KR100865051B1 - 노광 장치 및 노광 방법 - Google Patents

Abstract

과제

기판의 노광 전사와 기판 스테이지로의 기판의 반입 및 반출을 동시에 실시하여, 택트 타임의 단축을 도모함과 함께, 기판의 반입출시에 발생하는 진동이 노광 정밀도에 미치는 영향을 배제하여, 고정밀도로 노광 전사할 수 있는 노광 장치 및 노광 방법을 제공한다.

해결 수단

노광 장치 (PE) 는, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 메인 베드 (19) 와 메인 베드 (19) 의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 (15) 및 제 2 서브 베드 (16) 와, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (15, 16) 사이에서 이동 가능한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 와, 메인 베드 (19) 상에 위치하는 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 와, 제 1 서브 베드 (21) 와 제 2 서브 베드 (22) 에서 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구를 구비한다.

노광 장치, 노광 방법

Description

노광 장치 및 노광 방법{EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD}

도 1 은, 본 발명의 제 1 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.

도 2 는, 제 1 기판 스테이지가 제 1 대기 위치로부터 노광 위치로 이동 가능한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다.

도 3 은, 제 1 기판 스테이지가 노광 위치에 위치하고, 제 2 기판 스테이지가 제 2 대기 위치에 위치한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다.

도 4 는, 제 1 실시 형태의 노광 장치의 방진 기구의 변형예를 나타내는 주요부 확대 정면도이다.

도 5 는, 본 발명의 제 2 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.

도 6 은, 제 1 기판 스테이지가 제 1 대기 위치로부터 노광 위치로 이동 가능한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다.

도 7 은, 제 1 기판 스테이지가 노광 위치에 위치하고, 제 2 기판 스테이지가 제 2 대기 위치에 위치한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다.

도 8 은, 본 발명의 제 3 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.

도 9 는, 도 8 의 노광 장치의 주요부 정면도이다.

도 10 은, 본 발명의 제 4 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.

도 11 은, 도 10 의 노광 장치의 주요부 정면도이다.

도 12 는, 제 1 및 제 2 기판 로더의 측면도이다.

도 13 은, 본 발명의 제 5 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.

도 14 는, 도 13 의 노광 장치의 정면도이다.

부호의 설명

10 마스크 스테이지

11 제 1 기판 스테이지

12 제 2 기판 스테이지

13 조사 장치

18 방진재 (방진 기구)

19 메인 베드

21 제 1 서브 베드

22 제 2 서브 베드

50, 51 방진 기구

52 제 1 베드 부재

53 제 2 베드 부재

54, 55, 70 액츄에이터

92 핀

46 공기 스프링 (방진 기구)

47 전자석 (로크 기구)

95, 59 진동 검출기

96, 56 가진기

93, 94, 57, 58 액티브 진동 제어 장치

90 제진 장치

M 마스크

PE 노광 장치

W 기판

EP 노광 위치

WP1 제 1 대기 위치

WP2 제 2 대기 위치

[특허 문헌 1] 일본 공개특허공보 소63-87725호

[특허 문헌 2] 일본 공개특허공보 2005-183876호

본 발명은 노광 장치 및 노광 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체나, 액정 디스플레이 패널이나 플라즈마 디스플레이 등의 대형 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 경우에 이용되는 노광 장치 및 노광 방법에 관한 것이다.

종래의 노광 장치로는, 마스크 (레티클) 와 기판 (웨이퍼) 을 접근시킨 상태로 마스크를 통하여 패턴 노광용 광 (전자선) 을 조사하고, 이로써, 기판에 마스크 패턴을 노광 전사하는 장치가 알려져 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1 및 2 참조).

특허 문헌 1 에 기재된 노광 장치는, 마스크가 배치되는 2 개의 프레임과, 2 개의 프레임의 각각에 대응하여 기판이 탑재되는 2 개의 기판 스테이지와, 2 개의 기판 스테이지에 각각 대응하여 배치된 2 개의 얼라인먼트 기구를 구비하고, 각각의 프레임과 기판 스테이지를 조합한 상태에서, 교대로 노광 위치로 이동시켜 노광 전사하는 스테이지 이동 기구가 알려져 있다. 이로써, 스테이지 이동 기구는, 2 개의 기판 스테이지에서 얼라인먼트와 노광을 동시에 실시하여, 택트 타임의 단축을 도모하고 있다.

또, 특허 문헌 2 에 기재된 노광 장치는, 2 축 스테이지의 슬라이더에 진동 제어용 액츄에이터 및 진동 제어 매스를 배치하여 스테이지의 진동을 저감시키고, 이로써 스테이지의 정정(整定) 시간을 단축하여 위치 결정 정밀도의 향상을 도모하고 있다.

그런데, 특허 문헌 1 에 기재된 노광 장치에서는, 2 개의 기판 스테이지를 이용함으로써 기판의 노광 전사와 기판 스테이지로의 기판의 반입 및 반출을 동시 에 실시하여 택트 타임의 단축을 도모하고 있지만, 기판의 반입출시에 발생하는 진동에 대하여 고려되어 있지 않고, 이 진동이 노광 정밀도에 영향을 미칠 가능성이 있어, 더나은 개선의 여지가 있었다.

또, 특허 문헌 2 에 기재된 노광 장치는, 1 대의 기판 스테이지에 있어서의 잔류 진동을 저감시키고, 스테이지의 정정 시간의 단축을 도모하고 있지만, 기판의 반입출시에 발생하는 진동에 대하여 고려되어 있지 않고, 2 개의 기판 스테이지의 이용에 대해서도 기재되어 있지 않다.

본 발명은 전술한 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적은 기판의 노광 전사와 기판 스테이지로의 기판의 반입 및 반출을 동시에 실시하여, 택트 타임의 단축을 도모함과 함께, 기판의 반입출시에 발생하는 진동이 노광 정밀도에 미치는 영향을 배제하여, 고정밀도로 노광 전사할 수 있는 노광 장치 및 노광 방법을 제공하는 것에 있다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명의 상기 목적은 하기 구성에 의해 달성된다. (1) 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와, 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 메인 베드와, 메인 베드의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 및 제 2 서브 베드와, 메인 베드와 제 1 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지와, 메인 베드와 제 2 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지와, 메인 베드 상에 위치하는 제 1 및 제 2 기판 스테이지에 유지된 기판에, 패턴 노광용 광을 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와, 제 1 서브 베드와 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.

(2) 방진 기구는, 메인 베드와 제 1 및 제 2 서브 베드 사이에 형성된 쐐기 공간 또는 제 1 및 제 2 서브 베드에 형성된 쐐기 공간에 끼워 맞춤 가능하게 각각 형성되고, 경사면을 갖는 제 1 및 제 2 베드 부재와, 제 1 및 제 2 베드 부재를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치.

(3) 방진 기구는 메인 베드와 제 1 및 제 2 서브 베드 사이의 각 대향면을 경사면으로 하고, 메인 베드를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치.

(4) 방진 기구는 메인 베드의 하방에 배치되며, 메인 베드를 지지 가능한 방진재를 갖는 것을 특징으로 하는 (1) ∼ (3) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치.

(5) 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와, 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 메인 베드와, 메인 베드의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 및 제 2 서브 베드와, 메인 베드와 제 1 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지와, 메인 베드와 제 2 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지와, 메인 베드 상에 위치하는 제 1 및 제 2 기판 스테이지에 유지된 기판에, 패턴 노광용 광을 상기 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와, 제 1 서브 베드와 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 방진기구를 구비하는 노광 장치를 이용한 노광 방법으로서, 메인 베드 상에 위치하는 제 1 기판 스테이지에 유지된 기판에 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 제 1 노광 공정과, 제 1 노광 공정 중, 제 2 서브 베드 상에 위치하는 제 2 기판 스테이지에 대하여 기판을 반입 및 반출하는 제 1 반입출 공정과, 제 1 기판 스테이지를 제 1 서브 베드 상에, 제 2 기판 스테이지를 메인 베드 상에 각각 이동시키는 제 1 이동 공정과, 제 1 이동 공정 후, 방진 기구를 구동하는 제 1 구동 공정과, 메인 베드 상에 위치하는 제 2 기판 스테이지에 유지된 기판에 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 제 2 노광 공정과, 제 2 노광 공정 중, 제 1 서브 베드 상에 위치하는 제 1 기판 스테이지에 대하여 기판을 반입 및 반출하는 제 2 반입출 공정과, 제 1 기판 스테이지를 메인 베드 상에, 제 2 기판 스테이지를 제 2 서브 베드 상에 각각 이동시키는 제 2 이동 공정과, 제 2 이동 공정 후, 방진 기구를 구동하는 제 2 구동 공정을 구비하고, 제 1 구동 공정은, 제 2 노광 공정 중, 제 2 반입출 공정에 의해 제 1 서브 베드에서 발생한 진동이 메인 베드에 전달되는 것을 방지하고, 제 2 구동 공정은, 제 1 노광 공정 중, 제 1 반입출 공정에 의해 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하, 본 발명에 관련된 노광 장치 및 노광 방법의 각 실시 형태에 대하여 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.

(제 1 실시 형태) 도 1 은 본 발명의 제 1 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도, 도 2 는 제 1 기판 스테이지가 제 1 대기 위치로부터 노광 위치로 이동 가능한 상태를 나타내는 주요부 정면도, 도 3 은 제 1 기 판 스테이지가 노광 위치에 위치하고, 제 2 기판 스테이지가 제 2 대기 위치에 위치한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다.

도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 제 1 실시 형태의 노광 장치 (PE) 는, 마스크 스테이지 (10), 제 1 기판 스테이지 (11), 제 2 기판 스테이지 (12), 조사 장치 (13), 제 1 기판 로더 (14), 제 2 기판 로더 (15), 및 마스크 로더 (16) 를 구비하고, 각각 기대 (17) 상에 탑재되어 있다. 또, 기대 (17) 상에는, 방진 고무 등의 방진재 (18) 를 통하여 탑재되는 메인 베드 (19) 와, 이 메인 베드 (19) 의 측방에서, 메인 베드 (19) 에 대하여 서로 대향 배치되고, 레벨 블록 (20) 을 통하여 탑재되는 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 가 설치되어 있다. 제 1 기판 스테이지 (11) 는 메인 베드 (19) 및 제 1 서브 베드 (21) 사이를, 제 2 기판 스테이지 (12) 는 메인 베드 (19) 및 제 2 서브 베드 (22) 사이를 각각 이동한다.

마스크 스테이지 (10) 는, 메인 베드 (19) 에 설치된 복수의 지지 기둥 (23) 에 지지되고, 메인 베드 (19) 의 상방에 배치되어 있다. 복수의 지지 기둥 (23) 는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 가 Y 방향 (도 1 중 좌우 방향) 으로 이동하여 마스크 스테이지 (10) 의 하방으로 진출 가능하도록 메인 베드 (19) 의 상방에 스페이스를 형성하고 있다.

마스크 스테이지 (10) 는, 중앙에 직사각형의 개구 (25a) 를 갖고, 마스크 스테이지 (10) 에 대하여 X, Y, θ 방향으로 위치 조정 가능하게 지지된 마스크 유지부 (25) 를 구비하고, 노광해야 할 패턴을 갖는 마스크 (M) 가 이 개구 (25a) 에 임하도록 하여 마스크 유지부 (25) 에 유지되어 있다. 또, 마스크 스테이지 (10) 에는, 마스크 유지부 (25) 에 대한 마스크 (M) 의 위치를 검출하는 마스크용 얼라인먼트 카메라 (도시 생략) 와 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 갭을 검출하는 갭 센서 (도시 생략) 가 설치되어 있다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 는, 피노광재로서의 기판 (W) 을 유지하는 기판 유지부 (31a, 31b) 를 상면에 각각 갖는다. 또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하방에는, Y 축 테이블 (33) , Y 축 이송 기구 (34), X 축 테이블 (35), X 축 이송 기구 (36), 및 Z-틸트 조정 기구 (37) 를 구비하는 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 가 각각 설치된다.

Y 축 이송 기구 (34) 는, 리니어 가이드 (38) 와 이송 구동 기구 (39) 를 구비하여 구성되고, Y 축 테이블 (33) 의 이면에 장착된 슬라이더 (40) 가, 전동체 (도시 생략) 를 통하여 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 사이드 베드 (21, 22) 에 걸쳐 연장되는 2 개의 안내 레일 (41) 에 걸쳐 설치됨과 함께, 고정자 (42) 와 가동자 (43) 를 갖는 리니어 모터에 의해 Y 축 테이블 (33) 을 안내 레일 (41) 을 따라 구동한다.

또한, X 축 이송 기구 (36) 도 Y 축 이송 기구 (34) 와 동일한 구성을 갖고, Z-틸트 조정 기구 (37) 는, 쐐기상의 이동체와 이송 구동 기구를 조합하여 이루어지는 가동 쐐기 기구에 의해 구성된다. 또한, 이송 구동 기구는, 고정자와 가동자를 갖는 리니어 모터이어도 되고, 모터와 볼 나사 장치를 조합한 구성이어도 된다.

이로써, 각 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 X 방향 및 Y 방향으로 이송 구동함과 함께, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 간극을 미세 조정하도록, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 Z 축 방향으로 미동 또한 틸트한다.

또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에는, 각 기판 유지부 (31a, 31b) 의 X 방향측부와 Y 방향측부에 각각 바 미러 (61, 62) 가 장착되어 있다. 또, 제 1 서브 베드 (21) 및 제 2 서브 베드 (22) 의 Y 축 방향의 양 측단과, 메인 베드 (19) 의 X 축 방향의 일측에는, 3 대의 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 가 설치되어 있다. 이로써, 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 로부터 레이저광을 바 미러 (61, 62) 에 조사하고, 바 미러 (62) 에 의해 반사된 레이저광을 수광하고, 레이저광과 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭을 측정하여, 제 1 및 제 2 스테이지 (11, 12) 의 위치를 검출한다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 조명 장치 (13) 는 마스크 유지부 (25) 의 개구 (25a) 상방에 배치되고, 자외선 조사용 광원인 예를 들어 고압 수은 램프, 오목면 거울, 옵티컬 인테그레이터, 평면 미러, 구면 미러, 및 노광 제어용 셔터 등을 구비하여 구성된다. 조명 장치 (13) 는, 노광 위치 (EP), 즉, 메인 베드 (19) 상으로 이동한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31a, 31b) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사한다. 이로써, 기판 (W) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 노광 전사된다.

또, 제 1 기판 로더 (14), 및 제 2 기판 로더 (15) 는, 도시하지 않은 기판 카세트와, 제 1 대기 위치 (WP1) 인, 제 1 서브 베드 (21) 상에 위치하는 제 1 기판 스테이지 (11), 및 제 2 대기 위치 (WP2) 인, 제 2 서브 베드 (22) 상에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 사이에서, 기판 (W) 의 반입출을 실시하고, 마스크 로더 (16) 는, 도시하지 않은 마스크 카세트와 마스크 스테이지 (10) 사이에서, 마스크 (M) 의 반입출을 실시한다.

또, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 사이에는, 제 1 서브 베드 (21) 와 제 2 서브 베드 (22) 에서 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구 (50, 51) 가 배치되어 있다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 방진 기구 (50, 51) 는, 메인 베드 (19) 의 Y 방향 일단면 (19a) 과 이것에 대향하는 제 1 서브 베드 (21) 의 Y 방향 단면 (21a) 사이, 메인 베드 (19) 의 Y 방향 타단면 (19b) 과 이에 대향하는 제 2 서브 베드 (22) 의 Y 방향 단면 (22a) 사이에 형성되는 쐐기 공간에 배치되고, 이 쐐기 공간에 대응하도록 Y 방향 양 단면 (52a, 52b, 53a, 53b) 이 경사면을 이루는 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 와, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 의 하부에 장착되는 피스톤 로드 (54a, 55a) 를 구비하고, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 를 상하 방향으로 구동하는 유압 또는 공압 실린더로 이루어지는 액츄에이터 (54, 55) 를 갖는다.

제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 는, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브베드 (21, 22) 와 동일한 높이를 갖고 있으며, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 가 하강한 위치에 있는 경우, 이들 베드 부재 (52, 53) 의 Y 방향 양 단면 (52a, 52b, 53a, 53b) 이 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 Y 방향 단면 (19a, 21a, 19b, 22a) 과 각각 맞닿고, 이들 상면이 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 와 대략 동일한 높이가 된다. 또, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 가 상승한 위치에 있는 경우에는, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 의 Y 방향 양 단면 (52a, 52b, 53a, 53b) 과 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 Y 방향 단면 (19a, 21a, 19b, 22a) 사이에 소정의 간극이 형성된다. 또한, 액츄에이터 (54, 55) 의 구동은, 도시하지 않은 센서에 의해 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 의 위치를 검출하면서 실시된다.

또한, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 베드 (21, 22) 에 걸쳐 연장되는 안내 레일 (41) 은, 각각 메인 베드 (19), 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22), 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 상에 설치된 5 개의 레일편 (41a ∼ 41e) 에 의해 구성되어 있으며, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 가 하강한 경우에는, 이들 레일편 (41a ∼ 41e) 이 실질적으로 한 개의 안내 레일 (41) 을 형성한다. 또한, 이송 구동 기구 (39) 의 고정자 (42) 도 메인 베드 (19), 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22), 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 상에 각각 배치되어 있다.

다음으로, 제 1 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의한 노광시에 있어서의 방진 기구 (50, 51) 의 동작에 대하여 설명한다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 유지한 제 1 기판 스테이지 (11) 를 제 1 서브 베드 (21) 상의 제 1 대기 위치 (WP1) 로부터 메인 베드 (19) 상의 노광 위치 (EP) 로 이동시키는 경우에는, 제 1 베드 부재 (52) 는 하방에 위치되어 있고, 메인 베드 (19) 와 제 1 서브 베드 (21) 사이의 쐐기 공간에 간극없이 끼워맞춰지고, 제 1 베드 부재 (52) 상의 레일편 (41d) 이, 메인 베드 (19) 와 제 1 서브 베드 (21) 의 레일편 (41a, 41b) 과 연속으로 된다. 이 상태에서, Y 축 이송 기구 (34) 의 이송 구동 기구 (39) 에 의해 제 1 기판 스테이지 (11) 는 제 1 대기 위치 (WP1) 로부터 노광 위치 (EP) 로 이동한다.

그리고, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 노광 위치 (EP) 로 이동시킨 후, 제 2 베드 부재 (53) 측의 액츄에이터 (55) 를 구동시키고 (제 2 구동 공정), 제 2 베드 부재 (53) 를 상방에 위치시키고, 제 2 베드 부재 (53) 의 Y 방향 양 단면 (53a, 53b) 과, 메인 베드 (19) 및 제 2 서브 베드 (22) 의 각 Y 방향 단면 (19b, 22a) 사이에 간극을 형성한다.

그 후, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 갭 조정 및 얼라인먼트 조정을 실시함과 함께, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 단계 이동시키면서, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 기판 (W) 에 노광 전사한다 (제 1 노광 공정).

여기서, 상기 노광 전사 중, 제 2 대기 위치 (WP2) 에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 상에서는, 제 2 기판 로더 (15) 를 이용하여 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트로의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지부 (31b) 로의 기판 (W) 의 반입이 실시되고 있는 (제 1 반입출 공정) 데, 메인 베드 (19) 와 제 2 서브 베드 (22) 가 제 2 베드 부재 (53) 에 의해 불연속이 되고, 교체 작업에 의해 제 2 서브 베드 (22) 에서 발생하는 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것이 방지되어, 제 1 기판 스테이지 (11) 에서의 노광 동작시에 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있어, 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광할 수 있다.

그리고, 제 1 기판 스테이지 (11) 에서의 노광 전사 및 제 2 기판 스테이지 (12) 에서의 교체 작업이 종료되면, 제 2 베드 부재 (53) 측의 액츄에이터 (55) 를 구동시켜, 제 2 베드 부재 (53) 를 하방에 위치시키고, 제 2 베드 부재 (53) 의 Y 방향 양 단면 (53a, 53b) 과, 메인 베드 (19) 및 제 2 서브 베드 (22) 의 각 Y 방향 단면 (19b, 22a) 과 맞닿게 한다.

이로써, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 와, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 상의 레일편 (41a ∼ 41e) 이 연속이 되어, 한 개의 안내 레일 (41) 이 구성되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 는 제 1 대기 위치 (WP1) 로, 제 2 기판 스테이지 (12) 는 노광 위치 (EP) 로 각각 이동한다 (제 1 이동 공정). 그 후, 제 1 베드 부재 (52) 측의 액츄에이터 (54) 를 구동시키고 (제 1 구동 공정), 제 1 베드 부재 (52) 를 상방에 위치시키고, 제 1 베드 부재 (52) 와, 메인 베드 (19) 및 제 1 서브 베드 (21) 사이에 간극을 형성한다.

이 상태에서, 노광 위치 (EP) 에서 제 2 기판 스테이지 (12) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 노광 전사된다 (제 2 노광 공정). 또한, 노광 전사 중, 제 1 기판 로더 (14) 를 이용하여 제 1 기판 스테이지 (11) 에서 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트로의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지부 (31a) 로의 기판 (W) 의 반입이 실시되는 (제 2 반입출 공정) 데, 메인 베드 (19) 와 제 1 서브 베드 (21) 가 제 1 베드 부재 (52) 에 의해 불연속이기 때문에, 기판 (W) 을 교체할 때에 제 1 서브 베드에서 발생하는 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것이 방지되어, 제 2 기판 스테이지 (12) 에서의 노광 동작시에 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있어, 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광할 수 있다.

그리고, 마찬가지로, 제 1 베드 부재 (52) 측의 액츄에이터 (54) 를 구동시키고, 제 1 베드 부재 (52) 를 하방에 위치시켜, 한 개의 안내 레일 (41) 로 하고, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 노광 위치 (EP) 로, 제 2 기판 스테이지를 제 2 대기 위치 (WP2) 로 각각 이동시킨 (제 2 이동 공정) 후, 상기 기술한 제 2 구동 공정을 실시하여, 메인 베드 (19) 와 제 2 서브 베드 (22) 를 제 1 베드 부재 (52) 에 의해 불연속으로 하고, 상기 기술한 제 1 노광 공정 및 제 1 반입출 공정이 반복된다.

또한, 제 1 실시 형태에서는, 메인 베드 (19) 의 하방에 배치된 방진재 (18) 도, 제 1 서브 베드 (21) 와 제 2 서브 베드 (22) 에 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구로서 작용한다. 즉, 방진재 (18) 는, 메인 베드 (19) 에서의 노광 전사 중에 기대 (21) 를 통하여 전달되는, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22), 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15), 마스크 로더 (16) 등, 기대 (17) 상의 장치로부터의 진동을 흡수할 수 있다.

상기한 바와 같이, 제 1 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 메인 베드 (19) 와, 메인 베드 (19) 의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 (21) 및 제 2 서브 베드 (22) 와, 메인 베드 (19) 와 제 1 서브 베드 (21) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 메인 베드 (19) 와 제 2 서브 베드 (22) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 와, 메인 베드 (19) 상에 위치하는 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (21, 22) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 와, 제 1 서브 베드 (21) 와 제 2 서브 베드 (22) 에 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구 (50, 51) 를 구비하기 때문에, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 에 있어서 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 기판 (W) 을 교체할 때에 발생하는 진동이 노광시의 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하여, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있다. 이로써, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다.

또, 방진 기구 (50, 51) 는, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 사이에 형성된 쐐기 공간에 끼워맞출 수 있도록 각각 설치되고, 경사면을 갖는 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 와, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터 (54, 55) 를 구비하기 때문에, 비교적 경량인 베드 부재 (52, 53) 를 구동하면 되고, 소형으로 소수의 액츄에이터 (54, 55) 에 의해 메인 베드 (19) 의 방진이 가능해진다.

또한, 방진 기구는, 메인 베드 (19) 의 하방에 배치되며, 메인 베드 (19) 를 지지 가능한 방진재 (18) 를 가지기 때문에, 메인 베드 (19) 에서의 노광 전사 중에 기대 (21) 를 통하여 전달되는 기대 (21) 상의 장치로부터의 진동을 흡수할 수 있다. 이에 의해서도, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있어, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다.

또한, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 는, 이들 베드 부재 (52, 53) 가 상방에 위치했을 때에, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 사이의 적어도 일방의 Y 방향 단면 (19a, 21a, 19b, 22a) 사이에 간극을 형성하면 되고, 예를 들어, 도 4(a) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 베드 부재 (52) 의 Y 방향 단면 (52a, 52b) 의 일방을 경사면으로 하고, 타방을 수직면으로 해도 된다. 또, 제 1 및 제 2 베드 부재 (52, 53) 는, 메인 베드 (19) 근방의 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 에 형성된 쐐기 공간에 배치되어도 되고, 예를 들어, 도 4(b) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 베드 부재 (52) 가 메인 베드 (19) 근방의 제 1 서브 베드 (21) 내에 배치되는 경우라도, 제 1 서브 베드 (21) 에 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지할 수 있다.

(제 2 실시 형태) 다음으로, 본 발명의 제 2 실시 형태의 노광 장치 및 노광 방법에 대하여 도 5 ∼ 도 7 을 참조하여 설명한다. 도 5 는 본 발명의 제 2 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도, 도 6 은 제 1 기판 스테이지가 제 1 대기 위치로부터 노광 위치로 이동 가능한 상태를 나타내는 주요부 정면도, 도 7 은 제 1 기판 스테이지가 노광 위치에 위치하고, 제 2 기판 스테이지가 제 2 대기 위치에 위치한 상태를 나타내는 주요부 정면도이다. 또한, 제 2 실시 형태의 노광 장치는, 방진 기구의 구성에 있어서 제 1 실시 형태의 것과 상이할 뿐, 제 1 실시 형태와 동등한 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 설명을 생략 또는 간략화한다.

도 6 에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에서는, 메인 베드 (19) 는, Y 방향 양 단면 (19a, 19b) 이 상방에서 하방을 향함에 따라 점차 Y 방향 폭이 넓어지도록 경사면으로 한 쐐기상으로 형성된다. 또한, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 는, 메인 베드 (19) 의 Y 방향 단면 (19a, 19b) 에 대향하는 Y 방향 단면 (21a, 22a) 을 갖고, 이들 Y 방향 단면 (21a, 22a) 은, Y 방향 단면 (19a, 19b) 과 동등한 각도를 가진 경사면을 이루고 있다.

또한, 도 5 및 도 6 에 나타내는 바와 같이, 메인 베드 (19) 와 기대 (17) 사이에는, 방진 고무 등의 복수의 방진재 (18) 가 메인 베드 (19) 와의 사이에 소정의 간극을 갖고 배치됨과 함께, 메인 베드 (19) 의 하면에 장착되는 피스톤 로드 (70a) 를 갖고, 메인 베드 (19) 를 상하 방향으로 구동시키는 유압 또는 공압 실린더로 이루어지는 복수의 액츄에이터 (70) 가 배치되어 있다. 즉, 제 1 실시 형태의 방진 기구는, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 사이의 대향면을 경사면으로 하고, 메인 베드 (19) 를 상하 방향으로 구동시키는 액츄에이터 (70) 를 구비하는 구성과, 메인 베드 (19) 의 하방에 배치된 방진재 (18) 를 갖고 있다.

또, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 베드 (21, 22) 에 걸쳐 연장되는 안내 레일(41) 은, 각각 메인 베드 (19), 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 상에 설치된 3 개의 레일편 (41a ∼ 41c) 에 의해 구성되어 있고, 메인 베드 (19) 가 상방에 위치하는 경우에는, 이들 레일편 (41a ∼ 41c) 이 실질적으로 한 개의 안내 레일 (41) 을 형성한다. 또한, 이송 구동 기구 (39) 의 고정자 (42) 도 메인 베드 (19), 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 상에 각각 배치되어 있다.

제 2 실시 형태에서는, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 유지한 제 1 기판 스테이지 (11) 를 제 1 서브 베드 (21) 상의 제 1 대기 위치 (WP1) 로부터 메인 베드 (19) 상의 노광 위치 (EP) 로 이동시키는 경우에는, 액츄에이터 (70) 에 의해 메인 베드 (19) 를 상방에 위치시키고, 메인 베드 (19) 의 Y 방향 양 단면 (19a, 19b) 을 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 각 Y 방향 단면 (21a, 22a) 에 맞닿게 하여, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 레일편 (41a ∼ 41c) 이 연속으로 된다. 이 상태에서, Y 축 이송 기구 (34) 의 이송 구동 기구 (39) 에 의해 제 1 기판 스테이지 (11) 는 제 1 대기 위치 (WP1) 로부터 노광 위치 (EP) 로 이동한다.

그리고, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 노광 위치 (EP) 에 이동시킨 후, 액츄에이터 (70) 를 구동시키고, 메인 베드 (19) 를 하방으로 이동시켜, 메인 베드 (19) 를 방진재 (18) 상에 지지시킴과 함께, 메인 베드 (19) 의 Y 방향 양 단면 (19a, 19b) 과 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 각 Y 방향 단면 (21a, 22a) 사이에 간극을 형성한다.

이 상태에서, 제 1 실시 형태와 마찬가지로, 제 1 기판 스테이지 (11) 에 유지된 기판 (W) 에 노광 전사가 실시되고, 제 2 대기 위치 (WP2) 에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 상에서는, 기판 (W) 의 교체 작업이 실시되고 있지만, 메인 베드 (19) 와 제 2 서브 베드 (22) 가 불연속이 되어, 교체 작업에 의해 제 2 서브 베드 (22) 에 발생하는 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되는 것이 방지되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 에서의 노광 동작시에 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있어, 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광할 수 있다.

또한, 제 1 기판 스테이지 (11) 의 노광 위치 (EP) 로부터 제 1 대기 위치 (WP1) 로의 이동, 제 2 기판 스테이지 (12) 의 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이의 이동도, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 메인 베드 (19) 가 상방에 위치한 상태에서 실시되고, 제 2 기판 스테이지 (12) 의 노광 위치 (EP) 에서의 노광 동작도, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 메인 베드 (19) 가 하방에 위치하여 방진재 (18) 에 탑재된 상태에서 실시된다.

제 2 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 제 1 실시 형태와 마찬가지로, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 에 있어서 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 기판 (W) 을 교체할 때에 발생하는 진동이 노광시의 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지하고, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제할 수 있고, 특히, 방진 기구는, 메인 베드 (19) 와 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 사이의 각 대향면 (19a, 19b, 21a, 22a) 을 경사면으로 하고, 메인 베드 (19) 를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터 (70) 를 구비하기 때문에, 메인 베드 (19) 를 상대적으로 이동시키는 것만으로 메인 베드 (19) 의 방진이 가능해진다.

(제 3 실시 형태) 다음으로, 본 발명의 제 3 실시 형태의 노광 장치에 대하여 도 8 ∼ 도 9 를 참조하여 설명한다. 또한, 제 3 실시 형태의 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 실시 형태와 동등한 부분에 대해서는 동일 부호를 붙여, 설명 을 생략 또는 간략화한다.

도 8 은 본 발명의 제 3 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도, 도 9 는 도 8 의 노광 장치의 주요부 정면도이다.

도 9 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 는, 피노광재로서의 기판 (W) 이 상면에 탑재되는 기판 유지부 (31a, 31b) 와, 이 기판 유지부 (31) 의 상면으로부터 자유롭게 진퇴할 수 있도록 배치되고 기판 (W) 을 지지하는 복수의 핀 (92) 을 각각 갖는다. 또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하방에는, Y 축 테이블 (33), Y 축 이송 기구 (34), X 축 테이블 (35), X 축 이송 기구 (36) 및 Z-틸트 조정 기구 (37), Z 축 테이블 (30) 을 구비하는 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 가 각각 설치된다.

또, 기판 유지부 (31a, 31b) 와, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 이동하는 기판 스테이지 이동 기구 (32) 의 Z 축 테이블 (30) 사이에는, 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 탄성 지지 가능한 방진 기구인 공기 스프링 (46) 과, 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 고정 지지 가능한 로크 기구인 전자석 (47 ; 47a, 47b) 이 복수 배치된다. 이들 공기 스프링 (46) 과 전자석 (47) 은, 복수의 핀 (92) 이 배치되는 위치와 간섭하지 않도록 배치되어 있고, 또, Z 축 테이블 (30) 에 세워 형성된 도시하지 않은 기둥부 상에 설치되어도 된다.

공기 스프링 (46) 은, 고무막 내에 압축 공기를 밀봉하여 공기의 탄성을 이용한 스프링으로, 벨로스형, 다이어프램형, 롤링 시일형 등이 알려져 있다. 공 기 스프링 (46) 은 구조가 유연하고, 축 방향뿐만 아니라 가로 방향, 회전 방향의 진동이 절연 가능하다.

그리고, 전자석 (47) 이 작동하지 않는 상태에서, 기판 유지부 (31a, 31b) 는 공기 스프링 (46) 에 의해 탄성적으로 Z 축 테이블 (30) 에 지지되고, 기판 유지부 (31a, 31b) 상에서의 진동이 Z 축 테이블 (30) 에 전달되는 것을 방지한다. 한편, 전자석 (47) 이 작동한 상태에서는, 기판 유지부 (31a, 31b) 는 전자석 (47) 에 의해 Z 축 테이블 (30) 에 강고하게 고정 지지된다.

여기서, 제 3 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에서는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 의해, 제 1 기판 스테이지 (11) 는 노광 위치 (EP) 와 제 1 대기 위치 (WP1) 사이, 제 2 기판 스테이지 (12) 는 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이에서 서로 연동한다. 그리고, 제 1 기판 스테이지 (11) 가 노광 위치 (EP) (도 9 의 쇄선 위치), 제 2 기판 스테이지 (12) 가 제 2 대기 위치 (WP2) (도 9 의 실선 위치) 에 위치할 때에는, 제 1 기판 스테이지 (11) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 노광 전사되고, 제 2 기판 스테이지 (12) 에서는, 제 2 기판 로더 (15) 에 의한 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트로의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지부 (31b) 로의 기판 (W) 의 반입이 동시에 실시된다.

제 2 기판 스테이지 (12) 상에서의 교체 작업, 먼저, 복수의 핀 (92) 을 상승시켜, 기판 유지부 (31b) 상의 노광 후의 기판 (W) 을 기판 유지부 (31b) 의 상면으로부터 돌출된 핀 (92) 의 선단에서 지지하고, 제 2 기판 로더 (15) 의 반송부 (도시 생략) 에 의해 기판 (W) 을 수취한다. 또, 새로운 기판 (W) 을 반입하는 경우에도, 복수의 핀 (92) 을 상승시켜, 제 2 기판 로더 (15) 의 반송부가 기판 (W) 을 핀 (92) 의 선단에 탑재하고, 핀 (92) 을 하강시켜 기판 (W) 을 기판 유지부 (31b) 의 상면에 탑재한다.

이러한 교체 작업 중, 기판 유지부 (31b) 는 공기 스프링 (46) 에 의해 탄성적으로 지지되어 있고, 상기 작업 중에 발생하는 제 2 기판 스테이지 (12) 의 진동이 기판 스테이지 이동 기구 (32) 의 Z 축 테이블 (30) 에 전달되지 않고, 노광 중인 제 1 기판 스테이지 (11) 에도 전달되지 않는다.

한편, 노광 중인 제 1 기판 스테이지 (11) 에서는, 기판 유지부 (31a) 는 전자석 (47) 의 작동에 의해 강고하게 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 고정 지지되어 있기 때문에, 기판 유지부 (31a) 가 위치 어긋나지 않고, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사된다.

또, 제 2 기판 스테이지 (12) 가 노광 위치 (EP) (도 9 의 쇄선 위치), 제 1 기판 스테이지 (11) 가 제 1 대기 위치 (WP1) (도 9 의 실선 위치) 에 위치할 때에는, 제 2 기판 스테이지 (12) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 노광 전사되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 에서는, 제 1 기판 로더 (14) 에 의한 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트로의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지부 (31a) 로의 기판 (W) 의 반입이 동시에 실시된다.

이 경우에도, 교체 작업 중인 제 1 기판 스테이지 (11) 에서는, 기판 유지부 (31a) 는 전자석 (47) 을 비작동으로 함으로써, 공기 스프링 (46) 에 의해 Z 축 테 이블 (30) 에 탄성 지지되고, 노광 중인 제 2 기판 스테이지 (12) 에서는 기판 유지부 (31b) 는 전자석 (47) 을 작동시킴으로써, Z 축 테이블 (30) 에 고정 지지된다. 이로써, 교체 작업 중에 발생하는 제 1 기판 스테이지 (11) 의 진동이, 노광 중인 제 2 기판 스테이지 (12) 에도 전달되지 않고, 또, 제 2 기판 스테이지 (12) 에서는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사된다.

또한, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 노광 위치 (EP) 와 제 1 및 제 2 대기 위치 (WP1, WP2) 사이의 이동 중에는 전자석 (47) 을 작동시키고, 기판 유지부 (31a, 31b) 는 Z 축 테이블 (30) 에 고정 지지되기 때문에, 기판 유지부 (31a, 31b) 가 흔들려도 기판 (W) 에 위치 어긋남이 발생하지 않는다.

상기한 바와 같이, 제 3 실시 형태의 노광 장치 (PE) 는, (1) 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 노광 위치 (EP) 와 제 1 대기 위치 (WP1) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 와, 노광 위치 (EP) 로 이동한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 를 구비하고, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 는, 기판 (W) 이 탑재되는 기판 유지부 (31a, 31b) 와, 기판 유지부 (31a, 31b) 의 상면으로부터 자유롭게 진퇴할 수 있도록 배치되어, 기판 (W) 을 지지하는 복수의 핀 (92) 을 갖고, 기판 유지부 (31a, 31b) 와, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 이동시키는 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 사이에는, 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 탄성 지지 가능한 방진 기구와, 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 고정 지지 가능한 로크 기구가 배치되는 것을 특징으로 한다.

또, 제 3 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, (2) 방진 기구는 공기 스프링 (46) 에 의해 구성되고, 로크 기구는 전자력에 의해 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 고정 지지하는 전자석 (47) 인 것을 특징으로 한다.

제 3 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 노광 위치 (EP) 와 제 1 대기 위치 (EP1) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 를 구비함으로써, 기판 (W) 의 노광 전사와 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 로의 기판 (W) 의 반입 및 반출을 동시에 실시하여, 택트 타임의 단축을 도모할 수 있다.

또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31a, 31b) 와, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 이동시키는 기판 스테이지 이동 기구 (32, 32) 사이에는, 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 탄성 지지 가능한 공기 스프링 (46) 과, 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 대하여 기판 유지부 (31a, 31b) 를 고정 지지 가능한 전자석 (47) 이 배치되기 때문에, 기판 (W) 을 반입출하는 측의 기판 스테이지에 발생하는 진동이 공기 스프링 (46) 에 의해 노광 중인 기판 스테이지에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제하여 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다.

또한, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 을 노광할 때에는, 전자석 (47) 에 의해 기판 유지부 (31a, 31b) 가 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 대하여 고정 지지되기 때문에, 기판 유지부 (31a, 31b) 가 위치 어긋나지 않아 고정밀도로 노광 전사할 수 있다.

또, 공기 스프링 (46) 과 전자석 (47) 은, 기판 유지부 (31a, 31b) 와 Z 축 테이블 (30) 사이에 배치되어 있기 때문에, 공기 스프링 (46) 과 전자석 (47) 이 지지하는 질량을 경량화하여 응답성을 향상시킬 수 있고, 또, 공기 스프링 (46) 과 전자석 (47) 의 소형화를 도모할 수 있다.

또한, 제 3 실시 형태의 방진 기구는, 기판 스테이지 이동 기구에 대하여 기판 유지부를 탄성 지지 가능하면 되고, 공기 스프링 이외의 구성이어도 된다. 또, 로크 기구도, 방진 기구에 의한 탄성 지지를 전환하여, 기판 스테이지 이동 기구에 대하여 기판 유지부를 고정 지지 가능하면 되고, 전자석 이외의 구성이어도 된다.

(제 4 실시 형태) 다음으로, 본 발명의 제 4 실시 형태의 노광 장치에 대하여 도 10 ∼ 도 12 를 참조하여 설명한다. 또한, 제 4 실시 형태의 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 실시 형태와 동등한 부분에 대해서는 동일 부호를 붙여, 설명을 생략 또는 간략화한다.

도 10 은 본 발명의 제 4 실시 형태인 노광 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도, 도 11 은 도 10 의 노광 장치의 주주요부 정면도, 도 12 는 제 1 및 제 2 기판 로더의 측면도이다.

도 12 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 는, 기대 (17) 상의 칼럼 지지대 (80) 에 세워 형성된 칼럼 (81) 에 복수의 반송부 (82, 83) 가 자유롭게 요동할 수 있도록 배치되는 로더 로봇이다. 복수의 반송부 (82, 83) 는, 승강 기구 (도시 생략) 에 의해 칼럼 (81) 을 따라 상하 이동함과 함께, 각각 서보 모터가 배치되어 서로 독립적으로 구동된다. 각 반송부 (82, 83) 는, 제 1 및 제 2 아암 (84, 85) 과 제 1 아암 (84 의 선단에, 복수의 봉상 부재 (86) 가 평행하게 심어 설치된 기판 탑재대 (87) 를 갖는다. 그리고, 각각의 서보 모터를 제어하여 작동시킴으로써, 기판 탑재대 (87) 를 승강, 회전, 및 이동시켜, 기판 탑재대 (87) 상의 기판 (W) 을 반송한다. 또한, 마스크 로더 (16) 도, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 와 동일한 구성을 갖는다.

여기서, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 는, 진동을 검출하는 진동 검출기 (95) 와, 그 진동 검출기 (95) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (96) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (93, 94) 를 각각 구비한다. 액티브 진동 제어 장치 (93, 94) 는, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 내의 메인 베드 (19) 부근의 위치에 설치되어 있고, 진동 검출기 (95) 에 의해 검출된 검출 신호가 도시하지 않은 제어 장치로 보내지고, 가진기 (96) 가 제어 장치로부터의 지령에 기초하여, 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진한다. 이로써, 제 1 및 제 2 서 브 베드 (21, 22) 에 발생한 진동이 가진기 (96) 에 의해 발생한 진동에 의해 상쇄되어, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 로부터 메인 베드 (19) 에 전달되는 진동이 저감된다.

또, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 도, 진동을 검출하는 진동 검출기 (59) 와, 그 진동 검출기 (59) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (56) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (57, 58) 를 각각 구비한다. 액티브 진동 제어 장치 (57, 58) 는, 기대 (17) 상에서 칼럼 (81) 을 지지하는 칼럼 지지대 (80) 내에 설치되어 있고, 진동 검출기 (59) 에 의해 검출된 검출 신호가 도시하지 않은 제어 장치로 보내지고, 가진기 (56) 가 제어 장치로부터의 지령에 기초하여, 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진한다. 이로써, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 에 발생한 진동이 가진기 (56) 에 의해 발생한 진동에 의해 상쇄되어, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 로부터 기대 (17) 를 통하여 메인 베드 (19) 에 전달되는 진동이 저감된다.

제 4 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에서는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 스테이지 이동 기구 (32) 에 의해, 제 1 기판 스테이지 (11) 는, 노광 위치 (EP) 와 제 1 대기 위치 (WP1) 사이, 제 2 기판 스테이지 (12) 는, 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이에서 서로 연동한다. 그리고, 제 1 기판 스테이지 (11) 가 노광 위치 (EP) (도 11 의 쇄선 위치), 제 2 기판 스테이지 (12) 가 제 2 대기 위치 (WP2) (도 11 의 실선 위치) 에 위치할 때에는, 제 1 기판 스테이지 (11) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 노광 전사되 고, 제 2 기판 스테이지 (12) 에서는, 제 2 기판 로더 (15) 에 의한 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트로의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지기 (31b) 로의 기판 (W) 의 반입이 동시에 실시된다.

여기서, 교체 작업 중인 제 2 기판 스테이지 (12) 에서는, 제 2 서브 베드 (22) 에 진동이 발생하면, 액티브 진동 제어 장치 (94) 의 진동 검출기 (95) 가 제 2 서브 베드 (22) 에 발생한 진동을 검출하여 제어 장치에 검출 신호를 송신한다. 그리고, 가진기 (96) 가, 제어 장치로부터의 지령에 기초하여 진동 검출기 (95) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발생시켜, 제 2 서브 베드 (22) 의 진동을 상쇄한다. 이로써, 제 2 서브 베드 (22) 의 진동이 제진되어, 제 2 서브 베드 (22) 에 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되지 않게 되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 상에서 노광 중인 기판 (W) 에 영향을 미치지 않는다.

또한, 교체 작업 중, 제 2 기판 로더 (15) 가 구동함으로써 제 2 기판 로더 (15) 에 진동이 발생한 경우에는, 액티브 진동 제어 장치 (58) 의 진동 검출기 (59) 가 제 2 기판 로더 (15) 에 발생한 진동을 검출하여 제어 장치에 검출 신호를 송신하고, 가진기 (56) 가, 제어 장치로부터의 지령에 기초하여 진동 검출기 (59) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발생시켜, 제 2 기판 로더 (15) 의 진동을 상쇄한다. 이로써, 제 2 기판 로더 (15) 의 진동이 제진되어, 제 2 기판 로더 (15) 에 발생한 진동이 기대 (21) 를 통하여 메인 베드 (19) 에 전달되지 않게 되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 상에서 노광 중인 기판 (W) 에 영향을 미치지 않는다.

또, 제 2 기판 스테이지 (12) 가 노광 위치 (EP) (도 11 의 쇄선 위치), 제 1 기판 스테이지 (11) 가 제 1 대기 위치 (WP1) (도 11 의 실선 위치) 에 위치할 때에는, 제 2 기판 스테이지 (12) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 이 노광 전사되고, 제 1 기판 스테이지 (11) 에서는, 제 1 기판 로더 (14) 에 의한 기판 (W) 의 교체 작업, 즉, 노광 후의 기판 (W) 의 기판 카세트의 반출과 기판 카세트로부터 기판 유지부 (31a) 로의 기판 (W) 의 반입이 동시에 실시된다.

이 경우에도, 교체 작업 중인 제 1 기판 스테이지 (11) 에서는, 액티브 진동 제어 장치 (93) 가 상기 서술한 액티브 진동 제어 장치 (94) 와 마찬가지로, 제 1 서브 베드 (21) 의 진동을 제진하고, 또, 제 1 기판 로더 (14) 내에 배치된 액티브 진동 제어 장치 (57) 도, 상기 서술한 액티브 진동 제어 장치 (58) 와 마찬가지로, 제 1 기판 로더 (14) 가 구동함으로써 발생한 진동을 제진한다. 이로써, 제 1 서브 베드 (21) 나 제 1 기판 로더 (14) 에 발생한 진동이 메인 베드 (19) 에 전달되지 않게 되고, 제 2 기판 스테이지 (12) 상에서 노광 중인 기판 (W) 에 영향을 미치지 않는다.

상기한 바와 같이, 제 4 실시 형태의 노광 장치 (PE) 는, (1) 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 메인 베드 (19) 와, 메인 베드의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 (21) 및 제 2 서브 베드 (22) 와, 메인 베드 (19) 와 제 1 서브 베드 (21) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 메인 베드 (19) 와 제 2 서브 베드 (22) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 와, 메인 베드 (19) 상에 위치하는 제 1 및 제 2 기판 스 테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 를 구비하고, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 는, 진동을 검출하는 진동 검출기 (95) 와, 진동 검출기 (95) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (96) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (93, 94) 를 각각 구비하는 것을 특징으로 한다.

또, 제 4 실시 형태의 노광 장치 (PE) 는, (2) 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 노광 위치 (EP) 와 제 1 대기 위치 (WP1) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 노광 위치 (EP) 와 제 2 대기 위치 (WP2) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 와, 노광 위치 (EP) 로 이동한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 와, 제 1 대기 위치 (WP1) 에 위치하는 제 1 기판 스테이지 (11) 에 대하여 기판 (W) 을 반입 및 반출하는 제 1 기판 로더 (14) 와, 제 2 대기 위치 (WP2) 에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 에 대하여 기판 (W) 을 반입 및 반출하는 제 2 기판 로더 (15) 를 구비하고, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 는, 진동을 검출하는 진동 검출기 (59) 와, 진동 검출기 (59) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (56) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (57, 58) 를 각각 구비하는 것을 특징으로 한다.

제 4 실시 형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 메인 베드 (19) (노광 위치 (EP)) 와 그 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 (21) (제 1 대기 위치 (WP1)) 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지 (11) 와, 메인 베드 (19) (노광 위치) 와 그 측방에 배치되는 제 2 서브 베드 (22) (제 2 대기 위치 (WP2)) 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지 (12) 를 구비함으로써, 기판 (W) 의 노광 전사와 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 로의 기판 (W) 의 반입 및 반출을 동시에 실시하여, 택 타임의 단축을 도모할 수 있다.

또, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 는, 진동을 검출하는 진동 검출기 (95) 와, 진동 검출기 (95) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (96) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (93, 94) 를 각각 구비하기 때문에, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 기판 (W) 을 반입출할 때에 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 상에서 발생하는 진동이 노광시의 메인 베드 (19) 에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제하여 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다.

또한, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 도, 진동을 검출하는 진동 검출기 (59) 와, 진동 검출기 (59) 에 의해 검출된 진동과 역위상의 진동을 발진하는 가진기 (56) 를 갖는 액티브 진동 제어 장치 (57, 58) 를 각각 구비하기 때문에, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 기판 (W) 을 반입출할 때에 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 에서 발생하는 진동이 메인 베드 (19) 를 통하여 노광시의 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제하여 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다.

제 4 실시 형태의 액티브 진동 제어 장치 (93, 94) 의 진동 검출기 (95) 는, 가진기 (96) 에 인접하여 배치되어 있는데, 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 임의의 위치에 배치되면 되고, 내장형이 아니어도 된다. 또, 가진기 (96) 도 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 의 내부에 효율적으로 가진할 수 있는 위치에 배치되면 된다.

또한, 액티브 진동 제어 장치 (57, 58) 의 진동 검출기 (59) 도, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 의 임의의 위치에 배치되면 되고, 내장형이 아니어도 된다. 가진기 (56) 도 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 의 내부에 효율적으로 가진할 수 있는 위치에 배치되면 된다.

(제 5 실시 형태) 다음으로, 본 발명의 제 5 실시 형태인 노광 장치에 대하여 도 13 및 도 14 를 참조하여 설명한다. 또한, 제 5 실시 형태는, 기대 (17) 와 바닥면 (FL) 사이에 제진 장치 (90) 를 배치한 점을 특징으로 하고 있다. 이 때문에, 상기 서술한 실시 형태와 동일한 부분에 대해서는, 동일 부호를 붙여 설명을 생략 또는 간략화한다. 또, 제 4 실시 형태의 액티브 진동 제어 장치 (57, 58, 93, 94) 에 대해서는 도시되어 있지 않지만, 제 5 실시 형태와 조합해도 적용 가능하다.

도 14 에 나타내는 바와 같이, 기대 (17) 는, 콘크리트 정반에 의해 형성되어 있고, 도시하지 않은 기판 카세트나 마스크 카세트를 포함하는, 상기 서술한 노광 장치 (PE) 의 구성 부품을 지지하고 있다.

그리고, 도 13 및 도 14 에 나타내는 바와 같이, 이 기대 (17) 와 바닥면 (FL) 사이에는, 제진 장치 (90) 인 공기 스프링 시스템이 복수 배치되어 있고, 기대 (17) 는, 바닥면 (FL) 보다 상방에 위치하는 슬래브 바닥 (91) 과 거의 동일한 높이로 배치되어 있다.

또한, 공기 스프링 시스템은, 고무막 내에 압축 공기를 봉입하여 공기의 탄성을 이용한 스프링이고, 벨로스형, 다이어프램형, 롤링 시일형 등이 알려져 있다. 공기 스프링은, 구조가 유연하여, 축방향뿐만 아니라, 가로 방향, 회전 방향의 진동이 절연 가능하다.

상기한 바와 같이, 제 5 실시 형태의 노광 장치 (PE) 는, 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 마스크 스테이지 (10) 의 하방에 위치하는 노광 위치 (EP) 와 대기 위치 (WP1, WP2) 사이에서 이동 가능한 기판 스테이지 (11, 12) 와, 노광 위치 (EP) 로 이동한 기판 스테이지 (11, 12) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (13) 와, 대기 위치 (WP1, WP2) 에 위치하는 기판 스테이지 (11, 12) 에 대해서 기판 (W) 을 반입 및 반출하는 기판 로더 (14, 15) 를 구비하고, 마스크 스테이지 (10), 기판 스테이지 (11, 12), 기판 로더 (14, 15) 는, 기대 (17) 에 의해 지지되어 있으며, 그 기대 (17) 는, 제진 장치 (90) 를 통하여 바닥면 (FL) 상에 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.

따라서, 제 5 실시 형태에 의하면, 노광 장치 (PE) 의 구성 부품을 지지하는 기대 (17) 와, 바닥면 (FL) 사이에 제진 장치 (90) 가 배치되어 있기 때문에, 노광 장치 (PE) 와 콘크리트 정반으로 이루어지는 기대 (17) 를 바닥면 (FL) 으로부터 부상시켜, 주변으로부터 발생하는 여러가지 진동을 제진할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 기판 (W) 을 반입출할 때에 제 1 및 제 2 서브 베드 (21, 22) 나, 제 1 및 제 2 기판 로더 (14, 15) 등의 각종 구성 부품에서 발생하는 진동이 바닥면 (FL) 으로부터 노광시의 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제하여 마스크 (M) 의 마스크 패턴 (P) 을 고정밀도로 기판 (W) 에 노광 전사할 수 있다. 그 이외의 구성 및 작용에 대해서는, 제 1 실시 형태와 동일하다. 또, 본 실시 형태의 제진 장치 (90) 는, 두 개의 기판 스테이지를 구비하여 노광 작업과 교체 작업을 동시에 실시할 수 있는 노광 장치 이외에, 하나의 기판 스테이지에서 노광 작업과 교체 작업이 교대로 실시되는 노광 장치에도 적용 가능하다.

또한, 본 발명은 전술한 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 적절하게, 변형, 개량 등이 가능하다.

본 발명의 노광 장치 및 노광 방법에 의하면, 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 메인 베드와 그 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지와, 메인 베드와 그 측방에 배치되는 제 2 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지를 구비함으로써, 기판의 노광 전사와 제 1 및 제 2 기판 스테이지로의 기판의 반입 및 반출을 동시에 실시하여, 택트 타임의 단축을 도모할 수 있고, 또, 제 1 서브 베드와 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 메인 베 드에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구를 구비하기 때문에, 제 1 및 제 2 기판 스테이지에 기판을 반입출할 때에 발생하는 진동이 노광시의 메인 베드에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 노광 정밀도에 미치는 진동의 영향을 배제하여 마스크 패턴을 고정밀도로 기판에 노광 전사할 수 있다.

Claims (5)

1. 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와,

   상기 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 메인 베드와,

   상기 메인 베드의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 및 제 2 서브 베드와,

   상기 메인 베드와 상기 제 1 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지와,

   상기 메인 베드와 상기 제 2 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지와,

   상기 메인 베드 상에 위치하는 상기 제 1 및 제 2 기판 스테이지에 유지된 기판에, 패턴 노광용 광을 상기 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와,

   상기 제 1 서브 베드와 상기 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 상기 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 방진 기구는,

   상기 메인 베드와 상기 제 1 및 제 2 서브 베드 사이에 형성된 쐐기 공간 또는 상기 제 1 및 제 2 서브 베드에 형성된 쐐기 공간에 맞춤 가능하게 각각 형성되고, 경사면을 갖는 제 1 및 제 2 베드 부재와,

   그 제 1 및 제 2 베드 부재를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 방진 기구는, 상기 메인 베드와 상기 제 1 및 제 2 서브 베드 사이의 각 대향면을 경사면으로 하고, 상기 메인 베드를 상하 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비함으로써 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 방진 기구는, 상기 메인 베드의 하방에 배치되며, 상기 메인 베드를 지지 가능한 방진재를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
5. 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와, 상기 마스크 스테이지의 하방에 위치하는 메인 베드와, 상기 메인 베드의 측방에 배치되는 제 1 서브 베드 및 제 2 서브 베드와, 상기 메인 베드와 상기 제 1 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 1 기판 스테이지와, 상기 메인 베드와 상기 제 2 서브 베드 사이에서 이동 가능한 제 2 기판 스테이지와, 상기 메인 베드 상에 위치하는 상기 제 1 및 제 2 기판 스테이지에 유지된 기판에, 패턴 노광용 광을 상기 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와, 상기 제 1 서브 베드와 상기 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 상기 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 방진 기구를 구비하는 노광 장치를 이용한 노광 방법으로 서,

   상기 메인 베드 상에 위치하는 상기 제 1 기판 스테이지에 유지된 상기 기판에 상기 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 제 1 노광 공정과,

   그 제 1 노광 공정 중, 상기 제 2 서브 베드 상에 위치하는 상기 제 2 기판 스테이지에 대하여 상기 기판을 반입 및 반출하는 제 1 반입출 공정과,

   상기 제 1 기판 스테이지를 상기 제 1 서브 베드 상에, 상기 제 2 기판 스테이지를 상기 메인 베드 상에 각각 이동시키는 제 1 이동 공정과,

   상기 제 1 이동 공정 후, 상기 방진 기구를 구동하는 제 1 구동 공정과,

   상기 메인 베드 상에 위치하는 상기 제 2 기판 스테이지에 유지된 상기 기판에 상기 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 제 2 노광 공정과,

   그 제 2 노광 공정 중, 상기 제 1 서브 베드 상에 위치하는 상기 제 1 기판 스테이지에 대하여 상기 기판을 반입 및 반출하는 제 2 반입출 공정과,

   상기 제 1 기판 스테이지를 상기 메인 베드 상에, 상기 제 2 기판 스테이지를 상기 제 2 서브 베드 상에 각각 이동시키는 제 2 이동 공정과,

   상기 제 2 이동 공정 후, 상기 방진 기구를 구동하는 제 2 구동 공정을 구비하고,

   상기 제 1 구동 공정은, 상기 제 2 노광 공정 중, 상기 제 2 반입출 공정에 의해 상기 제 1 서브 베드에서 발생한 진동이 상기 메인 베드에 전달되는 것을 방지하고,

   상기 제 2 구동 공정은, 상기 제 1 노광 공정 중, 상기 제 1 반입출 공정에 의해 상기 제 2 서브 베드에서 발생한 진동이 상기 메인 베드에 전달되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.

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