KR20070120441A - 스테이지장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 워크(work; 대상물)가 탑재되는 흡착판을 지지하는 석정반(石定盤)을 필요치 않게 하여 워크의 대형화에 대응함과 함께, 스테이지의 위치 정밀도를 확보하는 것을 과제로 한다.
스테이지장치(10)는, 바닥면에 고정된 가설대(12)와, 가설대(12) 상에 지지된 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)와, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B) 사이에 가로로 걸쳐져 양단이 가설대(12) 상에 지지된 복수의 보(梁)(16)와, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)를 따라 Y방향으로 이동하는 Y 스테이지(18)와, Y 스테이지(18)의 양 단부를 Y방향으로 구동하는 한 쌍의 리니어 모터(20A, 20B)를 가진다. 또한, 보(16)에는, 평판 형상의 워크가 탑재되는 흡착판(24)이 탑재된다. 워크의 면적이 대형화되어서 Y 스테이지(18)의 이동거리를 연장하는 경우에는, 가이드부(14A, 14B)를 연장함으로써 대응하는 것이 가능하다.
스테이지, 리니어 모터, 가설대, 요 패드, 요각, 보

Description

스테이지장치{Stage apparatus}
도 1은, 본 발명에 의한 스테이지장치의 일실시예를 나타낸 사시도이다.
도 2는, 도 1에 나타낸 스테이지장치의 정면도이다.
도 3은, 도 1에 나타낸 스테이지장치의 측면도이다.
도 4는, 도 1에 나타낸 스테이지장치의 평면도이다.
도 5는, 스테이지장치(10)의 제어계를 설명하기 위한 블럭도이다.
도 6은, 변형예를 나타낸 정면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 스테이지장치
12 : 가설대
14A, 14B : 가이드부
18 : Y 스테이지
20A, 20B : 리니어 모터
22A, 22B : 리니어 스케일
30 : 가로 가설부
32A, 32B : 슬라이더
33A, 33B : 승강기구
46 : 리니어 모터 지지부
60 : 지그
70A, 70B : 높이방향 검출센서
80A, 80B : Z축 모터
90 : 기억장치
92 : Z축 데이터 테이블
100 : 제어장치
본 발명은 스테이지장치에 관한 것으로서, 특히 워크(work; 대상물)의 대형화에 수반하는 슬라이더의 간격 및 이동거리의 증대에 대응하도록 구성된 스테이지장치에 관한 것이다.
[배경기술]
예컨대, 스테이지장치에 있어서는, 스테이지의 이동을 가이드하는 스테이지 가이드 기구는, 상기 정반(定盤) 상에 고정된 석재(石材)로 이루어지는 한 쌍의 가이드부를 가짐과 함께, 가이드부를 따라서 이동하는 스테이지의 슬라이더에는, 가이드부의 가이드면에 대하여 수μ∼십수μ의 간극을 통하여 대향하는 정압(靜壓) 베어링 패드가 설치되어 있어, 정압 베어링 패드로부터 가이드면에 뿜어지는 공기압에 의하여 슬라이더가 부상(浮上)된 상태로 이동하도록 구성되어 있다.
이와 같은, 스테이지장치에서는, 워크로서 공급되는 기판의 대형화에 수반하여 장치 전체가 대형화되고 있어서, 그 만큼 스테이지의 이동거리도 연장되고 있다.
기존의 기계가공 기술에서는, 예컨대, 전체 길이가 종전대로 1m 정도의 가이드부이라면, 수μ의 가공 정밀도로 가공하는 것이 가능하다. 그러나, 스테이지의 이동거리가 연장되는 것에 수반하여, 가이드부의 전체 길이가 2m 이상으로 길어지면, 정밀하게 계측하는 것이 어려워져서, 가이드부를 전체 길이에 걸쳐서 진직도(眞直度; straightness)를 계측할 때의 계측 오차도 커지므로, 요구되는 정밀도를 클리어할 정도로 진직도를 가지는 가이드부의 제조가 어려워지고, 또한 열팽창에 의한 치수변화가 가이드부의 변형(deformation)이나 토션(torsion)에 영향을 주고 있다.
한 쌍의 가이드부는, 스테이지의 이동위치를 검출하기 위한 리니어 스케일이 설치되어 있고, 스테이지측에 장착된 센서(예컨대, 포토인터럽터(photointerrupter))가 리니어 스케일을 따라 이동하면서 검출신호(펄스 신호)를 출력한다. 그리고, 리니어 스케일의 센서로부터의 신호를 카운트함으로써 이동한 거리를 연산하여 위치를 구하고 있다.
또한, 스테이지의 직진 정밀도 및 리니어 스케일에 의한 위치검출 정밀도를 유지하기 위해서는, 가이드부의 전체 길이가 길어질수록 한 쌍의 가이드부의 평행 도를 보다 고(高)정밀도로 관리할 필요가 있다.
이와 같은, 한 쌍의 가이드부의 진직도나 평행도의 편차에 의한 영향을 작게 하기 위하여, 예컨대, 한 쌍의 가이드부를 따라서 이동하는 한 쌍의 슬라이더와, 한 쌍의 슬라이더 사이를 연결하는 빔과의 사이를 판(板)스프링을 개재시켜서 연결함으로써, 가이드부에 걸리는 부담을 저감하는 구조의 것이 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
[특허문헌 1] 일본국 특허공개 2000-214280호 공보
그러나, 상기 특허문헌 1에 의하여 개시된 스테이지장치에서는, 가이드부에 걸리는 부담을 저감할 수 있기는 하지만 한계가 있어, 예컨대, 스테이지의 이동거리가 2m∼3m로 연장되는 구성의 것에서는, 상기 판스프링의 탄성 변형량만으로는 스테이지의 정적 및 동적 안정성을 확보하는 것이 어렵다.
또한, 스테이지장치의 대형화에 의해서 정반(定盤)의 상면 정밀도를 확보할 수 없을 때나, 가이드부가 정반 위가 아니고 가설대 위에 지지되는 구성으로 되어 버릴 때에는, 한 쌍의 가이드부의 평행도를 얻는 것이 어렵다.
그 때문에, 한 쌍의 가이드부의 평행도를 고(高)정밀도로 관리할 수 없으면, 스테이지의 좌우 양단에 배치된 한 쌍의 슬라이더의 상대위치에도 어긋남이 생겨서 한 쌍의 슬라이더의 병진 정밀도가 저하되거나, 혹은 슬라이더에 설치되어 있는 정압 베어링 패드가 가이드부에 접촉하여 버릴 우려가 있다.
따라서, 본 발명은 상기 사정에 감안하여, 상기 과제를 해결한 스테이지장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 이하와 같은 수단을 가진다.
본 발명은, 바닥면에 고정된 가설대와, 이 가설대에 지지되어서 평행하게 배치된 한 쌍의 가이드부와, 이 한 쌍의 가이드부 사이에 가로로 걸쳐지고, 양단이 상기 가설대에 지지된 보(梁)와, 상기 보에 지지된 워크 탑재판과, 상기 한 쌍의 가이드부의 뻗은 방향을 따라서 이동하는 한 쌍의 슬라이더와, 상기 한 쌍의 슬라이더 사이를 가로로 걸쳐진 가로 가설부를 가지고, 상기 워크 탑재판의 윗쪽을 이동하는 스테이지와, 상기 한 쌍의 슬라이더를 구동하는 한 쌍의 리니어 모터와, 상기 스테이지의 이동위치를 계측하는 한 쌍의 리니어 스케일과, 이 한 쌍의 리니어 스케일에 의하여 계측된 이동위치가 같아지도록 상기 한 쌍의 리니어 모터를 제어하는 제어부를 구비하고 있어, 상기 과제를 해결하는 것이다.
또한, 본 발명은, 상기 가로 가설부의 높이위치를 조정하는 승강기구와, 상기 보에 탑재된 워크 탑재판의 상면에 대한 상기 가로 가설부의 높이위치를 계측하는 높이방향 검출센서와, 이 높이방향 검출센서에 의하여 검출된 계측 데이터와 상기 스테이지의 이동위치의 관계를 기억하는 기억수단과, 이 기억수단에 기억된 상기 스테이지의 이동위치에 대응하는 계측 데이터와 상기 리니어 스케일에 의하여 계측된 이동위치 데이터에 근거하여 상기 승강기구를 모방(profile, tracer) 제어 하는 승강 제어수단을 가지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 가로 가설부는, 상기 슬라이더와 회전운동 가능하게 연결되어 있는 것이 바람직하다.
<실시예>
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태(실시예)에 대하여 설명한다.
<실시예 1>
도 1은 본 발명에 의한 스테이지장치의 일실시예를 나타낸 사시도이다. 도 2는 도 1에 나타낸 스테이지장치의 정면도이다. 도 3은 도 1에 나타낸 스테이지장치의 측면도이다. 도 4는 도 1에 나타낸 스테이지장치의 평면도이다.
도 1 내지 도 4에 나타낸 바와 같이, 스테이지장치(10)는, 갠트리부를 이동시키는 갠트리 이동형 스테이지이며, 콘크리트제(製)의 바닥면에 고정된 가설대(12)와, 가설대(12) 상에 지지된 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)와, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B) 사이에 가로로 걸쳐져서 양단이 가설대(12) 상에 지지된 복수의 보(梁)(16)와, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)를 따라서 Y방향으로 이동하는 Y 스테이지(18)와, Y 스테이지(18)의 양 단부를 Y방향으로 구동하는 한 쌍의 리니어 모터(20A, 20B)를 가진다. 또한, 좌측 가이드부(14A)의 상부 좌우 측면에는, Y 스테이지(18)의 위치를 검출하는 한 쌍의 리니어 스케일(22A, 22B)이 설치되어 있다.
또한, 보(16)에는, 액정기판 등으로 이루어지는 평판 형상의 워크(피가공물)가 탑재되는 흡착판(24)(워크 탑재판)이 탑재된다. 가이드부(14A, 14B)는, 가설대(12)에 지지되며, 또한 보(16)에 의하여 X방향의 이격거리가 일정하게 되도록 위치맞춤되어서 평행하게 배치되어 있다.
또한, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)는, 석재를 가공한 것, 혹은 철 등의 금속재를 가공한 것이다. 그 때문에, 워크의 면적이 대형화되어서 Y 스테이지(18)의 이동거리가 연장된 경우이더라도, 가이드부(14A, 14B)의 전체 길이를 연장함으로써 대응하는 것이 가능하여, 예컨대, 종래와 같이 워크 면적에 따른 큰 면적을 가지는 석정반을 이동거리에 따라서 연장하는 경우보다도 용이하며, 또한 종래와 같이 워크 면적에 따른 석정반을 제작할 필요가 없으므로, 스테이지장치(10)를 저렴하게 제작하는 것이 가능해진다.
한 쌍의 리니어 모터(20A, 20B)는, Y 스테이지(18)의 이동위치를 검출하는 한 쌍의 리니어 스케일(22A, 22B)로부터의 위치검출신호에 근거하여 병진 구동시키도록 제어된다.
도 2에 나타낸 바와 같이, Y 스테이지(18)는, 가이드부(14A, 14B)의 윗쪽이 X방향으로 가로로 걸쳐진 가로 가설부(빔)(30)와, 가로 가설부(30)의 양단에 결합되어 가이드부(14A, 14B)를 따라서 이동하는 한 쌍의 슬라이더(32A, 32B)를 가진다. 슬라이더(32A, 32B)에는, 가로 가설부(30)을 승강시켜서 높이위치를 조정하는 승강기구(33A, 33B)가 설치되어 있다. 또한, 가로 가설부(30)에는, 흡착판(24)에 흡착된 워크(미도시)에 대한 소정의 작업, 혹은 가공 후의 검사 등을 행하기 위한 지그(60)가 장착된다.
또한, 가로 가설부(30)에는, 흡착판(24) 상면과의 거리(Z방향 위치 데이터)를 검출하는 높이방향 검출센서(70A, 70B)이 설치되어 있다. 이 높이방향 검출센서(70A, 70B)는, 예컨대, 초음파 센서 등으로 이루어지고, 초음파를 송신한 다음 반사파를 수신할 때까지의 시간차로부터 거리를 계측할 수 있다. 흡착판(24) 상면의 평면도는, 고정밀도로 가공되어 있어서, 모방 제어의 기준면으로서 이용할 수 있다.
가이드부(14A, 14B)는, 수평이 되도록 가설대(12)에 의하여 높이 조정되며, 또한 보(16)에 의하여 평행이 되도록 설정되어 있지만, 가이드부(14A, 14B)의 어느 한쪽이 미소한 오차에 의하여 수평이 아닌 상태로 되어 있으면, Z축방향에 어긋남이 생기는 경우가 있다. 그 경우, Y 스테이지(18)는, 흡착판(24)의 윗쪽에서 수평상태인 채로 Y방향으로 이동하는 과정에서 Z축방향으로 변동(진동)할 우려가 있어, 지그(60)와 흡착판(24) 상면의 거리가 일정하지 않게 된다. 이와 같은 가이드부(14A, 14B)에 의한 Y 스테이지(18)의 Z축방향으로 변동을 억제하기 위하여, 스테이지장치(10)에서는, Y방향의 각 이동위치에 대한 흡착판(24)의 상면과 가로 가설부(30)의 Z축방향 상대거리를 미리 계측하여, 이 Z축방향 계측 데이터에 근거하여 승강기구(33A, 33B)를 동작시켜서 지그(60)와 흡착판(24) 상면과의 거리가 일정하게 되도록 모방 제어를 행한다.
가이드부(14A, 14B) 중 좌측의 가이드부(14A)는, 슬라이더(32A)의 이동을 가이드하고 있고, 또한, 우측의 가이드부(14B)는, 슬라이더(32B)의 이동을 가이드한 다. 슬라이더(32A, 32B)는, 가이드부(14)의 좌우 측면 및 상면에 대향하도록 역(逆) U자 형상으로 형성되어 있고, 가이드부(14A, 14B)의 좌우 측면에 대향하는 요(yaw) 패드(Y방향 정압 공기베어링)(34, 35)와, Z방향에서 대향하는 리프트(lift) 패드(Z방향 정압 공기베어링)(36)를 가진다. 따라서, 슬라이더(32A, 32B)는, X방향 및 Z방향이 규제되면서 Y방향으로 가이드된다.
또한, 슬라이더(32A)의 이동을 가이드하는 가이드부(14)의 상부 좌우 측면에는, 한쪽의 슬라이더(32A)의 위치를 검출하는 한 쌍의 리니어 스케일(22A, 22B)이 설치되어 있다. 제1 리니어 스케일(22A)은, 가이드부(14A)의 좌측면에 대한 슬라이더(32A)의 이동위치를 측정한다. 또한, 제2 리니어 스케일(22B)은, 제1 리니어 스케일(22A)이 배치된 가이드부(14A)의 좌측면과 평행한 반대측의 우측면에 대한 슬라이더(32A)의 이동위치를 측정한다.
제1, 제2 요(yaw) 패드(34, 35)는, 각각 제1, 제2 리니어 스케일(22A, 22B)의 근방에 배치되어 있고, 제1, 제2 리니어 스케일(22A, 22B)의 검출 정밀도의 편차를 억제하고 있다.
한 쌍의 리니어 스케일(22A, 22B)은, 예컨대, 광전(光電) 방식의 것이 이용되고 있고, 발광소자와 수광소자를 가지는 센서와, 일정한 피치의 슬릿을 가지는 스케일을 가진다. 본 실시예에서는, 센서가 슬라이더(32A)의 좌우 내벽에 설치되고, 스케일이 가이드부(14)의 좌우 측면에 장착되어 있다.
또한, 가로 가설부(30) 및 슬라이더(32A, 32B)는, 리프트 패드(36)로부터의 공기압에 의하여 가이드부(14A, 14B)에 대하여 부상(浮上)되어 비접촉으로 이동한 다. 따라서, Y 스테이지(18)는, 거의 마찰이 없는 상태에서 Y방향으로 이동할 수 있다.
리니어 모터(20A, 20B)는, ㄷ자 형상으로 형성된 고정자(영구자석을 가짐)(40)와, 고정자(40)에 측방으로부터 삽입된 가동자(코일을 가짐)(42)로 구성되어 있고, 미소한 간극을 통하여 비접촉상태로 가동자(42)를 Y방향으로 이동시키도록 코일 인가 전압이 제어된다. 가동자(42)는, 슬라이더(32A, 32B)의 측면에 결합되어 있고, 코일에 전압이 인가됨으로써 고정자(40)와의 사이에서 발생한 추력(推力)을 슬라이더(32A, 32B)에 전달하여, 슬라이더(32A, 32B)를 Y방향으로 구동한다.
또한, 리니어 모터(20A, 20B)의 고정자(40)는, 리니어 모터 지지부(46)에 의하여 지지되어 있다. 따라서, 리니어 모터(20A, 20B)의 구동력에 의하여 Y 스테이지(18)를 Y방향으로 이동시킬 때에 발생하는 반력(反力)은, 리니어 모터 지지부(46)를 통하여 콘크리트 바닥면에 전달된다.
이로써, 리니어 모터(20A, 20B)가 받는 반력은, 콘크리트 바닥면에서 감쇠된다. 따라서, 가설대(12)에 전파되는 리니어 모터(20A, 20B)의 반력은, 극히 작게 되어 있다.
도 5는 스테이지장치(10)의 제어계를 설명하기 위한 블럭도이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 스테이지장치(10)의 제어장치(100)에는, 상기 리니어 모터(20A, 20B), 리니어 스케일(22A, 22B), 높이방향 검출센서(70A, 70B), 승강기구(33A, 33B)를 구동하는 Z축 모터(80A, 80B), 기억장치(90)가 접속되어 있다. 제어장치(100)는, Y 스테이지(18)를 Y방향으로 이동하는 과정에서 리니어 스케일(22A, 22B)에 의하여 계측된 Y방향 위치 데이터와, Y방향 위치 데이터에 대응시켜서 높이방향 검출센서(70A, 70B)에 의하여 계측된 Z방향 위치 데이터를 관련시킨 Z축 데이터 테이블(92)을 작성하여 기억장치(90)에 기억시킨다. 이 Z축 데이터 테이블(92)의 작성은, 예컨대, 워크를 교환할 때마다 행하여도 좋고, 혹은 미리 정하여진 소정 시간마다 행하여 갱신하도록 하여도 좋다.
그리고, 제어장치(100)는, 리니어 스케일(22A, 22B)에 의하여 계측된 Y방향 위치 데이터에 대응하는 Z방향 위치 데이터를 기억장치(90)에 기억된 Z축 데이터 테이블(92)로부터 읽어낸 Z축 모터(80A, 80B)를 모방 제어하도록 미리 프로그램(승강제어수단)되어 있다.
한 쌍의 가이드부(14A, 14B)는, 보(16)에 의하여 X방향의 이격거리가 일정하게 되도록 위치맞춤되어서 평행하게 배치되어 있지만, 평행도에 오차가 생기는 경우가 있다. 예컨대, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)의 X방향의 이격거리가 Y방향 위치에 의하여 좁아지거나, 혹은 넓어지거나 하는 경우나, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)의 Z방향의 위치가 Y방향 위치에 의하여 윗쪽에 위치하거나, 혹은 아래쪽으로 위치하는 경우가 있다.
이와 같은, 한 쌍의 가이드부(14A, 14B)의 평행도에 오차가 생기면, Y 스테이지(18)에 장착된 지그(60)와 흡착판(24)의 거리가 변동되어 버려서, 흡착판(24)에 흡착된 워크(미도시)에 대한 가공 정밀도나 검사 정밀도가 저하되게 된다. 그러나, 본 발명에서는, Y 스테이지(18)를 Y방향으로 이동시킬 때에 제어장치(100)가 Y방향위치 데이터에 대응하는 Z방향 위치 데이터를 기억장치(90)에 기억된 Z축 데이 터 테이블(92)로부터 읽어낸 승강기구(33A, 33B)의 Z축 모터(80A, 80B)를 제어하기 위하여, 가이드부(14A, 14B)의 평행도에 오차에 의한 Z방향의 변동을 거의 제로로 억제하는 것이 가능해진다. 즉, 제어장치(100)는, Y 스테이지(18)를 Y방향으로 이동시키는 과정에서 가이드부(14A, 14B)를 따라서 이동하는 슬라이더(32A, 32B)가 상하방향으로 변동하는 Z방향 위치 데이터가 계측되어 있었을 경우는, 그 Y방향 위치를 통과할 때에 Z축 모터(80A, 80B)를 구동하여 가로 가설부(30)의 높이위치를 Z방향 위치 데이터와 역방향으로 조정하여 외견상, 가로 가설부(30)와 흡착판(24)의 거리를 일정하게 되도록 제어하는 것이 가능해진다.
도 6은 변형예를 나타낸 정면도이다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 가이드부(14A, 14B) 중 좌측의 가이드부(14A)는, 우측의 가이드부(14B)보다도 X방향의 폭치수가 상기 실시예보다도 크게 광폭으로 되어 있다. 그 때문에, 리니어 스케일(22A)의 검출위치와 리니어 스케일(22B)의 검출위치의 차가 확대되어 Y 스테이지(18)의 요(yaw)각(θ)을 검출하기 쉽게 된다.
또한, 가로 가설부(30)의 우측단에 마련된 관통공(30a)에는, 슬라이더(32B)로부터 기립한 연결축(50)이 삽입 관통되어 있다. 그 때문에, 가로 가설부(30)의 우측단과 슬라이더(32B)의 사이는, 요(yaw) 방향으로의 선회동작이 가능해지도록 수직한 연결축(50)을 통하여 연결되어 있다.
또한, 우측의 슬라이더(32B)에는, 요(yaw) 패드(34, 35)가 설치되어 있지 않고, Z방향에서 대향하는 리프트(lift) 패드(36)만이 설치되어 있다. 그 때문에, 슬라이더(32B)는, 가이드부(14B)의 Z방향의 부상(浮上)위치만이 규제된 상태에서 Y방 향으로 가이드된다.
예컨대, 가이드부(14A, 14B)의 평행도의 어긋남이나, 가이드부(14A, 14B)의 한쪽이 X방향의 휨을 가지는 경우에, 혹은 한 쌍의 슬라이더(32A, 32B)의 병진 동작에 어긋남이 생긴 경우에, 슬라이더(32B)가 연결축(50)을 중심으로 하여 Z축 주변으로 회전운동하여 이동방향을 수정하여 가로 가설부(30)가 휘는 것을 방지할 수 있다.
<산업상의 이용 가능성>
상기 실시예에서는, 액정기판 등으로 이루어지는 워크를 가공하는 스테이지장치를 예로 들어서 설명하였지만, 스테이지장치의 용도로서는, 이에 한정되지 않고, 기타 워크의 가공 또는 검사를 행하는 경우에도 적용할 수 있는 것은 물론이다.
본 발명에 의하면, 가설대에 지지되어 평행하게 배치된 한 쌍의 가이드부 사이에 가로로 걸쳐지고, 양단이 상기 가설대에 지지된 보(梁)에 워크 탑재판이 지지되고, 워크 탑재판의 윗쪽에 스테이지를 이동시키기 위하여, 석정반(石定盤)을 워크 사이즈에 따라 대형화하는 것에는 한계가 있으므로, 석정반을 사용하지 않고 한 쌍의 가이드부의 평행도의 정밀도를 높일 수 있음과 함께, 워크의 대형화에도 대응할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기억수단에 기억된 스테이지의 이동위치에 대응하는 계측 데이터와 리니어 스케일에 의하여 계측된 이동위치 데이터에 근거하여 승강기구를 모방 제어하므로, 한 쌍의 가이드부의 평행도에 어긋남이 생긴 경우이더라도 워크 탑재판의 윗쪽을 이동하는 슬라이더의 높이위치를 미리 설정된 소정 높이위치를 유지하도록 슬라이더를 이동시키는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명에 의하면, 가로 가설부가 슬라이더와 회전운동 가능하게 연결되어 있으므로, 스테이지의 슬라이더를 병진시킬 때에 상대적인 위치 어긋남이 생긴 경우이더라도 가로 가설부가 휘는 것을 방지할 수 있다.

Claims (3)

  1. 바닥면에 고정된 가설대와,
    이 가설대에 지지되어서 평행하게 배치된 한 쌍의 가이드부와,
    이 한 쌍의 가이드부 사이에 가로로 걸쳐지고, 양단이 상기 가설대에 지지된 보(梁)와,
    상기 보에 지지된 워크 탑재판과,
    상기 한 쌍의 가이드부의 뻗은 방향을 따라서 이동하는 한 쌍의 슬라이더와, 상기 한 쌍의 슬라이더 사이를 가로로 걸쳐진 가로 가설부를 가지고, 상기 워크 탑재판의 윗쪽을 이동하는 스테이지와,
    상기 한 쌍의 슬라이더를 구동하는 한 쌍의 리니어 모터와,
    상기 스테이지의 이동위치를 계측하는 한 쌍의 리니어 스케일과,
    이 한 쌍의 리니어 스케일에 의하여 계측된 이동위치가 같아지도록 상기 한 쌍의 리니어 모터를 제어하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 가로 가설부의 높이위치를 조정하는 승강기구와,
    상기 보(梁)에 탑재된 워크 탑재판의 상면에 대한 상기 가로 가설부의 높이위치를 계측하는 높이방향 검출센서와,
    이 높이방향 검출센서에 의하여 검출된 계측 데이터와 상기 스테이지의 이동 위치의 관계를 기억하는 기억수단과,
    이 기억수단에 기억된 상기 스테이지의 이동위치에 대응하는 계측 데이터와 상기 리니어 스케일에 의하여 계측된 이동위치 데이터에 근거하여 상기 승강기구를 모방 제어하는 승강 제어수단을 가지는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 가로 가설부는, 상기 슬라이더와 회전운동 가능하게 연결된 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101339914B (zh) * 2008-08-27 2010-06-16 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 二维电动位移平台
JP4964853B2 (ja) * 2008-09-24 2012-07-04 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
KR102482124B1 (ko) * 2016-01-25 2022-12-27 한화정밀기계 주식회사 칩 부품 마운터의 오차 최소화 방법
TWI602261B (zh) * 2016-06-03 2017-10-11 Siacin International Co Ltd Platform level automatic calibration device
CN107580413A (zh) * 2016-07-05 2018-01-12 翔庆精密工业有限公司 平台水平自动校正装置
JP6771160B2 (ja) * 2018-08-21 2020-10-21 パナソニックIpマネジメント株式会社 搬送ステージとそれを使用したインクジェット装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3746730B2 (ja) * 2002-04-24 2006-02-15 株式会社目白プレシジョン ステージ装置
JP4443891B2 (ja) * 2003-10-23 2010-03-31 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP2005331402A (ja) * 2004-05-20 2005-12-02 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置

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