1356284 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 .Β^λ 〜々沄，更詳而言之， 係關於一種製造半導體、哎浚曰 一 算…Π 不器面板及電漿顯示器 1平面顯不器時所使用之曝光裝置及曝光。 【先前技術】 以習知之曝光裝置而言，已知有在使光罩(光罩㈣㈣)
與基板（晶圓）接近之狀態下隔著光罩照射圖㈣光用之光 (電子束），藉此，將光罩圖案予以曝光轉印於基板之裝置 (清參照例如專利文獻1及2)。 專利文獻1所記載之曝光裝置係包含：用於配置光罩之2 個框體、與2個框體分別對應而用於承載基板之2個基板平 D、及與2個基板平台（stage)分別對應配置之2個對準 (alignment)機構，且已知有在將各個框體與基板平台予以 組合之狀態下’使之交替移動至曝光裝置而進行曝光轉印 之平台移動機構。藉此，平台移動機構即於2個基板平台 同時進行對準與曝光，以謀求工作時間（takttime)之縮短。 此外’專利文獻2所記載之曝光裝置係於2軸平台之滑塊 (slider)配設制振用致動器（actuat〇r)及制振錘以減低平台之 震動’且藉此縮短平台之穩定時間以謀求定位精確度之提 升0 [專利文獻1]曰本特開昭63_87725號公報 [專利文獻2]日本特開2005-丨83876號公報 【發明内容】 121264.doc 1356284 [發明所欲解決之問題] 且說，在專利文獻1所記載之曝 ^ + 嗯元裝置中，雖係利用2個 基板平台來同時進行基板之曝光轉印及 . ^於基板平台搬入 與搬出基板以謀求製作時間之缩招 山士 縮紐，然而未考慮基板在搬 出入時所產生之振動，該振動會有仏 官令，口曝先精確度帶來影響 之可能性，故有進一步之改善空間。 此外’專利文獻2所記載之曝光步 科嗯尤裝置雖係降低1台基板平 台之殘留振動’以謀求平台穩定拉 十口穩疋時間之縮短、然而未考慮 基板在搬出入時所產生之振動，亦 ^ 万未a己載有利用2個基板 平台。 本發明係錢於前叙課題所完成者，其目的在於提供 一種曝光裝置及曝光方法，其可同時進行基板之曝光轉印 及基板對於基板平台之搬入與搬出，謀求製作時間之縮 紐，同時可排除基板之搬出入時所產生之振動給曝光精確 度帶來之影響，而以高精確度進行曝光轉印。 [解決問題之技術手段] 本發明之上述目的係藉由下述之構成來達成。（ι) 一種 曝光裝置’其特徵為包含··光罩平台，其係用以保持光 罩；主基座’其位於光罩平台之下方；第1副基座及第2副 基座’其配置於主基座之側方；心基板平台，其可在主 基座與第1副基座間移動；第2基板平台，其可在主基座與 第2田J基座間移動，照射裝f，其經由光罩將圖案曝光用 之光照射至保持於位於主基座上之第丨及第2基板平台之基 板；及防振機構，其係用以防止在第丨副基座與第2副基座 121264.doc 1356284 所產生之振動傳達至主基座。 ⑺如⑴之曝光裝置，其中防振機構包含及第2基 座構件’其可嵌合地分別設於形成於主基座與第1及第2: 基座間之楔形空間（wedge spa 、、 P Ce)或形成於第1及第2副基 座之楔形空間，且具有傾斜面； 及致動器，其將第1及第2 基座構件朝上下方向驅動。
(3)如（1)之曝光裝置，其 第1及第2副基座間之各對向 下方向驅動之致動器。 中防振機構係包含以主基座與 面為傾斜面，且將主基座朝上 (4) 如⑴至(3)中任一項之曝光裝置，其中防振機構具有 配置於主基座之下方’且可支持主基座之防振材料。
(5) 種曝光方法’其特徵為：使用曝光裝置者，該曝 光裝置係包含：光罩平台，其係用以保持光罩；主基座， 其位於光罩平台之下方；第1副基座及第2副基座，其配置 於主基座之側方；第1基板平台’其可在主基座與P副基 座間移動；第2基板平台，其可在主基座與第2副基座間移 動；照射裝置，其經由前述光罩將圖案曝光用之光照射至 保持於位於主基座上之第1及以基板平台之基板；及㈣ 機構，其剌以防止在第1副基座與第2副基座所產生之振 動傳達至主基座，且肖令*以丰ggt . # 1 β G3以下步驟·第1曝光步驟，其將 光罩之光罩圖案曝光轉印於保持於位於主基座上之第1基 板平台之基板；第!搬出入步驟，其於約曝光步驟中，將 基板相對於位於第2副基座上之第2基板平台搬人及搬出； 第1移動步驟，其分別將第1基板平台㈣至第！副基座 121264.doc 1356284 上、將第2基板平台移動至主基座上；第〗驅動步驟，其於 第1移動步騾後，將防振機構予以驅動；第2曝光步驟，其 將光罩之光罩圖案曝光轉印於保持於位於主基座上之第2 基板平台之基板，·第2搬出入步驟，其於第2曝光步驟中， 將基板相對於位於第1副基座上之第丨基板平台搬入及搬 出；第2移動步驟，其分別將第丨基板平台移動至主基座 上、將第2基板平台移動至第2副基座上；及第2驅動步 驟，其於第2移動步驟後，將防振機構予以驅動；第丨驅動 步驟係防止在第2曝光步驟中，因為第2搬出入步驟而於第 1副基座所產生之振動傳達至主基座，而第2驅動步驟係防 止在第I曝光步驟中，因為第1搬出入步驟而於第2副基座 所產生之振動傳達至主基座。 【實施方式】 [發明之效果] 依據本發明之曝光裝置及曝光方法，由於包含可在位於 光罩平台之下方之主基座與配置在其側方之第1副基座間 移動之第1基板平台、及可在位於主基座與配置在其側方 之第2副基座間移動之第2基板平台，因此可同時進行基板 之曝光轉印與基板對於第1及第2基板平台之搬入及搬出， 而可謀求工作時間之縮短，此外，由於包含用以防止在第 1 Μ基座與第2副基座所產生之振動傳達至主基座之防振機 構，因此可防止在將基板搬出入至第1及第2基板平台之際 所產生之振動傳達至曝光時之主基座。藉此，即可排除振 動對於曝光精確度造成之影響，而以高精確度將光罩圖案 121264.doc 予以曝光轉印於基板。 以下根據圖式詳細說明本發明之曝光裝置及曝光方法之 各實施形態。 (第1實施形態）圖1係為概略顯示本發明之第1施形態 之曝光裝置之整體構成之俯視圖，圖2係為顯示第i基板平 台可從第#機位置移動至曝光位置之狀態之主要部分前 硯圖’圖3係為顯示第α板平台位於曝光位置、第2美板 平台位於第2待機位置之狀態之主要部分前視圖。 如圖1及圖2所示，第1實施形態之曝光裝置ΡΕ係包含. 光罩平台1。、第1基板平台U、第2.基板平台12:;置 13、第1基板移載機i4、第2基板移載機15、及光罩移載機 16 ’且分別承載於基台17上。此外，於基台17上係設有： 主基座19,隔著防振橡膠等之防振材料18而承載；及第i 及第2副基座21、22，於該主基座19之側方，相對於主基 座19相互對向配置，且隔著層塊（level bl〇ck)20而承載。 第1基板平台11及第2基板平台12係分別移動於主基座19及 第1副基座21間、主基座19及第2副基座22間。 光罩平台10係由設於主基座19之複數個支柱23所支承， 配置於主基座19之上方。複數個支柱23係以第i及第2基 板=台11、12朝Y方向（圖1中左右方向）移動而可進出於光 罩平σ 10之下方之方式，於主基座19之上方形成空間。 光罩平台10係於中央具有矩形之開口 25a，包含有相對 於光罩平台10以可朝X、γ、θ方向調整位置之方式支承之 光罩保持部25，且以使具有應曝光之圖案之光罩Μ面向該 121264.doc -10- 1356284 開口 25a之方式保持於光罩保持部25。此外，在光罩平台 10中係設有：光罩用對準照相機（camera)(未圖示），用以 檢測光罩Μ相對於光罩保持部25之位置；及間距感測器（未 圖示），用以檢測光罩Μ與基板W之間之間距。 如圖2所示，第1及第2基板平台11、12係於上面分別具 有用以保持作為被曝光材料之基板W之基板保持部3 la、 31b。此外，於第1及第2基板平台11、12之下方係分別設 有基板平台移動機構32、32，其係包含：Y軸台面 (table)33、Y軸進給機構34、X轴台面35、X軸進給機構 36、及Z-傾轉（tilt)調整機構37。 Y軸進給機構34係包含線性滑執（iineai· guide)38與進給 驅動機構39而構成’而安裝於γ轴台面33之背面之滑塊 (slider)40係經由轉動體（未圖示）而跨架於遍及主基座19與 第1及第2副基座21、22延伸之2條導軌41，同時藉由具有 固定子42與活動子43之線性馬達而將γ轴台面33沿著導軌 41驅動。 另外’ X轴進給機構36亦具有與γ軸進給機構34相同之 構成，而Z-傾轉調整機構37係藉由將楔狀之移動體與進給 驅動機構加以組合而成之活動楔機構而構成。另外，進給 驅動機構可以是具有固定子與活動子之線性馬達，亦可以 是將馬達與滾珠螺桿（baU screw)裝置加以組合之構成。 藉此，各基板平台移動機構32、32將第i及第2基板平台 11、12朝X方向及γ方向進給驅動，同時以微調整光罩μ與 基板w之間之間隙之方式，將第i及第2基板平台"、以朝 12l264.doc 11 1356284 z軸方向微動且傾轉。 此外，在第1及第2基板平台u、12係於各基板保持部 3la、31bU方向側部與γ方向側冑分別安裝有條狀鏡_ 、62。此外，於第}副基座21及第2副基座22之γ 軸方向之兩側端、與主基座19之X軸方向之一側，係設有3 台雷射干擾儀63、64、65。藉此，將雷射光從雷射干擾儀 63、64、65照射至條狀鏡61、62，且接收藉由條狀鏡㈣ 反射之雷射光，再測量雷射光與藉由條狀鏡61、62所反射 之雷射光之干擾，以檢測第丨及第2基板平台u、12之位 置。 如圖2所示’照射裝置13係包含配置於光罩保持部以之 開口 25a上方，且作為紫外線照射用之光源之例如高壓水 銀燈、凹面鏡、光學積分器（optical integrator)、平面鏡、 球面鏡、及曝光控制用之快門（shutter)等所構成。照射裝 置13係隔著光罩Μ將圖案曝光用之光照射至曝光位置Ep， 亦即保持於移動至主基座19上之第1及第2基板平台1丨、12 之基板保持部31a、31b之基板W。藉此，光罩Μ之光罩圖 案Ρ即曝光轉印於基板W。 此外，第1基板移載機14、及第2基板移載機15係於未圖 示之基板匣與作為第1待機位置WP1之位於第1副基座21上 之第1基板平台11及作為第2待機位置WP2之位於第2副基 座22上之第2基板平台12之間進行基板W之搬入搬出，而 光罩移載機16係於未圖示之光罩匣與光罩平台1〇之間進行 光罩Μ之搬入搬出。 121264.doc 12· 1356284 此外，在主基座19與第1及第2副基座21、22之間係配置 有防振機構50、51 ’用以防止在第1副基座21與第2副基座 22所產生之振動傳達至主基座19。 如圖2所示，防振機構5〇、51係具有：第1及第2基座構 件52、53，其係配置於楔形空間，而該楔形空間係形成於 主基座19之Y方向之一端面19a及與其相對向之第！副基座 21之Y方向端面21a之間、及主基座19之丫方向另一端面 19b及與其相對向之第2副基座22之¥方向端面22a之間，且 Y方向兩端面52a、52b、53a、53b形成傾斜面俾與該楔形 二間對應，及致動器54、55，其係由包含安裝於第i及第2 基座構件52、53之下部之活塞桿（pist〇n r〇d)54a、55a，而 將第1及第2基座構件52、53朝上下方向驅動之油壓或空壓 缸所構成。 第1及第2基座構件52、53係具有與主基座丨9及第j及第2 副基座21、22相同之高度，而位於第！及第2基座構件52、 53下降之位置時，此等基座構件52、兄之γ方向兩端面 52a、52b、53a、53b即分別與主基座19及第i及第2副基座 21、22之Y方向端面i9a、21a、19b、22a抵接，且此等上 面即成為與主基座19及第1及第2副基座21、22形成同一 面。此外，位於第1及第2基座構件5 2、5 3上升之位置時， 係於第1及第2基座構件52、53之Y方向兩端面52a、52b、 53a、53b與主基座19與第1及第2副基座21、22之丫方向端 面19a、21a、19b、22a之間形成特定之間隙。另外，致動 器54、55之驅動係藉由未圖示之感測器一面檢測第1及第2 121264.doc 13 1356284 基座構件52、53之位置一面進行。 此外’遍及主基座19與第1及第2副基座21、22延伸之導 軌41係藉由分別設於主基座19、第1及第2副基座21、22、 第1及第2基座構件52、53上之5個導軌片41a至41e構成， 而於第1及第2基座構件52、53下降時，係由此等導軌片 41 a至41e實質形成一條導轨41。另外，進給驅動機構39之 固定子42亦分別配置於主基座19、第1及第2副基座21、 22、第1及第2基座構件52、53上。 接著說明藉由第1實施形態之曝光裝置PE進行曝光時之 防振機構50、51之動作。 如圖2所示’在將保持有基板w之第1基板平台u從第！ 副基座21上之第1待機位置WP1移動至主基座19上之曝光 位置EP時，第1基座構件52係位於下方，且無間隙地嵌合 於主基座19與第1副基座21之間之楔形空間，而第1基座構 件52上之導轨片41d係與主基座19與第1副基座21之導執片 41a、41b形成連續狀態。在此狀態下，第}基板平台11係 藉由Y軸進給機構34之進給驅動機構39而從第1待機位置 WP1移動至爆光位置bp。 再者’如圖3所示’在使第1基板平台η移動至曝光位置 EP之後’驅動第2基座構件53側之致動器55(第2驅動步 驟）’且使第2基座構件53位於上方，並於第2基座構件53 之Y方向兩端面53a、53b與主基座19及第2副基座22之各γ 方向端面19b、22a之間形成間隙。 之後’進行光罩Μ與基板W之間之間距調整及對準調 121264.doc • 14· 整’同時一面使第1基板平台丨丨步進移動’一面將光罩Μ 之光罩圖案Ρ曝光轉印於基板W(第1曝光步驟）。 在此’在上述曝光轉印中，於位於第2待機位置WP2之 第2基板平台12上雖係使用第2基板移載機15進行基板…之 更換作業’亦即進行曝光後之基板W搬出至基板£及從基 板昆將基板W搬入至基板保持部31b(第1搬出入步驟），惟 主基座19與第2副基座22因為第2基座構件53而成為不連 續’故藉由更換作業即可防止在第2副基座22產生之振動 傳達至主基座19’而排除在第1基板平台η之曝光動作 時’振動對於曝光精確度造成之影響，且可以高精確度將 光罩圖案P曝光於基板w。 再者’在第1基板平台11之曝光轉印及在第2基板平台12 之更換作業結束時，即驅動第2基座構件53側之致動器 55 ’且使第2基座構件53位於下方，與第2基座構件53之Y 方向兩端面53a、53b、與主基座19及第2副基座22之各Y方 向端面19b、22a抵接。 藉此’主基座19與第1及第2副基座21、22、及第1及第2 基座構件52、53上之導執片41a至41e即成為連續，而構成 —條導軌41，且第1基板平台u、第2基板平台12係分別朝 第1待機位置WP1、曝光位置EP移動（第1移動步驟）。之 後’驅動第1基座構件52側之致動器54(第1驅動步驟），使 第1基座構件52位於上方，且於第1基座構件52、主基座19 及第1副基座2 1之間形成間隙。 在此狀態下’將光罩IV[之光罩圖案曝光轉印於在曝光位 121264.doc 15 1356284 置EP保持於第2基板平台12之基板w(第2曝光步驟）。此 外，在曝光轉印中，雖係使用第丨基板移載機14在第丨基板 平台11進行基板W之更換作業，亦即進行曝光後之基板w 搬出至基板II及從基板匿將基板W搬入至基板保持部 313(第2搬出入步驟）’惟主基座19與第1副基座21因為第1 基座構件52而成為不連續，故可防止在更換基板w之際在 第1副基座產生之振動傳達至主基座19，而排除在第2基板 平台12之曝光動作時，振動對於曝光精確度造成之影響， 且可以高精確度將光罩圖案p曝光於基板W。 再者’同樣地，驅動第1基座構件52側之致動器54，且 使第1基座構件52位於下方，再作為一條導軌41分別將第五 基板平台11、第2基板平台12移動至曝光位置EP、第2待機 位置WP2(第2移動步驟）之後，進行上述之第2驅動步驟， 而藉由第1基座構件52將主基座19與第2副基座22設為不連 續’並重複上述之第1曝光步驟及第1搬出入步驟。 此外’在第1實施形態中，配置於主基座19之下方之防 振材料1 8亦發揮作為防振機構作用，用以防止在第1副基 座21及第2副基座22產生之振動傳達至主基座19。亦即， 防振材料1 8係可吸收於主基座19之在曝光轉印中經由基台 17而傳達之第1及第2副基座21、22;第1及第2基板移載機 14、15;光罩移載機16等來自基台17上之裝置的振動。 如上所述，依據第1實施形態之曝光裝置PE，由於包 含：光罩平台10，用以保持光罩M;主基座19，位於光罩 平台10之下方；第1副基座21及第2副基座22，配置於主基 121264.doc -16- 1356284 座19之側方；第〗基板平台u，可在主基座i9與第1副基座 間21移動；第2基板平台12，可在主基座19與第2副基座η 間移動’·照射裝置13’隔著光罩河將圖案曝光用之光照射 至保持於位於主基座19上之第！及第2基板平台2ι、22之基 板W;及防振機構50、51，用以防止在第1副基座2ι與第2 副基座22所產生之振動傳達至主基座19，因此可防止在第 1及第2副基座21、22於第1及第2基板平台U、12進行更換 基板w之際所產生之振動傳達至曝光時之主基座19，而排 除振動對於曝光精確度造成之影響。藉此，即可以高精確 度將光罩Μ之光罩圖案p曝光轉印於基板w。 此外，由於防振機構50、51係包含：第i及第2基座構件 52、53 ’以可嵌合之方式分別設於形成於主基座19與第】 及第2副基座21、22間之楔形空間，且具有傾斜面；及致 動器54、55，將第1及第2基座構件52、53朝上下方向驅 動’因此只要驅動較輕量之基座構件52、53即可，而藉由 小型且少數之致動器54、55，主基座19之防振即成為可 能。 再者’由於防振機構係具有配置於主基座19之下方，且 可支承主基座19之防振材料18，因此可吸收在主基座19之 曝光轉印中經由基台17而傳達之來自於基台〖7上之裝置之 振動。藉此，亦可排除振動對於曝光精確度造成之影響， 而可以高精確度將光罩Μ之光罩圖案P曝光轉印於基板冒。 另外’第1及第2基座構件52、53只要於此等基座構件 52、53位於上方之際，於主基座19與第1及第2副基座21、 121264.doc 17 1356284 22之間之至少一方之γ方向端面丨％、2ia、之間 形成間隙即可，例如，如圖4⑷所*，亦可以第以座構件 52之Y方向端面52a、52b之一方為傾斜面’另一方為垂直 面此外，第1及第2基座構件52、53亦可配置於形成於主 基座1 9附近之第1及第2副基座2丨、22之楔形空間例如， 如圖4(b)所示，即使是第！基座構件52配置於主基座19附近 之第1副碁座21内時，亦可防止在第丨副基座21所產生之振 動傳達至主基座19。 (第2實施形態）接著，參照圖5至圖7說明本發明之第2實 施形態之曝光裝置及曝光方法。圖5係為概略顯示本發明 之第2實施形態之曝光裝置之整體構成之俯視圖，圖6係為 顯示第1基板平台可從第1待機位置移動至曝光裝置之狀態 之主要部分前視圖，圖7係為顯示第1基板平台位於曝光裝 置、而第2基板平台位於第2待機位置之狀態之主要部分前 視圖。另外，第2實施形態之曝光裝置僅在防振機構之構 成與第1實施形態之曝光裝置不同，至於與第1實施形態相 等部分則賦予相同符號，而說明則予以省略或簡化。 如圖6所示’在第2實施形態之曝光裝置PE中，主基座19 係形成為以Y方向寬度隨著γ方向兩端面19a、19b從上方 朝向下方而逐漸變寬之方式作為傾斜面之楔形狀。此外， 第1及第2副基座21、22係具有與主基座19之Y方向端面 19a、19b相對向之Y方向端面21a、22a，且此等Y方向端面 21a、22a係構成具有與Y方向端面i9a、19b相等角度之傾 斜面。 121264.doc •18· 1356284 再者’如圖5及圖6所示’在主基座19與基台17之間，係 配置有防振橡膠等之複數個防振材料18與主基座19之間保 持特定之間隙’同時配置有由具有安裝於主基座19之下面 之活塞桿70a，且將主基座19朝上下方向驅動之油壓或空 廢缸構成之複數個致動器70。亦即，第！實施形態之防振 機構係具有以主基座19與第1及第2副基座21、22間之對向 面為傾斜面，且將主基座19朝上下方向驅動之致動器7〇之 構成、及配置於主基座19之下方之防振材料18。 此外，遍及主基座19與第1及第2副基座21、22而延伸之 導軌41係分別由設於主基座19、第i及第2副基座21、22上 之3個導軌片41a至41c所構成，而主基座19位於上方時， 係由此等導轨片41a至41c實質形成一條導軌41。另外，進 給驅動機構39之固定子42亦分別配置於主基座19、第 第2副基座21、22上。 在第2實施形態中，如圖6所示，在將保持有基板w之第 1基板平台11從第1副基座21上之第！待機位置wpi移動至 主基座19上之曝光位置EP時，係藉由致動器7〇使主基座19 位於上方，且使主基座19之γ方向兩端面19a、19b抵接於 第1及第2副基座21、22之各γ方向端面2ia、22a ,而主基 座19與第1及第2副基座21、22之導軌片41a至41c即成為連 續。在此狀態下，第1基板平台〗丨係藉由γ轴進給機構34之 進給驅動機構39而從第1待機位置wpi移動至曝光位置 EP。 再者，如圖7所示，在使第丨基板平台丨丨移動至曝光位置 121264.doc •19- 1356284 EP之後，驅動致動器7〇,且將主基座丨9朝下方移動，並使 主基座19支承於防振材料18上，同時在主基座19之丫方向 兩端面19a、19b與第1及第2副基座21、22之各γ方向端面 21a、22a之間形成間隙。 在此狀態下，雖與第丨實施形態同樣進行曝光轉印於保 持於第1基板平台11之基板w，且在位於第2待機位置wp2 之第2基板平台12上進行基板w之更換作業惟主基座i9 與第2副基座22成為不連續，而可防止因為更換作業在第2 *_J基座22產生之振動傳達至主基座19，而排除在第丨基板 平〇11之曝光動作時，振動對於曝光精確度造成之影響， 且可以高精確度將光罩圖案P曝光於基板w。 另外，從第1基板平台1丨之曝光位置Ep至第1待機位置 WP1之移動、第2基板平台12之曝光位置EP與第2待機位置 WP2間之移動亦如圖6所示，係於主基座丨9位於上方之狀 態下進行，且在第2基板平台12之曝光位置Ep之曝光動作 亦如圖7所不，係於主基座19位於下方且承載於防振材料 1 8之狀態下進行。 依據第2實施形態之曝光裝置PE，即可與第1實施形態相 同，防止在第1及第2副基座21、22於第1及第2基板平台 11、12進行更換基板w之際所產生之振動傳達至曝光時之 主基座19，而排除振動對於曝光精確度造成之影響。尤其 疋，由於防振機構係具有以主基座19與第丨及第2副基座 21、22間之各對向面19a、19b、21a、22a為傾斜面，且將 主基座19朝上下方向驅動之致動器70，因此僅使主基座19 121264.doc 1356284 相對移動，主基座19之防振即成為可能。 (第3實施形態）接著參照圖8至圖9說明本發明之第3實施 形態之曝光裝置。另外’在第3實施形態之曝光裝置中， 與上述之實施形態相同部分係賦予相同符號，而說明則予 以省略或簡化。 圖8係為概略顯示本發明之第3實施形態之曝光裝置之整 體構成之俯視圖，圖9係為圖8之曝光裝置之主要部分前視 圖。 如圖9所示’第1及第2基板平台11、12係分別具有：基 板保持部31a、31b，供作為被曝光材料之基板评承載於上 面；及複數個銷（pin)92 ’用以支承從該基板保持部3la、 3 lb之上面配置成可自由進退之基板w。此外，在第1及第 2基板平台11、12之下方係分別設有基板平台移動機構 32、32 ’其包含Y軸台面33、Y軸進給機構34、X軸台面 35、X軸進給機構36、及Z-傾轉調整機構37、Z軸台面30。 此外，在基板保持部31a、31b、與用以移動第1及第2基 板平台11、12之基板平台移動機構32之z軸台面3〇之間係 配置複數個二氣彈簧46及電磁石47 (4 7a、47b)，該空氣彈 簧46係為相對於基板平台移動機構32可彈性支承基板保持 部3 la、3 lb之防振機構，而該電磁石47(47a、47b)係為相 對於基板平台移動機構32可固定支承基板保持部313、3 lb 之鎖固（lock)機構。此等空氣彈簧46與電磁石47係以與用 於配置複數個銷92之位置不干擾之方式配置，此外，亦可 设於立設於Z轴台面3〇之未圖示之柱部上。 121264.doc 空氣彈簧46係為將壓縮空氣封入於橡膠膜之中而利用空 氣之彈性之彈簧，已知有波紋管（bell〇Ws)型 '膜片 (diaphragm)型、滾動密封（r〇iiing seal)型等。空氣彈菁46 係構造柔軟，不僅軸方向，亦可將橫方向、旋轉方向之振 動予以絕緣。 再者’在電磁石47不動作之狀態下，基板保持部3U、 31b係藉由空氣彈簧46而彈性地支承於z轴台面3〇，而防止 在基板保持部31a、31b上之振動傳達至z軸台面3〇。另一 方面’在電磁石47不動作之狀態下，基板保持部31a、31b 係藉由電磁石47而牢固地固定支承於Z軸台面30。 在此，在第3實施形態之曝光裝置PE中，藉由第1及第2 基板平台11、12之基板平台移動機構32，第1基板平台" 係於曝光位置EP與第1待機位置WP1之間相互連動，而第2 基板平台12則係於曝光位置EP與第2待機位置WP2之間相 互連動。再者，第1基板平台11位於曝光位置EP(圖9之鏈 線位置）、而第2基板平台12位於第2待機位置WP2(圖9之實 線位置）之際’係將光罩Μ之光罩圖案P曝光轉印於保持於 第1基板平台11之基板W，且在第2基板平台12中，係同時 進行由第2基板移載機15所進行之基板W之更換作業，亦 即同時進行曝光後之基板W搬出至基板ϋ與從基板匿將基 板W搬入至基板保持部31b。 在第2基板平台12上之更換作業，首先係使複數個銷92 上升’再以從基板保持部31b之上面突出之銷92之前端來 支承基板保持部31b上之曝光後之基板W，且藉由第2基板 121264.doc -22- 1356284 移載機15之搬運部（未圖示）來承接基板w。此外，將新的 基板W搬入時，亦使複數個銷92上升，再由第2基板移載 機15之搬運部將基板貨搭載於銷92之前端，且使銷％下降 而將基板w承載於基板保持部31b之上面。 在此種更換作業中，基板保持部3 lb係藉由空氣彈簧46 彈性地支承，而在上述作業中產生之第2基板平台12之振 動不會傳達至基板平台移動機構32之2軸台面3〇,而不會 傳達至曝光令之第1基板平台U。 另一方面，在曝光中之第1基板平台丨丨中，由於基板保 持部31a係藉由電磁石47之動作而牢固地固定支承於基板 平台移動機構32 ’因此基板保持部31a不會位置偏移，而 使光罩Μ之光罩圖案p以高精確度曝光轉印於基板w。 此外，第2基板平台12位於曝光位置Ep(圖9之鏈線位 置）、而第1基板平台11位於第丨待機位置wpi(圖9之實線位 置）之際，係將光罩Μ之光罩圖案p曝光轉印於保持於第2基 板平台12之基板W，且在第1基板平台丨丨中，係同時進行 由第1基板移載機14所進行之基板w之更換作業，亦即同 時進行曝光後之基板W搬出至基板匿與從基板！將基板w 搬入至基板保持部3 1 a。 此時，在更換作業中之第1基板平台11中，基板保持部 3 la亦係將電磁石47設為非動作，俾藉由空氣彈簣46彈性 支承於Z軸台面30’而在曝光中之第2基板平台12中，基板 保持部31b則係藉由使電磁石47動作而固定支承於z軸台面 30。藉此，在上述更換作業中產生之第1基板平台丨丨之振 121264.doc -23- 切6284 動亦不會傳達至曝光中之第2基板平台。，此外，在第2基 板平台12中，光罩M之光罩圖案p以高精確度曝光轉印於 基板AV。 另外，由於第1及帛2基板平台“、12之曝光位置Ερ與第 1及第2待機位置WP1、WP2間之移動中係使電磁石47動 作，且基板保持部31a、爪係固定支承於z軸台面3〇，因 此不會有基板保持部31a、31b搖動而於基板w產生位置偏 移之情形。 如上所述，依據第3實施形態之曝光裝置pE，其特徵為 (1)包含.光罩平台10，用以保持光罩M ;第丨基板平台 u，可在位於光罩平台之下方之曝光位置Ep與第i待機位 置WP1間移動，第2基板平台12，可在曝光位置Ep與第2待 機位置WP2間移動；及照射裝置13，隔著光罩_圖案曝 光用之光照射至保持於移動至曝光位置Ep之第丨及第2基板 平台11、12之基板W ;且第1及第2基板平台U、12係具 有：基板保持部31a、31b，供基板霤承載；及複數個銷 92，用以支承從基板保持部31a、31b之上面配置成可自由 進退之基板W;且在基板保持部31a、31b、與用以移動第 1及第2基板平台11、12之基板平台移動機構32、32之間係 配置：防振機構’相對於基板平台移動機構32、32可彈性 支承基板保持部31a、31b，及鎖固機構，相對於基板平a 移動機構32、32可固定支承基板保持部3la、31b。 此外’依據第3實施形態之曝光裝置PE，其特徵為防 振機構係由空氣彈簧46構成，而鎖固機構係為藉由電磁力 121264.doc • 24- 1356284 將基板保持部31a、3 lb固定支承於基板平台移動機構32、 32之電磁石47。 依據第3實施形態之曝光裝置PE，由於包含可在位於光 罩平台之下方之曝光位置EP與第1待機位置wpi間移動之 第1基板平台11、及可在曝光位置卯與第2待機位置wp2間 移動之第2基板平台12，因此，可同時進行基板w之曝光 轉印與基板W對於第丨及第2基板平台丨丨、12之搬入及搬 出’而可謀求工作時間之縮短。 此外由於在第1及第2基板之基板保持部 3U、31b、與用以移動第！及第2基板平台n、^之基板平 台移動機構32、32之間係配置有相對於基板平台移動機構 32可彈性支承基板保持部3 u、3比之空氣彈簧46、及相對 於基板平台移動機構32可固定支承基板保持部31&、^匕之 電磁石47,因此可防止在用以搬出入基㈣之側之基板平 台產生之振動因為空氣彈簧46而傳達至曝光中之基板平 σ藉此，即可排除振動對於曝光精確度造成之影響，而 可以高精確度將光罩Μ之光罩圖案Ρ曝光轉印於基板W。 再者，由於在將保持於第丨及第2基板平台u、i2之基板 w進行曝光時，係藉由電磁石47將基板保持部仏、3ib相 對於基板平台移動機構32予以固定支承，因此基板保持部 3U不會有位置偏移，而可以高精確度進行曝光轉印。 此外，由於空氣彈*46與電磁石47係配置於基板保持部 31a 31b與Z轴台面3〇之間，因此可使空氣彈簧仏與電磁 石47支承之質重輕量化而提升響應性。此外，可謀求空氣 12I264.doc -25· 1356284 彈簧46與電磁石47之小型化。 另外’第3實施形態之防振機構只要是相對於基板平台 移動機構可彈性支承基板保持部即可，亦可以是空氣彈酱 以外之構成。此外，鎖固機構只要是可切換藉由防振機構 之彈性支承’而相對於基板平台移動機構可固定支承基板 保持部即可，亦可以是電磁石以外之構成。 (第4實施形態）接著參照圖1 〇至圖12說明本發明之第4實 施形態之曝光裝置。另外，在第4實施形態之曝光裝置 中’與上述之實施形態相同部分係賦予相同符號，而說明 則予以省略或簡化。 圖10係概略顯示本發明之第4實施形態之曝光裝置之整 體構成之俯視圖’圖11係為圖1〇之曝光裝置之主要部分前 視圖，圖12係為第1及第2基板移載機之側視圖。 如圖12所示，第1及第2基板移載機14、15係為以可自由 搖動之方式將複數個搬運部82、83配置於立設於基台17上 之柱（column)支承台8〇之柱S1之移載機械臂（1〇ader robot)。複數個搬運部82、83係藉由升降機構（未圖示）而 沿著柱81上下移動，同時分別配設伺服馬達而相互獨立驅 動。各搬運部82、83係具有第1及第2臂（arm)84 ' 85、及 基板承載台87，於第1臂84之前端平行植設有複數個棒狀 構件86。再者，藉由控制各個伺服馬達且使其動作，而使 基板承載台87升降、旋轉及移動，以搬運基板承载台87上 之基板w。另外，光罩移載機16亦具有與第丨及第2基板移 載機14、15相同之構成。 12l264.doc -26 - 1^56284 在此，第1及第2副基座2 1、22係分別包含：振動檢測器 95，用以檢測振動；主動（active)制振裝置93、94，具有用 以產生與藉由振動檢測器95所檢測出之振動相反相位之振 動之加振器96。主動制振裝置93、94係設於第【及第2副基 座21、22之罪近主基座19之位置，而藉由振動檢測器95所 檢測出之檢測信號係傳送至未圖示之控制裝置，而加振器 96係根據來自控制裝置之指令，產生與所檢測出之振動相 反相位之振動。藉此，在第1及第2副基座21、22產生之振 動即因為藉由加振器96所產生之振動而抵銷，而抵銷從第 1及第2副基座21、22傳達至主基座19之振動。 此外’第1及第2基板移載機14、15亦分別包含：振動檢 測器5 9 ’用以檢測振動；主動制振裝置5 7、5 8，具有用以 產生與藉由振動檢測器5 9所檢測出之振動相反相位之振動 之加振器56。主動制振裝置57、58係設於在基台17上用以 支承柱81之柱支承台80内，而藉由振動檢測器59所檢測出 之檢測彳§號係傳送至未圖示之控制裝置，而加振器56係根 據來自控制裝置之指令，產生與所檢測出之振動相反相位 之振動。藉此，在第丨及第2基板移載機14、15產生之振動 即因為藉由加振器56所產生之振動而抵銷，而抵銷從第1 及第2基板移載機14、15經由基台17傳達至主基座19之振 動。 在第4實施形態之曝光裝置pE中，藉由第丨及第2基板平 台11、12之基板平台移動機構32，第1基板平台u係於曝 光位置EP與第1待機位置wp丨之間相互連動，而第2基板平 121264.doc •27· 1356284 台12則係於曝光位置Ep與第2待機位置wp2之間相互連 動。再者’第1基板平台丨丨位於曝光位置Ep(圖丨丨之鏈線位 置）、而第2基板平台丨2位於第2待機位置WP2(圖11之實線 位置）之際’係將光罩M之光罩圖案p曝光轉印於保持於第丄 基板平台11之基板W，且在第2基板平台12中，係同時進 行由第2基板移载機丨5所進行之基板w之更換作業，亦即 同時進行曝光後之基板W搬出至基板g與從基板匡將基板 W搬入至基板保持部3丨b。 在此’在更換作業中之第2基板平台12，若於第2副基座 22產生振動’則由主動制振裝置94之振動檢測器％檢測在 第2 «彳基座22產生之振動而將檢測信號傳送至控制裝置。 再者’加振器96係根據來自控制裝置之指令而產生與藉由 振動檢測器9 5所檢測出之振動相反相位之振動，以抵銷第 2副基座22之振動。藉此，第2副基座22之振動即被除振， 而在第2副基座22產生之振動不會傳達至主基座19，不會 對在第1基板平台11上曝光中之基板w造成影響。 再者，在更換作業中’由於第2基板移載機15驅動而於 第2基板移載機15產生振動時’係由主動除振裝置58之振 動檢測器5 9檢測在第2基板移載機15產生之振動而將檢測 信號傳送至控制裝置’且由加振器56根據來自控制裝置之 指令而產生與藉由振動檢測器59所檢測出之振動相反相位 之振動’以抵銷第2基板移載機15之振動。藉此，第2基板 移載機15之振動即被除振，而在第2基板移載機15產生之 振動不會經由基台17傳達至主基座19，不會對在第〖基板 121264.doc •28- 丄乃6284 平台11上曝光中之基板w造成影響。 此外，第2基板平台12位於曝光位置ΕΡ(圖11之鏈線位 置）、而第1基板平台11位於第1待機位置WP1(圖11之實線 位置）之際’係將光罩Μ之光罩圖案Ρ曝光轉印於保持於第2 基板平台12之基板W，且在第1基板平台11中，係同時進 行藉由第1基板移載機14所進行之基板w之更換作業，亦 即同時進行曝光後之基板冒搬出至基板匣與從基板匿將基 板W搬入至基板保持部31a。 此時’在更換作業中之第1基板平台U中，主動制振裝 置93亦與上述之主動制振裝置94相同，將第1副基座21之 振動予以除振’此外，配置於第1基板移載機14内之主動 制振裝置57亦與上述之主動除振裝置58相同，將因為第i 基板移載機14驅動所產生之振動予以除振。藉此，在第i d基座21或第1基板移載機μ產生之振動不會傳達至主基 座19，而對在第2基板平台12上曝光中之基板冒不會造成 影響》 如上所述，第4實施形態之曝光裝置pE，其特徵為（1)包 含：光罩平台10，用以保持光罩；主基座19，位於光罩平 台1〇之下方；第1副基座21及第2副基座22，配置於主基座 之側方；第1基板平台u，可在主基座19與第丨副基座21間 移動；第2基板平台12，可在主基座19與第2副基座22間移 動；及照射裝置13,隔著光罩]^將圖案曝光用之光照射至 保持於位於主基座19上之第丨及第2基板平台u、Η之基板 且第1及第2剎基座21、22係分別包含：振動檢測器 12I264.doc •29- 1356284 95 ’用以檢測振動；及主動制振裝置93、94，具有用以產 生與藉由振動檢測器95所檢測出之振動相反相位之振動之 加振器96。 此外，第4實施形態之曝光裝置pe，其特徵為（2)包含： 光罩平台10’用以保持光罩；第1基板平台丨丨，可在位於 光罩平台10之下方之曝光位置EP與第1待機位置wpi間移 動移動；第2基板平台12，可在曝光位置EP與第2待機位置 WP2間移動；照射裝置13，隔著光罩μ將圖案曝光用之光 照射至保持於移動至曝光位置ΕΡ之第1及第2基板平台U、 U之基板W;第1基板移載機14，將基板w相對於位於第1 待機位置WP1之第1基板平台11搬入及搬出；及第2基板移 载機15 ’將基板W相對於位於第2待機位置WP2之第2基板 平台12搬入及搬出；且第1及第2基板移載機14、15係分別 包含：振動檢測器5 9 ’用以檢測振動；及主動制振裝置 57、58，具有用以產生與藉由振動檢測器59所檢測出之振 動相反相位之振動之加振器56。 依據第4實施形態之曝光裝置pe，由於包含可在位於光 罩平台10之下方之主基座19(曝光位置EP)與配置於其側方 之第1副基座21(第1待機位置WP1)間移動之第1基板平台 11、及可在主基座19(曝光位置）與配置於其側方之第2副基 座22(第2待機位置WP2)間移動之第2基板平台12，因此可 同時進行基板W之曝光轉印與基板W對於第1及第2基板平 台11、12之搬入及搬出，而可謀求工作時間之縮短。 此外，由於第1及第2副基座21、22係分別包含用以檢測 121264.doc -30· 振動之振動檢測器95、及具有用以產生與藉由振動檢測器 95所檢測出之振動相反相位之振動之加振器96之主動制振 裝置93、94 ’因此可防止將基板w搬出入於第1及第2基板 平台11、12之際在第1及第2副基座21、22上產生之振動傳 達至曝光時之主基座19。藉此，即可排除振動對於曝光精 確度造成之影響’而可以高精確度將光罩Μ之光罩圖案p 曝光轉印於基板W。 再者，由於第1及第2基板移載機14、15亦分別包含用以 檢測振動之振動檢測器59、具有用以產生與藉由振動檢測 器59所檢測出之振動相反相位之振動之加振器56之主動制 振裝置57、58’因此可防止將基板w搬出入於第1及第2基 板平台11、12之際在第1及第2基板移載機14' 15產生之振 動經由主基座19傳達至曝光時之第1及第2基板平台^、 12。藉此’即可排除振動對於曝光精確度造成之影響，而 可以向精確度將光罩Μ之光罩圖案Ρ曝光轉印於基板w。 第4實施形態之主動制振裝置93、94之振動檢測器95雖 係與加振器9 6鄰接配置’惟亦可配置於第1及第2副基座 2 1、22之任意位置’亦可以是内藏型。此外’加振器％亦 只要是配置於可有效率地對第i及第2副基座2丨、22之内部 加振之位置即可。 再者’主動制振裝置57、58之振動檢測器59亦只要配置 於第1及第2基板移載機14、15之任意位置即可，亦可以是 内藏型。加振器％亦只要是配置於可有效率地對第i及第2 基板移載機14、15之内部加振之位置即可。 121264.doc •31 - 1356284 (第5實施形態）接著參照圖13及圖14說明本發明之第$實 施形態之曝光裝置。另外，第5實施形態係以將除振裝置 9〇配置於基台與地面FL之間之點為特徵。因此，針對斑 上述之實施形態相同之部分，係賦予相同符號，而說明則 予以省略或簡化。此外，有關於第4實施形態之主動制振 裝置57、58、93、94雖未予以圖示，惟與第5實施形態組 合亦可適用。 如圖14所示’基台17係由水泥底盤所形成，係用以支撐 包含未圖示之基板E或光罩E之上述之曝域置四之構成 零件。 再者，如圖13及圖14所示，在此基台17與地面几之間係 配置複數個作為除振裝置9〇之空氣彈簧系統，而基台丨7係 配置於與位於較地面FL靠上方之平板樓板⑷讣£1〇〇〇91大 致相同高度。 另外，空氣彈簧系統係為將壓縮空氣封入於橡膠膜之中 而利用空氣之彈性之彈簧，已知有波紋管型、膜片型、滾 動密封型等。空氣彈簧係構造柔軟，不僅軸方向，亦可將 橫方向、旋轉方向之振動予以絕緣。 如上所述，第5實施形態之曝光裝置pe之特徵為包含： 光罩平台10’用以保持光罩；基板平台U、12,可在位於 光罩平台10之下方曝光位置EP與待機位置WP1、WP2間移 動·’照射裝置13，隔著光罩Μ將圖案曝光用之光照射至保 持於移動至曝光位置ΕΡ之基板平台η、12之基板w ;及基 板移載機14、15，將基板W相對於位於待機位置…!^、 121264.doc •32- 1356284 WP2之基板平台11、1 2搬入及搬出；且光罩平台1〇、基板 平台11、12、基板移載機14、15係由基台17所支承，而該 基台17係隔著除振裝置90而配置於地面FL上。 因此’依據第5實施形態，由於在用以支承曝光裝置PE 之構成零件之基台17與地面FL之間配置有除振裝置90，因 此可使曝光裝置PE與由水泥底盤構成之基台17從地面Fl 浮起’且可將從周邊產生之各種振動予以除振，例如，可 防止在將基板W搬出入於第1及第2基板平台11、12之際， 在第1及第2副基座21、22及第1及第2基板移載機14、15等 之各種構成零件產生之振動從地面FL傳達至曝光時之第i 及第2基板平台11、12。藉此，即可排除振動對於曝光精 確度造成之影響’而可以高精確度將光罩Μ之光罩圖案p 曝光轉印於基板W。有關其他構成及作用，均係與第i實 施形態相同。此外，本實施形態之除振裝置9〇，除可適用 於包含2個基板平台而可同時進行曝光作業與更換作業之 曝光裝置之外，另亦可適用於在一個基板平台交替進行曝 光作業與更換作業之曝光裝置。 另外’本發明並不以前述之實施形態為限，亦可適宜變 形、改良等。 【圖式簡單說明】 圖1係為概略顯示本發明之第丨實施形態之曝光裝置之整 體構成之俯視圖。 圖2係為顯示第i基板平台可從第丨待機位置移動至曝光 位置之狀態之主要部分前視圖。 121264.doc •33· 圖係為顯不第！基板平台位於曝光位置、第2基板平台 位於第2待機位置之狀態之主要部分前視圖。 〇 圖4(3)、（b)係為顯示第1實施形態之曝光裝置之防振機 構之變形例之主要部分放大前視圖。 圖5係為概略顯示本發明之第2實施形態之曝光裝置之整 體構成之俯視圖。 圖6係為顯不第！基板平台可從第工待機位置移動至曝光 位置之狀態之主要部分前視圖。 圖7係為顯不第以板平台位於曝光位置、第2基板平台 位於第2待機位置之狀態之主要部分前視圖。 圖8係為概略顯示本發明之第3實施形態之曝光裝置之整 體構成之俯視圖。 圖9係為圖8之曝光裝置之主要部分前視圖。 圖10係為概略顯示本發明之第4實施形態之曝光裝置之 整體構成之俯視圖。 圖11係為圖1〇之曝光裝置之主要部分前視圖。 圖12係為第1及第2基板移載機之侧視圖。 圖13係為概略顯示本發明之第5實施形態之曝光裝置之 整體構成之俯視圖。 圖14係為圖13之曝光裝置之前視圖。 【主要元件符號說明】 10 光罩平台 11 第1基板平台 12 第2基板平台 121264.doc -34· 1356284
13 照射裝置 18 防振材料（防振機構） 19 主基座 21 第1副基座 22 第2副基座 46 空氣彈簧（防振機構） 47 電磁石（鎖固機構） 50、51 防振機構 52 第1基座構件 53 第2基座構件 54 、 55 、 70 致動器 90 除振裝置 92 銷 93 、 94 、 主動除振裝置 57 ' 58 95、59 振動檢測器 96 ' 56 加振器 Μ 光罩 PE 曝光裝置 W 基板 EP 曝光位置 WP1 第1待機位置 WP2 第2待機位置 121264.doc -35-