TWI378072B - A process for manufacturing mcm-22 family molecular sieves - Google Patents

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TWI378072B
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Description

(1) 1378072 、 九、發明說明 v 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種製造MCM-22族分子篩的方法’ 及彼等使用於烴轉化之用途。 【先前技術】 無論是天然和合成之分子篩材料均已在過去証實在用 φ 於不同類型烴轉化時具有催化性質。一些分子篩(例如沸 石、AlPOs、及/或中孔材料)在X光繞射(xrd )鑑定下 係爲具有固定結晶結構之有序、多孔晶形材料。在晶形分 子篩材料之間有大量的孔隙,它們可經由許多通道或孔洞 互相連接。這些孔隙和孔洞在特定的分子篩材料內爲均勻 大小。因爲這些孔洞的尺寸只吸附特定尺寸而拒絕較大的 尺寸’這些材料習稱爲「分子篩」並應用在多種工業製程 中 〇 # 這些天然和合成之分子篩包括廣泛多樣的含陽離子晶 形砂酸鹽。這些矽酸鹽可描述爲Si04和週期表(IUPAC 1 997 )瓜A族元素氧化物(例如a1〇4 )之剛性三次元結構 。該四面體利用分享氧原子而交聯,而總共之瓜A族元素 (例如錫)和矽原子對氧原子的比率爲1: 2。該含有皿八 族元素(例如铝)的四面體電價之平衡係藉由將陽離子結 晶’例如質子、鹼金屬或鹼土金屬陽離子,包括於其中。 其表不可爲1ΠΑ族元素(例如鋁)對各種不同陽離子,例 如H+、ca2 + /2、Sr2 + /2、Na+、K +或Li+,的數目比率等於 -4- (2) 1378072 在催化中應用的分子篩包括任何的天然生成或合成晶 體分子篩。這些沸石的例子包括大孔洞沸石、中孔洞大小 沸石、和小孔洞沸石。這些沸石和它們同型物述於「Atlas of Zeolite Framework Types」,編輯 W.H. Meier,D.H. Olson 和 Ch. Baerlocher,Elsevier > 第五版,200 1 > 其將
以參考方式被包括於本文。大孔洞沸石通常具有至少約 7A 的孔徑且包括 LTL、VFI、MAZ、FAU、OFF、*BEA、 和MOR架構類型沸石(IUPAC沸石命名法委員會)。大 孔洞沸石的例子包括針沸石(mazzite)、菱鉀沸石、沸石 L、VPI-5、沸石Y、沸石X、Ω和点。中孔洞沸石通常具 有由約5A至低於約7A的孔徑,及包括例如MFI、MEL、 EUO、MTT、MFS、AEL、AFO、HEU、FER、MWW、和 TON架構類型沸石(IUPAC沸石命名法委員會)。中孔徑 沸石的例子包括 ZSM-5、ZSM-11、ZSM-22、MCM-22、矽 φ 沸石1、和矽沸石2。小孔徑沸石通常具有由約3 A至低於 約5人的孔徑,及包括例如CHA、ERI、KFI、LEV、SOD 、和LTA架構類型沸石(IUPAC沸石命名法委員會)。 小孔洞沸石的例子包括ZK-4、ZSM-2、SAPO-34、SAPO-35、ZK-14、SAPO-42、Z K - 2 1、Z K - 2 2、Z K - 5、Z K - 2 0、 沸石A、菱沸石、沸石T、鈉菱沸石、ALPO-17、和斜發 沸石。 美國專利第4,439,4〇9號提及稱爲PSH-3之晶形分子 篩組成物’及彼由含有六伸甲基亞胺(其爲於合成M CM- -5- (3) 1378072 ★ 56時作爲導向劑之有機化合物(us專利號5,362,697)) V 的水熱反應混合物合成之方法。六伸甲基亞胺亦被教示可 用於合成晶形分子篩MCM-22(US專利號4,954,325)和 MCM-49(US專利號5,236,575)。稱爲沸石SSZ-25之分 子篩組成物(US專利號4,826,667 )是由含有金鋼烷四級 銨離子之水熱反應混合物合成而得。US專利號6,077,498 提及稱爲IT Q-1之晶形分子篩組成物,及彼由含有—或多 φ 種有機添加劑之水熱反應混合物的合成方法。 於本文中所使用之「MCM-22族材料」(或「材料 MCM-22族」或「MCM-22族分子篩」)一詞包括下列之 —或多項: (i)由普通一級晶體結構單元晶格製得之分子篩, 其中該晶格具有MWW架構拓樸。(晶格係爲一種原子的 空間排列,其若排列於三次元空間內可描述該結晶結構。 這類結晶結構在「Atlas of Zeolite Framework Types」( φ 沸石架構類型彙集),第五版,200 1中討論,其所有涵蓋 .內容以參考方式包括於本文); (Π )由普通二級結構單元製得之分子篩,其係爲該 MWW架構拓樸晶格之二次元排列,因此形成一個晶格厚 度,較佳爲一個c-晶格厚度,的單層; (iii)由普通二級結構單元製得之分子篩,其係爲一 個或超過一個晶格厚度的層數,其中超過一個晶格厚度的 層是由堆積、累積、或結合至少二個一晶格厚度之單層製 得。這種二級結構之堆積可爲規則形式、不規則形式、任 -6- (4) 1378072 . 意形式、或彼等之任何組合;及 (iv )由具有MWW架構拓樸之晶格以任何的規則或 任意2-次元或3-次元組合製得之分子篩。 這些MCM-22族材料的鑑定係爲具有包括d間距最大 値 12.4±0.25、3·57±0·07 和 3·42±0·07 埃(經鍛燒或合成 )之X光繞射圖譜。這些MCM-22族材料的鑑定亦可爲具 有包括 d 間距最大値 12.4±0.25、6.9±0.15、3.57±0.07 和 | 3.4 2±0.07埃(經鍛燒或合成)之X光繞射圖譜。使用於 對該分子篩進行鑑定之X光繞射數據可得自:使用銅之 Κ-α雙峰作爲入射輻照物的標準技術,及裝置有閃爍計數 器和組合式電腦做爲收集系統之繞射儀。屬於MCM-22族 的材料包括 MCM-22 (述於 U.S.專利號 4,954,325)、 PSH-3 (述於 U. S.專利號 4,439,409 ) 、S S Z - 2 5 (述於 U . S · 專利號4,826,667 ) 、ERB-1 (述於歐洲專利號0293032 ) 、ITQ-1 (述於 U.S·專利號 6,077,498) 、ITQ-2(述於國 φ 際專利公開號W0 9 7/17290) 、ITQ-30(述於國際專利公 開號 WO 2005118476) 、MCM-36(述於 U.S.專利號 5,25 0,277 ) 、MCM-49 (述於 U.S.專利號 5,236,575 )和 MCM-56 (述於U.S.專利號5,362,697 )。這些專利的所有 內容將以參考方式納於本文中。 可理解者爲於上文中述及之MCM-22族分子篩與習知 之大孔洞沸石烷基化觸媒,例如絲光沸石,有所差異,這 些MCM-22材料具有並不與該分子篩的10-環內孔洞系統 交流的12-環表面孔袋。 (5) 1378072 . 稱之爲ΙΖΑ-SC且爲MWW拓樸的沸石材料爲多層材 料,其由於同時存有10和12員環而造成兩種孔洞系統。 沸石架構類型彙集將五種不同之已命名材料分類成具有與 之相同的拓撲:MCM-22、ERB-1、ITQ-1、PSH-3、和 SSZ-25 。 已發現MCM-22族分子篩在多種烴轉化方法中極爲有 用》MCM-22族分子篩的例子爲 MCM-22、MCM-49、 • MCM-56、ITQ-1、PSH-3、SSZ-25、和 ERB-1。這些分子 篩可有用地使用於芳香族化合物的烷基化作用。例如US 專利號6,936,744揭示一種製造單烷基化芳香族化合物, 特別爲異丙基苯,之方法,其包含之步驟爲:在至少部份 液相條件及存有烷基轉移觸媒下,將多烷基化芳香族化合 物與可烷基化芳香族化合物接觸以生成單烷基化芳香族化 合物,其中烷基轉移觸媒包含至少二種不同晶形分子篩的 混合物’及每一分子篩係選自沸石々、沸石γ、絲光沸石 φ 和具有X光繞射圖譜包括d間距最大値12.4±0.25' 6.9土 0.15、3_57±0.07 和 3·42±0·07 埃(A)之材料。 包括 MCM-22、MCM-49 和 MCM-56 之 MCM-22 族分 子篩在烴轉化方法中具有各種不同應用。然而,它們價格 昂貴並且製造耗時》因此有必要有—種改良的高產量方法 用於製造MCM-22族分子篩,尤其是MCM-22材料。吾人 已發現MCM-22族分子篩之製備產量可藉由改進配製物和 結晶條件而改良。新的改進、連同較短的結晶時間、降低 原料使用、及/或較高產率可引致製造時的製造成本降低 -8 - (6) (6)1378072 【發明內容】 在一個具體實例中,本發明係有關於一種製造MCM-22族分子篩的方法,該方法包含下列之步驟: (a)提供包含至少一種四價元素離子源、至少一種 鹼金屬氫氧化物源、至少一種導向劑(R)、水、和視情 況選用之至少一種三價元素離子源的混合物,以致形成具 有下列之莫耳組成之混合物: Y : x2 = 1 〇至無限 h2o :Y = 1至20 OH' :Υ = 0.001 至 2 M+ : Υ = 0.001 至 2 R : Υ = 0.00 1 至 0.34 其中Y爲四價元素,X爲三價元素,Μ爲鹼金屬; (b )在結晶條件下處理該混合物低於72小時而形成 分子篩,其中該結晶條件包含溫度由約16〇°C至約250 °C 之間的範圍;及 (c )回收該分子篩。 在另一個具體實例中,本發明係有關於一種結晶 MCM-22族分子篩的方法,該方法包含下列之步驟: (a)提供包含至少一種四價元素離子源、至少一種 鹼金屬氫氧化物、至少一種導向劑(R )、水、和視情況 選用之至少一種三價元素離子源的混合物,以致形成具有 -9 - (7) 1378072 . 下列之莫耳組成之混合物: Y : X2 = 10至無限 H20 : Y = 1 至 20 OH" : Y = 0.001 至 2 M+ : Y = 0.001 至 2 R : Y = 0.001 至 0.34 其中Y爲四價元素,X爲三價元素,Μ爲鹼金屬;及 I (b)在結晶條件下處理該混合物低於72小時而形成 分子篩’其中該結晶條件包含溫度由約1 6 〇。(:至約2 5 0 °C 之間的範圍及至少0.001 hr·1之每小時重量產量》 在另一個具體實例中’本發明係有關於一種藉由包含 下列步驟之方法製得之MCM-22族分子鋪: (a) 提供包含至少一種四價源、至少一種鹼金屬氧 化物、至少一種導向劑(R )、水、和視情況選用之一種 三價元素源的混合物’以致形成具有下列之莫耳組成之混 合物: Y : x2 = 10至無限 Η20:Υ = 1 至 20 OH· : Y = 〇·〇〇 1 至 2 M+ : Y = 0.001 至 2 R : γ = 0.001 至 0.34 其中Y爲四價元素,X爲三價元素,M爲鹼金屬;及 (b) 在結晶條件下處理該混合物而形成分子篩,其 中該結晶條件包含溫度由約165。(:至約250 t:之間的範圍 -10- (8) 1378072 ,且結晶時間低於72小時。 在一個具體實例中,本發明係有關於一種烴轉化方法 ,該方法包含下列之步驟: (a)在轉化條件下將烴進料與藉由於前述段落列舉 或於下文特別定義之方法或製程製得之MCM-22族分子篩 接觸以形成產物;及 (b )取出該產物。 上述及本發明之其他方面將由隨後的詳細敘述、圖式 、和所附申請專利範圍而變得顯而易知。 導論 於本文中所引用之所有專利、專利申請案、測試步驟 、優先權文件、文章、文獻、手冊和其他文件均以參考方 式完全地納入’所達範圍爲與本發明一致之揭示及容許納 入的所有權限。
當數目底限和數目上限列於本文中時,由任何底限至 任何上限之範圍均列入考慮。 當於本說明書中使用「架構類型」一詞時係依「沸石 架構類型囊集」’編輯Ch. Baerlocher,W.H. Meier,和 D.H_ Olson,Elsevier’第四版,2001,所述及之意義》 MCM-22、MCM-49、和MCM-56晶形材料在X光繞射 圖譜上相互地並與其他晶形材料有所區別。 於本發明所述及X光繞射數據的收集係使用裝置有鍺 固態偵測器,使用銅Κ- α射線之辛泰(Scintag )繞射系 -11 - (9) 1378072 * 統。繞射數據利用步進掃描記錄在二-0 (20 )之0.02角 ·· 度,其中0爲布拉格(Bragg )角,及每一步的計數時間 爲10秒。晶面間距,d,是以A的單位計算,及高於底線 之峰相對強度,I/Iq爲最強峰強度之100分之1,係利用 剖面匹配(profile fitting)程序(或第二衍生運算)而得 。該等強度未經洛倫茲(Lorentz)和極化效應的校正。所 示之相對強度符號VS =極強(大於60至100) ,S =強( | 大於40至60) ,M =中度(大於20至40)和W =弱(〇-20 )。應理解者爲所列繞射數據中之單峰可由複數相疊的 峰組成,其於特定情況,例如不同之晶體改變,會以解析 或部份解析的峰顯現。典型地爲晶體改變可包括晶格參數 及/或結晶對稱改變的微小變化而無結構的變化。這些包 括相對強度改變的微小作用亦可由於陽離子含量、結構組 成物、性質和孔洞充塡程度的不同,及熱及/或水熱歷程 而發生。繞射圖案的其他變化說明材料間的重要變化,如 .同 MCM-22 與相似材料如 MCM-49、MCM-56、和 PSH-3 相比較的情形。 應理解者爲該X光繞射圖譜是本發明晶形組成物所有 種類的特徵。鈉形式和其他陽離子形式顯示出實質上相同 的圖譜,但在晶面間距有一些微小的偏移且相對強度有些 變異。亦會依據X比Y,例如矽比鋁,特定試樣的比率’ 和其熱(例如鍛燒)的程度而產生其他微小變異。 習知M C Μ - 2 2 -12- (10)1378072 習知MCM-22晶形材料具有與莫耳關係相關之組成: X2〇3: ( η) Υ〇2 其中X爲三價元素’例如鋁、硼、鐵及/或鎵,較佳爲鋁 ,Υ爲四價元素’例如矽及/或鍺,較佳爲矽,及η爲至少 約10,通常由約10至約150,更普遍地由約10至約60, φ 及甚至更普遍地由約20至約40。在合成形式中,以無水 物爲基準且以每η莫耳丫〇2的氧化物莫耳數表示係具有下 列化學式= ( 0.005-0.1) M20: ( 1-4) R: Χ203: ηΥ02 其中Μ爲驗或鹼土金屬,及R爲有機部份。μ和R組成 在合成期間與該材料結合而存在,並藉由將於下文中更特 • 別敘述之後合成方法簡易地移除。 在其锻燒形式時,此習知的MCM-22晶形材料具有之 X光繞射圖譜與其他習知晶形材料圖譜之區別係由於下列 表I所列之波峰:
表I
晶面d -間距(A ) 相對強度X100 30.0±2.2 W-M 22‘ 1± 1 .3 W -13- (11)1378072 更特定地係由於下列表Π所列之波峰: 表π
晶面d·間距(A) 相對強度,I/U xlOO 30.0±2.2 W-M 22_1±1.3 W 3.9 110.07 M-VS
及更特定地係由於下列表m所列之波峰: 表m
晶面d-間距(A) 相對強度,1/1。χΐ〇〇 30·0±2.2 W-M 22·1±1 .3 W 6.00±0.10 M-W 4·64±0.08 W 4.06±0·07 W-S 3.91+0.07 Μ-VS 本發明之MCM-22族分子篩組成物之特徵在於該合成 材料之X光繞射圖譜在26.6。和29°之間(2 0 )具有至少 一個額外波峰,此可由參考實施例和實施例1(圖1和2 )說明。 依據USP 4,954,325之製造方法製得之MCM-22分子 篩的SEM影像示於圖5。依據USP 4,954,325製造方法之 MCM-22分子篩具有不太符合爲六角形小片狀形態所定義 的薄層,及平均之小片狀直徑低於約1微米。本發明 MCM-22族分子篩的SEM影像示於圖6。本發明之MCM- -14- (12) 1378072 22族分子篩(圖6)具有比圖5更符合爲六角形小片狀形 態所定義的薄層,及具有實質相似之平均小片狀直徑。然 而,本發明之MCM-22粒子一般地比依據USP 4,954,3 25 製造方法所製得之MCM-22粒子更厚。 習知MCM-49 習知MCM-49晶形材料具有與莫耳關係相關之組成: X2〇3 : (η) Υ〇2 其中X爲三價元素,例如鋁、硼、鐵及/或鎵,較佳爲銘 ;丫爲四價元素’例如矽及/或鍺,較佳爲矽;及η爲低於 約35,例如由2至低於約35,通常由約10至低於約35’ 更普遍地由約1 5至約3 1。在合成形式中,該材料以無水 物爲基準且以每η莫耳γ〇2的氧化物莫耳數表示係具有下 φ 列化學式: (0.1-0.6) M20 : ( 1.4) R: X2〇3: ηΥ02 其中Μ爲鹼或鹼土金屬,及R爲有機部份。M和r組分 在合成期間與該材料結合而存在(此爲彼等在結晶期間存 在之結果),並藉由將於下文中更特別敘述之後結晶方法 簡易地移除。 在其合成形式時,此習知的MCM_49晶形材料具有之 -15- (13) 1378072 * X光繞射圖譜與其他習知之經合成或經熱處理晶形材料圖 譜之區別係由於下列表IV所列之波峰:
表IV 晶面d-間距(A) 相對強度,Ι/Ιο xlOO 1 3.1 5 ± 0.2 6 w-s* 12·49±0·24 vs 1 1 · 1 9±0.22 M-S 6.43±0.12 W 4·98±0.10 W 4·69±0.09 W 3.44+0.07 VS 3·24±0·06 W *肩峰
對習知MCM-49而言,在13.15±0·26 A單位(A)的 X光繞射峰通常無法與在12·49±0.24 A的強峰完全解析出 ,因此是以該強峰的肩峰觀察到。爲此理由,對於在所述 φ 範圍內決定此13.15±〇.26 A峰的精確強度和位置有所困難 〇 在它锻燒形式,本發明之習知MCM-49晶形材料轉形 成單一晶相’其僅有很少或無的可偵測雜質晶相並具有無 法與習知MCM-22輕易區分的X光繞射圖譜,但可與其他 的習知晶形材料圖譜區分出。該經锻燒形式之習知MCM_ 49之X光繞射圖譜包括於下列表v所列之波峰: -16 - (14) 1378072
表V 晶面d-間距(A) 相對強度,ΙΠοχΙΟΟ 12.41+0.24 VS 1 1 ·10土0.22 S 8.89+0.17 M-S 6.89+0.13 W 6.19 + 0.12 M 6.01+0.12 W 5.56+0.11 W 4.96+0.10 w 4.67±0.09 w 4.59±0.09 w 4.39±0.09 w 4.12+0.08 w 4.07+0.08 W-M 3.92+0.08 W-M 3.75±0.07 W-M 3·57±0·07 W 3.43+0.07 S-VS 3.3 1+0.06 W 3.21+0.06 W 3. 12±0·06 W 3.07±0.06 w 2.83+0.05 w 2·78±0·05 w 2.69+0.05 w 2.47±0.05 w 2.42±0·05 w 2.38+0.05 w
水熱反應混合物之配製物 合成沸石通常是製備自含有適當氧化物源之水性水熱 反應混合物(或合成混合物/合成凝膠)。有機導向劑亦 -17- (15) 1378072 • 可爲了影嚮製造之沸石具有所需結構而包括在該水熱反應 . 混合物內。此類導向劑的用途已在Lok等人之論文中論及 ’題目爲「The Role of Organic Molecules in Molecular Sieve Synthesis」,發表於 Zeolites,第 3 冊,1 983 年 10 月,pp. 282-291。 在水熱反應混合物的組成相互地適當混合之後,該水 熱反應混合物被導至適當的結晶條件。這些條件通常與將 φ 該水熱反應混合物加熱至昇高之溫度有關並可能使用攪拌 。水熱反應混合物的室溫老化在一些案例中亦有其必要。 當該水熱反應混合物的結晶作用完成之後,所生成之 晶體可由水熱反應混合物的殘餘物,尤其是彼液體含量, 回收。這種回收涉及結晶之過濾及以水清洗結晶。然而爲 了要由結晶中移除所有不需要的水熱反應混合物的殘餘物 ,通常需將結晶導至例如在500°C之高溫鍛燒,並可能存 有氧。這種锻燒處理不僅將水由結晶中移除,這個處理也 φ 用來分解及/或氧化有機導向劑殘餘物,其係封留在結晶 孔洞之內,可能是佔據於其中的離子交換部位。 該M CM-2 2材料可製備自水熱反應混合物,其含有鹼 或鹼土金屬(Μ),例如鈉或鉀,之陽離子源、三價元素 X,例如鋁’之氧化物、四價元素Υ,例如矽,之氧化物 、將於下文中更特別敘述之有機(R )導向劑、及水,該 水熱反應混合物具有在下列範圍內,以氧化物莫耳比率表 示之組成: -18- (16)1378072 該習知之MCM-49材料可製備自水熱反應混合物,其 # 含有鹼或鹼土金屬(M),例如鈉或鉀,之陽離子源、^ 價元素X ’例如鋁’之氧化物、四價元素γ,例如矽,之 氧化物、將於下文中更特別敘述之有機(R)導向劑、及 水,該水熱反應混合物具有在下列範圍內,以氧化物莫耳 比率表示之組成:
表VE 反應物 有用 較佳 Υ02/Χ2〇3 1 2至低於3 5 15-30 h20/y02 1-20 --—— 5-15 OHVY02 0.01-0.5 0.1-0.3 M/Y02 0.01-0.5 0.1-0.3 R/YO2 0.001-0.5 0.1-0.34
表VI 反應物 有用 較佳Hi Υ02/Χ203 10至無限 15-50 Η2〇/Υ〇2 1-20 5-15 οη·/υο2 0.01-0.5 0.1-0.3 、 Μ/Υ〇2 0.01-0.5 0.1-0.3 ^' R/Y〇2 0.001-0.5 — 0.1-0.34 ----- 在最終產物中所要求的各種不同元素源可依據該合成 合物之製備方法,爲任何之商用品或述於文獻中者。 熟於此藝者將了解者爲具有如上文所述莫耳範圍之組 成的合成混合物意爲,該合成混合物是經混合、加入、反 應、或以任何方式提供此混合物的產物,其中該產物具有 -19- (17) 1378072 - 如上文所述莫耳範圍之組成。這種經混合、加入、反應、 . 或以任何方式提供此混合物的產物在該合成混合物製備時 可以或不可以含有個別成份。經混合、加入、反應、或以 任何方式提供此混合物的產物在藉由混合、加入、反應、 或以任何方式提供此混合物來製備該合成混合物時甚至可 能含有個別成份之反應產物。 三價元素離子源X2〇3,例如鋁、硼、鎵、和鐵,較 Φ 佳爲硫酸鋁或水合之礬土》其他的鋁源包括,例如其他水 溶性的銘鹽、銘酸鈉、或例如異丙醇鋁之醇鹽、或例如爲 小片狀物形式之鋁金屬。 鹼金屬有利地可爲鉀或鈉,鈉源則有利地可爲氫氧化 鈉或鋁酸鈉。 導向劑R係選自由環烷基胺、偶氮環烷、二偶氮環烷 、和彼等混合物所組成之族群,烷基包含由5至8個碳原 子。R的非限制性例子包括環戊基胺、環己基胺、環庚基 φ 胺、六伸甲基亞胺、七伸甲基亞胺、高哌嗪、和彼等之組 合。 影響分子篩合成的成本和產物品質的因素爲導向劑的 數量。導向劑通常是許多晶形分子篩的水熱反應混合物中 最昂貴的反應物。在水熱反應混合物中導向劑的數量愈低 ,所生成的最終分子篩即愈便宜。於本文中所使用之「低 導向劑」一詞意爲在水熱反應混合物中導向劑與四價元素 之莫耳比率爲低於0.5,較佳爲低於0.3 4,甚至更佳爲低 於〇 · 2,及最佳爲低於0 . 1 5。 -20- (18) 1378072 ' 在一個具體實例中,本發明R: Y莫耳比範範圍係由 . 0.001 至 0.5,較佳由 0.001 至 0.34,更佳由 0.001 至 0.3 ’甚至更佳由0.001至0.2,和最佳由0.1至0.15。 分子篩合成的一個影響因素爲水熱反應混合物中的固 體含量。於本文中所使用之「固體含量」一詞意爲在水熱 反應混合物中三價和四價氧化物的重量百分率。其可藉由 如下所式地將在水熱反應混合物中三價與四價氧化物的重 φ 量除以水熱反應混合物的總重量而度量: 固體含量(%) = 水熱反應混合物中之氧化物重量 水熱反應混合物總重量 ° 於本文中所使用之「高固體」一詞意爲水熱反應混合 物的固體含量爲至少12重量%,較佳爲至少15重量%, 更佳爲至少18%,甚至更佳爲至少20重量%,及最佳爲 至少3 0重量%。
應理解者爲這些水熱反應混合物元素應由多於一種來 源供應。水熱反應混合物可批次地或連續地製備。該新式 晶形材料的結晶大小和結晶時間將依所應用之水熱反應混 合物性質和結晶條件而改變。 熟於此藝者應理解者爲MCM-22族材料可包含雜質, 例如非晶形材料;具有非MWW架構拓樸(例如MFI、 MTW )之晶格;及/或其他雜質(例如重金屬及/或有機烴 )。本發明的MCM-22族材料較佳爲實質不含有非MCM-22族材料。於本文中所使用之「實質不含有非Mcm-22族 -21 - (19) 1378072 材料J —詞意爲本發明的MCM-22族材料較佳含有微小比 例(低於50重量% )、較佳爲低於20重量%、更佳爲低 於1〇重量%、甚至更佳爲低於5重量%、和最佳爲低於1 重量%的雜質在MCM-22族材料中,其中之重量百分率( 重量%)値是以雜質和純相MCM-22族材料的組合重量計 算。 結晶條件 本發明晶形材料之結晶作用可在例如壓熱器之反應容 器中於靜態或攪拌條件下作用。使用於結晶的溫度總有效 範圍爲由約160 °C至約2501,在所使用溫度下可充裕地 產生結晶作用的時間例如由約3小時至約7 2小時,較佳 由約1 0小時至約4 8小時,和最佳由約1 〇小時至約24小 時。之後結晶可由液體中分離並且回收。其步驟可包括在 室溫或較佳在適當的昇高溫度下之熟化期間,此係進行於 • 在更高溫度下之水熱處理(「水熱反應」)之前》後者可 包括逐漸或階段式改變溫度的期間。 對於大部份的應用,水熱反應是使用任何類型的攪動 進行,例如攪拌或在水平軸上旋轉容器(翻轉)。 一個影響分子篩合成,例如周期時間和產物品質,的 因素爲水熱反應的溫度。高溫,例如大於2 0 0 °C,會損害 在水熱反應混合物內的導向劑。通常,較高溫度會有較快 的結晶速率。然而,較高的溫度可能會損害昂貴的導向劑 ,其將衝擊產物品質,例如最終產物會包含雜質。於本文 -22- (20) 1378072 ' 中所使用之「較高溫度」意爲由約160至約250 °c範圍之 . 間使用於合成MCM-22族材料分子篩之結晶溫度。 於本文中所使用之「產量」意爲每單位時間(小時) 和每單位體積之水熱反應混合物(每小時體積產量)或每 單位重量之水熱反應混合物(每小時重量產量)所生成之 晶形分子篩量。產量愈高,則每單位體積之反應器和每單 位時間所生成之分子篩愈高。因此,對於所合成之相同數 φ 量晶形分子篩,產量愈高,則通常對每次合成所需之反應 器(壓熱器)愈小或所需時間愈短。合成之每小時體積產 量的計算爲將在經乾燥餅塊(結晶後經約12(TC乾燥之固 體產物)中所生成之分子篩重量除以反應混合物體積和結 晶所需的總時間(下文中稱爲「結晶所需之周期時間」) 。結晶所需之周期時間爲在結晶條件下完成反應(「結晶 」)所需的時間,其並不包括進料及/或熟化水熱反應混 合物、過濾、清洗、和產物乾燥之時間。合成之每小時體 Φ 積產量之計算如下: 毎歲㈣斋畺=所生成分子篩體積(已在約120°C乾燥) i熱反應混合物體積)X (周期時間) 合成之每小時重量產量的計算爲如下所示地將在經乾 燥餅塊(結晶後經約1 20°c乾燥之固體產物)中所生成之 分子篩重量除以水熱反應混合物重量和結晶所需的周期時 間: -23- (21) 1378072 每小時重量產量=所生成分了餘重量(已在約120。〇乾燥) ' (水熱反應混合物重量)X (周期時間) 在本發明的一個態樣中,本發明的每小時重量產量爲 至少0.001 hr·1、較佳爲至少0.002 hr·1、更佳爲至少 0.004 hr·1、及最佳爲至少 0.008 hr·1。 合成之每小時重量產量可藉由改變固體含量、在合成 凝膠中所使用之晶種數量、結晶溫度、結晶.時間、及/或 φ 彼等任何組合而調整。每小時重量產量和上文中所提及之 參數係爲相關。變更一個參數可影響其他參數。例如在特 定結晶條件下,例如結晶溫度和時間,增加每小時重量產 量,則需增加固體含量及/或晶種數量。 在本發明的一個具體實例中,MCM-22族材料分子篩 的製造方法另包含在結晶後,藉由閃蒸和濃縮該導向劑( 未滲入分子篩產物內者)回收在水熱反應混合物中的導向 劑和水之步驟。所回收之導向劑水性溶液可在另一合成中 .# 再使用作爲導向劑。閃蒸/濃縮可方便地藉由將在合成所 使用壓熱器上的閥打開、濃縮和收集由蒸熱器液相中釋出 的蒸氣而施行。經濃縮蒸氣包含至少一部份在壓熱器內的 樣板劑(templating agent),其可再使用於合成。在本發 明的一個具體實例中,至少50重量%、較佳至少80重量 %並未滲入至分子篩產物內之導向劑可藉由本發明之閃蒸 和濃縮步驟回收。 水熱反應混合物可選擇地含有晶種。習知種入分子篩 合成混合物晶體常具有利益效果,例如控制產物的粒子大 -24- (22) 1378072 小、避免對有機樣板的需要、加速合成、和改良符合所欲 架構類型的產物比例。在本發明的一個具體實例中,晶形 分子篩的合成可由於存有以水熱反應混合物總重量計算爲 至少0.0001重量%、較佳0.001重量%、更佳0.01重量 % ' 甚至更佳0.1重量%、選擇性地5重量%至約20重 量%之晶種而所有助益。 在一個具體實例中,本發明晶形分子篩包含MCM-22
、MCM-49、MCM-56、和 MCM-22、MCM-49 與 MCM-56 的混合相中之至少一者。 吾人發現一種製造MCM-22族材料(例如MCM-22、 MCM-49、及/或MCM-56)分子篩的改良配製物,係藉由 將高固體含量、使用低導向劑、和選擇性地在改良結晶條 件下種晶,該結晶條件包括高溫、攪拌、和選擇使用之回 收、循環、和再使用導向劑。藉由回收、循環、和再使用 導向劑,本種發明水熱反應混合物大幅減少使用昂貴和毒 性的導向劑(例如HMI )。 分子篩及/或沸石的簡述,亦即以分子篩之製造、改 質和鑑定,被述於書籍「Molecular Sieves-Principles of Synthesis and Identification」;(R. Szostak,Blackie Academic & Professional,倫敦,1998,第二版)。除了 分子篩,主要爲二氧化矽、矽酸鋁和氧化鋁之非晶形材料 亦已被使用作爲吸收劑和觸媒載體。許多長久習知的技術 ,例如噴霧乾燥、造粒、壓九和擠出已被使用於製造爲例 如球形粒子、擠出物、圓球和錠粒形式的小孔以及其他類 -25- (23) 1378072 * 型孔洞材料的大結構,並應用於催化、吸附和離子交換。 . 追些技術的簡要述於「Catalyst Manufacture」,A.B. Stiles 和 Τ·Α· Koch,M ar c e 1 D e kk e r,紐約,1 9 9 5。 催化和吸附 然而若必要時,所合成材料的原有金屬陽離子可依據 於本技藝所習知的技術至少部份地藉由離子交換以其他陽 φ 離子取代。較佳之取代陽離子包括金屬離子、氫離子、氫 前驅物,例如銨離子和彼混合物。特別佳的陽離子爲可對 特定烴轉化反應之催化活性修飾者。這些包括氫、稀土金 屬和元素週期表(IUPAC 2001)第 ΠΑ、HIA、IVA、IB、 ΕΒ、ΠΙΒ、IVB 和 VIE 族金屬。 本發明MCM-22族分子篩在應用在有機化合物轉化方 法中作爲吸收劑或觸媒時較佳爲至少部份地脫水。其可在 例如空氣、氮等的氛圍和大氣壓、低於大氣壓或高大氣壓 φ 下’加熱至溫度爲200 °C至595 °C範圍間達30分鐘與48 小時之間而完成。脫水亦可在室溫下僅將矽酸鹽置於真空 進行,但需要更長的時間以得到充份的脫水》 當作爲觸媒時,本發明MCM-22族分子篩較佳爲引導 至熱處理以移除任何有機成份的一部份或全部。MCM-22 族分子篩亦可與氫化組分,例如鎢、釩、鉬、銶、鎳、鈷 、鉻、錳,或例如鉑或鈀之貴重金屬完全地混合而作爲觸 媒,其中係施行氫化-脫氫功能。該成份在組成物中可藉 由共結晶方式而交換至組成物內,1ΠΑ族元素,例如鋁, -26- (24) 1378072 * 於結構中與其浸漬或與其完全地物理性混合。該成份可浸 . 漬其中或在其之上,例如在鉑的情況係爲使用利用含鉑金 屬離子之溶液處理矽酸鹽。因此,爲此目的的適當鉑化合 物包括氯鉑酸、氯化亞鉑和含有鉑胺複合物的各種不同化 合物。 上述之MCM-22族分子篩,尤其彼金屬、氫和銨形式 ,可藉由熱處理而有益地轉換成另一形式。該熱處理通常 φ 是藉由在至少370 °C的溫度加熱其中之一這些形式至少1 分鐘且通常不高於20小時而施行。低於大氣壓可被應用 於熱處理,但爲了方便理由可使用大氣壓。熱處理可在高 至約92 5 °C的溫度進行。經熱處理之產物在催化特定烴轉 化反應中特別有用。經熱處理之產物,尤其彼金屬、氫和 銨形式,在催化例如烴之特定有機轉化反應中特別有用。 這些反應的非限制性例子包括述於U S專利號4,9 5 4,3 2 5 ;
4,973,784 ; 4,992,6 1 1 ; 4,956,5 1 4 ; 4,962,250 ; 4,982,033 ;4,962,257 ; 4,962,256 ; 4,992,606 ; 4,954,663 ; 4,992,615 ; 4,983,276 ; 4,982,040 ; 4,962,239 ; 4,968,402 ;5,000,839 ; 5,001,296 ; 4,986,894 ; 5,001,295 ; 5,001,283 ; 5,012,033 ; 5,019,670 ; 5,019,665 ; 5,019,664 :和5,013,4 22,其關於該催化性反應之敘述各以參考方 式納入本文中。 以本發明製備之結晶可成形爲廣泛多樣之粒子大小。 一般而言,這些粒子可爲粉末、顆粒、或例如擠出物之模 製產物形式。在觸媒係利用擠出而經模製的情形下,結晶 -27- (25) 1378072 * 係在乾燥之前擠出或經部份乾燥後再擠出。 . 本發明MCM-22族分子篩可被使用爲吸收劑,例如使 用於在具有與本發明MCM-22族分子篩不同吸收性質的蒸 氣或液相中由成份混合物中分離出至少一種成份。因此, 藉由該混合物與本發明MCM-22族分子篩接觸以選擇性吸 收一成份,至少一種成份可由具有與本發明MCM-22族分 子篩不同吸收性質之成份混合物中部份地或實質上完全地 φ 分離出。 本發明MCM-22族分子篩可在包括分離方法和烴轉化 方法之廣泛圍方法中有用地作爲觸媒。可藉由本發明 MCM-22族分子篩本身、或與一或多種其他催化活性物質 ,包括其他晶形觸媒,有效催化之烴轉化方法特定例子可 包括下列者: (i )芳香族烴,例如苯,與長鏈烯烴,例如C i 4烯烴 ’之烷基化作用,其係進行於反應條件爲包括由約3 40 °C φ 至約500 °C溫度、由約101至約2〇2〇0 kPa-a壓力、由約2 hr·1至約2000 hr·1重量時空間速度、及由約1/1至約20/1 之芳香族烴/烯烴莫耳比率以生成長鏈烷基芳香族,其可 再經磺化以得到合成清潔劑; (Π )芳香族烴與氣態烯烴之烷基化作用以得到短鏈 烷基芳香族化合物,例如苯與丙烯的烷基化作用以得到異 丙基苯,其係進行於反應條件爲包括由約10 °C至約125 °C 溫度、由約101至約3030 kPa-a壓力、由5 hr·1至約50 hr」芳香族烴重量時空間速度(WHSV); -28- (26) 1378072 • ( iii )含有實質數量苯和甲苯的重整產物與含有C5 . 烯烴之燃料氣之烷基化作用以提供特別是單-和二烷基化 物,其係進行於反應條件爲包括由約3 1 5 °C至約4 5 5 °C溫 度、由約3000至約6000 kPa-a壓力、由約0.4 hr1至約 0.8 hr·1 WHSV-烯烴、由約 1 hr·1 至約 2 hr·1 WHSV-重整 產物和由约1.5至2.5 vol/vol燃料氣進料之氣體循環; (iv) 芳香族烴,例如苯、甲苯、二甲苯和萘,與長 φ 鏈烯烴,例如C μ烯烴,之烷基化作用以得到經烷基化之 芳香族潤滑油基本原料,其係進行於反應條件爲包括由約 160 °C至約260°C溫度和由約2600至3500 kPa-a壓力; (v) 酚與烯烴或等量醇類之烷基化作用以提供長鏈 烷基酚,其係進行於反應條件爲包括由約200°C至約250 °C溫度、由約1500至2300 kPa-a壓力、和由約2 hr·1至 約 10 hr—1 總 WHSV ; (vi )低碳石蠟至烯烴和芳香族的轉化作用,其係進 φ 行於反應條件爲包括由約4 2 5 °C至約7 6 0 °C溫度和由約1 7 0 至約1 5 000 kPa-a壓力; (vii )低碳烯烴至汽油、蒸餾液和潤滑油範圍烴的轉 化作用,其係進行於反應條件爲包括由約1 7 5 °c至約3 7 5 °C溫度和由約800至約15000 kPa-a壓力; (viii )二階段加氫裂解,於第一階段係使用本發明 MCM-22族分子篩與第vm族金屬之組合作爲觸媒,將具有 @始沸點高於約26(TC之烴流升級至優等蒸餾液和汽油沸 騰範圍產物,第二階段則爲沸石;S亦與第VDI族金屬組合作 -29 - (27) 1378072 * 爲觸媒與源自彼之流出液反應,其係進行於反應條件爲包 . 括由約340°C至約455°C溫度、由約3000至約1 8000 kPa-a壓力、由約176至約1 760升/升之氫循環和由約〇.1 至1〇 hr·1液體時空間速度(LHSV ); (ix)在存有本發明MCM-22族分子篩與氫化成份作 爲觸媒或該觸媒與沸石Θ混合物下之組合加氫裂解/脫蠟 方法,其係進行於反應條件爲包括由約3 50°C至約400t: φ 溫度、由約1 0000至約1 1000 kPa-a壓力、由約〇_4至約 OJhi-1之LHSV和由約5 28至約8 80升/升之氫循環; (X)醇類與烯烴反應以提供混合醚類,例如甲醇與 異丁烯及/或異戊烯反應以得到甲基叔丁基醚(MTBE)及/ 或叔戊基甲基醚(ΤΑΜ ),其係進行於轉化條件爲包括由 約20°C至約200°C溫度、由約200至約20000 kPa-a壓力 、由約0.1 hr·1至約200 hr·1 WHSV (每小時沸石克數之 烯烴克數)和由約0.1/1至約5/1之醇對烯烴莫耳進料比 • 率; (xi )甲苯與C9 +芳香族作爲共進料之歧化作用,其 係進行於反應條件爲包括由約315°C至約5 95 °C溫度、由 約101至約7200 kPa-a壓力、由約0 (未加入氫)至約 10之氫/烴莫耳比率和由約〇·1 hr·1至約30 hr·1 WHSV ; (xii)藥學活性化合物2- ( 4-異丁基苯基)丙酸,亦 即布洛芬(ibuprofen ) ’之製備’其係藉由異丁基苯與環 氧丙烷之反應以生成中間體2- ( 4-異丁基苯)丙醇,進而 藉由醇之氧化作用得到相對應之羧酸; -30- (28) 1378072 * (xiii)在製備染料中於胺與雜環纖維活性成份之反 - 應中使用酸接合劑以得到實質無鹽之含反應性染料溶液, 如述於德國專利號DE 3,62 5,693者,其係以參考方式完全 納入本文; (xiv )若TDI如同於以參考方式完全納入本文之uS 專利4,721,807者’則在由異構物分離出2,6_甲苯二異氰 酸酯(2,6-TDI)中作爲吸收劑,其中包含2,6-TDI和2,4-φ TDI之進料混合物與g完成與K離子進行陽離子交換之本 發明MCM-22族分子篩接觸以吸收2,6-TDI,然後使用含 有甲苯之脫附材料藉由脫附作用回收2,6-TDI ; (xv) 如同以參考方式完全納入本文之 US專利 4,721,806地由異構物分離出2,4-TDI中作爲吸收劑,其中 包含2,6-TDI和2,4-TDI之進料混合物與已完成與Na、Ca 、Li及/或Mg離子進行陽離子交換之本發明MCM-22族 分子篩接觸以吸收2,4-TDI,然後使用含有甲苯之脫附材 φ 料藉由脫附作用回收2,4-TDI;及 (xvi) 將由甲醇至汽油之催化轉換得到之90-200 °C + 底部餾份中杜烯含量降低之方法,其包含將含杜烯之底部 餾份與氫在存有本發明MCM-22族分子篩與氫化金屬之觸 媒下接觸,其係進行於條件爲包括由約23 0°C至約425 °C 溫度、由約457至約22000 kPa-a壓力。 在一個具體實例中,本發明MCM-22族分子篩可使用 於共生成酚和酮之方法,其經由苯之烷基化作用、接著生 成烷基苯氫過氧化物及將該烷基苯氫過氧化物裂解成酚和 -31 - (29) 1378072 * 酮。在此方法中,本發明MCM-22族分子篩被使用在苯烷 . 基化作用的第一步驟。這些方法的例子包括例如述於國際 申請案PCT/EP2005/008557之將苯和丙二烯轉換成酚和丙 酮、將苯和C4烯烴轉換成酚和甲基乙基酮:如述於國際 申請案PCT/EP2005/0085 54之將苯、丙二烯和C4烯烴轉 換成酚、丙酮和甲基乙基酮,在該案例中接著將酚和丙酮 轉換成雙-酚-A;如述於PCT/EP2005/0085 5 1之將苯轉換 φ 成酚和環己酮、或將苯和乙烯轉換成酚和甲基乙基酮。 本發明MCM-22族分子篩可有用地用於苯之烷基化反 應,其中需對單烷基苯具選擇性。此外,本發明MCM-22 族分子篩特別有用地由苯和富含線性丁烯之C4烯烴進料 生成.選擇地之二級丁基苯,如於國際申請案 PCT/EP20〇5/〇0855 7中所述者。較佳者爲該轉換係藉由苯 和C4烯烴進料與本發明觸媒共進料而進行,其係在約60 °C 至約 260°C 之溫度,例如約 l〇〇°C 至 20 0°C,700 0 kPa-a .# 或更低之壓力、和以C4烷基化劑計算由約0.1至50 hr·1 之進料重量時空間速度(WHSV)、和由約1至約50之苯 比C 4烷基化劑之莫耳比率。 本發明MCM-22族分子篩亦爲有用之觸媒可使用於烷 基轉移作用’例如多元烷基苯之烷基轉移作用 在許多觸媒的情況下,有必要將該新型晶體與可阻抗 溫度與應用於有機轉換方法之其他條件之另一種材料合倂 ° @材·料包栝活性和非活性材料,和合成或天然生成之 沸石’以及無機材料例如黏土、矽石及/或金屬氧化物例 -32- (30) 1378072 * 如礬土。後者可爲天然生成或爲凝膠沈澱物形式或包括矽 . 石和金屬氧化物之混合物的凝膠形式。與該新型晶體共用 之材料,亦即在合成該新型晶體期間與其組合或存在,具 有活性’及在特定有機轉化方法中傾向於改變轉化率及/ 或觸媒選擇性。非活性材料適合作爲稀釋劑以控制既定方 法之轉化數量,依此可經濟地和依序地得到產物而無需應 用其他方法來控制反應速率。這些材料可倂入天然生成之 φ 黏土,例如膨潤土和高嶺土,藉此在商用操作條件下改良 觸媒的抗碎強度。該等材料,亦即黏土、氧化物等,作用 爲觸媒的黏合劑。提供一種具有良好抗碎強度之觸媒有其 必要性’因爲在商業用途中此舉可避免觸媒破裂成爲似粉 末材料。這些黏土黏合劑已應用在僅爲改良觸媒之抗碎強 度的目的。 可與新型晶體複合的天然生成黏土包括蒙脫土和高嶺 土族’這些族群包括亞膨潤土,且高嶺土普遍地習知爲 φ Dixie、McNamee、喬治亞和佛羅里達黏土或其他之主要礦 物組成爲多水商嶺土、筒嶺石、迪泰特(dictite)、納塞 特(nar cite )、或富矽高嶺石者。這些黏土可如原始開採 之原料態使用’或初始地進行鍛燒、酸處理或化學改質。 可有用地使用於與本發明晶體混合之黏合劑亦包括無機氧 化物,特別是礬土》 除了前述材料,該新型晶體可與多孔基質材料以及三 元組成物複合,其中多孔基質材料例如爲矽石-礬土、砂 石-氧化鎂、矽石-氧化銷、矽石-氧化钍、矽石-氧化敏、 -33- (31) 1378072 矽石-二氧化鈦,三元組成物例如爲矽石-礬土-氧化钍、矽 石-礬土-氧化锆、矽石-礬土-氧化鎂和矽石-氧化鎂-氧化 锆。 精細分離之MCM-22族分子篩與無機氧化物基質的相 對比例可廣泛地改變,其中晶體含量範圍可由約1至約90 重量% ’及最通常是特別當複合物是以珠粒形式製備而得 時爲複合物之約2至約80重量%的範圍。 【實施方式】 實施例 下列實施例係以例舉方式說明較佳具體實例: 在這些實施例中,所合成材料之XRD繞射圖譜是以 X光粉末繞射儀使用20爲2至40度範圍間之銅Κα輻照 記錄。 SEM影像是由HITACHI S4800場發射掃描電子顯微 • 鏡(SEM )得到。 產率是假設所有鋁和約85重量%之矽併於分子篩產 物的估算。分子篩產物含有約15重量%之水和模板劑。 結晶性的定義爲7.1和26 ( 2 0 )兩個主峰總和對在 標準物(參考實施例)中相同峰總和之比率乘以100。 比較實施例 水熱反應混合物由水、六伸甲基亞胺(HMI )( Sigma-Aldrich 公司)、砂石(Ultrasil™,Degussa 公司) -34- (32)1J/8U72 、45重量%鋁酸鈉溶液、和 5G重量%氫氧化鈉溶液製備 而得。該混合物具有下列莫耳組 莫耳組成
SiQ?/Al9〇
H2Q/SiO
〇H/SiO
Na + /SiO
HMI/SiO 參考實施例 30 19. 17 .3 5 結晶條件
溫度(°C 攪拌速度(RPM ) 時間(hr) 估算之產率(wt.% ) XRD結果 結晶性 (% )
Si02/Al203 (莫耳比率) 總表面積(m2/g) 微孔表面積(m2/g) 外部表面積(m2/g) 每小時重量產量(hr·1 ) 二甲基苯保留量(mg/g ) 150 250 72 〜1 1 .7 純相MCM-22 100 23 653 530 123 0.0019 29.8 68 三甲基苯吸附速率 (mg/g/min ) 混合物在150 °C之壓熱器中以每分鐘旋轉25〇次( R P Μ )攪拌7 2小時結晶。結晶作用之後,將水熱反應混 合物泥狀物過濾,以去離子(DI)水清洗及在120 乾燥 。依此合成之材料具有XRD圖譜(圖〇實質地如表I和 -35- (33) 1378072 表Π所示,且在26°至29°(20)之間只有一個峰(約 26.5°)。所得到的MCM-22晶體具有Si02/Al203莫耳比 率〜23/1。經鍛燒MCM-22晶體具有653 m2/g之表面積( 微孔表面積爲530及外部表面積爲123 m2/g)。依此合成 產物晶體之SEM影像(圖5)顯示出具有平均晶體厚度約 200至約3 00A之小片狀形態。估算之平均小片狀物直徑 爲低於約l//m。經鍛燒材料具有約29.8 mg/g之三甲基苯 保留量及約 68 mg/g/min之三甲基苯吸附速率。MCM-22 材料之估算產率(以分子篩產物經乾燥重量除以水熱反應 混合物總重量計算)爲約11.7重量%。每小時重量產量 爲約 0_00 1 9 hr·1。 實施例1-2 水熱反應混合物由水、六伸甲基亞胺(HMI )( Sigma-Aldrich 公司)' 砂石(Ultrasil™,Degussa 公司)
、45重量%鋁酸鈉溶液、和50重量%氫氧化鈉溶液製備 而得。該混合物具有下列莫耳組成: -36- (34)1378072 實施例1 實施例2 莫耳組成 Si02/Al20i 〜3 0 35 H20/SiO? 〜1 3 14.6 OH/SiO, 〜0· 1 5 0.15 Na + /SiO, 〜0· 1 5 0.15 HMI/Si02 〜0.2 0.2 固體含量(wt·%) 〜20 18 結晶條件 溫度(°C ) 170 1 80 攪拌速度(RPM) 250 3 50 時間(hr ) 24 12 估算之產率(wt.% ) 〜1 6.7 〜1 5.3 XRD結果 MCM-22 MCM-22 結晶性(% ) 105 100 Si02/Al203 (莫耳比率) 〜24 〜23 每小時重量產量(h〆1 ) 0.0082 0.015 三甲基苯保留量(mg/g) 24.7 三甲基苯吸附速率(mg/g/min) 45
實施例1之混合物在170°C之壓熱器中以每分鐘旋轉 250次(RPM)攪拌24小時結晶。結晶作用之後,將實施 例1之水熱反應混合物泥狀物過濾,以去離子(DI)水清 洗及在120 °C乾燥。依此合成之材料具有xrd圖譜(圖2 )實質地如表I和表Π所示,且相較於實施例1(參考實 施例)’其在26.6°至29°(20 )之間有—個額外的峰( 約26.9°)。所得到的MCM-22晶體具有1〇5%之結晶性, 此値之度量係由兩個主峰(在7. 1和26之2 0 )總和對在 實施例1中相同峰之總和的比率。所得到的MCM_22晶體 -37- (35) 1378072 ' 具有Si02/Al203莫耳比率〜24/1。經鍛燒MCM-22晶體具 . 有612 m2/g之表面積(微孔表面積爲528及外部表面積爲 84m2/g)。依此合成產物晶體之SEM影像(圖6)顯示 出具有平均晶體厚度爲比參考實施例更厚之至少300A之 小片狀形態。由度量SEM估算之平均晶體厚度爲約3 00A 至約500A。估算之平均小片狀物直徑爲低於約ljarn,其 係與參考實施例相似。經锻燒材料具有約24.7 mg/g之三 φ 甲基苯保留量及約45 mg/g/min之三甲基苯吸附速率。 MCM-22材料之估算產率(以分子餘產物經乾燥重量除以 水熱反應混合物總重量計算)爲約16.7重量%。每小時 重量產量爲約0.0082 hr_1實施例1之每小時重量產量爲比 較實施例之約525%。 實施例2之混合物在180 °C之壓熱器中以每分鐘旋轉 3 5 0次(RP Μ )攪拌1 2小時結晶。結晶作用之後,將實施 例2之水熱反應混合物泥狀物過濾,以去離子(DI )水清 φ 洗及在120 °c乾燥。依此合成材料之XRD圖譜顯示出 MCM-22拓樸的典型純相。所得到的MCM-22晶體具有 Si〇2/Al2〇3莫耳比率~23/1。MCM-22材料之估算產率(以 分子篩產物經乾燥重量除以水熱反應混合物總重量計算) 爲約1、3重量%。每小時重量產量爲約〇 〇15 hr」。實施 例2之每小時重量產量爲比較實施例之約78〇% ^ 實施例3 - 4 兩種混合物由水、六伸甲基亞胺(HMI) (Sigma- -38- (36) 1378072
Aldrich公司)、砂石广ττι C U11 r a s i 1 ™,D e g u s s a 公司)、4 5 重量%鋁酸鈉溶液、*n e % 5〇重量%氫氧化鈉溶液製備而得 。該混合物具有下列莫耳組成: 實施例 二] s 實施例3 實施例4 莫耳組成 ' •--- ---—— Si02/Al2〇3 25 30 H20/Si02 13 12.81 0H7Si02 0.15 0.175 Na+/Si02 0.15 0.175 HMI/Si02 〇 18 〇 18 固體含量(wt·%) 〜20 〜20 結晶條件 溫度rc) 170 170 攪拌速度(RPM) 250 250 時間(hr) 16,18,20,22,24 18,20,22 估算之產率(wt·%) ~17 〜17 XRD結果 MCM-22/MCM-49 MCM-22/MCM-49 結晶性(%) 89,91,100,100,100 100,100,100 Si02/Al203(莫耳比率) 每小時重量產量(hf1) 0.01 0.011
產物經過過濾’以去離子(DI )水清洗及在1201乾 燥。依此合成之材料(實施例3)在16、18、20、22、和 24小時之後XRD圖譜顯示出MCM-22/MCM-49拓樸並具 有89%、91%、100%、1()〇%、和1〇〇%之結晶性。依此 合成之材料(實施例4)在18、20和22小時之後XRD圖 譜顯示出MCM-22/MCM-49拓樸並具有100%之結晶性。 對於兩個實施例,MCM-22材料之估算產率爲約17重量% 。每小時重量產量爲約0.01 hr —1 (實施例3)和0.011 ( -39- (37) 1378072 實施例4)。實施例3之每小時重量產量爲比較實施例之 約520%。實施例4之每小時重量產量爲比較實施例之約 5 80% 。 實施例5·7 三種混合物由水、六伸甲基亞胺(ΗΜΙ ) ( Sigma-
Aldrich 公司)、砂石(Ultrasil™,Degussa 公司)、45 重量%鋁酸鈉溶液、和50重量%氫氧化鈉溶液製備而得 。該混合物具有下列莫耳組成: 實施例 5 6 7 莫耳組成 Si02/Al203 35 -31.4 -31.5 H20/Si02 12.65 -6.85 〜12.7 0H7Si02 0.175 -0.15 -0.15 Na+/Si02 0.175 -0.15 -0.15 HMI/Si02 0.18 ~0.2 ~0_2 固體含量(wt·%) ~20 〜30 〜20 結晶條件 溫度(。〇 170 170 205 攪拌速度(顏) 250 60 250 時間(hr) 24 20 20 估算之產率(wt·%) 〜17.1 -25.5 〜17 XRD結果 MCM-22 MCM-22 MCM-22With ZSM-5(<10%) 結晶性(%) 100 100 100 Si02/Al203(莫耳比率) 27.5 24 每小時重量產量(V) 0.008 0.015 0.01
產物經過過濾,以去離子(DI )水清洗及在120。(:乾 -40- (38) (38)1378072 燥。依此合成材料(實施例5)之XRD圖譜顯示出純相 MCM-22拓樸。依此合成材料(實施例6)之XRD圖譜顯 示出MCM-22拓樸之純相。所得到的MCM 22晶體(實施 例6)具有Si〇2/Al2〇3莫耳比率27.5»依此合成材料(實 施例7)之XRD圖譜顯示出MCM-22拓樸並具有ZSM_5 雜質。ZSM-5雜質經估算爲在所得產物中<1〇%。所得到 的MCM-22晶體(實施例7)具有si〇2/Al203莫耳比率 ~24。MCM-2 2材料之估算產率爲約17」重量% (實施例 5)、約25.5重量% (實施例6)、和約17重量% (實施 例7)。每小時重量產量爲約〇 〇〇8hr-i(實施例5)、 0.015 hr·1 (實施例6 )、和0.01 (實施例7)。這些每小 時重量產量爲比較實施例之約440% (實施例5)、約780 % (實施例6)、和約520% (實施例7)。 實施例8 MCM-22/礬土觸媒是由以乾燥爲基礎之80重量份實 施例5產物與20重量份礬土( LaRo che Ver sal 300)混合 。將水加至混合物中使所得到之觸媒接著成形爲擠出物。 所製得之擠出物在使用前於120 °C乾燥。該觸媒之活化爲 在540 °C之氮中锻燒,接著換成水性硝酸銨且在5 40 °C之 空氣中锻燒。 實施例9 在實施例8中製備的觸媒在一個300毫升壓熱器中使 -41 - (39) 1378072 • 用丙烯進行苯之烷基化測試。成品觸媒被轉移至觸媒籃中 . 然後在260°C的烘箱乾燥約16小時。接著將此觸媒籃以最 少之曝露於環境氛圍迅速地轉移至300毫升壓熱器內。該 觸媒在反應器內部於181 °C中以無水氮氣沖滌2小時以移 除來自反應器的空氣和溼氣。在氮之中將156克的苯移入 反應器,及在130°C下以觸媒平衡1小時。在2170 KPa-a 之氮壓力下將28克丙烯轉至反應器內。 φ —旦丙烯加入即開始反應,且2170 KPa-a之定壓覆 蓋於該壓熱器。反應進行4小時,於此期間丙烯被完全地 消耗。少量的液體試樣在規律期間自壓熱器取出,用於以 氣體層析儀分析丙烯、苯、異丙基苯(IPB)、二異丙基 苯(DIPB)、和三異丙基苯(TIPB)。觸媒效率的評定 係利用以丙烯和苯轉換率爲基礎之動力活性速率參數。異 丙基苯的選擇性由DIPB/異丙基苯的重量比率(以百分率 表示)計算。計算方法係參考於WO 03/006160者。結果 φ 示於下表。 觸媒 活性 DIPB/異丙基苯選擇性(%) 實施例8 370 13 該觸媒顯示對苯之烷基化反應同時具有活性和選擇性 〇 本發明之說明性具體實例已議細地敘述,應了解者爲 熟於此藝者因此顯而易知之各種不同的其他修飾並可簡易 -42- (40) (40)1378072 施行者均未偏離本發明的精神和範圍。因此隨附之申請專 利範圍之範圔並不欲被限制於文中的實施例和敘述,而是 彼等申請專利範圍被視爲涵蓋於本發明中之所有可專利新 穎性的特徵,包括熟於此藝者視爲等同於本發明所屬的所 有特徵。 【圖式簡單說明】 圖1爲比較實施例晶形材料產物之X光繞射圖譜。 圖2爲實施例1晶形材料產物之X光繞射圖譜。 圖3爲實施例2晶形材料產物之X光繞射圖譜。 圖4爲實施例3在24小時時晶形材料產物之X光繞 射圖譜。 圖5爲比較實施例晶形材料產物之s e μ影像。 圖ό爲實施例1晶形材料產物之sem影像。 -43-

Claims (1)

1378072 賴換本 年月曰 附件3A :第096103750號申請專利範圍修正本 民國101年6月19曰修正 申請專利範園 1.一種製造MCM-22族分子篩的方法,該方法包含下列之 步驟: (a)提供包含至少一種四價元素離子源、至少一種鹼 金屬氫氧化物源、至少一種導向劑(R)、水、和視情況選 用之至少一種三價元素離子源的合成混合物,該合成混合物 #具有下列之莫耳組成: Y : X2 = 1 0至 50 H20 : Υ = 5至 1 5 ΟΗ' : Υ = 0.001 至 2 Μ+:Υ = 0.001 至 2 R : Υ = 0.001 至 0.34 其中Υ爲四價元素,X爲三價元素,Μ爲鹼金屬; (b )在結晶條件下處理該混合物低於72小時,形成包 含該分子篩之已處理混合物,其中該結晶條件包含溫度由約 160 °C至約250 °C之間的範圍,及至少0.001 hr·1之每小時重量 產量;及 (c )回收該分子篩; 其中該分子篩的鑑定係藉由所合成分子篩之X光繞射圖 譜,包括一個波峰在約26.5°,其爲在26°和29°之間(2Θ ), 及至少一個額外的波峰在26.6°和29°之間(2 0 )。 2.根據申請專利範圍第1項之方法,其中於步驟(b)所 1378072 形成之分子篩爲實質地未含有非MCM-22族物質》 3. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該分子篩爲 MCM-22族之晶形分子篩。 4. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該結晶條件包含 至少0.0 02 hr·1之每小時重量產量。 5. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該結晶條件包含 至少0.004 h〆1之每小時重量產量》 6. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中步驟(b )係在 存有晶種下進彳了。 7. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該混合物包含以 混合物總重量計算由約0.0001至20重量%之至少—種晶種源 (晶種)。 8. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該結晶條件包含 溫度由約165°C至約210°C之間的範圍,且結晶時間低於48小 時。 9. 根據申請專利範圍第8項之方法,其中該結晶條件包含 溫度由約170 °C至約210°C之間的範圍,且結晶時間低於24小 時。 10. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中步驟(b)另包 含攪動步驟。 11. 根據申請專利範圍第10項之方法,其中該攪動步驟包 含轉動步驟、攪拌步驟、或其等之任何組合之至少其一。 12. 根據申請專利範圍第1項之方法,其另包含回收至少 一部份導向劑的步驟。 1378072 〆 13. 根據申請專利範圍第12項之方法’其中該回收步驟係 包含下列之步驟: (a) 將至少一部份之導向劑由經處理混合物閃蒸至蒸 氣相中:及 (b) 濃縮該蒸氣相導向劑。 14. 根據申請專利範圍第13項之方法,其另包含之步驟爲 再使用至少一部份經濃縮導向劑作爲用於製造分子篩之合成 混合物的成分》 1 5 ·根據申請專利範圍第1項之方法,其中該晶形分子篩 包含 MCM-22、MCM-49、MCM-56、MCM-22 與 MCM-49 之混 合相、MCM-22與MCM-56之混合相、MCM-56與MCM-49之混 合相、MCM-22' MCM-49與MCM-56之混合相之至少其一。 16·根據申請專利範圍第1項之方法,其中該晶形分子餘 具有之組成係包含以無水物爲基準之莫耳關係:
X2〇3 : ( η ) Υ〇2 其中η爲至少約1〇至約15〇’ χ包含三價元素和γ包含砂。 17.根據申請專利範圍第!項之方法,其中該合成混合物 之固體含量(以合成混合物總重量計算之四價元素氧化物與 若存在於合成混合物之三價元素氧化物的重量百分率)爲至 少1 2重量%。 18·根據申請專利範圍第17項之方法,其中該固體含量爲 至少2 0重量% ^ 1378072 19.根據申請專利範圍第18項之方法,其中該固體含量爲 至少3 0重量%。 2〇·根據申請專利範圍第1項之方法,其中該四價元素爲 矽且該四價元素離子源爲矽石。 21. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該選擇使用之 三價元素爲鋁且該選擇使用之三價元素離子源爲礬土。 22. —種結晶MCM-22族分子篩的方法,該方法包含下列 之步驟: (a)提供包含至少一種四價元素離子源、至少一種鹼 金屬氫氧化物源、至少一種導向劑(R)、水、和視情況選 用之至少一種三價元素離子源的合成混合物,該合成混合物 具有下列之莫耳組成: Y : x2 = 10至 50 H20 : Y = 5至1 5 OH· : Y = 0.00 1 至 2 Μ+ : Υ = 0.00 1 至 2 R : Y = 0.00 1 ^ 0.34 其中Y爲四價元素,X爲三價元素,Μ爲鹼金屬:及 (b )在結晶條件下處理該混合物低於72小時而形成分 子篩,其中該結晶條件包含溫度由約160 °C至約25〇°C之間的 範圍及至少0.001 hr'1之每小時重量產量; 其中該分子篩的鑑定係藉由所合成分子篩之X光繞射圖 譜,包括一個波峰在約26.5。,其爲在26。和29°之間(2 0 ) ’ 及至少一個額外的波峰在26.6°和29°之間(20 ) ° -4- 1378072 23. 根據申請專利範圍第22項之方法,其具有至少〇.002 hr’1之每小時重量產量。 24. 根據申請專利範圍第23項之方法,其具有至少〇.004 hr·1之每小時重量產量。 25. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中該混合物另包 含有效量之至少一種晶種源(晶種)’該有效量以滬合物總 重量計算爲由約0.01至20重量%之範圍。 2 6.根據申請專利範圍第22項之方法,其中該結晶條件包 含溫度由約1 65 °C至約2 1 0 °C之間的範圍,且結晶時間低於48 小時。 2 7.根據申請專利範圍第22項之方法,其中該結晶條件包. 含溫度由約1 70°C至約2 1 0 °C之間的範圍,且結晶時間低於24 小時。 28. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中步驟(b)另 包含攪動步驟。 29. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中該晶形分子篩 包含 MCM-22、MCM-49、MCM-56、MCM-22 與 MCM-49 之混 合相、MCM-22與MCM-56之混合相、MCM-56與MCM-49之混 合相、MCM-22、MCM-49與MCM-56之混合相之至少其一。 30. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中該合成混合物 之固體含量(以合成混合物總重量計算之四價元素氧化物與 若存在於合成混合物之三價元素氧化物的重量百分率)爲至 少1 2重量%。 3 1 ·根據申請專利範圍第30項之方法,其中該固體含量爲 -5- 1378072 至少20重量% ^ 32. 根據申請專利範圍第31項之方法,其中該固體含量爲 至少3 0重量%。 33. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中該四價元素爲 矽且該四價元素離子源爲矽石。 34. 根據申請專利範圍第22項之方法,其中該選擇使用之 三價元素爲鋁且該選擇使用之三價元素離子源爲礬土 β 35. —種分子篩’其係藉由包含下列步驟之方法製造而得 (a) 提供包含至少一種四價元素離子源、至少一種鹼 金屬氫氧化物源、至少一種導向劑(R )、水、和視情況選 用之至少一種三價元素離子源的混合物,該混合物具有下列 之莫耳組成: Y : x2 = 10至 50 H20 : Y = 5至15 OH* : Y = 0.00 1 至 2 M+ : Y = 0.00 1 至 2 R : Y = 0.00 1 S 0.34 其中Y爲四價元素,X爲三價元素,Μ爲鹼金屬:及 (b) 在結晶條件下處理該混合物而形成分子篩,其中 該結晶條件包含溫度由約165°C至約25 0°C之間的範圍,且結 晶時間低於72小時,及至少0.001 hr·1之每小時重量產量;及 (c) 回收該分子篩, 其中該分子篩的鑑定係藉由所合成分子篩之X光繞射圖 1378072 Μ ,包括在 12.4±0.25 、 3·75±0.07 和 3.42±0·07 埃(angstroms )的d間距最大値,及一個波峰在約26.5°’其爲在26°和29°之 間(20),及至少一個額外的波峰在26.6°和29°之間(2 0 )° 36. 根據申請專利範圍第35項之分子篩’其中該X光繞射 圖譜在26.6°和29°之間(20 )具有一波峰且20値爲約26.9° 〇 37. 根據申請專利範圍第35項之分子篩,其中該分子篩依 ® 據SEM測量具有晶體厚度爲至少300A之小片狀形態。 3 8.—種烴轉化方法,該方法包含下列之步驟: (a )在轉化條件下將烴進料與根據申請專利範圍第3 5 項之分子篩接觸以形成產物:及 (b )取出該產物。 3 9.根據申請專利範圍第38項之方法,其中該烴進料包含 C丨-C2〇烴和C丨-C2〇氧化物之至少其一。 ^ 40.根據申請專利範圍第38項之方法,其中該轉化條件包 • 含溫度由約100°C至950°c之間的範圍,壓力由約101 kPa-a至 ' 50000 kPa-a之間的範圍,及WHSV由約0.001至1〇〇〇 hr·1之範 圍。 41.根據申請專利範圍第38項之方法,其中該烴轉化爲苯 與乙烯的烷化作用以形成乙基苯。 4 2.根據申請專利範圍第38項之方法,其中該烴轉化爲苯 與丙烯的烷化作用以形成異丙基苹 1378072 曰 3750號圖式修正本民國101年6月19日修正
50004000300020001000 (親4ιδ墦
10 15 20 25 30 35 圖2 851871 I4000300020001000。 f
1378072
(親fc)M锻
圖4
1378072
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