TWI360133B - - Google Patents

Description

1360133 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種平台裝置，特別是有關一種因應隨 著工作件的大型化，而增大滑動塊的間隔、及移動距離而 構成的平台裝置。 【先前技術】 例如，在平台裝置中，用來導引平台的移動之平台導 引機構，在具有由固定在上述定盤上的石材所構成的一對 導引部之同時，於沿著導引部移動的平台之滑動器，設置 有介由數μ至數十μ的間隙，與導引部的導引面相對向的 靜壓軸承襯墊，藉由從靜壓軸承襯墊吹向導引面的空氣壓 ，使滑動器在上浮的狀態下移動而構成。 在這種平台裝置中’隨著供給做爲工作件的基板之大 型化，使裝置全體大型化，而亦使平台的移動距離延長。 在以往的機械加工技術中，例如，若全長爲如以往的 lm左右之導引部’則可以數μ的加工精確度來加工。然 而，隨著平台的移動距離被延長，當導引部的全長變長爲 2m以上時，難以精密的測量，由於在全長上測量導引部 的長度時之測量誤差亦變大，因此難以製造出如所要求之 精確度般具有筆直度的導引部，更因爲熱膨賬而導致尺寸 變化，影響導引部的畸變或撓曲。 一對的導引部係設置有用來檢測平台的移動位置之線 性刻度，安裝在平台側的感測器（例如光斷流器）沿著線 -5- 1360133 性刻度移動，並輸出檢測信號（脈衝信號）。然後，藉著 測量來自線性刻度的感測器之信號，運算所移動的距離而 求出位置。 又，爲了確保平台的直徑精確度、及線性刻度的位置 檢測精確度，當導引部的全長越長，則必須更高精確度的 管理一對導引部之平行度。 爲了減低因這種一對導引部的筆直度或平行度的不均 勻之影響，例如藉由在沿著一對導引部移動的一對滑動器 、和介存板彈簧而連結一對滑動器間的樑之間，而有降低 施加在導引部的負擔之構造（例如，參照專利文獻1 )。 [專利文獻1]日本特開2000-2 1 42 80號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 然而，根據上述專利文獻1所揭示的平台裝置，可降 低施加在導引部的負擔亦有限，例如，在平台的移動距離 延長到2m至3m的構成中，僅以上述板彈簧的彈性變形 量，難以確保平台的靜及動之穩定性。 再者，因爲平台裝置的大型化而無法確保定盤的上面 精確度時，或導引部不在定盤上，而成爲被支持在架台上 的構成時，難以獲得一對導引部的平行度》 因此，當無法高精確度的管理一對導引部的平高度時 ，配設在平台的左右兩端之一對滑動器的相對位置也產生 偏移，使一對滑動器的並進精確度降低，或者是導致設置 -6- 1360133 又，前述橫架部係可轉動地與前述滑動器連結。 [發明之效果] 根據本發明，橫架在被支持於架台而平行配置的一對 導引部之間，被支持於前述架台的樑之兩端支持有工作件 載置板，爲了在工作件載置板的上方使平台移動，由於因 應工作件尺寸使石定盤大型化，亦有界限，因此不使用石 定盤而提高一對導引部的平行度之精確度的同時，可與工 作件的大型化對應。 又，根據本發明，藉由與記憶在記憶手段的平台之移 動位置對應的測量資料、和線性刻度所測量的移動位置資 料，來控制升降機構，因此即使在一對導引部的平行度產 生偏移時，以維持預先設定在工作件載置板的上方移動之 滑動器的高度位置之特定高度位置的方式，來移動滑動器 〇 又，根據本發明，由於橫架部可轉動的與滑動器連結 ，因此即使在平台的滑動器並進之際，產生相對的位置偏 移之情況時，也可防止阻撓橫架部。 【實施方式】 以下，參照圖面，說明實施本發明的最佳形態。 [實施例1] 第1圖係本發明的平台裝置之一實施例的斜視圖。第 -8 - 1360133

圖係第1圖 示的平台裝 用來移動起 混凝土製的 引部1 4 A ' 將兩端支持 14A、14B， 兩端部朝向 ，於左側的 I Y平台18 板等所構成 作件載置板 且藉由樑1 6 行的配置。 ，或加工鐵 延長Y平台 的全長而可 應工作件面 如以往製作 平台裝置1G 2圖係第1圖所示的平台裝置之正面圖。第3 所示的平台裝置之側面圖。第4圖係第1圖所 置之平面圖。 如第1圖至第4圖所示，平台裝置10係 重機部的起重機移動型平台，具備有：固定在 床面之架台12:被支持在架台12上的一對導 14B :被橫架在一對導引部14A、14B之間， 在架台12上的複數根樑16;沿著一對導引部 朝向Y方向移動的Y平台18;使Y平台18的 Y方向驅動的一對線性電動機20A、20B。又 導引部1 4 A的上部左右側面，設置有用來檢測 的位置之一對線性刻度22A、22B。 又，在樑16上載置有用來載置由液晶基 的平板狀工作件（被加工物）之吸附板24 (工 )。導引部14A、14B係被支持在架台12，並 使X方向的離間距離成爲一定，而位置對準平 又’ 一對的導引部14A、14B係加工石材 等金屬材。因此，使工作件的面積大型化，並; 18的移動距離時，藉由延長導引部14A、14B 對應，例如比以往因應移動距離而延長具有因 積之較大面積的石定盤更爲容易，且由於不需 因應工作件面積的石定盤，因此可低價的製作: —對線性電動機20A、20B，係依據來自檢測出Y平 1360133 32A、32B的並進動作產生偏移時，滑動器32B以連結軸 50爲中心，朝向Z軸周圍轉動’並修正移動方向’而可 防止橫架部30撓曲6 [產業上利用的可能性] 在上述實施例中，雖然舉出以加工由液晶基板等所構 成的工作件之平台裝置爲例進行說明，但做爲平台裝置的 用途不限定於此，當然亦可應用在進行其他的工作件之加 工或檢查之情況。 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明的平台裝置之一實施例的斜視圖。 第2圖係第1圖所示的平台裝置之正面圖。 第3圖係第1圖所示的平台裝置之側面圖。 第4圖係第1圖所示的平台裝置之平面圖。 # 第5圖係用來說明平台裝置1〇的控制系統之區塊圖 〇 第6圖爲表示變形例的正面圖。 【主要元件符號說明】 10 :平台裝置 12 :架台 14A、14B :導引部 -15-

Claims (1)

1360133 第096120547號專利申請案中文申請專利範圍修正本 • 民國100年7月6 日修正 十、申請專利範圍 1.—種平台裝置，其特徵爲具備有： 固定於床面的複數架台； 支持於該複數架台，被平行地配置的一對導引部； 橫架於該一對導引部間，兩端被支持於前述架台之複 φ 數根樑； 被支持於前述複數根樑的工作件載置板； 在前述工作件載置板的上方移動的平台，該平台係具 有：沿著前述一對導引部之延伸方向移動的一對滑動器' 及橫架在前述一對滑動器間的橫架部； 驅動前述一對滑動器的一對線性電動機； 測量前述平台的移動位置之一對線性刻度；以及 藉由該一對線性刻度測量的移動位置成爲相等，來控 # 制前述一對線性電動機之控制部， 前述複數根樑，是在兩端抵接於前述一對導引部的側 面的狀態下被支持於前述複數架台。 2 ·如申請專利範圍第1項之平台裝置，其中，係具 備有： 調整前述橫架部的高度位置之升降機構； 測量前述橫架部與載置在前述複數根樑的工作件載置 板的上面相對之高度位置的高度方向檢測感測器； 用來記憶藉由該高度方向檢測感測器檢測出的測量資 1360133 料、和前述平台的移動位置之關係的記憶手段；以及 依據與記憶在該記憶手段的前述平台之移動位置對應 的測量資料、和藉由前述線性刻度測量的移動位置資料， 來仿形控制前述升降機構的升降控制手段。 3.如申請專利範圍第1或2項之平台裝置，其中， 則述橫架部係可轉動地與前述滑動器連結。 4· 一種平台裝置，其特徵爲具備有： 固定於床面的複數架台： 支持於該複數架台，被平行地配置的一對導引部； 橫架於該一對導引部間，在兩端抵接於前述〜對導引 部的側面的狀態下被支持於前述架台之複數根樑； 被支持於前述複數根樑的工作件載置板； 在前述工作件載置板的上方移動的平台，該平台> 丨系胃 有：沿著前述一對導引部之延伸方向移動的一對滑動^、 及橫架在前述一對滑動器間的橫架部； 驅動前述一對滑動器的一對線性電動機。 -2-