TWI355508B - Dual (confocal and interferometric) technology opt - Google Patents

Description

1355508 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種用於表面之三度空間檢查及測 的雙（共焦和干涉）技術之光學輪廓儀。 【先前技術】 此發明屬於光學量測之技術領域，亦即其中在測量 與所分析樣品間沒有實體接觸。 有無數個應用需要知道一物體之表面的地形及因而 定其微小形狀。此分析可以例如構成一品質控制處理 分。 材料之新應用及新製造程序的引進導致對表面檢查 處理及光學輪廓儀的發展之市場需求有系統的增加。 有關於此，目前依據影像成形有兩種技術，此兩種 在近幾年中的操控光學表面量測市場已有極度的競爭 共焦技術（c ο n f 〇 c a 1 t e c h n i q u e )及干涉技術 (interferometric technique)兩者能以®_ 米及奈米 / 精確地及可靠地測量表面地形。 然而，如以上所說明，在共焦技術及干涉技術中所 之測量原理係非常不同的，以及因此，該兩個技術之 比較屬於互補性而非一致性。 (共焦輪廓儀） 共焦輪廓儀藉由以步階方式垂直地掃描樣品以便在 面上之每一點通過焦距，以允許對具有大範圍之構造 面（從非常粗糙表面至非常平滑表面）實施高度測量。 312XP/發明說明書(補件)/94-08/9411.2850 量 裝置 決 之部 之 技術 〇 L度 包含 能力 表 的表 藉由 5

1355508 伯測軸向回應（a x i a 1 r e s ρ ο n s e )之最大值的位置以建 每一點之表面的高度。因為在該表面上只有一個點或 少量的點同時被照亮，所以必須實施一同平面掃描 (in-plane scan)，以便在每一垂直步階中針對落在所 之透鏡的視野中之所有點建立該軸向回應（亦即，該共 像）。 例如：在歐洲專利第E P 0 , 4 8 5，8 0 3號中描述此型態 廓儀的範例，該專利提及一種光學裝置，其使用具有 明陣列及一偵測器陣列的一共焦光束之路徑。使該照 列成像於一焦平面中，該焦平面係位於該物體之表面 近上或中。藉由一分光鏡將在該焦平面中所反射之光 傳送至一 CCD裝置之接收器表面。實施在該接收器表 之照明陣列的成像，以便該接收器之感光區域用以做 焦膜片（confocal diaphragms)。在評估中不考慮或個 慮來自僅用以接收該焦平面外側所散射之光的偵測器 件的信號。 美國專利第5，2 3 9 , 1 7 8揭示一種類似之光學裝置， 光學裝置中以有關於一物體之一共焦配置方式提供一 柵格及一偵測器柵格。該照明柵格可具有例如由LED 格所形成的可變柵格尺寸。 (干涉輪廊儀） 在此情況中，一光束通過一分光鏡。將該光束之一 傳送至樣品之表面及將另一部分傳送至一參考鏡。將 些表面所反射之光再結合以形成一干涉條紋之圖案。 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 立在 非常 使用. 焦影 之輪 一照 明陣 的附 直接 面上 為共 別考 之元 在該 照明 之柵 部分 從這 6

1355508 干涉輪廓儀使用相移干涉術（P h a s e s h i f t interferometry, PSI)，其允許具有次奈米解析度之非 平滑表面的地形之測量。以步階方式垂直地掃描該樣品（ 須放置在焦距上），該等步階係波長之高精確的小部分。 廓顯示演算法（profiling algorithms)產生該表面之一 位圖，藉由合適展開程序（unwrapping procedure)將該 位圖轉換成為對應高度圖。 干涉輪廓儀亦使用具有白光之垂直掃描干涉術 (vertical scanning interferometry, VSI )，以測量平 或適度粗糙表面之地形。對於在該樣品之表面上的每一 而言，干涉條紋之最大對比係發生在焦距之最佳位置上 以步階方式垂直地掃描該樣品，以便在該表面上之每一 通過該焦距。藉由偵測該干涉圖之包絡的最大值的位置 獲得在每一點上之表面的高度。 例如：在美國專利第5，5 6 3，7 0 6號中描述此型態之輪 儀的範例，其提及一種干涉表面輪廓儀。將從一參考表 及一樣品表面所反射之光經由一分光鏡傳送至一成像光 系統，以及使用一偵測光學系統觀看由該兩個表面反射 光所形成的干涉條紋。將一對準光學構件設置在該成像 學系統與該干涉條紋之成像平面間的一光學路徑中，以 使該對準光學元件之後焦點位於該成像平面上。 例如：美國專利第6，6 6 5 , 0 7 5描述一種成像系統，其 用一相移干涉儀（PSI)及進一步包括一發射器及一分光 鏡、一相位反向器及一接收器。該發射器傳送一信號脈销 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 常 必 輪 相 相 滑 點 〇 點 以 廓 面 學 之 光 便 使 7

1355508 該信號脈衝分裂成一測量脈衝及一參考脈衝。將 衝施加至一樣品，以及藉由該相位反向器在該兩 引進一相對相位移，再結合該兩個脈衝以形成一 器所偵測之結合脈衝。 美國專利第6 , 6 3 6 , 3 1 7號提出以自入射光束之 有一小量傾斜方式來配置分光鏡。在上述光學干 藉由該分光鏡將該入射光束分成兩個彼此成直角 徑。在每一光學路徑中，藉由一第一反射單元完 φ 反射光，同時藉由一第二反射單元完全.反射傳輸 - 個反射單元所反射之光藉由該分光鏡來再次合波 (wave-combined)及藉由一光接收器來接收。 上述P S I及V S I干涉儀能夠以微米及.奈米尺度 常快速測量。此外，V S I技術在該垂直測量範圍 本質上的限制。然而，上述兩種技術具有下列缺 不易處理高傾斜表面或包含有不同材料之結構樣 PSI裝置允許使用者在甚至低於O.lnm之尺度 形狀及構造之測量。·然而，它們具有一極端限制 範圍之缺點。 依據如上所述之影像成形之共焦輪廓儀提供對 涉技術中所包含的許多困難之解決方法及甚至能 一光學系統之可能最佳側向解析度。然而，它們 數值孔徑值所強加之限制垂直解析度及無法在0 . 上達成重複性。 共焦輪廓儀可以使用具有高放大率及數值孔徑 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 該測量脈 個脈衝間 由該接收 垂直方向 涉儀中， 之光學路 全反射該 光。該兩 來實施非 中並沒有 點：它們 品。 下可實施 垂直測量 在該干 夠提供對 具有一由 .1 n m等級 (可分別 8

1355508 高達150X及0.95)之透鏡。另一方面，事實上將PSI万 可能之放大率限制為5 0 X。可經由其它型態之透鏡使 達成較高放大率，然而它們是不切實際且相當昂貴。 因此，期望具有一種輪廓儀，其能提供具有某種程 斜之平滑或相對粗糙表面的圖像，以次奈米尺度之解 來決定在不同材料的樣品中之形成、構造等。. 【發明内容】 本發明提供一種用於非實體接觸表面測量之新光學 面量測裝置。它是一雙（共焦和干涉）技術輪廓儀，其 兩種技術之優點於一裝置中，此裝置係一小型尺寸及 含有移動部分（moving parts)。 此本發明之輪廓儀可用以做為一共焦輪廓儀或一干 輪廓儀以及因此可用於廣大範圍之應用及提供額外的 點。因此，本發明的雙技術之光學輪廓儀提供一樣品 面的分析所需之所有特徵以及適用以對具有奈米範圍 橫比（a s p e c t r a t i 〇 )的極平坦及平·滑表面實施重複及 的測量。 本發明之輪廓儀亦可用以測量具有極高縱橫比及陡 傾斜之極粗糙表面。亦可使用相同裝置來實施對包含 示不同材料及傾斜表面之結構或分層樣品的高度測量 本發明提供一種雙（共焦和干涉）光學輪廓儀，其包 光源（包括一發光二極體）、分光鏡、一 CCD裝置及數 交換顯微鏡透鏡。這些可交換顯微鏡透鏡包括可用以 共焦影像之傳統透鏡及可用以獲得干涉影像之干涉透 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 .VSI 用來 度傾 析度 表 結合 不包 涉 優 之表 之縱 精確 峭 有所 〇 括一 個可 獲得 鏡0 9 1355508 所有可交換顯微鏡透鏡係安裝在一旋轉元件上’，該旋轉元 件可依據所需型態之輪廓儀功能以允許容易地改變該等可 交換顯微鏡透鏡。

本發明之輪廓儀具有照明圖案產生手段（i 1 1 u m i n a t i ο η pattern generating means)，其包括液晶石夕微顯示器 (liquid crystal on silicon (LCOS) micro-display) ° 該LCOS微顯示器.允許一系列之照明圖案的產生，該一系列 之照明圖案藉由合適演算法之應用提供共焦影像或允許所 有照明像素之全部打開以獲得干涉影像。該輪廓儀以一極 化分光鏡與該微顯示器結合來完成。 該發光二極體最好發射一具有範圍之相干長度 的光譜。此範圍允許相位移位之干涉輪廓儀技術（P S I )及以 白光垂直掃描之輪廓技術（V S 1)的應用。對於所發射之光譜 的相干長度而言，最佳範圍值是在4與6//m之間。 最後，該輪廓儀包括一掃描系統，用以實施對所需樣品 之垂直掃描，以便在表面上之所有點通過焦距。共焦輪廓 圖與干涉輪廓圖（P S I及V S I )兩者需要此掃描。 藉由一垂直掃描系統實施用於該樣品之表面地形的測 量之垂直掃描，其中該垂直掃描系統可以是一馬達驅動手 段或一壓電驅動手段（P Z T )。上述兩個系統（馬達或壓電驅 動手段）可以藉由開路或最好閉路系統來控制。 此簡單結構配置提供一堅固且小型設計之非接觸測量 輪廓儀，其可例如安裝在一機器人手臂以在不同位置（例 如：傾斜位置）中以處理控制程序來實施測量。 10 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850

1355508 本發明之輪廓儀的雙（共焦和干涉）本質可僅藉由安 有該等透鏡之旋轉元件來選擇在本身裝置上之適當顯 透鏡，以允許操作成為用於表面分析之一共焦成像及 顯示裝置或一干涉成像及輪廓顯示裝置。 本發明之輪廓儀在以微米及奈米尺度實施所有型態 面（包括具有不同材料之結構或分層樣品）之形狀及構 精確測量方面係相當多功能的。 有許多應用可使用本發明之輪廓儀。舉例來說，本 φ 之輪廓儀可用於高縱橫比表面（例如：包含有溝、孔或 - 之表面）、陡峭傾斜研磨表面（例如：像是微透鏡及微 ' 或矽上精密表面之微光學結構的表面）、陡峭粗糙及不 常反射表面（例如：紙）、包含不同材料之非常咚粗度 面（例如：光學或電子微裝置）、呈現不同構造之表面 相對大尺寸表面（例如：一鎮模、一錢幣或一晶圓）之須1 其中能夠以排列不齊和結合準確性（f i e 1 d s t i t c h i n g 之選擇來測量上述表面。 下面開始本發明之輪廓儀的雙操作。 在該共焦模式中，使用者選擇一傳統顯微鏡透鏡及 一相關連於此模式之獲取程式。該發光二極體（L E D )發 調變光束 '，該調變光束通過一準直器及一極化分光鏡 (PBS)。該PBS所反射之光會落在該LC0S微顯示器上 該處以一極化來反射，其中該極化係依據對每一個表 明圖案之每一像素所分配的狀態而定。該LC0S所反射 再次通過該PBS及一輔助光學系統，其中在該PBS處 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 裝 微鏡 輪廓 表 造的 發明 凹陷 稜鏡 是非 的表 以及 量， )等 啟動 射一 及在 示照 之光 實施 ]】 1355508 不同極化間之區別，以及藉由另一分光鏡反射至該顯微鏡 透鏡。該光束落在該所要測量之樣品的表面上，其中該 LCOS所產生之光圖案係投射至該表面上。在該樣品之表面 上所反射及漫射的光再次通過該顯微鏡透鏡、該分光鏡及 一輔助光學系統（向場透鏡（field lens))以落在該CCD裝 置上，其中在該CCD裝置處投射那個時間在焦距中之樣品 的表面之影像。

在該共焦模式中，藉由該LC0S微顯示器上所表示之照 明圖案同時照明在該樣品之表面上的唯一點或少數點，以 及使用適當演算法來計算對每一個點之軸向回應。為了涵 蓋該所要測量之表面的所有點，必須將一系列之照明圖案 投射至該表面以獲得對所有落在該視野内之點的軸向回應 之值。在此方式中，針對一特定垂直位置獲得該共焦影像， 其中在該特定垂直位置處，每一個點之軸向回應的對應值 越高，則越靠近該焦距之位置。因此，因為只在靠近該焦 距之區域感知到光，同時在離該焦距一段距離的區域呈現 黑暗，所以共焦影像提供非常高之對比。 一表面之地形的測量在該樣品之位於不同高度的不同 平面中需要一系列之共焦影像。依據這些影像及使用適當 軟體，獲得該表面之三度空間重建。為了獲得此系列之影 像，需要一用於該樣品之垂直掃描的系統。 在所述共焦模式中，該輪廓儀可實施具有特別側向解析 度之測量。此對一傳統1 5 0 X透鏡而言可減少空間取樣至 0. 1 0 y m之值，進而使以奈米尺度對臨界尺寸之測量成為 12 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850

1355508 理想化。在此模式中，可使用具有大數值孔徑（N A )之透lj 以允許對具有非常高斜率（高達7 〇 °)之研磨表面的測量 亦可使用具有超大工作距離（S L W D )之透鏡，以允.許對具 高縱橫比之表面的測量。在所有情況中，亦可測量包含 不同材料之結構樣品。 在該干涉模式中，使用者選擇一干涉顯微鏡透鏡，以 亦啟動與該透鏡相關連之獲取程式。相較於該共焦模式 該微顯示器使所有像素打開以立即照明所要分析之整個 面。換句話說，在該干涉模式中，沒有投射照明圖案， 倒是照明該整個表面以針對每一分析平面獲得干涉影像 使該發射光束通過該分光鏡，該分光鏡傳送所有光至該 品之表面，以及將該表面之来彡像投射至該CCD裝置。該 品之垂直掃描所導致的系列干涉影像藉由適當演算法提 該所要分析之樣品的表面地形。 在此模式中，可以使用該P S I技術以具有次奈米垂直 複性來測量連續及非常平滑表面，而無視於所使用之干 透鏡，換句話說，係針對所有數值孔徑之值。同樣地， 以使用該V S I技術以奈米垂直重複性針對所有數值孔徑 值來測量研磨表面或粗糙表面。此外，使用該V SI技術 在本質上不會限制該垂直測量範圍•及可以使用非常高掃 速度（高達l〇〇vm/s)。 本發明之輪廓儀裝設有一電腦系統，其中該電腦系統 以管理上述操作模式之程式，以將結果以文字、影像或 形形式顯示在一監視器上。該顯示之資料例如是所要測 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850 有 有 及 表 反 〇 樣 樣 供 重 涉 可 之 描 用 圖 量 13

1355508 之地形的等距、外形或輪廓圖、統計圖、快速傅立葉轉 (F F T s )等以及該樣品之表面的標準顯微鏡、共焦及干涉 像。 該軟體係設計成用以決定該所要分析之表面的幾何參 數（高度、寬度、傾斜、體積）及分析之參數（粗度、起伏等 以及能夠實施資料之過濾或插補之功能以恢復未測量之 點。該軟體亦設計成用以以文字形式或二進位檔案輸出 料以及允許報告的列印。 依據本發明的雙技術之光學輪廓儀的測量裝置能夠以 用以定位樣品之系統來完成，該系統包括在垂直於該輪 儀之光軸的平面中之兩個X-Y移動步驟。這些步驟可以 動來控制或者可以馬達來驅動。在此情況中，該輪廓儀 身之軟體允許藉由控制桿將所要測量之樣品的區域定位 所使用之透鏡的視野内以及亦允許藉由排列不齊和結合 確性技術（i i e 1 d s t i t c h i n g t e c h n i q u e )來測量延伸超過 透鏡之視野的輪廓或地形。該測量裝置亦能夠以傾斜台 (tip-tilt stage)來完成，該傾斜台係該PSI及VSI干 技術之使用所需，以最小化在該視野中所呈現之干涉條 的數目。 【實施方式】 下面描述一用於表面之三度空間檢查及測量的雙技術 之光學輪廓儀。本發明之輪廓儀的特徵及優點將會比較 楚。以下將配合在本說明書中所附之圖式藉由一非限定 例來提供說明，該圖式係相當於依據本發明之一光學輪 312XP/發明說明書(補件)/94-08/941 ] 2850 換 影 )， 資 廓 手 本 在 準 該 涉 紋 清 JffT 摩巳 廓 14

1355508 儀的概視圖。 藉由一範例在本說明書中所附之圖式中所； 之光學輪廓儀大體上是以元件符號（1)來表示 該所描述的雙技術之光學輪廓儀（1)基本上 (2 )，該光源（2 )係由一具有4 8 0 n m之波長及-案（Lambert emission pattern)之高功率發；^ 成。此發光二極體（2 )所發射之光譜具有一2-是4 ~ 6 # m )範圍之相干長度，以允許相移干涉 Φ ( P S I )以及白光垂直掃描輪廓技術（V S I )之應月 - 該光學輪廓儀（1 )+亦包括分光鏡（3 , 4 )，其4 ' 一與一微顯示器（5 )相結合之極化分光鏡（3 )。 ' 在一旋轉支撐物（9 )上安裝有三個顯微鏡透 以允許使該三個顯微鏡透鏡（6 , 7, 8 )可容易地 所要使用之該輪廓儀（1 )的功能模式來交換。矣 鏡（6 , 7, 8 )係可用以獲得共焦影像之傳統透鏡 得干涉影像之干涉透鏡。 該微顯示器（5 )構成該照明圖案產生手段之 述之具體例中，該微顯示器（5 )係一鐵電液晶 (ferroelectric liquid crystal on silico micro-display) >其適用以產生一系列之照甲 列之照明圖案係用以允許共焦影像之獲得或4 明像素之全部打開以獲得干涉影像，以便該輪 所需在一共焦模式或一干涉模式中操作。 亦包括用以與該顯微鏡透鏡（6，7 , 8 )結合之 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-08/94112850 斤的雙技術 〇 包括一光源 -朗伯放射圖 L二極體所構 -1 0 // m (最好 輪扉技術 1 ° 7 —分光鏡係 鏡（6, 7, 8)， 依據使用者 Ϊ等顯微鏡透 及可用以獲 部分。在所 矽微顯示器 n (F-LC0S) 3圖案。此系 卜允許所有照 廓儀（1 )可依 輔助光學系 15

1355508 統（14, 15)，以便將在該LC0S微顯示器（5)之平面中的 投射至該樣品（1 1 )之表面上，轉而將該樣品（Π )之表 射至該CCD裝置（1 2)。 在該共焦模式中，該主動顯微鏡选鏡（8 )係一傳統 鏡透鏡，以及亦啟動一與該功能模式相關連之獲取程 該光源（L E D ) 2發射一調變光束，其中在該調變光束到 極化分光鏡（PBS)(3)前，藉由一準直器（10)使其成為 行。該P B S ( 3 )所反射之光束的部分落在該L C 0 S微顯 φ ( 5 )上以及以一依據對每一個表示照明圖案之每一像： - 分配的狀態而定的極化藉由該LC0S微顯示器（5 )來反 ' 如圖1所示，該L C 0 S微顯示.器（5 )所反射之光束再次 該P B S ( 3 )及該光學系統（1 5 )以及藉由該分光鏡（4 )反 該顯微鏡透鏡（8 )。該光束落在該所要測量之樣品（1 1 : 面上，其中將該LC0S微顯示器（5)所產生之光圖案投 該樣品（1 1 )之表面。在該樣品之表面上所反射或漫射 再次通過該顯微鏡透鏡（8 )、該分光鏡（4 )及該輔助光 統（向場透鏡）（1 4 )，以落在該輪廓儀之CCD裝置（1 2 : 藉由該LC0S微顯示器（5 )以一系列之照明圖案來照 樣品之表面以及使用適當演算法以獲得對落在視野内 有點的軸向回應之值，換句話說，是焦距平面之共焦# 因為只在靠近該焦距之區域感知到光，同時在離該焦 段距離的區域呈現黑暗，所以這些共焦影像提供非常 比。 藉由一垂直掃描系統（1 3 )經由該樣品（Π )之垂直 3 ] 2XP/發明說明書(補件)/94-08/941丨2850 影像 面投 顯微 式。 達該 平 示器 Ik所 射。 通過 射至 I的表 射至 的光 學系 >上。 明該 之所 多像。 距一 高對 .描 16 1355508 以完成該表面之地形的測量，因而·在該樣品〇 1)之位於不 同高度的不同平面上獲得一系列的共焦影像。依據這些影 像及使用適當軟體，獲得該樣品（11 )之表面的三度空間重 建。針對該所分析之表面（1 1 )的每一點，軟體決定在可獲 得最大軸向回應之位置上的地形座標之數值。 該垂直掃描系統（1 3 )可包括一馬達驅動手段或一壓電 驅動手段（P Z T )。該兩個系統（馬達或壓電驅動手段）可以藉 由開路或最好是閉路系統來控制。

在上述模式中，可使用具有大數值孔徑（NA)之透鏡，以 允許對具有非常高斜率（高達7 0 °)之研磨表面的測量，以 及亦可使用具有超大工作距離（S L W D )之透鏡，以允許對具 有高縱橫比之表面的測量。在所有情況中，亦可測量包含 有不同材料之結構樣品。 在該干涉模式中，該主動顯微鏡透鏡（8 )係一干涉顯微 鏡透鏡，以及亦啟動與該透鏡相關連之獲取程式。在此情 況中，該微顯示器（5 )使所有像素打開以立即照明所要分析 之整個表面。在此，沒有投射照明圖案，反倒是照明該整 個表面（1 1 )以針對每一分析平面獲得干涉影像。使該發射 光束通過該分光鏡（4 )，該分光鏡（4 )傳送該光束至該樣品 (11)之表面，以及將該表面之反射落在該CCD裝置（12) 上。該樣品之垂直掃描所導致的一系列干涉影像藉由適當 演算法提供該所要分析之樣品的表面地形。 本發明之輪廓儀具有一電腦系統，該電腦系統用以管理 上述操作模式之程式，以將結果以文字、影像或圖形形式 17 312XP/發明說明書(補件)/94-08/94112850

Claims (1)

1. SEP - 7 2011 替換本 1355508 ·0 十、申請專利範圍： 1. 一種雙（共焦和干涉）技術之光學輪廓儀（I)1包括一 光源（2 )、分光鏡（3, 4)以及一系列之顯微鏡透鏡（6 , 7, 8 )， 特徵在於. 該等顯微鏡透鏡（6, 7, 8)係可交換的；

   該等顯微鏡透鏡（6, 7, 8)包括可用以獲得一樣品（11)之 表面之共焦影像的傳統透鏡、及可用以獲得該樣品（1 1 )之 表面之干涉影像的干涉透鏡；以及 '該雙（共焦和干涉）技術之光學輪廓儀（1 )進一步包括照 明圖案產生手段（5)，其包含一液晶石夕（LCOS; liquid crystal on silicon)微顯示器（5);此 LCOS 微顯示器（5) 係在使用傳統透鏡以獲得共焦影像時，產生一系列之照明 圖案，而此等照明圖案係藉由應用適當的演算法以提供共 焦影像；而在使用干涉透鏡以獲得干涉影像時，使所有照 明像素打開，以便獲得干涉影像。 2 .如申請專利範圍第1項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，該光源係一發光二極體（2 )。 3 .如申請專利範圍第1項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，該分光鏡（3 )係一與該L C 0 S微顯示器（5 ) 相結合之極化分光鏡。 4 .如申請專利範圍第2項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，該發光二極體（2 )發射一具有2〜1 0 // m 範圍之相干長度的光譜，以便可應用相移干涉輪廓儀（PS I ) 技術及白光垂直掃描輪廓儀（V S I )技術。 20 94112850 1355508 5. 如申請專利範圍第1項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，包括該樣品（1 1 )之一垂直掃描系統 (1 3 )，以便可在該樣品（1 1 )之位於不同高度的不同平面中 獲得一系列之共焦或干涉影像，其中可藉由使用適當演算 法從該等共焦或干涉影像獲得該樣品（1 1 )之表面地形。 6. 如申請專利範圍第5項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，該樣品（1 1 )之垂直掃描系統（1 3 )包括一 馬達驅動手段。

   7. 如申請專利範圍第5項之雙（共焦和干涉）技術之光學 輪廓儀（1 )，其中，該樣品（1 1)之垂直掃描系統（1 3 )包括一 壓電驅動手段（PZT)。 8. 如申請專利範圍第6或7項之雙（共焦和干涉）技術之 光學輪廓儀（1 )，其中，該垂直掃描系統（1 3 )係藉由一開路 或閉路系統來控制。 21 94112850