1378978 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種分散液、透明導電膜形成用組成 物、透明導電膜及顯示器；更加詳細地說，關於一種可以 在塑膠、金屬、木材、紙、玻璃、石板等之各種基材之表 面形成透明性良好且具有高折射率之透明導電膜的透明導 電膜形成用組成物、由該組成物所得到之透明性良好且具 有高折射率的透明導電膜、具有透明導電膜的顯示器、以 及此種透明導電膜形成用組成物之調製中所使用之保存安 定性良好的分散液。 【先前技術】 在液晶顯示器、陰極射線管顯示裝置等之晝像顯示裝 置及光學製品中係使用防反射膜。在該防反射膜，除了高 透明性和低反射率以外，還要求耐擦傷性以及防止塵埃或 垃圾等之異物附著之功能。因此，在防反射膜之高折射率 層中，除了高透明性和高折射率特性以外，還要求良好之 耐擦傷性以及抗靜電特性。 作為對防反射膜之高折射率層賦予抗靜電特性之手 段可列舉如：界面活性劑、導電性聚合物或導電性金屬氧 化物之添加等之方法，當考量到所謂製作具有永久抗靜電 效果及高折射率之膜之目的時，一般係使用高折射率金屬 氧化物微粒及導電性金屬氧化物微粒之方法。作為調製此 種高折射率金屬氧化物微粒及導電性金屬氧化物微粒之方 法係有在樹脂溶液或溶劑中調入螯合劑，並使無機氧化物 1378978 分散在該調配物中之方法（例如參考專利文獻1及2)。 •[專利文獻日本特開2001 —139847號公報 [專利文獻2]日本特開2〇〇1 — 139889號公報 ' 【發明.内容】 [發明之揭示] [發明所欲解決的課題] 就使用於前述用途之高折射率導電性粒子分散液及 高折射率透明導電膜形成用組成物而言，係要求高折射率 金屬氧化物微粒及導電性金屬氧化物微粒之各個粒禋小且 分散液之保存安定性良好者。前述專利文獻i及2所 之螯合劑係形成金屬和螯合物，因此，會有分散處理過程 中所使用之金屬製機器或塗佈機材受到腐狀問題發生。 本發明係有鏗於前述之問題而完成者，其目的二 下列⑴至⑷者：⑴可以在基材之表面形成透明性良好且 耳有高折射率及抗靜電功能之透明導電膜且不使分 鲁過程中所使用之金屬製機器或塗佈機材受到腐钱的透. 電膜形成用組成物；⑺由該透明導電膜形成用組成物所得 到之透日雜良好且具有高折射率及抗靜電魏的透明 膜，⑶具有該透明導電膜的顯示器；以及⑷此種透明導 電膜形成用組成物之調製中所使用之保存安定性良好 .散液。 刀 [用以解決課題的手段] 本發明人們為了達成前述之各種目的而全心地進行 …檢討，其結果發現藉由將高拆射率金屬氧化物微粒、導電 己'V f 5 . 321127 1378978 性金屬氧化物微粒及不包含醇鹽之金屬錯合物分散在分散 媒中，並使水分成為3質量％以下，再藉由使用此種分散 液，即可得到作為目的之效果，遂而完成本發明。 也就是說，本發明之分散液，其特徵為：由折射率1. 8 以上之高折射率金屬氧化物、導電性金屬氧化物、不包含 醇鹽之金屬錯合物及分散媒所組成，且水分為3質量％以下 者；較佳之分散液係，相對於高折射率金屬氧化物每100 質量份，導電性金屬氧化物之含有量為30至900質量份， 金屬錯合物之含有量為3至450質量份以及分散媒之含有 量為60至9000質量份。 本發明之透明導電膜形成用組成物，其特徵為：由折 射率1. 8以上之高折射率金屬氧化物、導電性金屬氧化 物、不包含醇鹽之金屬錯合物、活化能射線硬化性化合物、 光聚合起始劑及分散媒所組成，且水分為3質量％以下者； 較佳之透明導電膜形成用組成物係，相對於高折射率金屬 氧化物每100質量份，導電性金屬氧化物之含有量為30 至900質量份，金屬錯合物之含有量為3至450質量份， 分散媒之含有量為60至70000質量份以及活化能射線硬化 性化合物之含有量為14至10000質量份，並且，相對於該 活化能射線硬化性化合物每100質量份，光聚合起始劑之 含有量為0. 1至20質量份。 本發明之透明導電膜，其特徵為：將前述之透明導電 膜形成用組成物塗佈或印刷於基材上，藉由光照射使之硬 化而得者；較佳之透明導電膜係，折射率為1.55至1.90， 6 321127 (8) 1378978 光透過率為85%以上，霧值為1.5%以下，並且，表面電阻 • 值為1〇12Ω/□以下者；此外，本發明之顯示器，其特徵 為·在顯不面具有該透明導電膜者。 - [發明之效果] 依據本發明而提供下列（1)至（4) : (1)可以在基材之 表面形成透明性良好且具有高折射率及抗靜電功能之透明 導電膜且不使分散處理過程中所使用之金屬製機器或塗佈 機材受到腐蝕的光硬化性透明導電膜形成用組成物；（2) • 由該透明導電膜形成用組成物所得到之透明性良好且具有 高折射率及抗靜電功能的透明導電膜；（3)具有該透明導電 膜的顯示器；以及（4)此種透明導電膜形成用組成物之調製 中所使用之保存安定性良好的分散液。 【實施方式】 [發明之最佳實施形態] 在以下，具體地說明本發明之實施形態。 φ 本發明之分散液係含有折射率1. 8以上之高折射率金 屬氧化物、導電性金屬氧化物、不包含醇鹽之金屬錯合物 及分散媒，且水分為3質量％以下者。就本發明中所使用之 高折射率金屬氧化物及導電性金屬氧化物之形狀而言，並 '無特別限定。此外，就高折射率金屬氧化物及導電性金屬 氧化物之大小而言，可以使用之一次粒徑通常為1至 lOOnm、最好是5至40nm者。 使用於本發明之高折射率金屬氧化物係為了控制所 形成之透明導電膜之折射率而添加，最好是使用折射率 1378978 1. 8至3. 0之高折射率金屬氧化物。此外，各個金屬氧化 物之折射率係材料固有之值，記載於各種文獻。在使用折 射率未滿1. 8之金屬氧化物時，無法得到高折射率膜，並 且，在使用折射率超過3. 0之金屬氧化物時，膜之透明性 有降低之傾向。就使用於本發明之高折射率金屬氧化物之 種類而言，如果是能夠達成目的者，則並無特別限定，可 以使用市面販賣品等之習知者。例如可以使用氧化錯（η = 2. 4)、氧化鈦（η = 2. 76)和氧化鈽（η=2. 2)等。這些高折射 率金屬氧化物係可以僅使用1種，也可以併用2種以上。 就使用於本發明之導電性金屬氧化物之種類而言，如 果是能夠達成目的者，則並無特別限定，可以使用市面販 賣品等之習知者。例如可以使用ΙΤΟ、ΑΤΟ、氧化錫、氧化 鋅、氧化銦、銻酸鋅及五氧化銻等。就氧化錫而言，也可 以使用摻雜磷等之元素者。就氧化鋅而言，也可以使用摻 雜鎵或鋁者。這些導電性金屬氧化物係可以僅使用1種， 也可以併用2種以上。 在使用包含醇鹽之金屬錯合物時，由於醇鹽經時地與 包含在溶劑之水分或空氣中之水分反應，而降低分散液及 透明導電膜形成用組成物之保存安定性和膜特性，因此， 在本發明中係使用不包含醇鹽之金屬錯合物。作為使用於 本發明之不包含醇鹽之金屬錯合物係可以列舉由鍅、鈦、 絡、猛、鐵、始、鎳、銅、叙、铭、鋅、銦、錫和翻所組 成之群組選出之金屬、較佳者係就分散液之色調少之點而 可列舉如：由結、鈦、銘、鋅、銦和錫所組成之群組選出 8 321127 1378978 之金屬、以及由/5 —酮類所組成之群組選出之配位基（其中 以由三甲基乙醯三氟丙酮、乙醯丙酮、三氟乙醯丙酮和六 氟乙醯丙酮所紕成之群組選出之配位基為佳）所構成的金 '屬錯合物。 在本發明，金屬錯合物係發揮作為分散劑之功能，因 此，可以得到分散液之保存安定性良好之分散液。此外， 金屬錯合物幾乎不腐蝕分散過程中所使用之金屬製機器或 塗佈機材。 ® 此外，以更提升分散液之保存安定性為目的，可再添 加其他之分散劑作為分散助劑。此種分散助劑之種類並無 特別限定，惟作為此種分散助劑之較佳者可列舉具有聚氧 化乙烯烧基構造之碌酸酯系分散劑。 在本發明之分散液及透明導電膜形成用組成物，為了 防止所含金屬氡化物粒子之粒徑經時地變大，因此，所含 之水分量成為3.質量％以下、較佳為1質量％以下、更佳為 鲁 0· 5質量％以下。於是，本發明中所使用之分散媒可以列舉 如.：曱醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、2_ 丁醇、辛醇等之醇 類；丙酮、甲基乙基酮、曱基異丁基酮、環己酮、4—羥基 —4—曱基一.2—戊酮等之酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳 酸乙酯、r—丁内酯'丙二醇單曱基醚乙酸酯、丙二醇單 乙基醚乙酸酯等之酯類；乙二醇單甲基醚、二乙二醇單丁 基醚等之醚類；苯、曱苯、二甲苯、乙苯等之芳香族烴類； 二曱基.曱醯胺、N.，N_二甲基乙醯乙醯胺、N—曱基吡咯烷 酮等之醯胺類等。該等之中，較佳者係乙醇、異丙醇、正
9 321127 1378978 丁醇、2—丁醇、甲基乙基酮、曱基異丁基酮、環己酮、4 —羥基一4-曱基一2 —戊酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、 二曱苯、乙苯，更加理想是曱基乙基酮、丁醇、二甲苯、 乙苯、曱苯。作為本發明之分散媒可以單獨使用1種，也 可以併用2種以上。 本發明之分散液中，各成分之調配比例可依分散液之 用途而適當地設定，惟相對於高折射率金屬氧化物每100 質量份，導電性金屬氧化物之含有量之較佳者為30至900 質量份、更佳者為40至500質量份，金屬錯合物之含有量 之較佳者為3至450質量份、更佳者為7至200質量份， 分散媒之含有量之較佳者為60至9000質量份、更佳者為 100至5000質量份。當導電性金屬氧化物之量低於前述之 下限值時，所形成膜之折射率雖變高，但卻降低導電性。 相反地，當導電性金屬氧化物之量高於前述之上限值時， 所形成膜之導電性雖變高，但卻降低折射率。此外，當金 屬錯合物之量低於前述之下限值時，高折射率金屬氧化物 粒子及導電性金屬氧化物粒子之分散變差，當高於前述之 上限值時，金屬錯合物會有不溶解於分散媒中而產生沉澱 的情形。此外，當分散媒之量低於前述之下限值時，金屬. 錯合物之溶解、高折射率金屬氧化物粒子及導電性金屬氧 化物粒子之分散變得不充分，當高於前述之上限值時，高 折射率金屬氧化物粒子及導電性金屬氧化物粒子之濃度過 度稀薄而變得不實用。 本發明之分散液係能夠藉由以任意之順序添加高折 10 321127 1378978 射率金屬氧化物、導電性金屬氧化物、金屬錯合物及分散 媒’使之充分地混合而製造。此外，也可以將由高折射率 金屬氧化物、金屬錯合物以及分散媒所組成之分散液，與 ^導電性金屬勒物、金屬錯合物以及分散媒所組成之分 散液進行混合而製造。普通來說，係在溶解有金屬錯合物 =分散液m折射率金屬氧化物和導電性金屬氧化物 ς散而製造。尤其可在進行分散操作之前，進行預分散操 乍。預分散操作係可以在溶解有金屬錯合物之分散媒中， 藉由分散器等而進賴拌，—邊徐緩地加人高折射率金屬 氧化物和導電性金屬氧化物，同時—邊獅高折射率全屬 氧化物和導魏金屬氧化物之塊體，直龍法以目視來確 §忍為止。 高折射率金屬氧化物和導電性金屬氧化物之分散操 ==使用Γ振覆器、球磨機、砂磨機、離心式研磨 機專而進订。最好是在分散操作之際 等之分散珠粒。珠粒徑綱 $ 〇 .. 為 0.05 至 0.65mm、更佳為 0.08 至 〇.65_、特佳為 〇·〇8 至 0..5nme 屬童」月Γ"7散液中’高折射率金屬氧化物和導電性金 =匕物之餘之較佳者係中值粒捏為⑽題電^ 者為80nro以下。中值粒 更佳 率透明導電膜，則會有由高浙射 之傾向^、 成物而得之透料電膜之霧值變高 本發明之分散液長期間穩定地分散有高折射率金屬. π 3-21127 1378978 f匕物粒子和導電性金屬氧化物粒子，並且，心不含有 屬之螯合劑’因此，可於金屬製容器中保存。 .本發明之分散液係可以包含於保護膜形成用組成 物:反射膜形成用組成物、接著劑、密封材、黏合材等 ^用’㈣是ϋ合使⑽形成“射率之防反射膜之組 成物。 本發明之制導電膜形成賴絲係含有高折射率 金屬氧化物、導電性金屬氧化物、不包含醇鹽之金屬錯合 物、活化能射線硬化性化合物、光聚合起始劑及分散媒， 且水分為3質量％以下者，其中，高折射率金屬氧化物'導 電性金屬氧化物、金屬錯合物和分散膜係如上所述。 作為使用於本發明之活化能射線硬化性化合物係可 以列舉如·自由暴聚合性單體、自由基聚合性寡聚物等。 作為自由基聚合性單體之具體例係可以列舉如：甲基（甲基） 丙烯酸酯、乙基（甲基）丙烯酸酯、異丙基（甲基）丙烯酸酯、 2—乙基己基（曱基）丙烤酸g旨、丁基（甲基）丙烯酸醋、環己 基（甲基）丙烯酸酯、四氫化糠基（曱基）丙烯酸酯、2_羥乙 基（曱基）丙烯酸酯、2 —羥丙基（曱基）丙烯酸酯、聚乙二醇 單（甲基）丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇單（曱基）丙烯酸酯、 聚丙—醇單（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇聚丙二醇單（甲基） 丙烯酸酯、聚乙二醇聚四亞甲二醇單（曱基）丙烯酸酯、環 氧丙基（曱基）丙烯酸酯等之單官能（曱基）丙烯酸酯；乙二 醇二（曱基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三乙 二醇二（曱基）丙烯酸酯、四乙二醇二（曱基）丙烯酸酯、聚 1378978 乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、 新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、烯丙基二（甲基）丙烯酸酯、 •雙酚A二（甲基）丙烯酸酯、環氧乙烷變性雙酚A二（甲基） •丙烯酸酯、聚環氧乙烷變性雙酚义.二（甲基）丙烯酸酯、1裏 氧乙烷變性雙酚S二（甲基）丙烯酸酯、雙酚§二（甲基）丙 烯酸酯、1，4—丁烷二醇二（甲基）丙烯酸酯、丁二醇 二C甲基）丙烯酸酯尊之二官能.（甲基）丙烯酸酯；三羥甲基 丙烷二（甲基）丙烯酸酯、丙三醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊 四醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、乙 烯變性二羥甲基丙烷三（曱基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等之三官能以 上之（曱基）丙烯酸酯；苯乙烯、乙烯基甲苯、乙酸乙稀、N —乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈、烯丙基醇等之自由基聚合性 苗胁 Λ 早體。 作為自由基聚合性寡聚物之具體例係可以列舉如：聚 籲酯（甲基）丙烯酸酯 '聚胺g旨（甲基）丙稀酸醋、環氧（甲基） ，丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯酸酯、低聚（甲基）丙烯酸酯、 醇酸（甲基）丙婦酸酯、聚醇（甲基）丙稀酸酯、聚石夕氧烧（甲 基）丙烯酸酯等之具有至少丨個之（甲基）丙烯醯基之預聚 體。特別理想之自由基聚合性寡聚物係聚酯、環氧、聚胺 錯之各種（曱基）丙稀酸酷。在本發明，活化能射線硬化性 化合物係也可以單獨使用丨種，也可以併用2種以上。 在本發明之透明導電膜形成用組成物，能夠藉由含有 光聚合起始劑（光增感劑）而以少量之活化能射線之照射， • 32】127 13 1378978 來硬化透明導電膜形成用組成物。 作為使用於本發明之光聚合起始劑（光增感劑）係可 以列舉例如1 一羥基環己基笨基酮、二苯曱酮、.苄基二甲 基酮、苯偶因曱醚、苯偶因乙醚、p—氯二苯甲酮、4 —苯 酿基一4 —甲基二苯基硫化物、2_节基一2 —二甲胺基一1 —(4—嗎啉代苯基）一丁酮一1、2—甲基一1 — [4—(甲硫基） 苯基]—2—嗎啉代丙酮一1。光聚合起始劑係也可以單獨使 用1種，也可以併用2種以上。 在本發明之透明導電膜形成用組成物，各種成分之調 配比例可因應透明導電膜形成用組成物之用途而適度地設 定，相對於高折射率金屬氧化物每100質量份，導電性金 屬氧化物之含有量之較佳為30至900質量份、更佳為40 至500質量份，金屬錯合物之含有量之較佳為3至450質 量份、更佳為7至200質量份，分散媒之含有量之較佳為 60至70000質量份、更佳為100至50000質量份，活化能 射線硬化性化合物之含有量之較佳為14至10000質量份、 更佳為35至2000質量份，並且，相對於活化能射線硬化 性化合物每100質量份，光聚合起始劑之含有量之較佳為 0. 1至20質量份、更佳為1至15質量份。 在導電性金屬氧化物量低於前述之下限值時，形成之 膜之折射率變高，但是，導電性降低。相反地，在導電性 金屬氧化物量高於前述之上限值時，形成之膜之導電性變 高，但是，折射率降低。在金屬錯合物量低於前述之下限 值時，高折射率金屬氧化物粒子及導電性金屬氧化物粒子 14 321127
曰有刀散不良之傾向’在高於前述之上 錯合物不溶解於分散媒中而產生沉凝的；值時’會有金屬 低於前述之下限值時，金屬錯合物之::形。在分散媒量 氧化物粒子及導電性金屬氧化物粒子< 南折射率金屬 分之傾向，在高於前述之上限值時，4散會有變得不充 粒子分散液之濃度過度稀薄而變得不2射率透明導電性 硬化性化合物量低於前述之下限值時=。在活化能射線 率變高而有降低透明性之傾向，在·,導電膜之折射 折射率無法高至所要求能 也^不充/刀。此外，在光聚合起始劑量低於前述之下限 值牯，會有降低光硬化性組成物之硬化速度之傾向，即使 是咼於前述之上限值，也無法得到與該值相稱之效果。
此外，本發明之透明導電膜形成用組成物中，在不損 害其目的之範圍内，亦可調配前述以外之慣用之各種添加 劑。作為此種添加劑係可以列舉如：阻聚劑、硬化觸媒、 抗乳化劑、流平劑、偶合劑等。 本發明之透明導電膜形成用組成物係可塗佈或印刷 於塑膠(聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚酯、 聚婦烴、環氧樹脂、三聚氰.胺樹脂、三乙酿基纖維素樹脂、 聚對苯二甲酸乙二醋、ABS樹脂、AS_樹脂、降获烯系樹脂 等）、金屬、木材、紙、麵、石板等之各種基材之表面， 使之硬化後而形成膜，例如可以使用於塑膠光學零件、觸 控面板、膜魏晶元件、_容器、作為建築时材之地 面材、壁材、人造大理石等之用以防止傷痕（擦傷）或防止 15 321127 1378978 污染之保護塗佈材；膜型液晶元件、觸控面板、塑膠光學 零件等之防反射膜；各種基材之黏著劑、密封材；印刷油 墨之黏合材等；特別是可適用為形成防反射膜之高折射率 膜之組成物。 透明導電膜形成用组成物對基材之塗佈或印刷係可 以按照常法，例如藉由壓輥塗佈、旋轉塗佈、網版印刷等 之方法而進行。由於需要而進行加熱，蒸發分散媒（溶媒）: 乾燥塗膜，接著，照射活化能射線（紫外線或電子束）。作 為活化能射線源係可以使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、金 屬鹵化物燈、氙燈、準分子雷射、色素雷射等之紫外線源 以及電子束加速裝置。活化能射線之照射量係在紫外線 時，適合在50至3000mJ/cm2之範圍内，在電子束時，適 合在0. 2至ΙΟΟΟβί：//^2之範圍内。藉由該活化能射線之 照射而聚合前述之活化能射線硬化性化合物，形成藉 脂而使高折射率金屬氧化物粒子和導電性金屬氧化物粒子 結合之膜。該膜之膜厚—般宜在G1至1Q (^m之範圍内。 使藉由本發明之分散液所調製之透明導電膜形成用 f成物硬化而得到之本發明之透明導電膜係高折射率金屬 ^物粒子及導電性金屬氧化物粒子呈均勻地分散於 控制折射率，並且’折射率變高，透明性 又&具體地說，折射率為1. 55至1. 90，去 透過率為85%以上，霧值為h⑽以下。為了控制折 Γ匕可以輕高折射率金屬氧化物粒子及導電性金ί氧 立子之里和活化能射線硬化性化合物之量之比率。透 321127 明導電膜係可以使用於顯示it之顯示面等 [實施例] 乂下係藉甴只她例及比較例而具體地說明本發明。此 外，實施例統較例中之「份」係全部為「質量份」。 ^使用於實施例及比較例之成分係如下述。 <高折射率金屬氧化物〉 氧化錯（折射率2.4、一次粒徑〇 〇2/zm) 氧化鈦（折射率2·76、一次粒徑〇 〇2"m) 〈導電性金屬氧化物> W〇(折射率2.0、粉體電阻10Ω · cm、一次粒徑0.06/zm) 氧化錫（折射率2.〇、粉體電阻100Ω ·αη、一次粒徑0.06 氧化鋅（折射率L 95、粉體電阻100 Ω · cm、一次粒徑0.06 β m) 〈金屬錯合物〉 φ 乙醯丙酮鍅（[Zr(C5H7〇2)4])
乙醯丙酮鈦（[Ti(C5H7〇2)4D 乙醯丙酮鋁（[ai(c5h7〇2)3]) 乙醯丙酮鋅（[Zn(C5H7〇2)2]) -乙醯丙酮銦（[In(C5H7〇2)3]) 雙（乙醯丙酮）二 丁基錫（[(C4H9)2Sn(C5H7〇2)2]) 單（乙醯丙酮）三丁氧基鍅（[(C4H9〇)3Zr(C5H7〇2)]) 〈分散助劑〉 BYK-Chemie 日本（股）公司製、BYK_142(NV. 60%以上） 17 321127 1378978 〈活化能射線硬化性化合物（多官能（甲基）丙烯酸酯單體）> 日本化藥（股）公司製、KAYARAD DPHA(二季戊四醇六丙烯酸 酯和二季戊四醇五丙烯酸酯之質量比：60比40之混合物） 〈光聚合起始劑〉 汽巴精化（股）公司製、IRGACURE 184 〈螯合劑〉
Daicel化學工業（股）公司製、乙醯丙酮 實施例1 以相對於氧化锆100質量份而成為100質量份之氧化 錫、40質量份之乙醯丙酮鍅、500質量份之2 — 丁醇及800 質量份之玻璃珠粒之量，放入所有成分至容器中，藉由塗 料振盪器而混練7小時。混練後，除去玻璃珠粒而得到分 散液。在該分散液中加入86質量份之DPHA、4. 3質量份之 IRGACURE 184及130質量份之2—丁醇而得到光硬化性組 成物。使用輥塗器塗佈該光硬化性組成物於膜厚75 // m之 PET膜（東洋紡公司A4300、光透過率91%、霧值0.5%)上， 使有機溶媒蒸發後，在空氣下，使用高壓水銀燈，照射 300mJ/cm2之光，製作厚度3/zm之透明導電膜。膜之製作 係於光硬化性組成物之後立刻進行以及6個月後進行。 實施例2 以相對於氧化鈦100質量份而成為43質量份之ΑΤΟ、 6質量份之乙醯丙酮鈦、14.3質量份之ΒΥΚ〜ι 42、500質量 份之2—丁醇及800質量份之玻璃珠粒之量，放入所有成 分至容中，藉由塗料振盈益而混練7小時。混練後，除 321127 丄獨y/8 去破璃珠粒而得到分散液。在該分散液中加入I"質量份 之DPHA、7.2質量份之IRGACURE184及16〇質量份之2-丁醇而传到光.硬化性組成物。然後’藉由相同於實施例1 之方法而製作厚度3#m之透明導電膜。 實施例3 以相對於氡化# 100質量份而成為233質量份之氧化 锡、33質量份之乙醯丙酮鋁、880質量份之2 —丁醇及800 魯 質量份之玻璃珠粒之量，放入所有成分至容器中，藉由塗 料振蓋器而混練7小時。在混練後’除去破璃珠粒而得到 分散液。在該分散液中加入143質量份之DPHA、7. 2質量 份之IRGACURE184及160質量份之2-丁醇而得到光硬化 性組成物。然後，藉由相同於實施例1之方法而製作厚度 之透明導電膜。 貫施例4 以相對於氡化鈦100質量份而成為丨卯質量份之氧化 • 鋅、.20質量份之乙醯丙酮鋅、5〇〇質量份之2—丁醇及800 質量份之玻璃珠粒之量’放入所有成分至容器中’藉由塗 料振盪器而混練7小時。在混練後，除去玻璃珠粒而得到 分散液。在該分散液中加入86質量份之DPHA、4. 3質量份 之IRGACURE 184及130質量份之2一 丁醇而得到光硬化性 組成物。然後，藉由相同於實施例1之方法而製作厚度3 “ m之透明導電膜。 實施例5 除了添加20質量份之雙（乙醯丙酮）二丁基錫來取代 εί 19 321127 1378978 20質量份之乙醯丙酮鋅以外，其餘係藉由相同於實施例4 之處理而製作厚度3/zm之透明導電膜。 實施例6 除了添加20質量份之乙醯丙酮銦來取代20質量份之 乙醯丙酮鋅以外，其餘係藉由相同於實施例4之處理而製 作厚度3/zm之透明導電膜。 比較例1 以相對於氧化鍅100質量份而成為100質量份之氧化 錫、20質量份之BYK-142 ' 600質量份之2-丁醇及800 質量份之玻璃珠粒之量，放入所有成分至容器中，藉由塗 料振盪器而混練7小時。在混練中，使分散液增加黏度。 比較例2 除了添加6質量份之乙醯丙酮來取代6質量份之乙醯 丙酮鈦以外，其餘係藉由相同於實施例2之處理而製作厚 度3/z m之透明導電膜。 比較例3 以成為100質量份之氧化錫、10質量份之乙醯丙酮 欽、600質量份之2—丁.醇及800質量份之玻璃珠粒之量， 放入所有成分至容器中，藉由塗料振盪器而混練7小時。 在混練後，除去玻璃珠粒而得到分散液。在該分散液中加 入150質量份之DPHA、5質量份之IRGACURE 184及100 質量份之2—丁醇而得到光硬化性組成物。然後，藉由相 同於實施例1之方法而製作厚度3# m之透明.導電膜。 比較例4 20 321127 ^-/8978 以成為100質量份之氧化錫、10質量份之乙酿丙嗣 錯、270質量份之2—丁醇及働質量份之破璃珠粒之量 放入所有成分至容器中，藉由塗料振盪器而混練7小時。 在混練後’除去麵珠粒而得到分散液。在該分散液中加 入43質量份之dpha、2. 2質量份之IRGACURE 184及60 貝菫份之2—丁醇而得到光硬化性組成物。然後，藉由相 同於實施例1之方法而製作厚度3_之透明導電膜。 比較例5 、除了添加40質量份之單（乙醯丙酮）三丁氧基錯來取 代40質量份之乙醯丙酮锆以外，其餘係藉由相同於實施例 1之處理而製作厚度3/zm之透明導電膜^ 比較例6 、除了添加40質量份之單（乙醯丙酮）三丁氧基鍅來取 代40貝虽伤之乙醯丙酮锆，添加9〇質量份之水和質 =伤之2_ 丁醇來取代500 f量份之2-丁醇以外，其餘係 错由相同於實施例1之處理而製作厚度3# m之透明導電 m 〇 〈評價方法〉 (1)金屬乳化物极子之中值粒徑 。在製作後、3個月後（保管於4〇。〇)、6個月後（保管於 40 C：)’藉由以下之條件，來測定分散於各個實施例及各個 比較例所製作之分散液和光硬化組成物之金屬氧化物粒子 之中值粒徑。 機态.日機裝（股）公司製之M i c r 〇 t r a c粒度分布計
21 321127 1378978 測定條件：溫度20°C 試料.以原液之狀,¾、來測定樣本 數據解析條件：粒徑基準、體積基準 分散媒：2—丁醇 折射率：1.40 (2) 透明導電膜之透過率、霧值 對各個實施例及各個比較例中所得到之透明導電 膜，藉由東京電色技術中心製之TC—HIIIDPK而測定透過 率及霧值。測定值係包含基材之值。 (3) 表面電阻值 對各個實施例及各個比較例中所得到之透明導電 膜，藉由三菱化學股份有限公司製之Hiresta IPMCP — HT260進行測定。 (4) 折射率 對各個實施例及各個比較例中所得到之透明導電 膜，藉由Atago(股）公司製之Abbe折射計DR —M4(20°C) 進行測定。 (5) 金屬製容器之腐钱 將實施例及比較例中所製作之分散液放入不鏽鋼容 器（SUS304 ; Fe-Cr —Ni系不鏽鋼製）中，藉由目視而評價 在静置1個月後之不鏽鋼容器之腐蝕狀態。 將前述之各個測定結果、評價結果以及各個組成物之 組成，一起顯示於表1。 22 321127 1378978 表1
實矻例 比較例 1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5 6 缺射牟金細 Zr(h TiO* ΖγΌ* TiOi Ti〇! TiOi ΖγΟϊ TiO* - ZrOi Zr〇2 Zr(h 導電性金展氧化物 SnOt ΑΤΟ SnOr ZnO ZnO ZnO SnOi ΑΤΟ Sn〇j — SnO* SnO* 金届錯合物之種0 乙趄丙 酮鍅 6趋丙明钛 乙籙丙暖 鋁 乙趄两 阕鋅 雙（乙雄 丙酮）二 丁基鍚 乙酲丙闲 m - - 乙醞丙明 鈦 乙趄丙 酮锫 單（乙醯 丙酮）三 丁氧基镑 單（乙趄 S明）三 丁氧基锫 分教助销之有蕪 無 有 無 Μ 無 無 有 無 無 無 無 無 相對於高折射率金展 如谈100質量份之導 電性金屬氧錄*(質 IX) 100 43 233 100 100 100 100 43 僅有導電 性金屬氡 化物 — 100 100 相辦缺射牟金>5氧 100質量份^金属 s^kitda%) 40 6 33 20 20 20 - — 相對於導 電性金屬 氧化物 100質量 份而成為 10 10 40 40 相對於高折射荜金展氧 她100質*份之乙埋 丙酮*(質*6) — - — - 6 相對於高折射率金廣氧 100質量份之樹磨 量(質热） 86 143 143 86 86 86 - 143 相對於導 電性金眉 氧化物 100質量 份為150 43 85 86 分敌液之水分*(%) 0.2 0.3 0.2 0.2 0.4 0.2 0.4 0.2 0.4 0.3 0.5 12 缺化组成物^分 量(¾) 0.1 0.2 0.1 0.08 0.2 0,2 0.3 0.09 0.3 0.2 0.4 9,3 分散液之中值粗徑 (ran) 相期 73 50 77 55 60 58 - 60 42 44 60 70 3個月後 65 57 70 45 55 52 - 70 53 35 95 320 6個月後 80 60 72 53 64 65 — 72 50 40 200 500 初期 78 55 70 53 54 50 - 58 45 43 75 80 先硬化组成物之中值 粗徑(咖） 3個月後 66 65 72 48 58 59 - 65 50 31 102 290 5個月後 76 62 74 60 61 65 - 70 50 38 195 500 透過率(《) 初期 86 85 87 86 86 86 — 8δ 83 88 86 86 霧值(X) 初期 0.8 1.0 0.7 1.0 0.9 1.0 - 1.0 1,2 0.6 0.8 0.8 表面電阻值(Ω/〇 初期 5x10, 5x10" 1x10，· 1x10' 1x1 〇· 1x10" 7x10" 1x10” >1x10" 3x10" 5x10* 透過準(X) f i個月後 86 85 87 86 86 86 - 85 83 .89 85 85 疾值00 ;個月後 0.7 1.1 0.5 0.8 1.0 0.6 — 1. 1 1.0 0.5 1.8 •5.0 23 321127 1378978 表面電阻值(Ω/〇 6個月悛 7x10* 3x10" 4x101β 2xi 09 3x10* 5x10* - 5x10" 9x1010 >1x10" 3x10'° 5x10" 折射牟 1.68 1.68 1.69 1.74 L74 1.74 — 1.68 1.54 1.71 1.68 Κ68 金容器蝕 無 無 無 無 無 無 一 有 無 無 無 無 由表1所示之數據而明白地顯示：在含有金屬錯合物 時（實施例1至6)，不論是否有無分散助劑，可得到具有 良好之保存安定性之分散液，即使是保管於金屬製容器 時，在金屬製容器亦無見到腐蝕發生。此外，使用實施例 1至6所得到之分散液之光硬化性組成物進行塗佈而得到 之透明導電膜係具有折射率1. 55至1. 90、透過率85%以 上、霧值1. 5%以下、表面電阻值1012Ω/□以下之所謂高 折射率及高透明性且導電性良好者。在無添加金屬錯合物 時（比較例1)，因不容易分散而無法得到均勻之分散液。 此外，將添加乙醯丙嗣並使之分散的分散液（比較例2)保 存於金屬製容器時，認定容器顯著地腐蝕。在無添加高折 射率金屬氧化物時（比較例3)，無法得到完全地滿足高折 射率、高透明性及導電性之膜。在無添加導電性金屬氧化 物時（比較例4)，無法認定膜之導電性。在包含醇鹽來作. 為金屬錯合物時（比較例5及6)，粒徑係經時地變大，膜 特性也大幅度地變化。此外，在包含許多水時（比較例6)， 認定粒徑顯著地增大。 【圖式簡單說明】無 【主要元件符號說明】無 24. 321127