TWI424191B - 在干涉調變器中用於抑制鏡子偏斜的方法及裝置 - Google Patents

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Description

在干涉調變器中用於抑制鏡子偏斜的方法及裝置
本發明大體上係關於微機電系統(MEMS)，且更特定言之係關於干涉調變器及包含該等干涉調變器之顯示裝置。
微機電系統(MEMS)包括微機械元件、致動器及電子產品。微機械元件可使用沉積、蝕刻及/或可蝕刻掉基板及/或沉積材料層之部分或可添加層以形成電氣裝置及機電裝置之其它微機械加工方法來製造。一類MEMS裝置被稱為干涉調變器。如本文中所使用的，術語干涉調變器或干涉光調變器係指一種使用光學干涉原理選擇性地吸收及/或反射光之裝置。在某些實施例中，一干涉調變器可包含一對傳導板，該等傳導板中之一者或其兩者可為全部或部分透明及/或反射性的，且能在施加一適當電訊號時作出相對運動。在一特定實施例中，一個傳導板可包含一沉積在一基板上之穩定層，且另一個傳導板可包含一由一氣隙而與該穩定層分離之金屬薄膜。如本文中更詳細描述的，一個傳導板相對於另一個傳導板之位置可改變入射至干涉調變器上之光的光學干涉。該等裝置具有廣泛的應用範圍，且可在所屬技術領域中有益地利用及/或修正此等類型之裝置的特徵，以使其特徵可用於改良現有產物及製造目前尚未開發之新產品。
本發明之系統、方法及裝置均具有若干態樣，任一單個態樣均不能單獨決定其所期望之屬性。在不限定本發明之範疇之前提下，現將對其更突出之特點作簡要論述。在研究過此論述後，且尤其在閱讀了題為"實施方式"之部分後，吾等即可理解為何本發明之特徵優於其它顯示裝置之優點。
在某些實施例中，一干涉調變器包含一基板。該干涉調變器進一步包含一置於該基板上方之光學層。該光學層至少部分地透射入射光。該干涉調變器進一步包含一置於該基板上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動的鏡子。該第一距離大於該第二距離。該鏡子具有一遠離該基板之表面。該干涉調變器進一步包含當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件。該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
在某些實施例中，一視覺顯示裝置包含複數個干涉調變器。每一干涉調變器包含一基板。每一干涉調變器進一步包含一置於該基板上方之光學層，且該光學層至少部分地透射入射光。每一干涉調變器進一步包含一置於該基板上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動的鏡子。該第一距離大於該第二距離。該鏡子具有一遠離該基板之表面。每一干涉調變器進一步包含當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件。該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
在某些實施例中，一裝置包含用於支撐一干涉調變器之構件。該裝置進一步包含用於至少部分地透射入射光之構件。該至少部分透射構件係置於該支撐構件上方。該裝置進一步包含用於反射光之構件。該反射構件係置於該支撐構件上方且可在一與該至少部分透射構件間隔一第一距離之第一位置與一與該至少部分透射構件間隔一第二距離之第二位置之間移動。該第一距離大於該第二距離。該反射構件具有一遠離該支撐構件之表面。該裝置進一步包含用於穩定該反射構件之構件。該穩定構件係固定的且經配置以在該反射構件處於該第一位置時將該反射構件保持在一所要定向中。當該反射構件處於該第一位置時，該穩定構件接觸該反射構件之該表面。
在某些實施例中，一種方法減少一干涉調變器中之一鏡子的運動。該方法包含提供一包含一基板之干涉調變器。該干涉調變器進一步包含一置於該基板上方且至少部分地透射入射光之光學層。該干涉調變器進一步包含一置於該基板上方且具有一遠離該基板之表面的可移動鏡子。該干涉調變器進一步包含一固定部件。該方法進一步包含在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動該鏡子。該第一距離大於該第二距離。該方法進一步包含：當該鏡子處於該第一位置時，使該鏡子之該表面與該固定部件接觸，藉此在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
在某些實施例中，一種方法形成一干涉調變器。該方法包含提供一基板。該方法進一步包含提供一置於該基板上方且至少部分地透射入射光之光學層。該方法進一步包含提供一置於該基板上方且具有一遠離該基板之表面的可移動鏡子。該鏡子可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動。該第一距離大於該第二距離。該方法進一步包含提供一在該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的固定部件。該固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
在某些實施例中，一部件減少一干涉調變器中之一鏡子的運動。該部件包含一經配置以抑制一干涉調變器中之該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分。該部件進一步包含經配置以抑制一干涉調變器中之該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分。
在某些實施例中，一部件減少一干涉調變器中之一鏡子的運動。該部件包含用於抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的構件。該部件進一步包含用於抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的構件。
在某些實施例中，一方法減少一干涉調變器中之一鏡子的運動。該方法包含提供一包含一固定部件之干涉調變器。該固定部件包含一經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分。該固定部件進一步包含經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分。該方法進一步包含：當該鏡子處於一第一位置時使該鏡子之一表面與該固定部件接觸，藉此在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
在某些實施例中，一方法形成一經配置以抑制一干涉調變器之一可移動鏡子之運動的固定部件。該方法包含提供包含該可移動鏡子之該干涉調變器。該方法進一步包含形成一經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分。該方法進一步包含形成經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分。
以下詳細描述係針對本發明之某些特定實施例。然而，本發明可以多種不同方式實施。在此描述中，將參看附圖，其中相似部件自始至終以類似數字表示。自以下描述將不難發現，該等實施例可在經配置以運動地(例如，視訊)或靜止地(例如，靜止影像)及以文本或圖片之形式顯示一影像之任何裝置中實施。更特定言之，預期該等實施例可在下列多種電子裝置中實施或與其相關聯，諸如(但不限於)行動電話、無線裝置、個人數位助理(PDA)、掌上型或攜帶型電腦、GPS接收器/導航儀、照相機、MP3播放器、攝錄像機、遊戲控制臺、手錶、時鐘、計算器、電視監視器、平板顯示器、電腦屏幕、汽車顯示器(例如，里程表顯示器等)、駕駛艙控制器及/或顯示器、照相機圖像顯示器(例如，車輛之後視照相機顯示器)、電子照片、電子告示牌或標誌、投影儀、建築結構、包裝及美學結構(例如，一件珠寶的影像顯示器)。具有與本文中所述之彼等結構相似之結構的MEMS裝置亦可用於諸如電子轉換裝置之非顯示器應用中。
於圖1中說明一個包含一干涉MEMS顯示元件之干涉調變器顯示器實施例。在此等裝置中，像素處於明亮狀態或黑暗狀態中之任一者。在明亮("接通"或"打開")狀態下，顯示元件將大部分入射可見光反射給使用者。在黑暗("斷開"或"關閉")狀態下，顯示元件將少量入射可見光反射給使用者。視實施例而定，可使"接通"及"斷開"狀態之光的反射性質顛倒。MEMS像素可經配置以主要反射選定色彩之光，從而允許除黑色及白色之外的彩色顯示。
圖1為描繪一視覺顯示器之一系列像素中之兩個相鄰像素的等角視圖，其中每一像素包含一MEMS干涉調變器。在一些實施例中，一干涉調變器顯示器包含一列陣列/行陣列之此等干涉調變器。每一干涉調變器包括一對反射層，該等兩個反射層係彼此相距一可變且可控制距離定位以形成一具有至少一可變尺寸的光學共振腔。在一實施例中，該等反射層之一可在兩個位置之間移動。在第一位置(本文中稱其為鬆弛位置)中，該可移動層係與一固定部分反射層相距一相對較大距離定位。在第二位置(本文中稱其為觸發位置)中，該可移動反射層係更緊密地鄰近該部分反射層定位。由該等兩個層反射之入射光可視該可移動反射層之位置而發生相長干涉或相消干涉，從而產生每一像素之全部反射(overall reflective)或不反射狀態。
圖1中描繪之部分像素陣列包括兩個相鄰的干涉調變器12a及12b。在左側的干涉調變器12a中，說明了一可移動反射層14a，其處於一與一包括一部分反射層之光學堆疊16a相距一預定距離之鬆弛位置處。在右側的干涉調變器12b中，說明了可移動反射層14b，其處於一與該光學堆疊16b相鄰之觸發位置處。
本文中所參考之光學堆疊16a及16b(其共同稱為光學堆疊16)通常包含若干個熔融層，該等熔融層可包括一電極層(諸如氧化銦錫(ITO))、一部分反射層(諸如鉻)及一透明介電層。因此，該光學堆疊16係導電的、部分透明的及部分反射的且可(例如)藉由將一或多個上述層沉積在一透明基板20上來製造。在一些實施例中，該等層被圖案化成平行條，且如下文所進一步描述的，該等層可形成一顯示裝置中之列電極。該等可移動反射層14a、14b可形成為沉積在支柱18頂部上之一或多個沉積金屬層(垂直於與16a、16b之列電極)及沉積在支柱18之間的介入犧牲材料的一系列平行條。當將犧牲材料蝕刻掉時，該等可移動反射層14a、14b係藉由一經界定之間隙19而與該等光學堆疊16a、16b分離。諸如鋁之高導電反射性材料可用於該等反射層14，且此等條可形成一顯示裝置中之行電極。
如圖1中之像素12a所說明的，由於未施加電壓，空腔19保持在該可移動反射層14a與光學堆疊16a之間，且該可移動反射層14a處於一機械鬆弛狀態下。然而，當將一電位差施加至一選定之列及行時，形成於相應像素之列電極與行電極之交叉處的電容器得以充電，且靜電力使該等電極聚在一起。若電壓足夠高，則該可移動反射層14發生形變且壓迫該光學堆疊16。如圖1中右側之像素12b所說明的，該光學堆疊16內之一介電材料(此圖中未說明)可防止短路並控制層14與16之間的分離距離。無論所施加之電位差的極性如何，該行為均相同。以此方式，可控制反射－不反射像素狀態之列/行觸發在很多方面類似於習知LCD及其它顯示技術中所使用之列/行觸發。
圖2至圖5說明在一顯示器應用中使用一干涉調變器陣列的一個例示性方法及系統。
圖2為說明可併有本發明之態樣之一電子裝置之一實施例的系統方塊圖。在該例示性實施例中，該電子裝置包括一處理器21，其可為任何通用的單晶片或多晶片微處理器，諸如一ARM、Pentium、Pentium II、Pentium III、Pentium IV、PentiumPro、一8051、一MIPS、一Power PC、一ALPHA，或其可為任何專用微處理器，諸如數位訊號處理器、微控制器或可程式化閘陣列。如此項技術中習知的，該處理器21可經配置以執行一或多個軟體模組。除執行一操作系統外，該處理器可經配置以執行一或多個軟體應用程式，其包括網路瀏覽器、電話應用程式、電子郵件程式或任何其它軟體應用程式。
在一實施例中，該處理器21亦可經配置以與一陣列驅動器22通訊。在一實施例中，該陣列驅動器22包括為一顯示器陣列或面板30提供訊號之一列驅動器電路24及一行驅動器電路26。圖2中之線1－1展示出圖1中所說明之陣列的橫截面。對於MEMS干涉調變器而言，列/行觸發協定可利用圖3中所說明之此等裝置的滯後性質。可能需要(例如)一10伏特的電位差以使一可移動層自鬆弛狀態變形至觸發狀態。然而，當電壓自該值降低時，該可移動層在電壓下降至10伏特之下時仍保持其狀態。在圖3之例示性實施例中，該可移動層直到電壓降至2伏特之下才完全鬆弛。因此，在圖3中所說明之實例中存在一約3到7 V的電壓範圍，在該電壓範圍中存在一外施電壓窗口，在該窗口中該裝置在鬆弛狀態或觸發狀態下均係穩定的。在本文中將此窗口稱為"滯後窗口"或"穩定窗口"。對於一具有圖3之滯後特徵之顯示器陣列而言，列/行觸發協定可經設計以使在列選通期間，待觸發之選通列中之像素被曝露至一約10伏特的電壓差下，且待鬆弛之像素被曝露至一接近0伏特的電壓差下。選通後，該等像素被曝露至一約5伏特的穩態電壓差下，使得其保持在列選通使其所處的任何狀態。在被寫入後，此實例中之每一像素均經歷3－7伏特之"穩定窗口"內的一電位差。此特點使圖1中說明之像素設計在相同的外施電壓條件下穩定在一預先存在之觸發或鬆弛狀態。由於干涉調變器之每一像素無論是處於觸發狀態還是鬆弛狀態，其基本上皆為一由固定反射層及運動反射層形成之電容器，故此穩定狀態可在滯後窗口內之一電壓下得以保持而幾乎無功率耗散。若所施加之電位為固定的，則基本上無電流流入該像素中。
在典型應用中，可藉由根據第一列中所要之觸發像素組確定行電極組來建立一顯示框。隨後將一列脈衝施加至列1電極，從而觸發對應於已確定行線路之像素。隨後改變已確定行電極組以對應第二列中之所要觸發像素組。隨後將一脈衝施加至列2電極，從而根據已確定行電極來觸發列2中之適當像素。該列1像素不受列2脈衝影響且保持其在列1脈衝期間被設定之狀態。可按一順序方式在列之整個系列中重複此過程以產生圖框。一般而言，此等圖框係藉由以所要圖框數目/秒之速度連續重複此過程用新的顯示資料來刷新及/或更新。用於驅動像素陣列之列電極及行電極以產生顯示框之各種協定亦係眾所周知的，且其可與本發明結合使用。
圖4及圖5說明用於在圖2之3×3陣列上建立一顯示框的一個可能觸發協定。圖4說明可用於展現圖3之滯後曲線之像素的一組可能的行電壓及列電壓位準。在圖4之實施例中，觸發一像素涉及將適當行設定為－V偏 壓 及將適當列設定為＋△V，－V偏 壓 及＋△V可分別對應於－5伏特及＋5伏特。鬆弛像素係藉由將適當行設定為＋V偏 壓 且將適當列設定為相同＋△V，在像素上產生一零伏電特位差來達成。在列電壓保持為0伏特的彼等列中，無論該等行是處於＋V偏 壓 還是－V偏 壓 ，該等像素穩定於其最初所處之任何狀態。亦如圖4中所說明的，應瞭解，可使用相反極性之電壓而不是彼等上述電壓，例如，觸發一像素可涉及將適當行設定為＋V偏 壓 ，且將適當列設定為－△V。在此實施例中，像素之釋放係藉由將適當行設定為－V偏 壓 且將適當列設定為同樣之－△V，在像素上產生一零伏特電位差來實現。亦如圖4中所說明的，應瞭解，可使用相反極性之電壓而不是彼等上文所述之電壓，例如，觸發一像素可涉及將適當行設定為＋V偏 壓 及將適當列設定為－△V。在此實施例中，像素之釋放係藉由將適當行設定為－V偏 壓 及將適當列設定為同樣之－△V，在像素上產生一零伏特電位差來實現。
圖5B為展示施加至圖2之3×3陣列之一系列列及行訊號的時序圖，該等列訊號及行訊號導致圖5A中所說明之顯示配置，其中觸發像素為不反射的。在寫入圖5A中所說明之框之前，該等像素可處於任何狀態，且在此實例中，所有列均處於0伏特且所有行均處於＋5伏特。由於此等外施電壓，所有像素均穩定於其當前觸發狀態或鬆弛狀態。
在圖5A中之框中，像素(1,1)、(1,2)、(2,2)、(3,2)及(3,3)被觸發。為達成此目的，在列1之"線時間(line time)"期間，將行1及行2設定為－5伏特且將行3設定為＋5伏特。因為所有像素均保持在3－7伏特之穩定窗口中，所以此操作不改變任何像素之狀態。隨後利用一自0伏特上升至5伏特、然後又下降回至0伏特之脈衝來選通列1。此操作觸發像素(1,1)及(1,2)且使像素(1,3)鬆弛。該陣列中之其它像素皆不受影響。為按所要地設定列2，可將行2設定為－5伏特，且將行1及行3設定為＋5伏特。施加至列2之相同選通脈衝將隨後觸發像素(2,2)並使像素(2,1)及(2,3)鬆弛。同樣，該陣列中之其它像素皆不受影響。列3係藉由將行2及行3設定為－5伏特及將行1設定為＋5伏特而類似地加以設定。如圖5A中所示，列3之選通脈衝設定列3像素。在寫入該框後，列電位為0，且行電位可保持在＋5伏特或－5伏特，且該顯示器隨後係穩定在圖5A所示之配置。應瞭解，相同程序可用於由數十或數百個列及行構成的陣列。亦應瞭解，用以執行列觸發及行觸發之電壓之時序、序列及位準可在上述一般原理內廣泛變化，且上述實例僅為例示性的，且任何觸發電壓方法皆可用於本文中所描述之系統及方法。
圖6A及圖6B為說明一顯示裝置40之一實施例的系統方塊圖。該顯示裝置40可為(例如)一蜂巢式電話或行動電話。然而，顯示裝置40之相同組件或其輕微變化亦可說明各種類型之顯示裝置，諸如電視及攜帶型媒體播放器。
該顯示裝置40包括一外殼41、一顯示器30、一天線43、一揚聲器44、一輸入裝置48及一麥克風46。該外殼41通常係由彼等熟習此項技術者所熟知之多種製造方法(包括射出成形及真空成形)中之任何一種來形成。另外，該外殼41可由多種材料中之任何一種製成，該等材料包括(但不限於)塑膠、金屬、玻璃、橡膠及陶瓷或其組合物。在一實施例中，該外殼41包括可與具不同色彩或含有不同標誌、圖片或符號之其它可移除部分互換的可移除部分(未圖示)。
如本文中所述的，例示性顯示裝置40之該顯示器30可為包括雙穩態顯示器之多種顯示器中之任何一種。在其它實施例中，如彼等熟習此項技術者所熟知的，該顯示器30包括一平板顯示器，諸如，上述之電漿、EL、OLED、STN LCD或TFT LCD；或一非平板顯示器，如CRT或其它電子管裝置。然而，出於描述本實施例之目的，如本文中所述的，該顯示器30包括一干涉調變器顯示器。
於圖6B中示意地說明例示性顯示裝置40之一實施例之組件。所說明之例示性顯示裝置40包括一外殼41且可包括至少部分地密封於該外殼41內之額外組件。舉例而言，在一實施例中，該例示性顯示裝置40包括一網路介面27，該網路介面27包括一耦接至一收發器47之天線43。該收發器47係連接至一與調節硬體52相連之處理器21。該調節硬體52可經配置以調節一訊號(例如，對訊號進行濾波)。該調節硬體52係連接至一揚聲器44及一麥克風46。該處理器21亦被連接至一輸入裝置48及一驅動器控制器29。該驅動器控制器29係耦接至一圖框緩衝器28且耦接至一陣列驅動器22，該陣列驅動器22又耦接至一顯示器陣列30。一電源50按該特定例示性顯示裝置40之設計要求為所有組件提供電力。
該網路介面27包括天線43及收發器47，以使該例示性顯示裝置40可經由一網路與一或多個裝置通訊。在一實施例中，該網路介面27亦可具有某些處理功能以減輕對處理器21之要求。該天線43為彼等熟習此項技術者已知之用於發射及接收訊號之任何天線。在一實施例中，該天線根據IEEE 802.11標準(包括IEEE 802.11(a)、(b)或(g))發射及接收RF訊號。在另一實施例中，該天線根據藍芽(BLUETOOTH)標準發射及接收RF訊號。在一蜂巢式電話中，天線被設計成接收CDMA、GSM、AMPS或用於在一無線蜂窩電話網絡中進行通訊之其它已知訊號。該收發器47預處理自該天線43接收之訊號，以使此等訊號可為該處理器21所接收並由其進行進一步處理。該收發器47亦處理自該處理器21接收之訊號，以使該等訊號可經由該天線43自該例示性顯示裝置40發射。
在一替代實施例中，該收發器47可用一接收器來替代。在另一替代實施例中，網路介面27可用一可儲存或產生待發送至該處理器21之影像資料之影像源來替代。舉例而言，該影像源可為含有影像資料之數位影音光碟(DVD)或硬碟機或一產生影像資料之軟體模組。
處理器21通常控制該例示性顯示裝置40之整體運作。該處理器21接收來自該網路介面27或一影像源之諸如壓縮影像資料的資料並將該資料處理成原始影像資料或一種易於處理成原始影像資料之格式。該處理器21隨後將經處理之資料發送至儲存用之該驅動器控制器29或圖框緩衝器28。原始資料通常係指標識一影像內之每一位置處之影像特徵的資訊。舉例而言，該等影像特徵可包括色彩、飽和度及灰度位準。
在一實施例中，該處理器21包括一微控制器、CPU或邏輯單元以控制該例示性顯示裝置40之運作。調節硬體52通常包括用於向該揚聲器45發射訊號及自該麥克風46接收訊號之放大器及過濾器。調節硬體52可為該例示性顯示裝置40內之離散組件或可併入該處理器21或其它組件中。
該驅動器控制器29直接自該處理器21或自該圖框緩衝器28獲得由該處理器21產生之原始影像資料，並將該原始影像資料適當地重新格式化以便高速傳輸至陣列驅動器22。具體言之，該驅動器控制器29將該原始影像資料重新格式化為一具有一光柵類格式之資料流，使其具有一適用於掃描整個顯示器陣列30之時間次序。該驅動器控制器29隨後將格式化之資訊發送至該陣列驅動器22。儘管一驅動器控制器29(諸如，一LCD控制器)經常作為一獨立積體電路(IC)而與系統處理器21相關，但該等控制器可以多種方式實施。其可作為硬體嵌入該處理器21中，作為軟體嵌入該處理器21中，或以硬體形式與該陣列驅動器22完全整合在一起。
通常，該陣列驅動器22自該驅動器控制器29接收格式化之資訊並將視訊資料重新格式化為一組平行波形，該組平行波形每秒被多次地施加至顯示器之x－y像素矩陣的數百條、有時為數千條引線。
在一實施例中，該驅動器控制器29、陣列驅動器22及顯示器陣列30適用於本文中所述之任何類型的顯示器。舉例而言，在一實施例中，驅動器控制器29為一習知顯示控制器或一雙穩態顯示控制器(例如，一干涉調變器控制器)。在另一實施例中，陣列驅動器22為一習知驅動器或一雙穩態顯示驅動器(例如，一干涉調變器顯示器)。在一實施例中，一驅動器控制器29係與該陣列驅動器22整合在一起。此實施例在諸如蜂巢式電話、表及其它小面積顯示器之高度整合系統中很常見。在又一實施例中，顯示器陣列30為一典型的顯示器陣列或一雙穩態顯示器陣列(例如，一包括一系列干涉調變器之顯示器)。
該輸入裝置48允許一使用者控制該例示性顯示裝置40之運作。在一實施例中，輸入裝置48包括一鍵盤(諸如，一QWERTY鍵盤或一電話鍵盤)、一按鈕、一開關、一觸控屏幕、一壓敏或熱敏薄膜。在一實施例中，該麥克風46為該例示性顯示裝置40之一輸入裝置。當該麥克風46用於向該裝置輸入資料時，語音指令可由一使用者來提供以用於控制該例示性顯示裝置40之運作。
電源50可包括此項技術中所熟知之多種能量儲存裝置。舉例而言，在一實施例中，電源50為一可充電電池，諸如鎳鎘電池或鋰離子電池。在另一實施例中，電源50為一可再生能源、一電容器或一包括塑膠太陽能電池及太陽能電池塗料之太陽能電池。在另一實施例中，電源50經配置以自一壁式插座接收電能。
如上所述，在一些實施例中，控制可程式化性存在於一可位於電子顯示系統中之若干位置上的驅動器控制器。在一些狀況下，控制可程式化性存在於該陣列驅動器22中。彼等熟習此項技術者將瞭解，可以任何數目之硬體及/或軟體組件及各種配置來實施上述之最優化。
根據上文陳述之原理運作之干涉調變器之結構的細節可有很大不同。舉例而言，圖7A－7E說明該可移動反射層14及其支撐結構的五個不同實施例。圖7A為圖1之實施例的截面圖，其中一金屬材料條14係沉積在正交延伸之支撐件18上。在圖7B中，該可移動反射層14係僅藉由系鏈32而附著至支撐件之端角。在圖7C中，該可移動反射層14被懸掛在一可包含一可撓金屬之可變形層34上。該可變形層34直接或間接地連接至基板20，環繞該可變形層34之周邊。此等連接件在本文中被稱為支撐柱。圖7D中說明之實施例具有可擱置該可變形層34之支撐柱塞42。如圖7A－7C所示，該可移動反射層14保持懸於空腔上方，但該可變形層34並不藉由填補該可變形層34與該光學堆疊16之間的孔而形成該等支撐柱。實情為，該等支撐柱係由一用以形成支撐柱塞42之平坦化材料形成。圖7E中說明之實施例係基於圖7D中所示之實施例，但其亦可經調適以與圖7A－7C中說明之該等實施例中之任一者以及未圖示之額外實施例一起作用。在圖7E中所示之實施例中，一額外的金屬層或其它導電材料層已被用於形成一匯流排結構44。此允許訊號沿干涉調變器之背面投送，從而消除在其它情況下必須形成於該基板20上的許多電極。
在諸如圖7中所示之彼等實施例之實施例中，該等干涉調變器充當直視裝置，其中自透明基板20之前側檢視影像，該側與上面配置了調變器之側相對。在此等實施例中，該反射層14光學遮蔽在該反射層之與該基板20相對之側上的干涉調變器之部分(包括可變形層34)。此允許該被遮蔽區域在不對影像品質產生負面影響之前提下經配置及運作。此遮蔽允許圖7E中之匯流排結構44，該結構提供將該調變器之光學性質與該調變器之機電性質分離的能力，諸如定址及由該定址引起之運動。此可分離式調變器架構允許選擇用於調變器之機電態樣及光學態樣之結構設計及材料且可彼此獨立地工作。此外，圖7C－7E中所示之該等實施例具有得自將反射層14之光學性質與其機械性質分離之額外益處，此係由可變形層34來執行。此允許相對於光學性質最優化用於反射層14之結構設計及材料，且允許相對於所需之機械性質最優化用於可變形層34之結構設計及材料。
可變形層34之可能配置係展示於圖8A及圖8B中，其描繪自調變器之背面觀察之視圖，該等圖亦可自圖1中所示之調變器之底部看到。在圖8A中，為一可撓薄膜形式之該可變形層34係藉由支撐柱72a－d而支撐在其端角處，該等支撐柱錨定在基板20中及/或基板20上之一層(諸如光學堆疊16)中。在圖7D及圖7E中說明之該等實施例中，該等支撐柱72a－d為支撐柱塞42形式。該可變形層34經由一大的中心背面支撐體74及四個較小的周圍支撐體76a－d連接至由點劃線區分之下層反射層14。該背面支撐體74及該等周圍支撐體76a－d體可包含與支撐柱塞42相同之平坦化材料或任何適合材料。該可變形層34將該反射層14懸在該光學堆疊16上方。
或者，在圖8B中，圖案化該可變形層34以形成連接至每一支撐柱72a－d之薄的直線帶78a－d。該等帶係藉由該中心支撐體74而附著至該反射層14。圖8A及圖8B之配置為許多可能配置中之兩個替代配置。本發明中之有用干涉調變器可包含向該反射層14提供所要之運動自由及所要之該運動的機械特徵的任何配置。
除由分離該反射層14之機械與光學性質提供之自由外，反射層14因一可變形層34而懸掛可代表額外挑戰。舉例而言，懸掛之反射層14可能經受影響干涉調變器之光學性質的運動及/或變形。該等運動可使併有干涉調變器之顯示器的品質降級。舉例而言，當該反射層14處於無約束或靜止位置時，該反射層14可能偏斜及/或翹曲。另外，當該反射層14處於靜止位置時，該反射層14亦可能在橫向及/或旋轉方向上不良運動。在許多實施例中，該反射層14於觸發位置鄰接該光學堆疊16或鄰接一直接或間接位於該光學堆疊16上之層。在此等實施例中，該反射層14之偏斜及/或翹曲通常不會如靜止位置處般頻繁發生。然而，該反射層14在處於觸發位置時仍可能經受諸如橫向及/或旋轉運動之不良運動。此外，該反射層14在處於靜止位置與觸發位置之間的一位置時可能經受不良運動及/或變形。
為改良此態樣，如圖9及圖10中所示，可將一或多個部件90併入干涉調變器之結構中以將該反射層14保持在一允許一所要光學輸出之位置及/或配置。此等一或多個部件在本文中被稱為"抗偏斜部件"90。該等抗偏斜部件90藉由為該反射層14提供穩定該反射層14及/或約束該反射層14之運動範圍的靜止鄰接物或接觸點來抑制反射層14之不良運動及/或變形。舉例而言，在一些實施例中，當該反射層14處於靜止位置時，該等鄰接物接觸該反射層14之頂部表面(意即，該反射層14之該表面遠離該基板20)。以此方式，該等抗偏斜部件90可在該反射層14處於靜止位置時抑制遠離該基板20之反射層14之運動，及/或在該反射層14處於靜止位置時將該反射層14保持在一大體上平行於該光學堆疊16之定向中。在其它實施例中，當該反射層14處於靜止位置時，該等抗偏斜部件90保持該反射層14相對於該光學堆疊16成一固定角(意即，在一非平行定向中)，以便在靜止狀態下產生一所要光學響應。
有利地，當該反射層14處於靜止位置時，該等抗偏斜部件90與該反射層14之間的接觸將該反射層14保持在一大體上之平面定向中，從而抑制該反射層14之翹曲及/或其它不良變形。在一些實施例中，該等抗偏斜部件90經設計以使在反射層14處於靜止位置時，與該(該等)抗偏斜部件90接觸之該反射層14之表面面積的比例最大，從而在反射層14處於靜止位置時提高該等抗偏斜部件90將該反射層14保持在一大體上之平面定向中之能力。用於本發明之干涉調變器中之抗偏斜部件90之數目及/或配置可亦經設計以幫助將該反射層14保持在一大體上之平面定向中。
在一些實施例中，若該反射層14在一由該等一或多個抗偏斜部件90界定之路徑外運動，則該等抗偏斜部件90可藉由接觸該反射層14而佔據界定該反射層14之運動範圍的一或多個固定位置。舉例而言，沿該反射層14之周邊定位的抗偏斜部件90可抑制該反射層14在一大體上平行於該光學堆疊16之方向及/或一旋轉方向上的運動。
該等抗偏斜部件通常可包含任何材料且可佔據允許其執行其所要結構功能之任何位置及/或配置。該等抗偏斜部件之若干實施例將於下文中予以更完整地描述。
圖9為諸如圖7C－7E中所示之彼等干涉調變器之一3×3陣列干涉調變器之背面(意即，與基板20相對之側)的平面圖，其包含一顯示器中之一像素80。在所說明之實施例中，每一干涉調變器包括四個抗偏斜部件，例如90(a)、90(b)、90(c)、90(d)，並且一個抗偏斜部件90將每一干涉調變器之每一側大體上分為兩部分。然而，可使用抗偏斜部件之任何數目及/或配置。諸如抗偏斜部件90(b)及90(c)之定位在相鄰干涉調變器之間的抗偏斜部件90為該等干涉調變器所共用。諸如抗偏斜部件90(a)及90(d)之定位在像素80之周邊周圍的抗偏斜部件由像素80內之一單個干涉調變器使用。然而，該像素80內之干涉調變器之定位並不規定該等抗偏斜部件90之配置。舉例而言，可將額外抗偏斜部件90併入以適合一特定應用。如上文所解釋的，該等抗偏斜部件90可防止該反射層14之不良運動及/或變形，諸如相對於光學堆疊16之一大體上垂直於該基板之方向上之超過一特定高度(間隙)的運動。
雖然圖9中說明之干涉調變器中之每一者與四個抗偏斜部件90關聯，但可使用大於此數目或小於此數目之抗偏斜部件90且仍提供所要之抑制該反射層14之不良運動(諸如翹曲及偏斜)的益處。舉例而言，可將兩個抗偏斜部件90定位在干涉調變器之四側中之兩側(相對側或相鄰側)上(未圖示)。在另一實施例中(未圖示)，該抗偏斜部件90係定位在(例如)干涉調變器之自支撐柱42延伸之端角處(為說明之目的，未圖示光學匯流排結構44)。較佳地，選擇將該等抗偏斜部件90定位在干涉調變器之周邊周圍，從而不干擾角柱42及可變形機械層34。
此外，抗偏斜部件90之數目可因像素80之子像素或子組件，基於(例如)子組件之色彩、空腔之深度、子組件至顯示器之外周長的接近度及/或子組件之材料性質而不同。(例如)彼等反射紅光之越過一空腔而較遠延伸之反射層14或位於一顯示器之周邊上之反射層14的兩者可能比與較淺之光學共振腔關聯或位於該顯示器內部之反射層14更易於翹曲及/或偏斜。此外，一顯示器中之每一像素可包括不同數目之抗偏斜部件90。可使用額外抗偏斜部件90來緊固一相對較大之干涉調變器從而得到較佳穩定性。
於圖9中展示具有一大體矩形形狀之抗偏斜部件90。然而，如下文更詳細描述的，該等抗偏斜部件可包含多種形狀。舉例而言，與該反射層14交迭之該等抗偏斜部件90之部分的形狀及/或大小可經設計以提高抗偏斜部件90防止反射層14之不良運動及/或變形的能力。
自圖9可看出：抗偏斜部件90係定位在反射層14之後，且歸因於由反射層14提供之光學遮蔽，因此該等部件基本上不能被人眼看到。因此，該等抗偏斜部件可分佈在空腔之背面以影響整個反射層14之運作而不影響該干涉調變器或併有該等干涉調變器之顯示裝置的光學效能。出於說明之目的，該可變形層34在圖9中未展示。一干涉調變器之背面上之可變形層34的可能配置之實例係展示於上面的圖8A及圖8B中。
圖10為抗偏斜部件90之若干實施例的示意說明。圖10a及圖10b為諸如圖9中之90(b)及90(c)之抗偏斜部件的橫截面視圖的示意說明，該等抗偏斜部件中之每一者與兩個相鄰干涉調變器共同作用。圖10c及圖10d為諸如圖9中之90(a)及90(d)之抗偏斜部件的示意說明，該等抗偏斜部件相對於一單個干涉調變器而作用。該等抗偏斜部件90具有一支柱、柄、軸或其它結構94(其在本文中被稱為"軸部分"94，其定向在一相對於該基板20之大體上之垂直位置上)以及一附著至該軸部分94之一末端的頂端部分92。該軸部分94之末端98係附著至該光學堆疊16或附著至直接或間接定位在該光學堆疊16上或其下之另一穩定層(諸如基板20)。該軸部分94之末端98或該抗偏斜部件90之其它區域亦可附著至可為該抗偏斜部件90提供適合支撐的任何其它結構。該頂端部分92係附著至與該末端98相對之該軸部分94的末端。該頂端部分之結構及功能將於下文中予以更詳細地描述。
該軸部分94可包含可與角柱42所用之材料相同之材料或任何其它適合材料。該軸部分94具有足以執行其結構功能之高度、寬度及形狀。一特定軸部分94之寬度可視該軸部分94所擇用之材料而定。在許多應用中，該軸部分94具有一在約0.1微米與10微米之間的寬度，且特定言之為約3微米。如下文更完整描述的，該軸部分94之高度可視干涉調變器中之該反射層14與該光學堆疊16之間的間隙之高度而定。在一些應用中，該軸部分具有一約1微米至10微米之高度。在所說明之實施例中，該軸部分94具有一細長的錐形形狀。預期，除所說明之實施例中所示之細長錐形形狀外，該軸部分94可形成為多種拉長形狀中之任一種(諸如圓形、矩形、正方形、三角形及其類似者)以適合一特定應用。雖然可使用任何形狀，但圓形形狀可較佳地使抗偏斜部件90之製造簡化。
如上所述，圖10中說明之該等抗偏斜部件包含一頂端部分92，其在反射層處於靜止位置時接觸該反射層14。該頂端部分92可包含一或多個下述元件或能夠執行其結構功能之任何結構。
頂端部分92可包含之一元件為一自該軸部分94延伸之突起。如圖10中所示，該突起可包含位於遠離該光學堆疊16之該軸部分94之末端處的擴大尖端或其它結構。在各種實施例中，該頂端部分92之寬度的至少一部分大於該軸部分94之寬度，該頂端部分92具有一為該軸部分94之寬度的(例如)約2至4或更多倍的寬度。在一些實施例中，頂端部分之形狀及大小經設計以在該反射層14處於靜止位置時最大化該頂端部分92與該反射層14之一表面之間的接觸的表面面積，以便幫助將該反射層14保持在一平面定向中。該頂端部分92可大體上垂直於該軸部分94定向(如圖10a－10c所示)，與該軸部分94成一銳角定向(未圖示)或定向在允許抗偏斜部件執行其希望功能之相對於該軸部分94之任何其它定向中。該頂端部分92可自該軸部分94延伸出允許該軸部分92執行其結構功能的任何距離。有利地，該頂端部分92自該軸部分94延伸出一足夠距離，使得當該反射層14在靜止位置與該抗偏斜部件90接觸時，該抗偏斜部件90將反射層14保持在一平面定向中。
應理解，該頂端部分92可採用多種其它形狀，例如，實心或空心錐形、箭頭形、倒鉤形、球形、蘑菇形及其它類型之突出結構。在一些實施例中，該軸部分94及該頂端部分92為一拐杖或一鉤形形狀(如圖10d中所示)，或具有一在該反射層14之頂部表面上延伸之彎曲區域之其它結構。該拐杖形狀可因允許在相同處理步驟期間加工支撐柱42及抗偏斜部件90而有利。該頂端部分92之一相對較鈍末端較佳應避免阻礙或干擾該可變形層34、一背面匯流排44及/或該干涉調變器之其它結構組件。在一些實施例中，與該反射層14相互作用之抗偏斜部件90之該(該等)部分經改質以促進相互作用之穩定性及其它態樣。舉例而言，頂部之底面96可包含一接觸該反射層14之頂部表面的鄰接件以在該反射層14處於靜止位置時抑制反射層14之翹曲、偏斜及/或其它不良運動。
在圖10中可看到，該底面96整體上係平坦的。然而，該底面96可經改質以促進與反射層14之接觸，諸如彎曲成一凹入形狀以形成一可擱置該反射層14之一部分的凹陷(未圖示)。該底面96亦可彎曲成一凸起形狀以形成一與該反射層14之一凹陷部分相互作用的突起(未圖示)。該底面96亦可具有一粗糙或併有隆脊或其它阻礙裝置(未圖示)之表面以進一步幫助穩定該反射層14。然而，該底面96亦可為光滑的，以便降低昂貴的製造成本。
如圖10d所示，該頂端部分92亦可包含一鉤。該鉤可具有一自該軸94向外延伸之徑向部分。有利地，該鉤可具有一遠離該軸94並置於該徑向部分之末端處之彎曲部分(未圖示)。該彎曲部分可經度量且經配置以接受一凹陷或該反射層14之頂部表面中之插孔，以便提供該反射層14之橫向穩定性(未圖示)。該凹陷或插孔係該反射層14之一些實施例之額外特點。期望該彎曲部分具有一沿著遠端圓周之斜面或錐形以允許該彎曲部分簡單地將該凹陷適配在該反射層14之頂部表面中。對於不具有彎曲部分之鉤的實施例，徑向部分可接觸反射層14之頂部表面。
該軸部分94及該頂端部分92亦可採用一形成於該光學堆疊16之表面上或直接或間接地位於該光學堆疊16上或其下之另一穩定層上的夾具(未圖示)之形式。在各種實施例中，該夾具經度量且經定形以適配在該反射層14之外部部分周圍，同時允許該反射層14在該空腔內遷移。該夾具可以多種方式配置以達成其目的。舉例而言，在一實施例中，該夾具為大體上之C型，並且該夾具之凹入區域形成一於內部俘獲該反射層14之部分。在一實施例中，該C型夾具之下部部分係附著至該光學堆疊16且擱置於其上。或者，一對接近間隔分開且背對背之半剛性、倒L型部件抑制兩個相鄰干涉調變器之反射層14的不良運動及/或變形。如熟習此項技術者將理解，諸如一單個L型夾具或一單個T型夾具之多種其它夾具配置可用以達成該等抗偏斜部件之目的。
圖10b展示具有一具一階梯狀頂部表面之大體上矩形形狀的頂端部分92。該矩形頂端部分92之每一末端延伸至一不同干涉調變器。歸因於反射層14處於靜止位置時該反射層14與該光學堆疊16之間的距離之不同，階梯狀頂部表面對應於相鄰干涉調變器之空腔之深度的變化。舉例而言，參看圖10b，併有抗偏斜部件90之左側之干涉調變器具有的空腔比併有抗偏斜部件之右側之相鄰干涉調變器之空腔淺。在其它實施例中，亦可使用一扁平頭、一多階梯狀頭或其它適合形狀頂部。舉例而言，如圖10a中所示，在兩個相鄰干涉調變器之空腔深度相同之實施例中，該頂端部分92可不包括一臺階。或者，在抗偏斜部件90與一單個干涉調變器共同作用之情況下(諸如圖9中之抗偏斜部件90(a)及90(c))，如圖10c及圖10d所示，僅有一單個頂端部分92附著至該軸部分94。在各種實施例中，頂端部分92之厚度可視頂端部分92之材料性質而改變。
參看圖11，其展示沿線11－11截取之圖9中說明之陣列的橫截面視圖。抗偏斜部件90在一垂直於該光學堆疊16或垂直於直接或間接地位於該光學堆疊16(諸如基板)上或其下之另一穩定層之方向中延伸。該軸部分94可具有多種長度及多種距離，此視特定應用及與其互相作用以穩定該反射層14之特定干涉調變器而定。位於該干涉調變器之相對側上之該軸部分94橫向分開地至少足夠寬，以便容納待穩定之反射層14。期望地，該軸部分94被間隔分開一稍微大於該反射層14兩側之間的距離以提供反射層14之清晰度。在許多應用中，該等軸部分94之間的距離將在約10微米與約200微米之間，且更具體而言為約100微米。
圖11中說明的三個干涉調變器皆處於靜止狀態。如圖所示，最左邊之干涉調變器具有一較淺的光學共振腔(意即，當該反射層14處於靜止位置時，該反射層14與該光學堆疊16之間的距離較小)。為適應不同的空腔尺寸，位於最左邊的干涉調變器與中間的干涉調變器之間的抗偏斜部件90具有一階梯狀頂端部分92，並且該頂端部分92之左側接觸該最左邊干涉調變器之反射層14的頂部，且該頂端部分92之右側接觸該中間干涉調變器之反射層14的頂部。該階梯狀頂端部分降低該頂端部分92之遠端表面干擾該可變形層34的可能且簡化製造。為此目的，該頂端部分92之末端的厚度將經有利地選擇以適合該反射層14之頂部表面與可變形層34之底部表面之間。
有利地，每一軸部分94及頂端部分92抑制該反射層14之至少一部分在一大體上垂直於該基板20、大體上平行於該基板20之方向上及/或一旋轉方向上的運動。在一些實施例中，反射層14之側至側、橫向及/或旋轉運動係藉由接觸一或多個抗偏斜部件90之軸部分94來抑制，該等一或多個抗偏斜部件90被緊固至該光學堆疊16或干涉調變器之另一結構且具有充分的剛性構造以充當一阻擋該反射層14在橫切方向、橫向方向及/或旋轉方向上之運動的阻擋件。抑制該反射層14在橫切方向、橫向方向及/或旋轉方向上之運動係有利的，因為該等運動可轉化為光學畸變且影響顯示器之清晰度。反過來，此運動亦可使反射層14在該頂端部分92下滾動或滑動。
在一些實施例中，該可變形層34在該反射層14與該反射層下之穩定層(包括該光學堆疊16)之間無任何電場力存在之條件下給予該反射層14一恢復力。有利地，當該反射層14處於靜止位置時，該恢復力足以將該反射層14向上拉而使其與抗偏斜部件90接觸。較佳地，選擇恢復力以使該反射層14之運動範圍最小，直到施加觸發電壓。有利地，藉由選擇恢復力，干涉調變器可被最優化，從而可獨立地控制電壓及色彩。
圖12為沿線12－12截取之圖9中說明之陣列的橫截面視圖，其展示位於每一干涉調變器之端角處的支撐柱42及匯流排結構44。由於抗偏斜部件將每一干涉調變器之反射層14的側分為兩部分(且視界12－12說明一沿反射層14之端角之對角線的橫截面)，所以不能在圖11中看到該等抗偏斜部件。此配置可能較佳，使得抗偏斜部件90不干擾該等支撐柱及/或該等匯流排結構44之功能性。然而，該等抗偏斜部件可相對於該等支撐柱42及匯流排結構44定位於包括干涉調變器之端角的任何位置處。
各種類型之干涉裝置之製造係於多種公開文獻中描述，其包括(例如)美國公開專利申請案第2004/0051929號。此項技術中熟知之很多種技術可用於產生涉及一系列材料沉積、圖案化及蝕刻步驟的上述結構。舉例而言，抗偏斜部件90可由亦可用於干涉調變器之其它層之使用沉積及微影技術之普通薄膜製程兼容性材料來建構。抗偏斜部件90之材料可與角柱之材料相同。或者，可使用一不同材料。用於製造抗偏斜部件90之例示性過程將參看圖13來描述。
圖13為類似於圖11的橫截面視圖，其進一步說明應用於製造具有抗偏斜部件90之干涉調變器的材料層。
本文中所述之具有不同配置之實施例可具有用以形成抗偏斜部件90所共有的一些處理步驟。干涉調變器通常係建構在一透明基板20上。光學堆疊16係沉積在基板20上且通常包含若干熔融層，該等層包括一形成於基板上之由一諸如氧化銦錫(ITO)之適當材料製成的電極層(未圖示)、一諸如鉻之部分反射層(未圖示)及一介電層(未圖示)。透明基板之檢視表面為該基板之"底部"、上面形成有光學堆疊16之基板表面之相對側。在一文中未展示之過程中，圖案化並蝕刻該電極層及該金屬層以形成電極行、列或顯示器設計所需之其它有用形狀。
形成於光學堆疊16之頂部上的係一第一犧牲層130(a)及反射層14。該等犧牲層130將確定反射層14所懸掛之空腔的尺寸。如上所述，色彩調變器可藉由為一合成影像中之每一像素使用三個調變器元件而形成。在干涉調變器中，空腔之尺寸通常確定干涉之性質。一種形成彩色像素之方法係建構具有不同深度之空腔，使得來自三個不同深度之空腔的合成靜止色彩為紅、綠及藍。該等空腔之干涉性質直接受其深度影響。為產生此等變化的空腔尺寸，可分別沉積一個、兩個或三個犧牲層130(a)、130(b)、130(c)。沉積、遮蔽及圖案化一第一犧牲層130(a)以界定形成每一像素之該等三個調變器之一的區域；隨後沉積一第二犧牲層130(b)。隨後將一第二光罩塗覆至此層並圖案化該層以界定上文界定之第一調變器以及形成每一像素之第二調變器的結合區域。最後，塗覆一第三犧牲層130(c)。由於該第三犧牲層130(c)之厚度包括在形成每一像素的所有三個調變器中，故無需圖案化該第三犧牲層。
此處描述之該等三個各自沉積之犧牲層130(a)－130(c)未必具有相同厚度。因此，該等調變器可具有對應於各種層之結合厚度的一定範圍的空腔高度。舉例而言，一像素內之相鄰干涉調變器可具有對應於三個層之結合厚度、兩個層之結合厚度及/或一單個犧牲層之結合厚度的空腔高度。當犧牲層材料被移除，空腔尺寸將根據該等三個犧牲層之各種結合厚度而變化，從而引起(例如)對應於諸如紅、綠、藍之三種不同色彩之空腔尺寸的改變。
為形成抗偏斜部件90，於反射層14上方適當地沉積並圖案化一光阻層。在該反射層14被圖案化後，添加一第四犧牲層130(d)。隨後穿過該等犧牲層130並向下至該光學堆疊16來鑽出抗偏斜部件90之孔。對於使用圓形鑽孔器之實施例，期望所得軸具有一圓形形狀。隨後添加並圖案化支柱材料以懸垂該反射層14之外部周邊。
視所選之調變器而定，額外處理步驟可形成角柱42(看圖12)、變形層34及其類似者。此等額外步驟可與先前步驟結合。舉例而言，可在加工該等支柱的同時加工延伸至角柱之高度的彎曲或拐杖型抗偏斜部件90。最後，若不使用匯接層，則可將犧牲層130(a)、130(b)、130(c)、130(d)移除。該等所得調變器具有一空腔，其中該反射層14係懸掛在該光學堆疊16上方。蝕刻操作亦導致形成抗偏斜部件90。當該反射層14接觸該等抗偏斜部件90之頂端部分時(未圖示)，可以利用該等反射層14離開該光學堆疊16之自然趨勢。
在將該等犧牲層自該反射層14下及其上移除期間，可在移除犧牲層130(a)、130(b)、130(c)之前移除犧牲層130(d)。由於該犧牲層130(d)之移除，歸因於該反射層14上之犧牲層130(c)，犧牲層130(c)可使該反射層14經受一非分佈荷載。在無抗偏斜部件90之情況下，此非分佈荷載可導致該反射層14之不良運動，諸如反射層14之表面的翹曲。有利地，該等抗偏斜部件90可在移除犧牲層130期間抑制反射層14之不良運動。
在一替代方法中(未圖示)，該等材料層之不同配置可用於製造具該等抗偏斜部件90之干涉調變器。在此方法中，犧牲層130(a)、130(b)及130(c)之沉積為毯覆式沉積，且彩色像素分離係圖案化該等抗偏斜部件90之高度的結果。此設計需要該反射層14上之充足向上力以使所要間隙一直自最低升至最高。由於不同色彩像素之間不存在階梯狀高度差，故此設計具有最後平面化步驟之顯著優點。
以此方式，干涉調變器之製造及運作可被改良。抑制反射層14之不良運動(諸如偏斜或翹曲)之特點之使用改良顯示品質。歸因於該可變形層34與調變器之光學性質的分離，光學性質與機電性質之分離可導致先前難以獲得的機會。
儘管上面的詳細說明已展示、描述並指出了應用於各種實施例的新穎特點，但是應理解，彼等熟習此項技術者可在不脫離本發明之精神的前提下對所說明之裝置或製程之形式及細節加以各種省略、替代及變化。對於一般技術者而言，併有上述特點之方法及干涉調變器係顯而易見的。此外，此等特點中之一或多個特定可經調適以與任何實施例以及該等干涉調變器之其它配置共同作用。應瞭解，由於一些特點可獨立於其它特點使用或實踐，故可提供一不涉及本文陳述之所有特點及益處之抗偏斜部件。
12a．．．干涉調變器
12b．．．干涉調變器
14．．．可移動反射層
14a．．．可移動反射層
14b．．．可移動反射層
16．．．光學堆疊
16a．．．光學堆疊
16b．．．光學堆疊
18．．．支柱
19．．．經界定之間隙/空腔
20．．．基板
21．．．處理器
22．．．陣列驅動器
24．．．列驅動器電路
26．．．行驅動器電路
27．．．網路介面
28．．．圖框緩衝器
29．．．驅動器控制器
30．．．顯示器陣列或面板/顯示器
32．．．系鏈
34．．．可變形層
40．．．顯示裝置
41．．．外殼
42．．．支撐柱塞
43．．．天線
44．．．揚聲器/匯流排結構
46．．．麥克風
47．．．收發器
48．．．輸入裝置
50．．．電源
52．．．調節硬體
72a．．．支撐柱
72b．．．支撐柱
72c．．．支撐柱
72d．．．支撐柱
74．．．中心支撐件/後支撐件
76a．．．周圍支撐件
76b．．．周圍支撐件
76c．．．周圍支撐件
76d．．．周圍支撐件
78a．．．帶
78b．．．帶
78c．．．帶
78d．．．帶
80．．．像素
90、90(a)、90(b)、90(c)、90(d)．．．抗偏斜部件
92．．．頂端部分
94．．．軸部分
圖1為描繪一干涉調變器顯示器之一實施例之一部分的等角視圖，其中一第一干涉調變器之一可移動反射層處於一鬆弛位置且一第二干涉調變器之可移動反射層處於一觸發位置。
圖2為說明一併有一3×3干涉調變器顯示器之電子裝置之一實施例的系統方塊圖。
圖3為圖1之一干涉調變器之一例示性實施例的可移動鏡子位置與外施電壓的關係圖。
圖4為可用於驅動一干涉調變器顯示器之一組行電壓及列電壓的說明。
圖5A及圖5B說明可用於將一顯示資料框寫入至圖2之3×3干涉調變器顯示器的行訊號及列訊號的一例示性時序圖。
圖6A及圖6B為說明包含複數個干涉調變器之一視覺顯示裝置之一實施例的系統方塊圖。
圖7A為圖1之裝置的截面圖。
圖7B為一干涉調變器之一替代實施例的截面圖。
圖7C為一干涉調變器之另一替代實施例的截面圖。
圖7D為一干涉調變器之又一替代實施例的截面圖。
圖7E為一干涉調變器之一額外替代實施例的截面圖。
圖8A為說明一可分離式干涉調變器之一底板支撐件之一實施例的示意圖。
圖8B為說明一可分離式干涉調變器之一底板之一替代實施例的示意圖。
圖9為說明一包含一3×3陣列之干涉調變器及抗偏斜部件之像素之佈局圖的示意圖。
圖10A－D為抗偏斜部件之若干實施例之橫截面視圖。
圖11為沿圖9之線11－11截取的橫截面視圖，其展示位於圖9中之該陣列之相鄰干涉調變器之間的抗偏斜部件。
圖12為沿圖9之線12－12截取的對角線截面視圖，其展示圖9中之該陣列之該等干涉調變器的後支撐件。
圖13為類似於圖11之橫截面視圖，其進一步說明應用於製造具抗偏斜部件之干涉調變器的材料層。
14．．．可移動反射層
72a．．．支撐柱
72b．．．支撐柱
72c．．．支撐柱
72d．．．支撐柱
74．．．中心背面支撐體
78a．．．帶
78b．．．帶
78c．．．帶
78d．．．帶

Claims (77)

  1. 一種干涉調變器，其包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面，其中為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
  2. 如請求項1之干涉調變器，其中該鏡子在處於該第一位置時大體上與該光學層平行。
  3. 如請求項1之干涉調變器，其中該鏡子在處於該第一位置時係大體上平坦的。
  4. 如請求項1之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動。
  5. 如請求項4之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分在一大體平行於該鏡子之方向上之運動。
  6. 如請求項4之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置 時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分的旋轉運動。
  7. 如請求項1之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第二位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分在一大體平行於該鏡子之方向上之運動。
  8. 如請求項7之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第二位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分的旋轉運動。
  9. 如請求項1之干涉調變器，其中當該鏡子佔據該第一位置與該第二位置之間的一位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分在一大體平行於該鏡子之方向上之運動。
  10. 如請求項9之干涉調變器，其中當該鏡子佔據該第一位置與該第二位置之間的一位置時，該至少一部件抑制該鏡子之至少一部分的旋轉運動。
  11. 如請求項4之干涉調變器，其中該至少一部件包含一大體上係曲線之單一部分。
  12. 如請求項11之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該至少一部件之一末端部分接觸該鏡子之至少一部分。
  13. 如請求項1之干涉調變器，其中該鏡子進一步包含在該鏡子處於該第一位置時接觸該至少一部件的至少一凹陷。
  14. 如請求項1之干涉調變器，其中該鏡子為該至少一部件遮擋入射至該干涉調變器的光。
  15. 如請求項1之干涉調變器，其進一步包含一附著至該鏡子之機械層，該機械層將該鏡子懸掛於該基板上方，其中 當該鏡子處於該第一位置時，該機械層在該鏡子上施加一促進該至少一部件與該鏡子之該表面之間的接觸的力。
  16. 如請求項1之干涉調變器，其中該至少一部件包含一大體上垂直於該鏡子之軸部分及一連接至該軸部分之頂端部分。
  17. 如請求項16之干涉調變器，其中該頂端部分大體上垂直於該軸部分。
  18. 如請求項16之干涉調變器，其中該頂端部分與該軸部分成一銳角。
  19. 如請求項16之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該軸部分抑制該鏡子之至少一部分在一大體平行於該鏡子之方向上之運動，且當該鏡子處於該第一位置時，該頂端部分抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動。
  20. 如請求項16之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該頂端部分接觸該鏡子之該表面的至少一部分。
  21. 如請求項16之干涉調變器，其中該頂端部分之至少一部分具有一大於該軸部分之一寬度的寬度。
  22. 如請求項16之干涉調變器，其中該頂端部分之形狀係選自包含以下形狀之組：大體上之矩形、大體上之錐形、倒鉤形、大體上之球形、橢圓形及大體上之鉤形。
  23. 如請求項16之干涉調變器，其中該軸之形狀為大體上之錐形、大體上之矩形、大體上之三角形或大體上之圓形。
  24. 如請求項16之干涉調變器，其中該頂端部分進一步包含一在該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之至少一部分的凸起部分。
  25. 如請求項24之干涉調變器，其中該鏡子進一步包含一在該鏡子處於該第一位置時接觸該頂端部分之該凸起部分的凹陷部分。
  26. 如請求項16之干涉調變器，其中該至少一部件進一步包含一連接至該頂端部分之接觸區，其中當該鏡子處於該第一位置時，該接觸區接觸該鏡子之該表面的至少一部分。
  27. 一種包含複數個干涉調變器之視覺顯示裝置，每一干涉調變器包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面，其中為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
  28. 如請求項27之視覺顯示裝置，其進一步包含： 一與該等複數個干涉調變器電通訊之處理器，該處理器經配置以處理影像資料；及一與該處理器電通訊之記憶體裝置。
  29. 如請求項28之視覺顯示裝置，其進一步包含：一經配置以將至少一訊號發送至該等複數個干涉調變器之第一控制器；及一經配置以將該影像資料之至少一部分發送至該第一控制器之第二控制器。
  30. 如請求項28之視覺顯示裝置，其進一步包含一經配置以將該影像資料發送至該處理器之影像源模組。
  31. 如請求項30之視覺顯示裝置，其中該影像源模組包含接收器、收發器及發射器中之至少一者。
  32. 如請求項28之視覺顯示裝置，其進一步包含一經配置以接收輸入資料並將該輸入資料傳送至該處理器之輸入裝置。
  33. 一種電機械系統裝置，其包含：用於支撐一干涉調變器之構件；用於至少部分地透射入射光之構件，該至少部分透射構件置於該支撐構件上方；用於反射光之構件，該反射構件置於該至少部分透射構件上方，且其可在一與該至少部分透射構件間隔一第一距離之第一位置與一與該至少部分透射構件間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該反射構件具有一遠離該支撐構件之表面，其中 為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及用於穩定該反射構件之構件，該穩定構件係靜止的且經配置以在該反射構件處於該第一位置時將該反射構件保持在一所要定向中，當該反射構件處於該第一位置時，該穩定構件接觸該反射構件之該表面。
  34. 如請求項33之裝置，其中該支撐構件包含一基板。
  35. 如請求項33或34之裝置，其中該至少部分透射構件包含一光學層。
  36. 如請求項33或34之裝置，其中該反射構件包含一鏡子。
  37. 如請求項33或34之裝置，其中該穩定構件包含一具有一大體上垂直於該反射構件之軸部分及一連接至該軸部分之頂端部分的部件。
  38. 如請求項33或34之裝置，其中該穩定構件經配置以在該反射構件處於該第一位置時將該反射構件保持在一大體上之平面定向內。
  39. 如請求項33或34之裝置，其中該穩定構件經配置以在該反射構件處於該第一位置時使該反射構件保持大體上與該支撐構件平行。
  40. 一種減少一干涉調變器中之一鏡子之運動的方法，該方法包含以下步驟：提供一干涉調變器，其包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光； 一置於該光學層上方且具有一遠離該基板之表面之可移動鏡子；及一固定部件；在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動該鏡子，該第一距離大於該第二距離；及當該鏡子處於該第一位置時，使該鏡子之該表面與該固定部件接觸，藉此在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動，其中為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變。
  41. 一種形成一干涉調變器之方法，該方法包含以下步驟：提供一基板；提供一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；提供一置於該光學層上方且具有一遠離該基板之表面的可移動鏡子，該鏡子可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，其中為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及提供一在該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的固定部件，其中該固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
  42. 一種用於減少一干涉調變器中之一鏡子之運動的部件，該干涉調變器包括一光透射光學層及一置於該光學層上 方之鏡子，該部件包含：一經配置以抑制一干涉調變器中之該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分；及經配置以抑制一干涉調變器中之該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分。
  43. 如請求項42之部件，其中該部件經配置以抑制一第一干涉調變器之一第一鏡子之至少一部分的運動並抑制一第二干涉調變器之一第二鏡子之至少一部分的運動。
  44. 一種用於減少一干涉調變器中之一鏡子之運動的部件，該干涉調變器包括一光透射光學層及一置於該光學層上方之鏡子，該部件包含：用於抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的構件；及用於抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的構件。
  45. 如請求項44之部件，其中該用於抑制該鏡子之至少一部分之橫向運動的構件包含一軸部分。
  46. 如請求項44或45之部件，其中該用於抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的構件包含至少一頂端部分。
  47. 一種減少一干涉調變器中之一鏡子之運動的方法，該方法包含以下步驟： 提供一干涉調變器，該干涉調變器包括一光透射光學層及一置於該光學層上方之鏡子，該干涉調變器包含一固定部件，該固定部件包含一經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分，該固定部件進一步包含經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分；及當該鏡子處於一第一位置時使該鏡子之一表面與該固定部件接觸，藉此在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動。
  48. 一種形成一經配置以抑制一干涉調變器之一可移動鏡子之運動的固定部件之方法，該方法包含以下步驟：提供包含該可移動鏡子之該干涉調變器，該可移動層置於一光透射光學層上方；形成一經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體上平行於該鏡子之方向上之橫向運動的軸部分；及形成經配置以抑制該鏡子之至少一部分在一大體垂直於該鏡子之方向上之運動的至少一頂端部分。
  49. 一種干涉調變器，其包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離 之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面；及當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件包含一大體上係曲線之單一部分且該固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分在大體垂直於該鏡子之方向之運動。
  50. 如請求項49之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該至少一部件之一末端部分接觸該鏡子之至少一部分。
  51. 一種干涉調變器，其包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面；當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動；及一附著至該鏡子之機械層，該機械層將該鏡子懸掛於該基板上方，其中當該鏡子處於該第一位置時，該機械 層在該鏡子上施加一促進該至少一部件與該鏡子之該表面之間的接觸的力。
  52. 一種電機械系統裝置，其包含：一至少包含兩個干涉調變器之陣列，每一干涉調變器包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一與該光學層間隔一第一距離之第一位置與一與該光學層間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面，其中為該干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及當該鏡子處於該第一位置時接觸該鏡子之該表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分之運動；其中當該等鏡子處於該第一位置時，該等至少兩個干涉調變器之該等固定部件與每一相對應的鏡子表面接觸，該等鏡子與該等光學層之第一距離不同。
  53. 如請求項52之裝置，其進一步包含：一顯示器；一與該顯示器電通訊之處理器，該處理器經配置以處理影像資料；及一與該處理器電通訊之記憶體裝置。
  54. 如請求項53之裝置，其進一步包含：一經配置以將至少一訊號發送至該顯示器之第一控制器；及一經配置以將該影像資料之至少一部分發送至該第一控制器之第二控制器。
  55. 如請求項53之裝置，其進一步包含一經配置以將該影像資料發送至該處理器之影像源模組。
  56. 如請求項55之裝置，其中該影像源模組包含接收器、收發器及發射器中之至少一者。
  57. 如請求項53之裝置，其進一步包含一經配置以接收輸入資料並將該輸入資料傳送至該處理器之輸入裝置。
  58. 如請求項52之裝置，其中該至少一固定部件位於該至少二調變干涉器之間，且該固定部件包含一軸部份，一連接於該軸部份之第一頂端部分，該第一頂端部分與該至少二調變干涉器之第一調變干涉器之鏡子接觸，一連接於該軸部份之第二頂端部分，該第二頂端部分與該至少二調變干涉器之第二調變干涉器之鏡子接觸。
  59. 如請求項58之裝置，其中當該等鏡子處於該第一位置時，該至少一固定部件抑制該第一及第二調變干涉器之所有鏡子之至少一部份在大體垂直於該等鏡子之運動。
  60. 如請求項58之裝置，其中當該等鏡子處於該第一位置時，該至少一固定部件抑制該第一及第二調變干涉器之所有鏡子之至少一部份在大體平行於該等鏡子之運動。
  61. 如請求項58之裝置，其中當該等鏡子處於該第一位置時， 該至少一固定部件抑制該第一及第二調變干涉器之所有鏡子之至少一部份之旋轉運動。
  62. 如請求項52之裝置，其進一步包含一第三干涉調變器，其中當該鏡子位於第一位置時，該等三個干涉調變器中介於該鏡子與該光學層間之該第一距離皆不同。
  63. 如請求項62之裝置，其中當該等鏡子處於該第一位置時，該等三個不同之第一距離被決定使不同之色光為該等三個干涉調變器所反射。
  64. 如請求項63之裝置，其中該等不同顏色包含紅色，綠色及藍色。
  65. 如請求項52之裝置，其進一步包含一附著至該鏡子之機械層，該機械層將該鏡子懸掛於該基板上方，其中當該鏡子處於該第一位置時，該機械層在該鏡子上施加一促進該至少一部件與該鏡子之該表面之間的接觸的力。
  66. 如請求項52之裝置，其進一步包含一機械層，該機械層至少具有一附著於該鏡子之第一部份與附著於該等固定部件之至少其一之第二部份。
  67. 一種包含至少兩個干涉調變器之陣列，每一干涉調變器包含：用於支撐該干涉調變器之至少一部分之構件；用於透射光線之構件，該透射構件置於該支撐構件上方，該透射構件至少部分地透射入射光；用於反射光之構件，該反射構件置於該光透射構件上方，且其可在一與該至少部分透射構件間隔一第一距離 之第一位置與一與該至少部分透射構件間隔一第二距離之第二位置之間移動，該第一距離大於該第二距離，且該反射構件具有一遠離該支撐構件之表面，其中為干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及用於穩定該反射構件之構件，當該反射構件處於該第一位置時，該穩定構件接觸該反射構件之該表面，其中該穩定構件經配置以在該反射構件處於該第一位置時，抑制該反射構件之至少一部份之運動；其中當該等反射構件處於該第一位置時，該等至少兩個干涉調變器之穩定構件與每一相對應的反射構件表面接觸，該等反射構件與該等透射構件間之第一距離不同。
  68. 如請求項67之干涉調變器陣列，其中該反射構件與位於該第一位置之支撐構件成一不平行之角度。
  69. 如請求項67之干涉調變器陣列，其中該支撐構件包含一基板。
  70. 如請求項67之干涉調變器陣列，其中該透射構件包含一光學層。
  71. 如請求項67之干涉調變器陣列，其中該反射構件包含一鏡子。
  72. 如請求項67之干涉調變器陣列，其中該穩定構件包含至少一固定部件。
  73. 一種干涉調變器，其包含：一基板；一置於該基板上方之光學層，該光學層至少部分地透 射入射光；一鏡子，置於該光學層上方且可在一第一位置與一第二位置間移動，其中該鏡子位於該第一位置時，該鏡子之一部分與該光學層間隔一第一距離，該鏡子位於該第二位置時，該鏡子之一部分與該光學層間隔一第二距離，該第一距離大於該第二距離，且該鏡子具有一遠離該基板之表面，其中為干涉調變器所反射的光線將被干涉性地調變；及當該鏡子處於該第一位置時接觸背對該基板之鏡子之表面的至少一固定部件，其中該至少一固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時抑制該鏡子之至少一部分的運動，且進一步其中該鏡子處於該第一位置時與該基板形成一不平行之角度。
  74. 如請求項73之干涉調變器，其中該鏡子包含一第二部份及該至少一當該鏡子位於該第一位置時，接觸該鏡子之該第二部份之固定部件。
  75. 如請求項74之干涉調變器，其中當該鏡子處於該第一位置時，該鏡子之該第二部份與該光學層間隔之第一距離小於該鏡子之該第一部份與該光學層間隔之該第一距離。
  76. 如請求項73之干涉調變器，其進一步包含一附著至該鏡子之機械層，該機械層將該鏡子懸掛於該基板上方，其中當該鏡子處於該第一位置時，該機械層在該鏡子上施加一促進該至少一部件與該鏡子之該表面之間的接觸的 力。
  77. 如請求項73之干涉調變器，進一步包含一第二固定部件，當該鏡子處於該第一位置時，該第二固定部件接觸該鏡子之該表面，其中該第二固定部件經配置以在該鏡子處於該第一位置時，抑制該鏡子之至少一部份之運動；且進一步其中該至少一固定部件與該第二固定部件以與該基板不同之距離與該鏡子接觸。
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