TWI639867B - 顯示面板 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種顯示面板包括上基板、顯示層、圖案化遮光層以及圖案化氧化物層。上基板具有外表面。顯示層被上基板覆蓋。圖案化遮光層配置於上基板的外表面上且位於第一區域內。圖案化氧化物層配置於上基板的外表面上。外表面包括第一區域與位於第一區域旁的第二區域。圖案化遮光層的邊緣至少部分地重疊第一區域與第二區域之間的邊界。圖案化氧化物層位於第一區域與第二區域的其中之一區域內，且露出第一區域與第二區域的另外一區域。

Description

顯示面板

本發明是有關於一種電子裝置，且特別是有關於一種顯示面板。

為了劃分與定義出顯示區域，顯示面板通常配置有例如黑矩陣的圖案化遮光層，其中圖案化遮光層可以具有框狀圖案或矩陣狀圖案，且由被框狀圖案或矩陣狀圖案環繞的區域作為顯示區域。黑矩陣層不僅可以定義顯示區域，亦可以防止不必要的漏光。

對於液晶顯示面板而言，包括液晶材料的顯示層配置於上基板與下基板之間，而上基板與下基板經由框膠(sealant)或黏合劑而相互貼附或組裝。當框膠或黏合劑為光固化材料，則上基板需為透光材質，使固化用的光線穿過上基板且照射於光固化框膠或光固化黏合劑。此外，在上基板與下基板組裝之後，遮光層經由諸如噴墨印刷製程(ink-jet printing process)、網版印刷製程(screen printing process)、凸版印刷製程(APR printing process)或其他類似製程的濕式製程以形成於上基板的頂表面上。遮光層 配置於非顯示區域上，用以屏蔽不必要的漏光並有助於改善顯示對比度。然而，藉由使用濕式製程所形成的遮光層的圖案通常不清晰，其可能影響遮光層的預期遮光效果。

本發明涉及一種顯示面板，其包括具有清晰圖案的遮光層。

本發明提供的一種顯示面板，其包括上基板、顯示層、圖案化遮光層以及圖案化氧化物層。上基板具有外表面。顯示層由上基板所覆蓋。圖案化遮光層配置於上基板的外表面上且位於第一區域內。圖案化氧化物層配置於上基板的外表面上。外表面包括第一區域與位於第一區域旁的第二區域。圖案化遮光層的邊緣至少部分地重疊第一區域與第二區域之間的邊界。圖案化氧化物層位於第一區域與第二區域的其中之一區域內，而露出第一區域與第二區域的另外一區域。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層位於第一區域中且配置於上基板與圖案化遮光層之間。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層具有與圖案化遮光層接觸的改質表面。

在本發明的一實施例中，上基板的外表面第二區域經受改質以形成改質外表面，且改質外表面相較於圖案化氧化物層的改質表面具有較好的疏水性。

在本發明的一實施例中，上基板的外表面更第一區域受到改質，改質外表面位於第一區域與第二區域，且圖案化氧化物層配置於在第一區域的改質外表面上。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層直接接觸於圖案化遮光層。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括底氧化物層。底氧化物層配置於上基板的外表面上且位於第二區域。

在本發明的一實施例中，底氧化物層露出第一區域。

在本發明的一實施例中，底氧化物層更位於第一區域且配置於上基板與圖案化氧化物層之間。

在本發明的一實施例中，底氧化物層具有帶有疏水特性的改質表面。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層的材料異於底氧化物層的材料。

在本發明的一實施例中，上基板的外表面被改質以形成改質外表面，且圖案化氧化物層配置於改質外表面上。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層的材料包括具有表面羥基的氧化物。

在本發明的一實施例中，氧化物包括選自熱蒸鍍的氧化矽、氧化銦錫、二氧化鈦以及氧化鋁的至少一種。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層位於第二區域中且露出第一區域。

在本發明的一實施例中，圖案化氧化物層具有帶有疏水特性的改質表面。

在本發明的一實施例中，外表面在第一區域被改質以形成改質外表面，且改質外表面相較於圖案化氧化物層的改質表面具有較差的疏水性。

在本發明的一實施例中，圖案化遮光層在第一區域直接接觸上基板。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括下基板。下基板相對於上基板配置，其中顯示層配置於上基板與下基板之間。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括框膠。框膠配置於上基板與下基板之間且環繞顯示層。

在本發明的一實施例中，圖案化遮光層的材料包括墨水材料。

基於上述，圖案化遮光層配置於基板的外表面上且位在第一區域，其具有相較於第二區域相對地親水的特性。當圖案化遮光層經由濕式製程形成於上基板上，圖案化遮光層的圖案較為清晰且其邊緣具有良好的線性度。據此，顯示面板的圖案化遮光層提供理想的遮光功能，用以改善顯示面板的品質。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H、100I、100J、200A、200B‧‧‧顯示面板

102、202‧‧‧第一區域

104、204‧‧‧第二區域

110、210‧‧‧圖案化遮光層

120A、120B、120C、220A、220B‧‧‧上基板

130、230‧‧‧下基板

140、240‧‧‧顯示層

150、250‧‧‧框膠

160A、160B、260‧‧‧圖案化氧化物層

170A、170B、170C‧‧‧底氧化物層

BN‧‧‧邊界

HB、HB’‧‧‧疏水性材料

S1A、S1B、S4A、S4B‧‧‧外表面

S2、S3A、S3B‧‧‧表面

圖1是依照本發明一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。

圖2至13是依照本發明其他實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。

現將詳細地參考本發明的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。

圖1是依照本發明一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。請參考圖1，顯示面板100具有第一區域102與在第一區域102旁的第二區域104。在上視圖中，第一區域102具有框狀圖案且環繞第二區域104。此外，顯示面板100包括位於第一區域102內的圖案化遮光層110。具體來說，在本實施例中的圖案化遮光層110具有框狀圖案，而第一區域102可以被視為配置有圖案化遮光層110的區域。圖案化遮光層110的邊緣重疊於第一區域102與第二區域104之間的邊界BN。圖案化遮光層110具有遮光效果，且顯示面板100的顯示光由圖案化遮光層110阻隔或屏蔽，而使顯示畫面呈現於第二區域104且第二區域104可以被視為顯示區域。在替代實施例中，圖案化遮光層110的圖案可以依據設計需求而有其他的圖案。

在一實施例中，圖案化遮光層110經由例如是噴墨印刷製程、網版印刷製程、APR印刷製程或其他類似製程的濕式製程而形成於顯示面板100的外表面。為了使圖案化遮光層110的圖案具有較好的邊緣線性度，用以形成圖案化遮光層110的表面可以經處理或改質，以呈現出在第一區域102的表面相對地親水，而在第二區域104的表面相對地疏水。

舉例來說，圖2是依照本發明一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。如圖2所示，顯示面板100A包括圖案化遮光層110、上基板120A、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A。圖案化遮光層110配置於顯示面板100A的頂部上，其中在上視角度的圖案化遮光層110的圖案可以相同或近似於圖1所繪示的圖案化遮光層110。具體來說，圖案化遮光層110具有框狀圖案，且顯示面板100A具有第一區域102和第二區域104，其類似於圖1所繪示的第一區域102與第二區域104。換句話說，上視角度的顯示面板100A相似於顯示面板100。

上基板120A和下基板130彼此相對的配置，且框膠150配置於上基板120A和下基板130之間。具體來說，上基板120A和下基板130經由框膠150而相互組裝。顯示層140配置於上基板120A與下基板130之間且由框膠150環繞。顯示層140的材料可以為液晶材料，使得上基板120A、下基板130、顯示層140以及框膠150可以作為液晶單元(liquid crystal cell)。

在本實施例中，上基板120A具有外表面S1A，且外表面 S1A可以完全地經處理或改質以帶有疏水特性。舉例來說，外表面S1A可以進行矽烷(silane)表面處理。在微觀下，外表面S1A上可以包括具有疏水特性的疏水性材料HB。在一實施例中，疏水性材料HB包括矽烷(silanes)、氟化矽烷(fluorinated silanes)、長鏈醇或酸。具體來說，疏水性材料HB可以包括羥基，以與圖2的外表面S1A或圖案化氧化物層160A反應。

此外，圖案化氧化物層160A形成且配置於在第一區域102的上基板120A的外表面S1A上。圖案化遮光層110更配置於圖案化氧化物層160A上，使得圖案化氧化物層160A配置於圖案化遮光層110和上基板120A之間且圖案化氧化物層160A直接接觸於圖案化遮光層110。圖案化氧化物層160A的材料包括具有表面羥基的氧化物，其可以進一步與疏水性材料HB反應。更具體地說，具有表面羥基的氧化物可以包括選自熱蒸鍍的氧化矽(SiO_x)、氧化銦錫(ITO)、二氧化鈦(TiO₂)以及氧化鋁(Al₂O₃)的至少一種。當圖案化氧化物層160A為熱蒸鍍的氧化矽所製成，圖案化氧化物層160A由於疏水性材料HB與熱蒸鍍的氧化矽之間的反應而可以具有小的水滴接觸角，使得用於形成圖案化遮光層110的墨水可以較好的分布於圖案化氧化物層160A的上方，以獲得圖案化遮光層110的理想圖案。也就是說，相較於疏水性材料HB，圖案化氧化物層160A的材料具有相對地較差的疏水性或較好的親水性。據此，形成於圖案化氧化物層160A上的圖案化遮光層110可以具有明確或清晰的圖案，且圖案化遮光層110的圖案 可以具有良好的邊緣線性度。

具體來說，當圖案化遮光層110經由例如是噴墨印刷製程的濕式製程以製造於圖案化氧化物層160A上，墨水材料滴落於在第一區域102中的圖案化氧化物層160A上。由於圖案化氧化物層160A相較於在第二區域104的外表面S1A具有較好的親水特性，使墨水材料可以均勻地分布於在第一區域102中的圖案化氧化物層160A的上方，而不會溢出至第二區域104。因此，墨水材料可以均勻地分布且穩定地限位於第一區域102內。此外，墨水材料在第一區域102與第二區域104之間的邊界可以具有較大的接觸角。其後，執行固化製程以固化墨水材料，而形成具有清晰圖案的圖案化遮光層110。特別地，圖案化遮光層110的圖案可以具有良好的邊緣線性度。

圖3是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖3，在本實施例中，顯示面板100B似於顯示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100B包括圖案化遮光層110、上基板120A、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160B，其中圖案化遮光層110、上基板120A、下基板130、顯示層140以及框膠150的功效與配置關係可以參考先前實施例的詳細說明，於此不再贅述。在本實施例中，圖案化氧化物層160B配置於具有疏水性材料HB的上基板120A的外表面S1A上。此外，圖案化氧化物層160B經處理或改質以使其上包括疏水性材料HB’，且圖案化 遮光層110配置於具有疏水性材料HB’的圖案化氧化物層160B的表面S2上。換句話說，改質表面S2接觸於圖案化遮光層110。於此，儘管圖案化氧化物層160B包括疏水性材料HB’，但仍相較於在第二區域104的上基板120A的外表面S1A具有較差的疏水性，而使圖案化遮光層110可以具有包括良好的邊緣線性度的清晰圖案。

顯示面板100B的製造過程可以包括以下步驟，但不以此為限。經由框膠150組裝上基板120A與下基板130之後，在上基板120A的整個外表面S1A上執行表面處理或改質製程，使得外表面S1A具有疏水特性。其後，圖案化氧化物層160B配置於在第一區域102的改質的外表面S1A上。在上基板120A的外表面S1A與圖案化氧化物層160B的表面S2上執行另一次表面處理或改質製程。接著。圖案化遮光層110形成於圖案化氧化物層160B上，以製造出顯示面板100B。舉例來說，表面處理或改質製程可以為矽烷表面處理製程。

在本實施例中，圖案化氧化物層160B的材料包括具有表面羥基的氧化物，其可以進一步與疏水性材料HB反應。更具體地說，具有表面羥基的氧化物可以選自包括熱蒸鍍的氧化矽、氧化銦錫、二氧化鈦或氧化鋁的至少一種，且上基板120A的材料可以為玻璃、石英或其他類似材料。相較於圖案化氧化物層160B的材料，上基板120A的材料對於表面處理或改質的製程更為有效，且圖案化氧化物層160的表面S2受到一次表面處理或改質製程，而 上基板120A的外表面S1A受到兩次表面處理或改質製程。據此，在第二區域104的改質的外表面S1A上的疏水性材料HB的分布密度相較於在圖案化氧化物層160B的表面S2上的疏水性材料HB’的分布密度較好，且改質的外表面S1A相較於圖案化氧化物層160B的改質表面S2具有較好的疏水性。因此，形成於相較於外表面S1A具有較差的疏水性的表面S2上的圖案化遮光層110具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

圖4是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖4，在本實施例中，顯示面板100C似於顯示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100C包括圖案化遮光層110、上基板120B、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A，其中圖案化遮光層110、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A的功效與配置關係可以參考圖2實施例的詳細說明，於此不再贅述。在本實施例中，上基板120B經由框膠150與下基板130組裝，且在第二區域104的上基板120B的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一區域102的上基板120B的外表面S1B不包括疏水性材料HB。因此，圖案化氧化物層160A相較於在第二區域104的上基板120B的外表面S1B具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

具體來說，顯示面板100C的製造過程可以包括以下步驟，但不以此為限。經由框膠150組裝上基板120B與下基板130 之後，在上基板120B的外表面S1B上執行表面處理或改質製程，使得外表面S1B具有疏水特性。接著，執行圖案化製程以圖案化具有疏水特性的區域，使得在第二區域104的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一區域102不包括疏水性材料HB。其後，圖案化氧化物層160A配置於在第一區域102的外表面S1B上，也就是沒有疏水性材料HB分布的外表面S1B上。接著，圖案化遮光層110通過例如是噴墨印刷製程的濕式製程以形成於圖案化氧化物層160A上。於此，在第二區域104的外表面S1B相較於圖案化氧化物層160A具有較好的疏水性。因此，在上視角度的圖案化遮光層110的圖案可以具有清晰圖案。

舉例來說，表面處理或改質製程可以為矽烷表面處理製程，且圖案化製程可以經由光罩屏蔽第二區域104且通過光罩照射電磁波於外表面S1B以執行。電磁波照射第一區域102，而未照射第二區域104。舉例來說，電磁波可以為紫外光(ultraviolet)或超紫外光(Extreme Ultraviolet)，其具有足夠的能量以分解在照射區域上的疏水性材料。因此，執行圖案化製程之後，在第二區域104的疏水性材料HB保持不變，而第一區域102的疏水性材料HB被分解，使得在第二區域104的外表面S1B具有疏水性材料HB，而第一區域102沒有。

圖5是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖5，在本實施例中，顯示面板100D似於顯示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體 來說，顯示面板100D包括圖案化遮光層110、上基板120B、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160B，其中圖案化遮光層110、下基板130、顯示層140以及框膠150的功效與配置關係可以參考圖2實施例的詳細說明，於此不再贅述。在本實施例中，上基板120B經由框膠150與下基板130組裝，且在第二區域104的上基板120B的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一區域102的上基板120B的外表面S1B沒有包括疏水性材料HB。於此，圖案化氧化物層160B配置於在第一區域102的上基板120B的外表面S1B上。此外，圖案化氧化物層160B可以經處理或改質而使其上包括疏水性材料HB’。圖案化遮光層110配置於具有疏水性材料HB’的圖案化氧化物層160B的表面S2上。於此，儘管圖案化氧化物層160B包括疏水性材料HB’，但仍相較於在第二區域104的上基板120B的外表面S1B具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以包括具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。具體來說，圖案化氧化物層160B的形成步驟可以參考圖3的實施例的詳細說明，且上基板120B的外表面S1B的形成步驟可以參考圖4的實施例的詳細說明。

圖6是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖6，顯示面板100E包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160A以及底氧化物層170A。顯示面板100E似於顯示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，圖 案化遮光層110、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A的功效與配置關係可以參考圖2的實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，經由環繞於顯示層140的框膠150組裝上基板120C與下基板130。底氧化物層170A配置於上基板120C的頂部上，且底氧化物層170A位於第一區域102與第二區域104。圖案化氧化物層160A配置於在第一區域102的底氧化物層170A上，且圖案化遮光層110配置於圖案化氧化物層160A上。此外，底氧化物層170A的表面S3A可經處理或改質，使其上包括疏水性材料HB。在本實施例中，疏水性材料HB分布於底氧化物層170A的整個表面S3A。

顯示面板100E的製造過程可以包括以下步驟，但不以此為限。經由環繞於顯示層140的框膠150組裝上基板120C與下基板130之後，底氧化物層170A形成於上基板120C的頂部上。進一步在底氧化物層170A的表面S3A執行表面處理或改質製程，使得改質表面S3A具有疏水特性。其後，圖案化氧化物層160A配置於在第一區域102的外表面S3A上。接著，圖案化遮光層110形成於圖案化氧化物層160A上。

底氧化物層170A的材料可以包括氧化鋁，表面處理或改質製程可以為矽烷表面處理製程，且底氧化物層170A的材料可以異於圖案化氧化物層160A的材料。舉例來說，圖案化氧化物層160A的材料可以包括具有表面羥基的氧化物，其可以進一步與疏 水性材料HB反應。更具體地說，具有表面羥基的氧化物可以包括選自熱蒸鍍的氧化矽、氧化銦錫、二氧化鈦以及氧化鋁的至少一種。舉例來說，底氧化物層170A的材料相較於圖案化氧化物層160A的材料於本質上而言可以具有較好的疏水性，但不以此為限。圖案化氧化物層160A使得第一區域102相較於第二區域104具有較差的疏水性。當圖案化遮光層110經由濕式製程形成於第一區域102，則圖案化遮光層110的圖案可以為具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

圖7是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖7，在本實施例中，顯示面板100F似於顯示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100F包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160B以及底氧化物層170A，其中圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140以及框膠150的功效與配置關係可以參考先前實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，圖案化氧化物層160B配置於具有疏水性材料HB的底氧化物層170A的表面S3A上且位於第一區域102內。圖案化氧化物層160B可以進行處理或改質以使其上包括疏水性材料HB’，且圖案化遮光層110配置於具有疏水性材料HB’的圖案化氧化物層160B的表面S2上。圖案化氧化物層160B的製造過程可以參考圖3的實施例的詳細說明，於此不再贅述。據此， 儘管圖案化氧化物層160B包括疏水性材料HB’，但仍相較於底氧化物層170A的表面S3A具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以包括具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

圖8是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖8，在本實施例中，顯示面板100G似於顯示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100G包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160A以及底氧化物層170B，其中圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A的功效與配置關係可以參考圖6的實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本發明中，在第二區域104的底氧化物層170B的表面S3B包括疏水性材料HB，而在第一區域102的底氧化物層170B的表面S3B沒有包括疏水性材料HB。此外，圖案化氧化物層160A形成於在第一區域102的底氧化物層170B上且相較於在第二區域104的底氧化物層170B的表面S3B具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以具有邊緣線性度良好的清晰圖案。

顯示面板100G的製造過程可以包括以下步驟，但不以此為限。經由環繞顯示層140的框膠150組裝上基板120C與下基板130之後，底氧化物層170B形成於上基板120C的頂部上。進一步於底氧化物層170B的表面S3B上執行表面處理或改質製程，使得表面S3B具有疏水特性。接著，執行圖案化製程以圖案化具有 疏水特性的區域，使得表面S3B在第二區域104包括疏水性材料HB，而在第一區域102沒有包括疏水性材料HB。其後，圖案化氧化物層160A配置於在第一區域102不具有疏水性材料HB的底氧化物層170B上。接著，圖案化遮光層110經由濕式製程形成於圖案化氧化物層160A上。

由於在第二區域104的底氧化物層170B具有疏水性材料HB且圖案化氧化物層160A形成於第一區域102中，使第一區域102提供較好的親水特性，且第二區域104提供較好的疏水特性，其有助於墨水材料藉由濕式製程均勻地分布於第一區域102內形成圖案化遮光層110，而沒有溢出至第二區域104。因此，可以使圖案化遮光層110具有清晰圖案。

圖9是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖9，在本實施例中，顯示面板100H似於顯示面板100G，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100H包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160B以及底氧化物層170B，其中圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140以及框膠150的功效與配置關係可以參考先前實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，圖案化氧化物層160B配置於具有疏水性材料HB的底氧化物層170B的表面S3B上。圖案化氧化物層160B可以經處理或改質而使其上包括疏水性材料HB’，且圖案化遮光 層110配置於具有疏水性材料HB’的圖案化氧化物層160B的表面S2上。圖案化氧化物層160B的製造過程可以參考圖3的實施例的詳細說明，於此不再贅述。於此，儘管圖案化氧化物層160B的表面S2包括疏水性材料HB’，但仍相較於底氧化物層170的表面S3B具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

圖10是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖10，在本實施例中，顯示面板100I似於顯示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100I包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160A以及底氧化物層170C，其中圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150以及圖案化氧化物層160A的功效與配置關係可以參考圖6的實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，圖案化的底氧化物層170C位於第二區域104內且露出第一區域102。底層氧化物170C上包括疏水性材料HB，用以在第二區域104提供疏水特性。圖案化氧化物層160A配置於第一區域102且相較於底氧化物層170C的表面具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

顯示面板100I的製造過程包括以下步驟，但不以此為限。經由框膠150組裝上基板120C與下基板130之後，底氧化物 層170C形成於上基板120C的頂部上。於底氧化物層170C的表面上執行表面處理或改質製程，用以在第二區域104提供疏水特性。接著，執行圖案化製程以移除在第一區域102的底氧化物層170C。底氧化物層170C的移除可以藉由執行微影蝕刻製程(lithographic-etching process)而達成，但不以此為限。其後，圖案化氧化物層160A配置於在第一區域102的上基板120C上。接著，圖案化遮光層110經由濕式製程形成於圖案化氧化物層160A上。

在本實施例中，底氧化物層170C可以僅配置於第二區域104內並暴露出第一區域102，且圖案化氧化物層160A直接配置於在第一區域102的上基板120C的頂部上。由於底氧化物層170C經處理或改質而具有疏水性且已被圖案化而限位於第二區域104內，而圖案化氧化物層160A位於第一區域102內，使得用於形成圖案化遮光層110的墨水材料可以藉由濕式製程均勻地分布於第一區域102上方，而不會溢出至第二區域104，而使固化的圖案化遮光層110的邊緣可以具有良好的邊緣線性度與清晰圖案。

圖11是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖11，在本實施例中，顯示面板100J似於顯示面板100I，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板100J包括圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、顯示層140、框膠150、圖案化氧化物層160B以及底氧化物層170C，其中圖案化遮光層110、上基板120C、下基板130、 顯示層140以及框膠150的功效與配置關係可以參考先前實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，圖案化氧化物層160B配置於在第一區域102的上基板120C上，而底氧化物層170C僅位於第二區域104且暴露出第一區域102。圖案化氧化物層160B可以經處理或改質，使其上包括疏水性材料HB’，且圖案化遮光層110配置於具有疏水性材料HB’的圖案氧化物層160B的表面S2上。圖案化氧化物層160B的製造過程可以參考圖3的實施例的詳細說明，於此不再贅述。於此，儘管圖案化氧化物層160B的表面S2包括疏水性材料，但仍相較於底氧化物層170C的表面具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層110可以具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

圖12是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖12，顯示面板200A包括圖案化遮光層210、上基板220A、下基板230、顯示層240、框膠250以及圖案化氧化物層260。圖案化遮光層210配置於顯示面板200A的上基板220A上，且圖案化遮光層210直接接觸於顯示面板200A的上基板220A，其中在上視角度的圖案化遮光層210的圖案可以相同或近似於圖1所繪示的圖案化遮光層110且具有框狀圖案。具體來說，顯示面板200A具有第一區域202與第二區域204，其相似於圖1所繪示的第一區域102與第二區域104。換句話說，在上視角度的顯示面板200A相似於顯示面板100，且第一區域202作為非顯示區域，而第二區域204作為顯示區域。

上基板220A與下基板230彼此相對配置，且框膠250配置於上基板220A與下基板230之間。具體來說，上基板220A與下基板230經由框膠250相互組裝。顯示層240配置於上基板220A與下基板230之間且由框膠250環繞。顯示層240的材料可以為液晶材料，使得上基板220A、下基板230、顯示層240以及框膠250可以作為液晶單元。

在本實施例中，上基板220A具有外表面S4A，且圖案化氧化物層260配置於外表面S4A上。配置於上基板220A的外表面S4A上的圖案化氧化物層260位於第二區域204內且暴露出第一區域202。圖案化遮光層210形成於在第一區域202的上基板220A的表面S4A上，而沒有位於第二區域204中。也就是說，圖案化氧化物層260僅配置於第二區域204，而圖案化遮光層210僅配置於第一區域202。

在本實施例中，顯示面板200A的製造過程可以包括以下的步驟，但不以此為限。經由環繞顯示層240的框膠250組裝上基板220A與下基板230之後，可以將圖案化氧化物層260形成於上基板220A上。具體來說，可以形成氧化物層於上基板220A的整個外表面上，於氧化物層上執行表面處理或改質製程，且進一步將氧化物層圖案化以暴露出第一區域202，使得具有疏水性材料HB的經改質表面的圖案化氧化物層260形成於第二區域204。因此，圖案化遮光層210經由濕式製程形成於在第一區域202的上基板220A上。

在本實施例中，圖案化氧化物層260可以藉由濕式製程來處理或改質以具有疏水特性。舉例來說，圖案化氧化物層260可以進行矽烷表面處理。在微觀上，圖案化氧化物層260可以於其上包括疏水性材料HB以具有疏水特性。疏水性材料HB包括矽烷、氟化矽烷、長鏈醇或酸。具體來說，疏水性材料HB可以包含羥基。此外，圖案化氧化物層260的材料可以包括在表面處理或改質製程中能夠有效被活化的材料。舉例來說，圖案化氧化物層260的材料包括氧化鋁。

當圖案化遮光層210經由例如是噴墨印刷製程的濕式製程而製造於上基板220A上，會將墨水材料滴落於在第一區域202的上基板220A上。由於圖案化氧化物層160使第二區域204相較於第一區域202具有較好的疏水特性，使墨水材料可以均勻地分布於第一區域202上方，而不會溢出至第二區域204。此後，執行固化製程以固化墨水材料，而形成具有清晰圖案的圖案化遮光層210。特別地，圖案化遮光層210的圖案可以具有良好的邊緣線性度。

圖13是依照本發明另一實施例的一種顯示面板的橫截面示意圖。請參考圖13，在本實施例中，顯示面板200B似於顯示面板200A，因此相同或近似的元件以相同或近似的標號表示。具體來說，顯示面板200B包括圖案化遮光層210、上基板220B、下基板230、顯示層240、框膠250以及圖案化氧化物層260，其中圖案化遮光層210、下基板230、顯示層240、框膠250以及圖案 化氧化物層260的功效與配置關係可以參考圖12實施例的詳細說明，於此不再贅述。

在本實施例中，圖案化遮光層210配置於在第一區域202的上基板220B上，而圖案化氧化物層260僅位於第二區域204且暴露出第一區域202。上基板220B的外表面S4B可以經處理或改質以使其上包括疏水性材料HB’，且圖案化遮光層210配置於具有改質材料HB’的上基板220B的改質外表面S4B上。儘管上基板220B的外表面S4B包括疏水性材料HB，但仍相較於圖案化氧化物層260的表面具有較差的疏水性，使得圖案化遮光層210可以具有良好的邊緣線性度的清晰圖案。

顯示面板200B的製造過程可以包括以下步驟，但不以此為限。經由環繞顯示層240的框膠250組裝上基板220B與下基板230之後，圖案化氧化物層260形成於上基板220B上。圖案化氧化物層260的形成方法可以參考圖12的實施例的詳細描述，於此不再贅述。形成暴露出第一區域202的圖案化氧化物層260之後，進一步執行表面處理或改質製程，使得在第一區域202的上基板220B包括疏水性材料HB’，且在第二區域204的圖案化氧化物層260包括疏水性材料HB。其後，圖案化遮光層210經由濕式製程以形成於在第一區域202的上基板220B上。

在一實施例中，圖案化氧化物層260的材料相較於上基板220B在表面處理或改質製程中可以有效地被活化，因此疏水性材料HB’在第一區域202的分布密度相較於疏水性材料HB的分布 密度較小。舉例來說，圖案化氧化物層260的材料包括氧化鋁。據此，當圖案化遮光層210經由例如是噴墨印刷製程的濕式製程以形成於上基板220B上，墨水材料滴落在第一區域202的上基板220B上。由於圖案化氧化物層260使第二區域204相較於第一區域202具有較好的疏水特性，墨水材料可以均勻地分布於第一區域202上，而不會溢出至第二區域204。其後，可照射電磁波以執行固化製程以固化墨水材料，而形成具有清晰圖案的圖案化遮光層210。具體來說，圖案化遮光層210的圖案可以具有良好的邊緣線性度。

綜上所述，本發明實施例的顯示面板包括圖案化遮光層與圖案化氧化物層。圖案化氧化物層配置於圖案化遮光層配置的區域，以提供相對地親水表面，且暴露出圖案化遮光層沒有配置的另一區域。圖案化氧化物層設置於圖案化遮光層未設置的區域，以提供相對地疏水表面，且暴露出設置有圖案化遮光層的區域。據此，顯示面板的圖案化遮光層可以藉由濕式製程而形成於顯示面板的頂部上且具有清晰圖案以提供理想的遮光效果。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

Claims (19)

1. 一種顯示面板，具有一第一區域和位於該第一區域旁的一第二區域，該顯示面板包括：一上基板，具有一外表面；一顯示層，該上基板覆蓋該顯示層；一圖案化遮光層，配置於該上基板的外表面上且位於該第一區域內，其中該圖案化遮光層的一邊緣至少部分地重疊該第一區域與該第二區域之間的一邊界；以及一圖案化氧化物層，配置於該上基板的該外表面上且位於該第一區域內而暴露出該第二區域，其中該外表面在該第二區域經受改質以形成一改質外表面，且該改質外表面相對於該圖案化氧化物層具有較好的疏水性。
2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該圖案化氧化物層配置於該上基板與該圖案化遮光層之間。
3. 如申請專利範圍第2項所述的顯示面板，其中該圖案化氧化物層具有與該圖案化遮光層接觸的一改質表面。
4. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該改質外表面相較於該圖案化氧化物層的該改質表面具有較好的疏水性。
5. 如申請專利範圍第4項所述的顯示面板，其中該上基板的該外表面更在該第一區域經受改質，該改質外表面位於該第一區域與該第二區域，且該圖案化氧化物層配置於該第一區域的該改質外表面上。
6. 如申請專利範圍第2項所述的顯示面板，其中該圖案化氧化物層直接接觸於該圖案化遮光層。
7. 如申請專利範圍第2項所述的顯示面板，更包括一底氧化物層，該底氧化物層配置於該上基板的該外表面上且位於該第二區域。
8. 如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該底氧化物層露出該第一區域。
9. 如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該底氧化物層更位於該第一區域且配置於該上基板與該圖案化氧化物層之間。
10. 如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該底氧化物層具有帶有疏水特性的一改質表面。
11. 如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該圖案化氧化物層的材料異於該底氧化物層的材料。
12. 如申請專利範圍第2項所述的顯示裝置，其中該上基板的該外表面更在該第一區域被改質以形成該改質外表面，且該圖案化氧化物層配置於該改質外表面上。
13. 一種顯示面板，具有一第一區域和位於該第一區域旁的一第二區域，該顯示面板包括：一上基板，具有一外表面；一顯示層，該上基板覆蓋該顯示層；一圖案化遮光層，配置於該上基板的外表面上且位於該第一 區域內，其中該圖案化遮光層的一邊緣至少部分地重疊該第一區域與該第二區域之間的一邊界；以及一圖案化氧化物層，配置於該上基板的該外表面上且位於該第二區域內而暴露出該第一區域，其中該圖案化氧化物層具有帶有疏水特性的一改質表面，該外表面在該第一區域經受改質以形成一改質外表面，且該改質外表面相對於該圖案化氧化物層的改質表面具有較差的疏水性。
14. 如申請專利範圍第13項所述的顯示面板，其中該圖案化遮光層在該第一區域直接接觸該上基板。
15. 如申請專利範圍第1或13項所述的顯示面板，更包括一下基板，該下基板相對於該上基板配置，其中該顯示層配置於該上基板與該下基板之間。
16. 如申請專利範圍第15項所述的顯示面板，更包括一框膠，該框膠配置於該上基板與該下基板之間且環繞該顯示層。
17. 如申請專利範圍第1或13項所述的顯示面板，其中該圖案化遮光層的材料包括墨水材料。
18. 如申請專利範圍第1或13項所述的顯示裝置，其中該圖案化氧化物層的材料包括具有表面羥基的一氧化物。
19. 如申請專利範圍第18項所述的顯示面板，其中該氧化物包括選自熱蒸鍍的氧化矽、氧化銦錫、二氧化鈦以及氧化鋁的至少一種。