TWI356805B - Control of fluid conditions in bulk fluid delivery - Google Patents

Description

1356805 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於控制大量流體分配系統中之流體 壓力之裝置及方法。更特定言之，本發明提供用於控制大 里流體供應線中之半導體製程流體之（例如超高純度流體 或漿料流體）壓力的改良裝置及方法，該半導體製程流體 供應線供應半導體製造或其他相關應用中使用之製程工 具。

【先前技術】 半導體設備之製造為通常要求200個以上製程步驟乏複 雜製程。每一步驟均要求一最佳狀態組以生產高良率的半 導體設備。該程步㉟中之許多纟_要求在製造期間使 用流體（特定而言）蝕刻、曝露、塗覆及研磨設備表面。在 高純度流體應用中，流體必須大體上無微粒及金属污染物 以避免成品設備中之缺陷。在化學機械研磨漿料應用中， 抓體必須無月b夠擦傷設備表面之大粒+。而i，在製造期 間必須存在穩足且足夠的通向執行各種步驟之製程工具的 流體供應以避免製程波動及製造停工時間。 自20世紀90年代被引進半導體市場以來，具有真空壓力 引擎之大量流體分配系統在半導體製造製程中扮演了重要 角色。由於該等系統大體上由諸如全氟烷氧基(PFA)及聚 四氟乙烯(PTFE)之惰性濕材料構造’且因為其使用惰性加 壓氣體作為原動力來供應流體，戶斤以其大體上不會導致製 程流體的微粒及金屬、，亡。 叹i屬5染物。此外，早個大量流體分配系 109130.doc 1356805 ' 、統可在足夠壓力了向多㈣製程工具提供持續供應之製程流 - 體。因此，真空壓力流體分配系統的出現滿足了半導體市 場中一重大需要。 由於眾多原因（例如〇型環失效、閥失效或進入流體被污 染），大量流體分配系統在流體供應線中包括過濾器。然 而，經由過濾器之流體流動速率的突變引起對過濾器的水 力衝擊，此導致先前已過濾的粒子釋放入流體中，由此引 Φ 起粒子濃度的峰值。雖然保持經由過濾器之流體的最小流 動速率有助於減少微粒釋放，但是不能消除此問題。因 此，流體壓力及流量波動可導致流體中粒子濃度的波動， 此可導致半導體晶圓中之缺陷。 此外，如上所論述，流體分配系統通常供應許多工具。 當一工具需求製程流體時，自供應線抽取流體引起供應線 中之流體壓力下降約5 psi至約25 psi。如以下將進一步論 述，具有真空壓力引擎之典型流體分配系統引起供應線中 • 之壓力波動，此可反過來影響供應至工具之流體的流量及 純度狀態。因此，需要一最小化或消除供應線中之流體之 磨力及流量波動的流體分配系統。 圖la描繪一用以向半導體製程工具供應製程流體之標準 真空壓力流體分配系統。其他類型之真空壓力流體分配系 統在美國專利案第5,330,072號及第6,019,250號中描述，其 以弓丨用方式併入本文中。 參看圖1 a，一真空壓力流體分配系統通常包括兩個壓力 • 真空容器101及103。每一容器配備有至少兩個流體液位感 109130.doc 1356805 測器（£1111<116乂6136113〇1")105、107、109及111(例如電容式 感測器）。感測器105及109分別監控容器101與1〇3中的低 流體液位狀態’且感測器1 07及111分別監控容器1 〇 1與1 〇3 申的高流體液位狀態。來自流體源113之製程流體經由雙 向閥115進入容器1〇1且經由雙向閥117進入容器1〇3。流體 經由雙向閥119退出容器1〇1且經由雙向閥121退出容器 103。流體一退出容器101或容器103，隨即流經大量製程 流體供應線123。 在填充循環期間’真空產生設備125(例如抽氣器或文氏 (Venturi)管）在容器101中製造真空以吸入流體。當流體在 填充循環期間流入容器1〇1時，雙向閥115及127打開且三 通閥129處於位置"A"處。當在容器1〇1上操作真空時，隨 著來自流體源113之流體被吸入容器中，容器丨〇1中之任何 氣體流至一排氣口（未展示）。當流體到達液位感測器 107(例如電容式感測器）時，閥115、127及129停用且真空 停止。 在配給循環期間’諸如氮氣之惰性氣體131經由"副"調 節器133及三通閥129之位置"B"流入容器1〇1中。容器1〇1 —開始被加壓至一預定值且隨後閥119打開以允許流體在 惰性氣體壓力之強迫下流經閥119、過濾器（未展示）且進入 大$流體供應線123中。容器1〇1配給流體直至其到達低液 i 、·）器1 0 5，在5亥點處閥119關閉且填充循環再次開始。 &在操作期間，容器101及103在填充循環與配給循環之間 交替以使得當容器1()1在填充時，容器1G3在配給。在容器 109l30.doc 1356805 103中之填充循環期間，閥117及127打開且閥137處於位置 A'處。在容器103中之配給循環期間，惰性氣體131流經 剎調節器135及閥137之埠"B"以對容器1〇3中之流體加壓且 驅動其經由閥121抵達供應線123。在容器1〇3中之配給循 %結束時，容器轉換以使得容器1〇3開始填充循環且容器 ιοί開始配給循環。值得注意的是’真空產生設備125經配

置以使得容器填充比其分配更快以提供連續的流體流量至 供應線12 3。 在圖la中展示之系統中，可手動調整之主調節器】么由 來自一高壓氣體源141之諸如壓縮乾空氣之氣體來促進。 主調節器137發送一恆定氣體導引訊號至副調節器η〕及 135 ’從而該等調節器分別提供一恆定的惰性氣體壓力至 閥129與137。供應至閥129及127每一者之壓力為相同的。 因此，在容器101或103之配給循環期間，供應至每一容器 之U性氣體壓力為怪定的且為相同的。 圖la系統之一問題為其不能保持供應線123中流體的穩 疋壓力。圖lb展示供應線123中之流體壓力隨時間波動的 情況的簡化說明。在該說明中未說明歸因於複雜流體分配 糸統中存在的製程工具需求、配件、管道及其他部分的損 失。在系統100之操作期間，當容器自其高感夠器配給至 其低感測器時，供應線123中之壓力降低，其降低的^等 於高感測器與低感測器之間的流體的壓位差d 損失。麼位差定義為由於容器中之流體之重量ζ 用於供應線中之流體而產生之星力。當容器轉換時，開始 I09130.doc 1356805 。循％之合益開始充滿可高達其高感測器之流體，且施 ^於剛完成配給循環之容器的相同壓力被施加於配給容 裔因此，當容器轉換時，供應線中之流體壓力形成峰值 或增加等於新配給容器之壓位差的量。 已错由主動控制供應線中之流體壓力來嘗試改良圖la中 之系、统圖2a展tf -經改良之真空壓力系統2〇〇。系統2〇〇 除使用主調節器241來替代可手動調整之調節 β 141以外，與系統⑽大體上相似。圖以之系統亦包括一 感測器245以監控在供應線223中之中點處的壓力。如同圖 la之系統，合器2〇1及2〇3在真空填充循環與壓力配給循環 之間交替且主調#器24 1提供相同的氣動訊號至副調節 器 233及235 。 在配給循環期間，基於一來自壓力指示器％之訊號來 調整施加於配給容器2〇1或2〇3中之流體的惰性氣體壓力。 慮及無t程工具需求《其他磨力損失之簡化流體分配系 統’當其在配給時增加供應至配給容器加或加之惰性氣 體壓力以補償容器之高感測器與低感測器（分別為謝、 211及205、209)之間的壓位差損失。 雖然系統200遵_£〜了歸因於配給容器中之壓位差損失而 f致之壓力降低，彳ϋ其不提供供應線223中之流體的穩 £壓力控制。圖孔說明在無製程工具需求或其他壓力損失 之分配系統令供應線223中之壓力隨時間波動之情況。在 操作期間’當容器轉換日夺，主言周節器241繼續發送與發送 至剛完成配給循環之容器的訊號相同的訊號（或麼力請求） W9130.doc 10 ^356805 至開始配給循環之容器此’當容器轉換時，供應線 2—23中之壓力存在一峰值，該峰值等於剛完成配給循環之 容器的高感測器與低感測器之間的壓位差之變化。結果， 系統綱主動嘗試降低供應線223中之流體塵力且繼續0調整 f壓力直至其達到·'預定設定點。因此，系統2G0之-問 題為·如圖2b中所展不’供應線223中之流體壓力振盈， 直至其達到穩定狀態為止。 此外彡纟充2GG之^ ―問題為其持續調整發送至不配认 或待用容器之副調節器的氣動訊號。因此，用於不配給i 器之副調節器導致待用容器之副調節器之極大磨損。 因此，半導體工業中仍需要對流體分配系統的改良，包 提供對製私抓體的流動狀態的穩定控制而不引起組件部 分的磨損。 【發明内容】 一種用於控制大晋〇*掷 / ^ 1机體分配糸統中之流體壓力的方法， 其包含在至少一個係田 使用點處之流體壓力保持大體上恆定之 狀態下自一 f 一交奖 斋與一第二容器交替配給流體至該至少 一個使用點》 種用於控制一大^·、、& μ \ / Α里流體分配系統中之流體壓力的方 法’該大量流體分配糸 L糸統具有用於供應流體至一供應線之 一第一一笛-h 。 〜各器、一用於供應惰性氣體至第一及 第二容器之惰性氣聽 .. '原、、定位於供應線中之一控制器及一 感測器’該方法包含 乂下步驟：在控制器處接收一來自威 測器之控制訊號；開 J始第一容器的配給循環，該配給循環 109130.doc 包含以下步驟：根據控制訊號及第二容器之第一液位與第 一液位之間的流體壓位差確定第一訊號；基於該第一訊號 對第—容器中之流體施加第一壓力；及自第一容器之第— 液位配給流體至第二液位；及開始第二容器之配給循環， 遠配給循環包含以下步驟：根據控制訊號及第一容器之第 —液位與第二液位之間的壓位差確定第二訊號；基於該第 一·訊號對第二容器中之流體施加第二壓力；及自第二容器 之第一液位配給流體至第二液位。 —種用於控制一交替容器大量流體分配系統中之流體壓 力的裝置，其包含：一第一容器，其具有一第一對用於偵 ’則第一容器中之流體之第一液位及第二液位的感測器；一 第一谷益’其具有一第二對用於偵測第二容器中之流體之 第液位及第二液位的感測器；一惰性氣體進給線，其用 於供應惰性氣體至容器；一第一對調節器，其包括一第一 主凋節器及一第一副調節器，其中該第一副調節器適於調 即施加至第一容器之惰性氣體壓力；一第二對調節器，其 包括一第二主調節器及一第二副調節器，其中該第二副調 節器適於調節施加至第二容器之惰性氣體壓力；一流體供 應線，其具有一定位於供應線内之控制感測器，其中該等 容器適於交替配給流體至供應線；及一控制器，其適於接 收來自拴制感測器之控制訊號、基於該控制訊號及第二容 器之第一液位與第二液位之間的流體壓位差之變化確定第 —訊號、基於該控制訊號及第一容器之第一液位與第二液 位之間的流體壓位差之變化確定第二訊號、且發送第一訊 109130.doc 1356805 號至第-主調節器且發送苐二訊號至第二主調節器。 【實施方式】 圖3中展示一根據本發明之實施例。本發明針對一真空 壓力流體分配系統300 ’其提供對大量流體供應線323中之 流體壓力的穩定控制。系統3〇〇大體上消除了圖1及圖2中 所展示之先前技術系統的所有壓力波動。 系統300具有各配備有至少一個流體液位感測設備（例如 305、307、309及311)之兩個容器3〇1及3〇3。雖然真空壓 力引擎通常採用電容式感測器作為液位感測設備，但是本 發明額外考慮了光學感測g、數位感測器、荷重元（1〇ad cell)(未展示）或其類似物之使用。圖3中展示之系統包括： 用於分別監控容器3〇1與303中之低流體液位狀態之兩個感 測器305與309 ;及分別監控容器301與3〇3中之高流體液位 狀態之感測器307與311。來自流體源313(例如杗、另一化 學分配系統、加壓鼓或其類似物）之流體經由雙向閥3丨5進 入容器3〇1且經由雙向閥317進入容器3〇3。流體經由雙向 間319退出容器3〇1且經由雙向閥321退出容器3〇3。流體一 旦退出容器301或容器303，隨即經由—過濾器（未展示）流 動至流體供應線323。 在填充循環期間，可在壓力或真空狀態下填充容器3〇1 及303。舉例而言，泵或來自另一流體分配系統之供應線 可向容器301及303提供加壓流體供應。若使用一加壓源， 則當容器填充時，容器中之一排氣口（未展示）打開以自容 °°卜出殘氣。相比之下，當容器在真空狀態下填充時，如 109J30.doc -13- 1356805 上所為述且如圖1 a及圖2a中所展示，諸如抽氣器之真空產 生设備（圖3中未展示）將流體吸入容器中。 在容器301的填充循環期間，當流體流入容器時閥3 1 5打 開°當流體到達液位感測器307(例如電容式的、光學的、 數位的或其類似物）或荷重元（未展示）所指示之預定高液位 時，閥3 15關閉。 在容器301之配給循環期間，諸如氮氣之惰性氣體331流 經"副"調節器333及閥329對容器301加壓以經由閥319配給 流體至供應線323，直至容器301中之流體液位到達液位感 測器305(例如，容式的_、光學的、數隹的或其類似物）或荷 重元（未展示）偵測之預定，，低"液位，在該點處閥3 19關閉且 真空填充程序開始。 在操作期間’容器301及303在填充循環與配給循環之間 交替’以使得當容器301在填充時容器303在配給。在容器 303之配給循環期間’惰性氣體33丨流經副調節器335及閥 337對容器303加壓以經由閥321配給流體至供應線323，直 至谷器3 03中之流體液位到達液位感測器3〇9或荷重元偵測 之預定"低"液位’在該點處閥321關閉且真空填充程序開 始。值得注意的是，系統經配置以使得容器填充比其配給 快以向供應線323提供連續的流體流。 系統300使用感測器345(例如壓力轉換器、流量計或其 類似物）來監控供應線323中之流體狀態，且該系統調整施 加於容器之惰性氣體壓力以補償供應線323中之流體狀離 的變化。感測器345可定位於供應線323中任何一點處，作 109130.doc 14 1356805 是較佳定位於供應線323中之中點處。此外，系統3〇〇大體 - 上’肖除了由於谷器配給循環期間之塵位差變化而產生之供 應線323中之流體壓力的任何變化。 ，系統300包括控制器343，控制器343接收來自感測器345 之控制訊號。該控制器連接至分別控制副調節器333與 335(例如裝有圓頂之壓力調節器）之主調節器341與342(例 如電動氣壓調節器）。感測器345及主調節器341及342可藉 φ 由類比電纜、數位電纜（例如乙太網路電纜）或無線連接連 接至控制器。副調節器333與335分別控制供應至容器3〇1 與3 03每一者之惰性氣體壓力。 為了消除供應線323中之流體由於配給循環期間容器中 之壓位差的變化而產生之壓力波動，控制器在配給循環開 始對發送至每一容器之訊號加偏壓。以下實例說明本發明 之消除歸因於壓位差之變化的波動的操作。 實例1 • 假定容器301已藉由將容器填充流體至其高液位（圖3中 展示為307)而完成填充循環且處於待用狀態，同時容器 3〇3藉由配給流體至其低液位（圖3中展示為3〇9)而完成其配 給循環。 在谷器303之配給循環期間，控制器343定期地或持續地 接收來自感測器3 45之訊號且調整供應至容器3 〇3之惰性氣 體壓力以保持供應線323中之預定流動狀態（例如壓力 '流 - 動速率或其類似者）。當容器3〇3自其高液位（圖3中展示為 31丨）至其低液位（圖3中展示為309)配給時，流體壓位差根 109130.doc 15 1356805 據以下關於容i中之流體壓位差變化之方程式在液位!^,3<)3 與 h2,3〇3 之間降低. 中卩=流體密度且g=9.8 m/s2)。 因此’為了避免供應線323中之流體壓力降低，控制器 343發送一訊號（例如一 4 mA至20 mA訊號）至主調節器342 以對容器303增加由副調節器335控制之惰性氣體壓力。值 得注意的是’感測器345可偵測歸因於工具需求或流體分 配系統中之管道及配件中的壓力損失而導致之壓力的其他 變化’但是出於該實例之目的，將不考慮此等損失。當容 器3 0 3中之流體到達低液位時，容器轉換且容器3 〇丨開始配 給循環而容器303開始填充循環。 當容器303配給時，控制器獨立確定或計算待發送至調 卽器之第一汛號，以在其開始配給循環時控制容器3 〇 1之惰 性氣體壓力。在該實例中，控制器監控由感測器345發送 之控制訊號且藉由將控制訊號減少與容器3〇3之壓位差的 k化相關之量來確定第一訊號。因此，當容器3 〇丨開始其 配給循環時，施加於容器301中之流體的惰性氣體壓力被 減少等於容器303中之流體的壓位差變化的量。若無此減 少，施加於容器之壓力將過高且引起供應線323中之壓力 形成峰值。 在開始其配給肩環以後，控制器3以如上關於容器3 斤述之相同的方式调整施加於容器3 〇 1之惰性氣體壓力以 保持供應線323中流體的預定流動狀態。 本心明之系統300提供優於先前技術系統】〇〇及2〇〇之對 l09J30.doc i -16· 1356805 • 製程流體的改良麼力控制。實際上，視感測器之置放(意 #其間之垂直距離）’ ▲發明可對供應線中之流體提供預 定設定點約的‘2 psi至約±1 5 psi之壓力控制，其間進行持 續5周整以保持穩‘癌情況（sieady state c〇nditi〇n)，而系統 200所提供之最佳控制預定設定點為丨5 ^丨至3 。 本發明之另一優點為可獨立控制調節器對333 ' 341及 335、342。此使得控制過程更靈活且減少了對副調節器之 • 磨損以使得無需持續調整用於不配給容器之副調節器。 此外，如上所述，系統3〇〇可補償由於（特別是）工具需 求、過濾器之壓力損失及管道及其他系統組件之摩擦損失 的變化而產生之其他壓力或流動狀態變化（由感測器345監 控）因此，本發明之系統3〇〇對供應至使用點之流體之流 動狀態提供比其他先前技術系統更加穩定的控制。 預期熟習此項技術者根據前述描述及實例將易於瞭解本 發明之其他實施例及變更，且希望此等實施例及變更同樣 包括於以下申請專利範圍中所陳述之本發明之範疇内。 【圖式簡單說明】 圖la為一先前技術真空壓力流體分配系統之圖示。 .圖1b說明圖la之先前技術流體分配系統之供應線中的流 體壓力波動。 圖2a為一先前技術流體分配系統之圖示。 圖2b說明圖2a之先前技術流體分配系統之供應線中的流 體壓力波動。 ~ 圖3為根據本發明之流體分配系統之圖示。 109130.doc 17 1356805 【主要元件符號說明】 100 系統 101 真空壓力容器 103 真空壓力容器 105 液位感測器 107 液位感測器 109 液位感測器 111 液位感測器

113 流體源 115 雙向閥 117 雙向閥 119 雙向閥 121 雙向閥 123 流體供應線 125 真空產生設備

127 雙向閥 129 三通閥 131 惰性氣體 133 副調節器 135 副調節器 137 閥/主調節器 141 主調節器/高壓氣體源 200 真空壓力系統 201 分配容器 109130.doc -18- 1356805 203 分配容器 205 低感測器 207 高感測器. 209 低感測器 211 高感測器 223 供應線 233 副調節器 235 副調節器

241 主調節器/電動氣壓主調節器 245 感測器/壓力指示器 300 真空壓力流體分配系統 301 容器 303 容器 305 液位感測器 307 液位感測器

309 液位感測器 311 液位感測器 313 流體源 315 雙向閥 317 雙向閥 319 雙向閥 321 雙向閥 323 流體供應線 329 閥 109130.doc -19· 1356805 . 331 惰性氣體 333 副調節器 .335 副調節器 337 閥 341 主調節器 342 主調節器 343 控制器 345 感測器

I09130.doc

Claims (1)

1£0年8月9日修正替換頁 十、申請專利範圍： I修(更)正本 L —種用於控制一大量流體分配系統中之一流體的壓力的 方法，該大量流體分配系統具有用於供應該流體至一供 應線之一第一容器及一第二容器、一用於供應一惰性氣 體至該第一容器及該第二容器之惰性氣體，源、定位於該 供應線中之一控制器及一感測器，該方法包含以下步 驟： 在該控制器處接收一來自該感測器之控制訊號； 開始該第一容器之一配給循環，該配給循環包含以下 步驟： 根據該控制訊號及在該第二容器之一第一液位與一 第二液位之間的該流體之一壓位差變化確定一第一訊 號，基於該第一訊號對該第一容器中之該流體施加一 第壓力，及自該第一容器.之一第一液位配給該流體 至一第二液位；及 開始該第二容器之一配給循環，該配給循環包含以下 步驟： 根據該控制訊號及該第—容器之該第一液位與該第 二液位之間的一壓位差變化確定一第二訊號；基於該 第二訊號對該第二容器中之該流體施加一第二壓力； 及自該第二容器之該第一液位配給該流體至該第二液 位0 2·如5月求項1之方法，其中該控制器獨立於該第二容器之 該配給循環控制該第一容器之該配給循環。 38464.doc 100年8月9曰修正替換頁 3.如5月求項丨之方法其中該 步驟白扛 弟一谷器配給該流體之 步驟包括回應於該控制 之咳、 泣轳# 坑果調整施加於該第一容器中 壓力。 保持該供應線中之一預定 4. 如請求項]夕士 . 、，，、中該自該第二容器配給該流體之 步驟包括回應於該控制訊 .果調整施加於該第二容器中 以机體之該惰性氣體壓力 壓力。 1示符该供應線中之一預定 5 ::::1之方法’其進-步包含在該配給該流體至該 配二：之該第二液位之步驟以後且在該自該第二容器 _ 月1自流體源填充該第一容器之步 驟。 士二求項5之方法’其中該流體源供應—加壓流體。 二：求項5之方法，其中該填充該第—容器之步驟包括 二第〜斋中製造-真空以自該流體源抽取該流體。 二項1之方法：’其進一步包含在該配給該流體至該 -，器之該第二液位之步驟以後且在該自該第一容器 …亥机體之步驟期間自一流體源填充該容器 驟。 月长項8之方法，其中該流體源供應一加壓流體。 月求項8之方法’其中該填充該第二容器之步驟包括 在忒第一谷器中製造一真空以自該流體源抽取該流體。 11 ·如晴求項1夕古、土 ^4-. 1 i万击’其中該控制訊號對應於該供應線中 之該流體之壓力。 38464.doc I ° y~3 -7 ·—* 12. 如請求項1 > 士、土 & i l万法’其中該控制訊號對應於該供應線中 之該流體之流動速率。 13. 14. 15. 16. 17. 18. 如請求項1 > > I万法’其中該流體係選自酸、鹼、溶劑及 化:機械研磨漿料組成之半導體製程流體群。 與^項1之方法，其進一步包含用電容式感測器光 :士測态及數位感測器偵測該第一容器中之該流體之該 一液位及該第二液位的步驟。 V::項1之方法’其進-步包含用荷重元偵測該第-…之該流體之該第一液位及該第二液位的步驟。 心：項1之方法’其進—步包含用電容式感測器、光 ;=器及數位感測11偵測該第二容器中之該流體之該 .第一液位及該第二液位的步驟。 h求項1之方法，其進—步包含 容器中之該流體之該第一液位 貞ικ亥第- 久項第一液位的步驟。 -種用於控制-大量流體分 .^ 元〒之一流體之壓力的 方法，該大量流體分配系统且 廐❹…W . 有用於供應該流體至-供 應線之一第一各态及一第二宜 态、一用於供應一惰性氣 體至該第一容器及該第二容 『^生孔 态之惰性氣體源、定位於螻 供應線中之一控制器 疋位於泫 驟： 戊測益，該方法包含以下步 之一第一液位處之該 施加該惰性氣體至該第—容器 。Τ 之 ~ 流體； 之該流 二第=該* 一液―容㈣ 38464.doc 1356805 100年8月9日修正替換頁 回應於一來自該供應線中之該感測器之訊號來調整施 加至該第一容器之該惰性氣體壓力以保持該供應線中之 一預定壓力； 細•加該惰性氣體至該第二容器中之一第一液位處之該 流體； 自該第二容器之該第一液位配給該第二容器中之該流 體至一第二液位；及 回應於一來自該供應線中之該感測器之訊號來調整施 加至該第二容器之該惰性氣體壓力以保持該供應線中之 一預定壓力； 八中，由於該第二容器之該第一液位與該第二液位之 間的壓位差之一變化而調整供應至該第一容器之該第一 液位處之該流體的該惰性氣體壓力，且其中由於該第 -容器之該第-液位與該第二液位之間的_壓位差而調 整供應至該第二容器之該第一液位之該惰性氣體壓力。

19. -種用於控制-大量流體分配系統中之—流體之壓力的 方法，該大量流體分配系統具有一供應線、用於供庫該 流體至該供應線之一第一容器及一第二容器、一用於供 應-惰性氣體至該第—容器及該第二容器之惰性氣體 源、定位於該供應線中之-控制器及—感測器，該方法 包含以下步驟： 發送一來自該感測器之控制訊號至該控制器； 根據該控制訊號及在該第二容器之一第—液位與一第 二液位之間的該流體之壓位差之一變化確定一第一訊 38464.doc •4- 1356805 100年8月9日修正替換頁 號； 基於該第一訊號施加一第一惰性氣體壓力至該第一容 3S · σσ J 自該第一容器配給該流體至該供應線；及 根據該控制訊號及在該第一容器之一第一液位與一第 二液位之間的該流體之壓位差之一變化確定一第二訊 號； 基於該第二訊號施加一第二惰性氣體壓力至該第二容 器；及 自該第二容器配給該流體至該供應線。 20.如請求項19之方法，其中該自該第一容器配給該流體之 步驟包括回應於該控制訊號來調整施加至該第一容器之 該惰性氣體壓力以保持該供應線中之一預定壓力。 2 1.如請求項19之方法，其中該自該第二容器配給該流體之 步驟包括回應於該控制訊號來調整施加至該第二容器之 該惰性氣體壓力以保持該供應線中之一預定壓力。 38464.doc