TWI387786B

TWI387786B - 彩色濾光基板及液晶顯示面板的製造方法

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Publication number: TWI387786B
Application number: TW98100932A
Authority: TW
Inventors: Min Ta Lai
Original assignee: Chunghwa Picture Tubes Ltd
Priority date: 2009-01-12
Filing date: 2009-01-12
Publication date: 2013-03-01
Also published as: TW201027143A

Description

彩色濾光基板及液晶顯示面板的製造方法

本發明是有關於一種彩色濾光基板(Color Filter Substrate,CF Substrate)及液晶顯示面板(Liquid Crystal Display Panel,LCD Panel)的製造方法，且特別是有關於一種利用玻璃基板表面改質技術的彩色濾光基板與液晶顯示面板的製造方法。

隨著光電技術與半導體製程的發展，平面顯示器已逐漸成為各種顯示器的主流，其中，以具有高畫質、空間利用效率佳、低消耗功率、無輻射等優越特性之液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)之發展最為純熟。

液晶顯示器通常是藉由彩色濾光基板來達到彩色化顯示的效果。一般而言，彩色濾光基板通常是由玻璃基板、黑矩陣(Black Matrix,BM)、彩色濾光層(Color Filter Layer)、共通電極層(Common Electrode Layer)。

當使用微影製程製造彩色濾光基板時，經由基板清洗(Cleaning)、塗佈光阻(Color Filter Spraying)、曝光(Exposures)、顯影(Developing)等製程，進而在基板上形成黑矩陣與彩色濾光層。

圖1A至圖1G為習知彩色濾光基板的製造流程剖面示意圖。首先，請參照圖1A，提供玻璃基板110。接著，請參照圖1B，在玻璃基板110上形成遮光層120。再來，請參照圖1C，於遮光層120上塗佈光阻層130。繼之，請參照圖1D，利用一光罩140對光阻層130進行曝光。再來，請參照圖1E，對光阻層130進行顯影，以形成圖案化光阻層130a，並以此圖案化光阻層130a為蝕刻罩幕對遮光層120進行蝕刻，以得到黑矩陣120a。繼之，請參照圖1F，移除圖案化光阻層130a。上述遮光層120的所使用的材料主要可分為鉻金屬(Chromium,Cr)或黑色樹脂。

之後，請參照圖1G，在如圖1F所示具有黑矩陣120a的玻璃基板110上，繼續製造彩色濾光圖案150R、150G、150B，而完成彩色濾光基板100的製造。彩色濾光圖案150R、150G、150B可以採用微影製程(Photolithography)來製造。然而，此種方法因製程繁瑣、材料昂貴(尤其是光罩的成本較高)，且彩色光阻的有效使用率低，故會提高製造成本。

因此，關於彩色濾光層的製造，即有許多不需使用光罩顯影的技術被開發，如採用噴墨列印(Ink-jet Printing)製程來製造彩色濾光層。圖2A至圖2J為習知採用噴墨列印製程來製造彩色濾光基板的製造流程剖面示意圖。首先，請參照圖2A，提供配置有黑矩陣120a的玻璃基板110，其中，黑矩陣120a定義出多個第一次畫素區域110a、多個第二次畫素區域110b與多個第三次畫素區域110c。再來，請參照圖2B，在第一次畫素區域110a施加第一染料210。接著，請同時參照圖2C與圖2D，利用一加熱製程H來加熱第一染料210以除去溶劑(未繪示)，以使第一染料210硬化形成第一色塊210a。再來，請參照圖2E，在第二次畫素區域110b施加第二染料220。接著，請同時參照圖2F與圖2G，利用一加熱製程H來加熱第二染料220以除去溶劑，以使第二染料220硬化形成第二色塊220a。接著，請參照圖2H，在第三次畫素區域110c施加第三染料230。繼之，請同時參照圖2I與圖2J，利用一加熱製程H來加熱第三染料230以除去溶劑，以使第三染料230硬化形成第三色塊230a。至此，便完成彩色濾光基板100a的製造。

利用噴墨列印製程形成上述第一色塊210a、第二色塊220a、第三色塊230a的方法雖然可提升材料的使用率，且簡化製造流程，但是，在噴印的過程中卻容易產生染料溢流的問題。

常用的解決作法是加高黑矩陣120a的高度，使黑矩陣的高度高過上述第一染料210、第二染料220與第三染料230的液面。然而，這樣一來，將此彩色濾光基板100a組立成液晶顯示面板(未繪示)時，表面不平整的第一色塊210a、第二色塊220a、第三色塊230a會造成了液晶排列混亂，且在黑矩陣120a與第一色塊210a、第二色塊220a、第三色塊230a之間會存在凹槽G。由於液晶無法填入此凹槽G中，而會形成液晶氣泡。如此一來，液晶顯示面板的顯示品質會下降。所以，相當需要一個更佳的解決方案出現，以降低彩色濾光基板100、100a的製造成本，並解決上述因液晶氣泡所造成的顯示品質不良的問題。

有鑑於此，本發明提供一種彩色濾光基板的製造方法，具有低製作成本、且能製作出具有良好光線穿透率的彩色濾光基板。

本發明提供一種液晶顯示面板的製造方法，其採用上述彩色濾光基板的製造方法，而具有低製作成本、且能製作出具有良好顯示品質的液晶面板。

基於上述，本發明提出一種彩色濾光基板的製造方法。首先，提供一基板，其具有一表面。接著，使用酸液對表面進行親水處理。再來，提供疏水性材料到經過親水處理後的表面上，與疏水性材料經過疏水反應的表面形成疏水區域，未與疏水性材料接觸的表面則形成親水區域。接著，移除疏水性材料。之後，提供彩色墨水，對應彩色墨水的親疏水性質以於疏水區域或親水區域中形成彩色濾光圖案。

基於上述，本發明還提出一種液晶顯示面板的製造方法。首先，提供一基板，其具有一表面。接著，使用酸液對表面進行親水處理。再來，提供疏水性材料到經過親水處理後的表面上，與疏水性材料經過疏水反應的表面形成疏水區域，未與疏水性材料接觸的表面則形成親水區域。接著，移除疏水性材料。繼之，提供彩色墨水，對應彩色墨水的親疏水性質以於疏水區域或親水區域中形成彩色濾光圖案，以得到彩色濾光基板。接著，提供主動元件陣列基板，對向於彩色濾光基板。之後，於主動元件陣列基板與彩色濾光基板之間形成一液晶層。

在本發明的一實施例中，上述的酸液是選自於氫氟酸(HCl)、硝酸(HNO₃ )、硫酸(H₂ SO₄ )、冰醋酸(CH₃ COOH)及其組合。

在本發明的一實施例中，上述的在使用酸液對表面進行親水處理之前，更包括使用鹼液處理表面。

在本發明之一實施例中，上述的鹼液是選自於氫氧化鈉(NaOH)、氫氧化鉀(KOH)及其組合。

在本發明的一實施例中，上述的移除疏水性材料的步驟包括：提供有機溶劑移除疏水性材料、提供去離子水清洗基板的表面，以及乾燥基板的表面。

在本發明的一實施例中，上述的疏水性材料是選自於烷基長鏈矽氧化物、芳香族矽氧化物、環氧族矽氧化物及其組合。

在本發明的一實施例中，上述的烷基長鏈矽氧化物包括辛基三乙氧基矽烷(octyl-triethoxy-silane)、或辛基三甲氧基矽烷(octyl-trimethoxy-silane)。

在本發明的一實施例中，上述的芳香族矽氧化物包括(1-萘基)三乙氧基矽烷((1-naphthyl)-triethoxy silane)、或三乙氧基(2-苯乙基)矽烷(trimethoxy(2-phenylethyl)silane)。

在本發明的一實施例中，上述的環氧族矽氧化物包括環己烯乙基三乙氧基矽烷(cyclohexenyl-ethyl-triethoxysilane)、或環己烯乙基三甲氧基矽烷(cyclohexyl-ethyl-trimethoxysilane)。

在本發明的一實施例中，上述的使疏水性材料與表面產生疏水反應的步驟還包括：提供能量給疏水性材料與基板的表面。

在本發明的一實施例中，上述的提供能量的方式包括對基板的表面進行加熱、照射微波或照射紫外光。

在本發明的一實施例中，上述的提供疏水性材料及提供彩色墨水的方法包括噴墨法。

在本發明的一實施例中，上述的彩色濾光基板的製造方法，更包括對彩色墨水進行烘烤製程，以形成彩色濾光圖案。

在本發明的一實施例中，上述的彩色濾光基板的製造方法，更包括於基板上形成黑矩陣，隔開彩色濾光圖案。

在本發明的一實施例中，上述的於基板上形成黑矩陣的方法包括噴墨法或微影製程。

本發明因使用鹼液、酸液、疏水性材料，而可以直接在玻璃基板表面形成親水區域與疏水區域。所以，後續彩色墨水可以容易地利用親疏水性質而形成於疏水區域或親水區域中。此彩色濾光基板的製造方法可以直接在基板上形成彩色濾光圖案，有利於提昇光線的穿透率、進而提昇顯示品質。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

彩色濾光基板的製造方法

圖3A至圖3I為本發明較佳實施例的一種彩色濾光基板的製造方法流程剖面示意圖。圖4A～圖4C為對基板表面進行親水處理的微觀示意圖。圖5A～圖5B為對基板表面進行疏水處理的微觀示意圖。在參照圖3A～圖3J的彩色濾光基板的製造方法流程圖時，可一併配合圖4A～圖4C與圖5A～圖5B以清楚地理解本發明的技術精神所在。

首先，請參照圖3A，提供一基板310，其具有一表面310a。此基板310可以是玻璃基板或石英基板。一般認為，玻璃基板的表面親水性相當高，但實際上玻璃基板的表面仍有部分排水性。玻璃主要是由二氧化矽(SiO₂ )所組成，表面會有-Si-O-Si-與-Si-OH的官能基。當-Si-OH的比例越高時，玻璃基板的表面親水性也越佳。因此，可藉由打斷-Si-O-Si-鍵結的方式增加-Si-OH基，或以化學反應的方式加入帶電基(-H⁺ )等方式增加親水性。

接著，請同時參照圖3B、圖3C與圖4A～圖4C，可先如圖3B所示使用鹼液320處理基板310的表面310a，以破壞基板310的表面310a的-Si-O-Si鍵結(繪示於圖4A中)。鹼液320可以是選自於氫氧化鈉(NaOH)、氫氧化鉀(KOH)及其組合。接著，請參照圖3C，再使用酸液330對基板310的表面310a進行親水處理。酸液330可以是選自氫氟酸(HCl)、硝酸(HNO₃ )、硫酸(H₂ SO₄ )、冰醋酸(CH₃ COOH)及其組合。由於先使用了鹼液320破壞了基板310的表面310a的-Si-O-Si-鍵結，所以後續使用酸液330進行親水處理時，能有更多的-Si-O-官能基與酸液330中-H⁺ 形成-Si-OH基，以提昇基板310的表面的親水性。當然，也可以不先對基板310的表面310a進行鹼液320的處理(可省略圖3B的步驟)。直接使用酸液330也能進行良好的親水處理。

請繼續參照圖4A～圖4C，進一步說明使用鹼液320與酸液330進行親水處理的技術細節。如圖4A所示，通常，在以玻璃為材質的基板310的表面310a上有許多-Si-OH-基310c以及-Si-O-Si-基310d。當加入鹼液320，鹼液320中的-OH基320a可以打斷基板310表面310a的-Si-O-Si-鍵結310d，而形成如圖4B所示的-Si-O-基310e。請再參照圖4B，此時再加入酸液330，酸液330中的-H基330a便會和基板310的表面310a的-Si-O-基310e反應，進而形成更多的親水性-Si-OH-基310c，其結構最後如圖4C所示。

繼之，請同時參照圖3D與圖5A～圖5B，提供一疏水性材料340到經過親水處理後的表面310a上，與疏水性材料340經過疏水反應的表面310a形成疏水區域R1，未與疏水性材料340接觸的表面310a則形成親水區域R2。在較佳的實施例中，疏水性材料340是選自於烷基長鏈矽氧化物、芳香族矽氧化物、環氧族矽氧化物及其組合。特別是，上述的烷基長鏈矽氧化物可包括：辛基三乙氧基矽烷(octyl-triethoxy-silane)、或辛基三甲氧基矽烷(octyl-trimethoxy-silane)；上述的芳香族矽氧化物可包括：(1-萘基)三乙氧基矽烷((1-naphthyl)-triethoxy silane)或三乙氧基(2-苯乙基)矽烷(trimethoxy(2-phenylethyl)silane)；上述的環氧族矽氧化物可包括：環己烯乙基三乙氧基矽烷(cyclohexenyl-ethyl-triethoxysilane)、或環己烯乙基三甲氧基矽烷(cyclohexyl-ethyl-trimethoxysilane)。

請參照圖5A～圖5B，進一步解釋使用疏水性材料340進行疏水處理的技術細節，此處以疏水性材料340使用辛基三乙氧基矽烷為例進行說明。如圖5A所示，疏水性材料340可與基板310的表面310a的-Si-OH基310c反應，進而形成如圖5B所示具有-O-Si-(CH)_n 之疏水性結構340a。由於具有Si-OH基310c的基板310的表面310a則仍具有親水性，如此便可分別形成疏水區域R1與親水區域R2。另外，為了加快反應速度，在疏水性材料340與-Si-OH基310c反應的過程中，還可對基板310的表面310a提供一能量。此提供能量的方式例如是進行加熱、照射微波或照射紫外光等，但並不限定於此。並且，提供此疏水性材料340的方法可以是噴墨法，以形成矩陣化的疏水區域R1(如圖3D所示)。

接著，請同時參照圖3E與圖3F，移除疏水性材料340。移除疏水性材料340的步驟例如是：先提供一有機溶劑350移除疏水性材料340。接著，如圖3F所示，提供一去離子水360，清洗基板310的表面310a。之後，再乾燥基板310的表面310a，例如是以風刀裝置(未繪示)吹乾基板310的表面310a。致此，便完成眼睛看不見的疏水區域R1與親水區域R2。

再來，請參照圖3G，提供彩色墨水370R、370G、370B，對應彩色墨水370R、370G、370B的親疏水性質以於疏水區域R1或親水區域R2中形成彩色濾光圖案380R、380G、380B(繪示於圖3H中)。圖3G是以彩色墨水370R、370G、370B具有疏水性，形成於疏水區域R1中為例進行說明。當然，彩色墨水370R、370G、370B也可具有親水性，形成在親水區域R1中(未繪示)。另外，提供彩色墨水370R、370G、370B的方法可以是噴墨法。

圖6為圖3G區域A的局部放大示意圖。請參照圖6，當具有疏水性的彩色墨水370G滴入疏水區域R1時，彩色墨水370G會迅速於基板310的表面310a擴散。一旦當彩色墨水370G擴散達親水區域R2時，具有疏水性的彩色墨水370G則會因與親水區域R2的表面張力不同，造成彩色墨水370G的內聚力作用而形成一個接觸角θ，故不會發生墨水溢流現象。此接觸角θ的大小及彩色墨水370G的厚度會受各項表面張力與重力影響。彩色墨水370G的表面張力也可藉由一些添加劑的添加、改變濃度或溫度來改變。例如可以在彩色墨水370G中加入溶劑(如苯、甲苯、氯甲苯等)或介面活性劑(脂肪酸、硫代硫酸鈉等)來降低表面張力，而加入高分子量的高分子則可提高表面張力。

接著，請繼續參照3H，還可對彩色墨水370R、370G、370B進行烘烤製程T，以形成如圖3H所示的彩色濾光圖案380R、380G、380B。

另外，請再參照圖3I，還可以在基板310上形成黑矩陣390，以隔開彩色濾光圖案380R、380G、380B。在基板310上形成黑矩陣390的方法可以是噴墨法或微影製程。致此，便完成了彩色濾光基板300的製作。並且，由於黑矩陣390與彩色濾光圖案380R、380G、380B可製作為無段差，所以，可以解決習知進行液晶面板組裝時所產生的液晶氣泡問題。

上述的彩色濾光基板300的製造方法，乃是利用鹼液320、酸液330對於基板310的表面310a全面進行親水處理，之後再利用疏水性材料340在基板310上造成疏水區域R1與親水區域R2。如此一來，可於基板310的表面310a直接進行改質，有利於後續彩色墨水370R、370G、370B利用表面張力的原理而噴墨在基板310上。特別是，利用上述方法所製作的彩色濾光基板300，可直接於基板310上形成彩色濾光圖案380R、380G、380B，有利於提昇光線的穿透率而提昇顯示品質。

液晶面板的製造方法

圖7A至圖7C為本發明較佳實施例的一種液晶面板的製造方法流程剖面示意圖。請參照圖7A，首先，製造一彩色濾光基板410，此彩色濾光基板410的製造方法與上述圖3A～圖3I所述的製作過程相同，元件的組成也與圖3I所示的彩色濾光基板300類似，在此不予以贅述。另外，還可在彩色濾光基板410上形成共用電極層(未繪示)。

接著，請參照圖7B，提供一主動元件陣列基板420，其對向於彩色濾光基板410。此主動元件陣列基板420包含多條掃描線(未繪示)、多條資料線(未繪示)以及多個畫素單元(未繪示)。

之後，請參照圖7C，於彩色濾光基板410與主動元件陣列基板420之間形成液晶層430。形成液晶層430的方式可以利用滴下注入填充法(One Drop Filling,ODF)、或真空注入法，至此，完成液晶面板400的製作。值得注意的是，彩色濾光層380R、380G、380B是直接形成在基板310的表面310a上(可參照圖3I)，所以可提昇光線穿透率而使液晶面板400具有良好的顯示品質。

綜上所述，本發明的彩色濾光基板與液晶面板的製造方法至少具有以下優點：藉由鹼液、酸液與疏水性材料，可直接在基板上形成親水區域與疏水區域。所以，後續彩色墨水可以容易地利用親疏水性質而形成於疏水區域或親水區域中，而可以解決習知所述利用微影製程製作彩色濾光基板所造成的成本昂貴、彩色墨水溢流、以及液晶氣泡等問題。特別是，上述的彩色濾光基板的製造方法可以直接在基板上形成彩色濾光圖案，有利於提昇光線的穿透率、進而可提昇液晶面板的顯示品質。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100、100a、300、410．．．彩色濾光基板

110．．．玻璃基板

110a．．．第一次畫素區域

110b．．．第二次畫素區域

110c．．．第三次畫素區域

120．．．遮光層

120a．．．黑矩陣

130．．．光阻層

130a．．．圖案化光阻層

140．．．光罩

150R、150G、150B．．．彩色濾光圖案

210．．．第一染料

210a．．．第一色塊

220．．．第二染料

220a．．．第二色塊

230．．．第三染料

230a．．．第三色塊

310．．．基板

310a．．．基板的表面

310c．．．-Si-OH-基

310d．．．-Si-O-Si-鍵結

310e．．．-Si-O-基

320．．．鹼液

320a．．．-OH基

330．．．酸液

330a．．．-H基

340．．．疏水性材料

340a．．．疏水性結構

350．．．有機溶劑

360．．．去離子水

370R、370G、370B．．．彩色墨水

380R、380G、380B．．．彩色濾光圖案

390．．．黑矩陣

420．．．主動元件陣列基板

430．．．液晶層

A．．．區域

G．．．凹槽

H．．．加熱製程

R1．．．疏水區域

R2．．．親水區域

T．．．烘烤製程

θ．．．接觸角

圖1A至圖1G為習知彩色濾光基板的製造流程剖面示意圖。

圖2A至圖2J為習知採用噴墨列印製程來製造彩色濾光基板的製造流程剖面示意圖。

圖3A至圖3I為本發明較佳實施例的一種彩色濾光基板的製造方法流程剖面示意圖。

圖4A～圖4C為對基板表面進行親水處理的微觀示意圖。

圖5A～圖5B為對基板表面進行疏水處理的微觀示意圖。

圖6為圖3G區域A的局部放大示意圖。

圖7A至圖7C為本發明較佳實施例的一種液晶面板的製造方法流程剖面示意圖。

310．．．基板

310a．．．基板的表面

R1．．．疏水區域

R2．．．親水區域

370G．．．彩色墨水

θ．．．接觸角

Claims

一種彩色濾光基板的製造方法，包括：提供一基板，具有一表面；使用一酸液對該表面進行一親水處理；提供一疏水性材料到經過該親水處理後的該表面上，與該疏水性材料經過一疏水反應的該表面形成一疏水區域，未與該疏水性材料接觸的該表面則形成一親水區域；移除該疏水性材料；提供一彩色墨水，對應該彩色墨水的親疏水性質以於該疏水區域或該親水區域中形成一彩色濾光圖案；以及於該基板上形成一黑矩陣，以隔開已成形的該彩色濾光圖案。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該酸液是選自於氫氟酸(HCl)、硝酸(HNO₃ )、硫酸(H₂ SO₄ )、冰醋酸(CH₃ COOH)及其組合。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中在使用該酸液對該表面進行該親水處理之前，更包括：使用一鹼液處理該表面。
如申請專利範圍第3項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該鹼液是選自於氫氧化鈉(NaOH)、氫氧化鉀(KOH)及其組合。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中移除該疏水性材料的步驟包括：提供一有機溶劑移除該疏水性材料；提供一去離子水，清洗該基板的該表面；以及乾燥該基板的該表面。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該疏水性材料是選自於烷基長鏈矽氧化物、芳香族矽氧化物、環氧族矽氧化物及其組合。
如申請專利範圍第6項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該烷基長鏈矽氧化物包括：辛基三乙氧基矽烷(octyl-triethoxy-silane)、或辛基三甲氧基矽烷(octyl-trimethoxy-silane)。
如申請專利範圍第6項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該芳香族矽氧化物包括：(1-萘基)三乙氧基矽烷((1-naphthyl)-triethoxy silane)、或三乙氧基(2-苯乙基)矽烷(trimethoxy(2-phenylethyl)silane)。
如申請專利範圍第6項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中該環氧族矽氧化物包括：環己烯乙基三乙氧基矽烷(cyclohexenyl-ethyl-triethoxysilane)、或環己烯乙基三甲氧基矽烷(cyclohexyl-ethyl-trimethoxysilane)。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中使該疏水性材料與該表面產生該疏水反應的步驟還包括：提供一能量給該疏水性材料與該基板的該表面。
如申請專利範圍第10項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中提供該能量的方式包括：對該基板的該表面進行加熱、照射微波或照射紫外光。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中提供該疏水性材料及提供該彩色墨水的方法包括噴墨法。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，更包括對該彩色墨水進行一烘烤製程，以形成該彩色濾光圖案。
如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板的製造方法，其中於該基板上形成該黑矩陣的方法包括：噴墨法或微影製程。
一種液晶面板的製造方法，包括：提供一基板，具有一表面；使用一酸液對該表面進行一親水處理；提供一疏水性材料到經過該親水處理後的該表面上，與該疏水性材料經過一疏水反應的該表面形成一疏水區域，未與該疏水性材料接觸的該表面則形成一親水區域；移除該疏水性材料；提供一彩色墨水，對應該彩色墨水的親疏水性質以於該疏水區域或該親水區域中形成一彩色濾光圖案；於該基板上形成一黑矩陣，以隔開已成形的該彩色濾光圖案，而得到一彩色濾光基板；提供一主動元件陣列基板，對向於該彩色濾光基板；以及於該主動元件陣列基板與該彩色濾光基板之間形成一液晶層。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中該酸液是選自於氫氟酸(HCl)、硝酸(HNO₃ )、硫酸(H₂ SO₄ )、冰醋酸(CH₃ COOH)及其組合。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中在使用該酸液對該表面進行該親水處理之前，更包括：使用一鹼液處理該表面。
如申請專利範圍第17項所述之液晶面板的製造方法，其中該鹼液是選自於氫氧化鈉(NaOH)、氫氧化鉀(KOH)及其組合。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中移除該疏水性材料的步驟包括：提供一有機溶劑移除該疏水性材料；提供一去離子水，清洗該基板的該表面；以及乾燥該基板的該表面。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中該疏水性材料是選自於烷基長鏈矽氧化物、芳香族矽氧化物、環氧族矽氧化物及其組合。
如申請專利範圍第20項所述之液晶面板的製造方法，其中該烷基長鏈矽氧化物包括：辛基三乙氧基矽烷(octyl-triethoxy-silane)、或辛基三甲氧基矽烷(octyl-trimethoxy-silane)。
如申請專利範圍第20項所述之液晶面板的製造方法，其中該芳香族矽氧化物包括：(1-萘基)三乙氧基矽烷((1-naphthyl)-triethoxy silane)、或三乙氧基(2-苯乙基)矽烷(trimethoxy(2-phenylethyl)silane)。
如申請專利範圍第20項所述之液晶面板的製造方法，其中該環氧族矽氧化物包括：環己烯乙基三乙氧基矽烷(cyclohexenyl-ethyl-triethoxysilane)、或環己烯乙基三甲氧基矽烷(cyclohexyl-ethyl-trimethoxysilane)。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中使該疏水性材料與該表面產生該疏水反應的步驟還包括：提供一能量給該疏水性材料與該基板的該表面。
如申請專利範圍第24項所述之液晶面板的製造方法，其中提供該能量的方式包括：對該基板的該表面進行加熱、照射微波或照射紫外光。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中提供該疏水性材料及提供該彩色墨水的方法包括噴墨法。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，更包括對該彩色墨水進行一烘烤製程，以形成該彩色濾光圖案。
如申請專利範圍第15項所述之液晶面板的製造方法，其中於該基板上形成該黑矩陣的方法包括：噴墨法或微影製程。