剝除該流延薄膜而得之聚合物薄膜乾燥，其中該空氣饋入器具有盒狀外型其底部提供有用來進給空氣之噴嘴；該距離為支撐體至底部之間的高度，及在乾燥空氣之風速描述為具有單位為米/秒之V及高度為具有單位為米之H時，定義為α=V/H^1/2 之α值係在20至150之範圍內；或該空氣饋入器具有朝向支撐體之移動方向的空氣出口；該距離為支撐體至該空氣出口之上緣的高度，及在乾燥空氣之風速描述為具有單位為米/秒之V及高度為具有單位為米之H1時，定義為α=V/(H1)^1/2 之α值係在20至150之範圍內。
2. 如申請專利範圍第1項之製造裝置，其進一步包括根據風速V而移動空氣饋入器之切換裝置。
3. 如申請專利範圍第2項之製造裝置，其進一步包括用來控制風速V與移動裝置之位置的控制器。
4. 如申請專利範圍第1項之製造裝置，其進一步包括在流延模與空氣饋入器之間提供的迷宮式封閉(labyrinth sealing)。
5. 如申請專利範圍第1項之製造裝置，其中從形成聚合物薄膜到供應乾燥空氣至流延薄膜之時間為至多15秒。
6. 如申請專利範圍第5項之製造裝置，其中乾燥空氣係供應至少3秒。
7. 一種聚合物薄膜之製造方法，其包括下列步驟：使支撐體移動；將含有聚合物與有機溶劑之塗布液流延至該移動之支撐體，以形成流延薄膜；使用距離支撐體20毫米至300毫米之空氣饋入器將乾燥空氣進給至該流延薄膜，使得該流延薄膜可具有一具有比未乾燥之內部層的表力張力大之表面層；及將藉由剝除該流延薄膜而得之該聚合物薄膜乾燥，其中該空氣饋入器具有盒狀外型其底部提供有用來進給空氣之噴嘴；該距離為支撐體至底部之間的高度，及在乾燥空氣之風速描述為具有單位為米/秒之V及高度為具有單位為米之H時，定義為α=V/H^1/2 之α值係在20至150之範圍內；或該空氣饋入器具有朝向支撐體之移動方向的空氣出口；該距離為支撐體至該空氣出口之上緣的高度，及在乾燥空氣之風速描述為具有單位為米/秒之V及高度為具 有單位為米之H1時，定義為α=V/(H1)^1/2 之α值係在20至150之範圍內。
8. 如申請專利範圍第7項之製造方法，其中從形成聚合物薄膜到供應乾燥空氣至流延薄膜之時間為至多15秒。
9. 如申請專利範圍第8項之製造方法，其中乾燥空氣係供應至少3秒。
10. 如申請專利範圍第7項之製造方法，其中乾燥空氣的溫度係在40℃至150℃之範圍內。