JPH01235807A - 深さ測定装置 - Google Patents
深さ測定装置Info
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- JPH01235807A JPH01235807A JP6024488A JP6024488A JPH01235807A JP H01235807 A JPH01235807 A JP H01235807A JP 6024488 A JP6024488 A JP 6024488A JP 6024488 A JP6024488 A JP 6024488A JP H01235807 A JPH01235807 A JP H01235807A
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
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- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体の評価に必要な半導体表面に形成され
た微細な穴や溝等のトレンチ深さを測定する深さ測定装
置に関する。
た微細な穴や溝等のトレンチ深さを測定する深さ測定装
置に関する。
(従来の技術)
第7図はかかる深さn+定装置の構成図であって、被検
査体としての半導体ウェハ(以下、ウェハと省略する)
1には白色ランプ2からの白色光が照射されている。そ
して、このウェハ1からの反射光が光ファイバー3によ
ってマイケルソン干渉計4に導かれている。なお、5.
6は光学レンズ、7はハーフミラ−である。光ファイバ
ー3によって導かれた反射光は光学レンズ8、ミラー9
を介してビームスプリッタ10に送られて2つの反射光
に分けられ、その一方の反射光が可動ミラー11に送ら
れるとともに他方が参照ミラー12に送られる。又、こ
の干渉計4にはHe −N eレーザ発振器13が備え
られ、このレーザ発振器13から出力されたレーザ光が
同ビームスプリッタ10に送られている。そして、この
レーザ光は上記反射光と同様にビームスプリッタ10て
2つのレーザ光に分けられてその一方のレーザ光が可動
ミラー11に送られるとともに他方のレーザ光が参照ミ
ラー12に送られる。しかして、参照ミラー12から反
射してくる参照光と可動ミラー11からの反射光のうち
ウェハlの表面からの反射光同志により干渉が生じると
ともに、トレンチ底面からの反射光とウェハ1の表面か
らの反射光とにより干渉が生じる。そして、これら干渉
によって生じる干渉縞の光強度は各ホトディテクタ14
.15で検出されて信号処理回路16を通してホストコ
ンピュータ17に送られる。そこで、トレンチ深さの測
定は、ウェハ1の表面同志及びトレンチ底面とウェハ1
の表面の両干渉縞のパターンのピーク位置のずれから求
められる。
査体としての半導体ウェハ(以下、ウェハと省略する)
1には白色ランプ2からの白色光が照射されている。そ
して、このウェハ1からの反射光が光ファイバー3によ
ってマイケルソン干渉計4に導かれている。なお、5.
6は光学レンズ、7はハーフミラ−である。光ファイバ
ー3によって導かれた反射光は光学レンズ8、ミラー9
を介してビームスプリッタ10に送られて2つの反射光
に分けられ、その一方の反射光が可動ミラー11に送ら
れるとともに他方が参照ミラー12に送られる。又、こ
の干渉計4にはHe −N eレーザ発振器13が備え
られ、このレーザ発振器13から出力されたレーザ光が
同ビームスプリッタ10に送られている。そして、この
レーザ光は上記反射光と同様にビームスプリッタ10て
2つのレーザ光に分けられてその一方のレーザ光が可動
ミラー11に送られるとともに他方のレーザ光が参照ミ
ラー12に送られる。しかして、参照ミラー12から反
射してくる参照光と可動ミラー11からの反射光のうち
ウェハlの表面からの反射光同志により干渉が生じると
ともに、トレンチ底面からの反射光とウェハ1の表面か
らの反射光とにより干渉が生じる。そして、これら干渉
によって生じる干渉縞の光強度は各ホトディテクタ14
.15で検出されて信号処理回路16を通してホストコ
ンピュータ17に送られる。そこで、トレンチ深さの測
定は、ウェハ1の表面同志及びトレンチ底面とウェハ1
の表面の両干渉縞のパターンのピーク位置のずれから求
められる。
ところが、上記装置ではトレンチ底面の面積が小さくな
るとトレンチ深さの測定が困難となる。
るとトレンチ深さの測定が困難となる。
具体的には第8図に示すようにトレンチ底面1aの面積
のウェハ表面1bの面積に対する割合いが例えば109
6以下となると測定困難となる。つまり、ウェハ表面1
bの面積が大きくなるに従ってウェハ表面1bからの反
射光強度がトレンチ底面1aからの反射光強度よりも高
くなる。このため、トレンチ底面1aからの反射光を受
光しても、この反射光を判別できなくなってしまう。さ
らに、干渉縞は上記2つの干渉縞だけでな(その他の干
渉縞も生じるので、誤ったトレンチ深さ測定を行いやす
い。又、干渉計4では、可動ミラー11や参照ミラー1
2等を使用して構成の複雑な光学系を設けるとともにホ
ストコンピュータ17を使用して演算処理を実行しなけ
ればならない。従って、装置全体のコストも亮くなる。
のウェハ表面1bの面積に対する割合いが例えば109
6以下となると測定困難となる。つまり、ウェハ表面1
bの面積が大きくなるに従ってウェハ表面1bからの反
射光強度がトレンチ底面1aからの反射光強度よりも高
くなる。このため、トレンチ底面1aからの反射光を受
光しても、この反射光を判別できなくなってしまう。さ
らに、干渉縞は上記2つの干渉縞だけでな(その他の干
渉縞も生じるので、誤ったトレンチ深さ測定を行いやす
い。又、干渉計4では、可動ミラー11や参照ミラー1
2等を使用して構成の複雑な光学系を設けるとともにホ
ストコンピュータ17を使用して演算処理を実行しなけ
ればならない。従って、装置全体のコストも亮くなる。
(発明が解決しようとする課題)
以上のようにトレンチ底面の面積が小さくなるほど高精
度にトレンチ深さを、’1111定することができない
。
度にトレンチ深さを、’1111定することができない
。
そこで本発明は、トレンチ底面積が小さくなっても高精
度にトレンチ深さを測定できる構成の簡単な深さ測定装
置を提供することを目的とする。
度にトレンチ深さを測定できる構成の簡単な深さ測定装
置を提供することを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、測定光をビームスプリッタで2つに分けてそ
の一方の測定光を複数のトレンチが形成された被測定体
に照射するとともに他方の測定光を参照ミラーに送り、
被測定体からの反射光と参照ミラーから反射してくる参
照光とを干渉させてこの干渉縞からトレンチの深さを測
定する深さ測定装置において、参照ミラーは被測定体の
表面からの反射光強度とトレンチ底面からの反射光強度
とに各々対応した反射率部を有して上記目的を達成しよ
うとする深さalll定装置である。
の一方の測定光を複数のトレンチが形成された被測定体
に照射するとともに他方の測定光を参照ミラーに送り、
被測定体からの反射光と参照ミラーから反射してくる参
照光とを干渉させてこの干渉縞からトレンチの深さを測
定する深さ測定装置において、参照ミラーは被測定体の
表面からの反射光強度とトレンチ底面からの反射光強度
とに各々対応した反射率部を有して上記目的を達成しよ
うとする深さalll定装置である。
(作用)
このような手段を備えたことにより、参照先は異なる反
射率に形成された参照ミラーで反射してウェハの表面及
びトレンチ底面からの各反射光との間で干渉を生じる。
射率に形成された参照ミラーで反射してウェハの表面及
びトレンチ底面からの各反射光との間で干渉を生じる。
これにより、トレンチ底面からの反射光との間で生じた
干渉縞の光強度は高くなる。
干渉縞の光強度は高くなる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は深さ測定装置の構成図である。同図において2
0はウェハ搭載テーブルであって、このテーブル20上
には複数のトレンチが形成されたウェハ21が載置され
ている。なお、トレンチは例えば10μmピッチ、1μ
mの穴径となっている。
0はウェハ搭載テーブルであって、このテーブル20上
には複数のトレンチが形成されたウェハ21が載置され
ている。なお、トレンチは例えば10μmピッチ、1μ
mの穴径となっている。
このウェハ搭載テーブル20はxy軸方向及びZ軸方向
に対してそれぞれ移動可能となっており、xy軸方向の
移動は図示しないねじ構成による送り機構となっている
。そして、ノ\ンドルを回転させることによって送り機
構が動作してウニlX搭載テーブル20がxy軸方向に
移動するようになっている。なお、この場合、ストロー
クは数100mmで、位置決めは数μm〜数10μmと
なっている。
に対してそれぞれ移動可能となっており、xy軸方向の
移動は図示しないねじ構成による送り機構となっている
。そして、ノ\ンドルを回転させることによって送り機
構が動作してウニlX搭載テーブル20がxy軸方向に
移動するようになっている。なお、この場合、ストロー
クは数100mmで、位置決めは数μm〜数10μmと
なっている。
一方、2軸方向の移動はピエゾ素子への電圧印加でウェ
ハ搭載テーブル20を2軸方向に移動させる2軸駆動部
22により行われるようになっている。なお、この場合
、ストロークは数10μmで、位置決め精度は0.O1
μm〜0.1μmとなっている。
ハ搭載テーブル20を2軸方向に移動させる2軸駆動部
22により行われるようになっている。なお、この場合
、ストロークは数10μmで、位置決め精度は0.O1
μm〜0.1μmとなっている。
又、このウェハ搭載テーブル20には変位表示器23が
設けられている。この変位表示器23はウェハ搭載テー
ブル20の2軸方向に対する変位を表示するもので、2
軸駆動部22のピエゾ素子への印加電圧値を換算して表
示するものとなっている。なお、この変位表示器23は
マイクロセンサ静電容量方式やうず電流方式等の変位計
1定器からの測定信号を受ける構成としてもよい。
設けられている。この変位表示器23はウェハ搭載テー
ブル20の2軸方向に対する変位を表示するもので、2
軸駆動部22のピエゾ素子への印加電圧値を換算して表
示するものとなっている。なお、この変位表示器23は
マイクロセンサ静電容量方式やうず電流方式等の変位計
1定器からの測定信号を受ける構成としてもよい。
一方、ウェハ搭載テーブル20の上方には干渉顕微鏡3
0が配置されている。この干渉顕微鏡30には照明用の
白色ランプ31が備えられるとともにこの白色ランプ3
1からX軸方向にビームスプリッタ32及び参照ミラー
33が配置されている。なお、白色ランプ31の前方に
はスリット及び光学レンズが配置されて白色ランプ31
から放射された白色光が平行光に変換され、又参照ミラ
ー33にはこのミラー33をxyz軸方向の各回転角を
調節するねじ等で構成された微動機構34が設けられて
いる。又、ビームスプリッタ32の上方には光学レンズ
35が配置されている。
0が配置されている。この干渉顕微鏡30には照明用の
白色ランプ31が備えられるとともにこの白色ランプ3
1からX軸方向にビームスプリッタ32及び参照ミラー
33が配置されている。なお、白色ランプ31の前方に
はスリット及び光学レンズが配置されて白色ランプ31
から放射された白色光が平行光に変換され、又参照ミラ
ー33にはこのミラー33をxyz軸方向の各回転角を
調節するねじ等で構成された微動機構34が設けられて
いる。又、ビームスプリッタ32の上方には光学レンズ
35が配置されている。
36はITV(工業用テレビジョン)カメラであって、
干渉顕微鏡30′?″′得られた干渉縞を撮像してその
画像信号を出力するものとなっている。
干渉顕微鏡30′?″′得られた干渉縞を撮像してその
画像信号を出力するものとなっている。
この画像信号はディジタル化して画像メモリ37に記憶
され、かつこの画像メモリ37から読み出されてモニタ
テレビジョン38で映し出されるようになっている。こ
のモニタテレビジョン38は2つの表示領域38a、3
8bを有し、一方の表示領域38aでは静止画像を映し
出し、他方の表示領域38bではリアルタイムに画像を
映し出すものとなっている。
され、かつこの画像メモリ37から読み出されてモニタ
テレビジョン38で映し出されるようになっている。こ
のモニタテレビジョン38は2つの表示領域38a、3
8bを有し、一方の表示領域38aでは静止画像を映し
出し、他方の表示領域38bではリアルタイムに画像を
映し出すものとなっている。
さて、前記参照ミラー33には、第2図に示すように反
射率の異なる入反射率部分33a。
射率の異なる入反射率部分33a。
33bが形成されている。なお、第1図及び第3図にお
いて参照ミラー33はその入反射率部分33aを手前側
とし入反射率部分33bを奥側に配置しである。次にこ
れら反射率の設定について第3図を参照して説明する。
いて参照ミラー33はその入反射率部分33aを手前側
とし入反射率部分33bを奥側に配置しである。次にこ
れら反射率の設定について第3図を参照して説明する。
なお、第1図と同一部分には同一符号を付してあり、同
図において39はスリット、40は光学レンズである。
図において39はスリット、40は光学レンズである。
ビームスプリッタ32に光強度A2の白色光が入射する
と、この白色光は2方向に分けられてその一方の白色光
がウェハ21に照射され、他方の白色光が参照ミラー3
3に送られる。そして、ウェハ21からの反射光がビー
ムスプリッタ32に戻ってくるが、このうちウェハ21
の表面からの反射光をUSとしトレンチ21tの底面か
らの反射光をutとすると、これら反射光us、utO
光強度(位相性を含む)は u s =Ar3−exp(lδ)
−(1)ut −Artaexpciδをン −Arlαexp!i(δ+4yrd>+
−(2)λ となる。ここで、λは光の波長、rs、rtは参照ミラ
ー33の反射率、αはトレンチ21tにおける光の減衰
率である。
と、この白色光は2方向に分けられてその一方の白色光
がウェハ21に照射され、他方の白色光が参照ミラー3
3に送られる。そして、ウェハ21からの反射光がビー
ムスプリッタ32に戻ってくるが、このうちウェハ21
の表面からの反射光をUSとしトレンチ21tの底面か
らの反射光をutとすると、これら反射光us、utO
光強度(位相性を含む)は u s =Ar3−exp(lδ)
−(1)ut −Artaexpciδをン −Arlαexp!i(δ+4yrd>+
−(2)λ となる。ここで、λは光の波長、rs、rtは参照ミラ
ー33の反射率、αはトレンチ21tにおける光の減衰
率である。
一方、参照ミラー33からの反射光強度ujは、u j
−Arj−exp(Iδ’)
−(3)となる。なお、jは参照ミラー33の位
置によって異なる値となり、同図ではrl、2Jをとっ
ている。又、δ′は参照ミラー33が傾いているのでそ
の位置によって決まる関数である。
−Arj−exp(Iδ’)
−(3)となる。なお、jは参照ミラー33の位
置によって異なる値となり、同図ではrl、2Jをとっ
ている。又、δ′は参照ミラー33が傾いているのでそ
の位置によって決まる関数である。
そして、ウェハ21の表面からの反射光及びトレンチ底
面からの反射光と参照光とは共にビームスプリッタ32
に送られ、これにより干渉が生じる。このときの干渉光
の光強度Iは、 1−1ut +us +uj l2=(4)となり、さ
らに上記第(1)式〜第(3)式を用いて表わすと、 ・・・(5) となる。ここで、第3図に示すj−1の場合、すなわち
トレンチ底面21tからの反射光で干渉が生じる位置に
参照ミラー33が配置されたときは、の関係が成り立つ
。ここで、gは参照ミラー33の傾き係数であり、Xは
参照ミラー33の横方向の位置である。そして、この第
(6)式を第(5)式に代入すると、 4πd +2rSr+cos(+2gx) +2rtαr+co
s(2gx) ・・−(7)λ が求められる。さらに、この式を整理すると、となる。
面からの反射光と参照光とは共にビームスプリッタ32
に送られ、これにより干渉が生じる。このときの干渉光
の光強度Iは、 1−1ut +us +uj l2=(4)となり、さ
らに上記第(1)式〜第(3)式を用いて表わすと、 ・・・(5) となる。ここで、第3図に示すj−1の場合、すなわち
トレンチ底面21tからの反射光で干渉が生じる位置に
参照ミラー33が配置されたときは、の関係が成り立つ
。ここで、gは参照ミラー33の傾き係数であり、Xは
参照ミラー33の横方向の位置である。そして、この第
(6)式を第(5)式に代入すると、 4πd +2rSr+cos(+2gx) +2rtαr+co
s(2gx) ・・−(7)λ が求められる。さらに、この式を整理すると、となる。
但し、
4πd
a−r)’+r”+α2+2rsrtαcos 7β−
2Jrs2+rt2α2 には位相付 である。
2Jrs2+rt2α2 には位相付 である。
又、第3図においてFは干渉縞であり、この干渉縞Fの
Da−Da’及びDb −Db ’断面における光強度
は第4図に示す如くとなっている。ところで、実際には
白色光にはコヒーレント長があるので、上記第(8)式
はx−0の近傍でしか成立しない。そして、「x→大」
となるに従ってcos (2gx + K )の縞振幅
は「0」となってしまう。しかし、rx−OJ近傍では
上記第(8)式が成立するので、この干渉縞のコントラ
ストCj、1は、Cj、l−β・r+/(α十r、2)
−(9)と定義
される。しかして、このコントラストCj=lを最大と
するrlの値は第(9)式を微分して求められる。すな
わち、 であり、この第(10)式を解いて、 r、2■α となる。よって、rlの最大値はトレンチ深さdにより
決まることになる。しかしながら、実際の深さall定
ではこのdは設計値doからの波長λ以下の変動を測定
することがほとんどであり、この値をΔd(λ)とすれ
ば、 d−do+ΔdhdQ −
(12)として上記第(11)式によりこの第(12)
式を解いて反射率rlを求める。しかして、トレンチ底
面21tからの反射光に対応する反射率r1は、となる
。又、ウェハ21の表面からの反射光に対応する反射率
「2は上記第(7)式でj−2、d−0、α−1(減衰
なし)として、 ここで、コントラストCjは となり、 を解いて rl2−(rS+rt)’ r2 ””r5+rt
・・・(17)となる。
Da−Da’及びDb −Db ’断面における光強度
は第4図に示す如くとなっている。ところで、実際には
白色光にはコヒーレント長があるので、上記第(8)式
はx−0の近傍でしか成立しない。そして、「x→大」
となるに従ってcos (2gx + K )の縞振幅
は「0」となってしまう。しかし、rx−OJ近傍では
上記第(8)式が成立するので、この干渉縞のコントラ
ストCj、1は、Cj、l−β・r+/(α十r、2)
−(9)と定義
される。しかして、このコントラストCj=lを最大と
するrlの値は第(9)式を微分して求められる。すな
わち、 であり、この第(10)式を解いて、 r、2■α となる。よって、rlの最大値はトレンチ深さdにより
決まることになる。しかしながら、実際の深さall定
ではこのdは設計値doからの波長λ以下の変動を測定
することがほとんどであり、この値をΔd(λ)とすれ
ば、 d−do+ΔdhdQ −
(12)として上記第(11)式によりこの第(12)
式を解いて反射率rlを求める。しかして、トレンチ底
面21tからの反射光に対応する反射率r1は、となる
。又、ウェハ21の表面からの反射光に対応する反射率
「2は上記第(7)式でj−2、d−0、α−1(減衰
なし)として、 ここで、コントラストCjは となり、 を解いて rl2−(rS+rt)’ r2 ””r5+rt
・・・(17)となる。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
。白色ランプ31を点灯させると、この白色ランプ31
から平行な白色光が放射される。
。白色ランプ31を点灯させると、この白色ランプ31
から平行な白色光が放射される。
この白色光はビームスプリッタ32で2つの白色光に分
けられて、その一方の白色光がウニ/X21に照射され
、他方の白色光が参照ミラー33に送られる。これによ
り、ウェハ21からはトレンチ底面から反射光とウェハ
21の表面からの反射光がビームスプリッタ32に送ら
れ、同時に参照ミラー33の異反射部分33a、33b
から反射してくる各参照光が同ビームスプリッタ32に
送られる。ここで、参照ミラー33のxyz軸方向の傾
きとこのミラー33の法線方向の変位とを微動機構34
によって調整すると、第3図に示すような干渉縞Fが現
われる。つまり、干渉縞FのうちSaはウェハ21表面
からの反射光と異反射部分33bからの反射光による干
渉縞であり、sbはトレンチ底面からの反射光と異反射
部分33aからの反射光による干渉縞である。ITVカ
メラ36はこれら干渉縞Sa、Sbを撮像してその画像
信号を出力する。この画像信号はA/D (アナログ/
ディジタル)変換されて画像メモリ37に画像、データ
として記憶される。しかして、モニタテレビジョン38
には第5図に示すように画像メモリ37に記憶された画
像データによる干渉縞Sa、Sbが映し出される。この
とき、表示領域38aは記tαした画像データの干渉縞
を静止画像として映し出す。この状態のZ軸位置を原点
として2軸駆動部22によってウェハ搭載テーブル20
をZ軸方向に変位させる。そうすると、干渉縞Sa、S
bの生じる位置が移動し、これがモニタテレビジョン3
8の表示画面上では第6図に示すように表示領域38b
において干渉縞Sa。
けられて、その一方の白色光がウニ/X21に照射され
、他方の白色光が参照ミラー33に送られる。これによ
り、ウェハ21からはトレンチ底面から反射光とウェハ
21の表面からの反射光がビームスプリッタ32に送ら
れ、同時に参照ミラー33の異反射部分33a、33b
から反射してくる各参照光が同ビームスプリッタ32に
送られる。ここで、参照ミラー33のxyz軸方向の傾
きとこのミラー33の法線方向の変位とを微動機構34
によって調整すると、第3図に示すような干渉縞Fが現
われる。つまり、干渉縞FのうちSaはウェハ21表面
からの反射光と異反射部分33bからの反射光による干
渉縞であり、sbはトレンチ底面からの反射光と異反射
部分33aからの反射光による干渉縞である。ITVカ
メラ36はこれら干渉縞Sa、Sbを撮像してその画像
信号を出力する。この画像信号はA/D (アナログ/
ディジタル)変換されて画像メモリ37に画像、データ
として記憶される。しかして、モニタテレビジョン38
には第5図に示すように画像メモリ37に記憶された画
像データによる干渉縞Sa、Sbが映し出される。この
とき、表示領域38aは記tαした画像データの干渉縞
を静止画像として映し出す。この状態のZ軸位置を原点
として2軸駆動部22によってウェハ搭載テーブル20
をZ軸方向に変位させる。そうすると、干渉縞Sa、S
bの生じる位置が移動し、これがモニタテレビジョン3
8の表示画面上では第6図に示すように表示領域38b
において干渉縞Sa。
sbの移動として映し出される。このように干渉縞Sa
、Sbを移動させて、表示領域38aにおけるウェハ2
1からの反射光による干渉縞Saの位置にトレンチ底面
21 ’tからの反射光による干渉縞sbの位置が第6
図に示すように一致したとき、ウェハ搭載テーブル20
の2軸方向の移動を停止する。かくして、このときの変
位表示器23に表示されているウェハ搭載テーブル20
の変位がトレンチ深さdとなる。
、Sbを移動させて、表示領域38aにおけるウェハ2
1からの反射光による干渉縞Saの位置にトレンチ底面
21 ’tからの反射光による干渉縞sbの位置が第6
図に示すように一致したとき、ウェハ搭載テーブル20
の2軸方向の移動を停止する。かくして、このときの変
位表示器23に表示されているウェハ搭載テーブル20
の変位がトレンチ深さdとなる。
このように上記一実施例においては、参照光を異なる反
射率rH,r2に形成された参照ミラー33で反射させ
てウェハ21の表面及びトレンチ底面からの各反射光と
の間で干渉を生じさせるので、トレンチ底面からの反射
率と干渉を生じる参照先の反射率の差が小さくなって干
渉縞のコントラストを高くできる。これによって、トレ
ンチ底面積のウェハ表面積に対する比の小さなもの、す
なわちトレンチ底面からの反射光の光強度が相対的に低
いものでも、トレンチ底面からの反射光により生じる干
渉縞をコントラスト高く得ることができ、従って精度高
くトレンチ深さを測定できる。
射率rH,r2に形成された参照ミラー33で反射させ
てウェハ21の表面及びトレンチ底面からの各反射光と
の間で干渉を生じさせるので、トレンチ底面からの反射
率と干渉を生じる参照先の反射率の差が小さくなって干
渉縞のコントラストを高くできる。これによって、トレ
ンチ底面積のウェハ表面積に対する比の小さなもの、す
なわちトレンチ底面からの反射光の光強度が相対的に低
いものでも、トレンチ底面からの反射光により生じる干
渉縞をコントラスト高く得ることができ、従って精度高
くトレンチ深さを測定できる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、 ■ 干渉縞の観察はITVカメラによって行っているが
、これを目視によって行ってもよい。
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、 ■ 干渉縞の観察はITVカメラによって行っているが
、これを目視によって行ってもよい。
■ 干渉縞の移動からトレンチ深さを求めるときに静止
画像を用いているが、これに限らず例えば画像にカーソ
ル線等を設け、これを目印として移動量を検出するよう
にしてもよい。
画像を用いているが、これに限らず例えば画像にカーソ
ル線等を設け、これを目印として移動量を検出するよう
にしてもよい。
■ 又、トレンチ深さを求めるときにウェハ搭載テーブ
ル20を移動させるのでなく、顕微鏡や参照ミラーを移
動させても同様の効果を得ることができる。
ル20を移動させるのでなく、顕微鏡や参照ミラーを移
動させても同様の効果を得ることができる。
■ 参照ミラーは測定時に静止させているが、例えば回
転させて互いに異なる反射率の部分が交互に参照光を反
射させるようにしてもよい。さらに、参照ミラーは第3
図で奥行き方向に異反射面を配置しているが、面内長手
方向に配置しても類似の効果を得ることもできる。
転させて互いに異なる反射率の部分が交互に参照光を反
射させるようにしてもよい。さらに、参照ミラーは第3
図で奥行き方向に異反射面を配置しているが、面内長手
方向に配置しても類似の効果を得ることもできる。
■ 又、光学レンズ35の下方にビームスプリッタ32
を配置しているが、逆に光学レンズをビームスプリッタ
32の下方に配置してもよい。
を配置しているが、逆に光学レンズをビームスプリッタ
32の下方に配置してもよい。
[発明の効果]
以上詳記したように本発明によれば、トレンチ底面積が
小さくなってd高精度にトレンチ深さを測定できる構成
の簡単な深さ測定装置を提供できる。
小さくなってd高精度にトレンチ深さを測定できる構成
の簡単な深さ測定装置を提供できる。
′に41図乃至第6図は本発明に係わる深さ測定装置の
一実施例を説明するための図であって、第1図は構成図
、第2図は参照ミラーの外観図、第3図及び第4図は参
照ミラーの反射率の求め方の説明図、第5図及び第6図
はトレンチ深さを求める場合の説明図、第7図及び第8
図は従来技術を説明するための図である。 20・・・ウェハ搭載テーブル、21・・・ウェハ、2
2・・・2軸駆動部、23・・・変位表示器、30・・
・干渉顕微鏡、31・・・白色ランプ、32・・・ビー
ムスプリッタ、33・・・参照ミラー、34・・・微動
機構、35・・・光学レンズ、36・・・ITVカメラ
、37・・・画1象メモリ、38・・・モニタテレビジ
ョン。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 Sa 第3図 第4図 Sa 第5図 第6図
一実施例を説明するための図であって、第1図は構成図
、第2図は参照ミラーの外観図、第3図及び第4図は参
照ミラーの反射率の求め方の説明図、第5図及び第6図
はトレンチ深さを求める場合の説明図、第7図及び第8
図は従来技術を説明するための図である。 20・・・ウェハ搭載テーブル、21・・・ウェハ、2
2・・・2軸駆動部、23・・・変位表示器、30・・
・干渉顕微鏡、31・・・白色ランプ、32・・・ビー
ムスプリッタ、33・・・参照ミラー、34・・・微動
機構、35・・・光学レンズ、36・・・ITVカメラ
、37・・・画1象メモリ、38・・・モニタテレビジ
ョン。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 Sa 第3図 第4図 Sa 第5図 第6図
Claims (1)
- 測定光をビームスプリッタで2つに分けてその一方の測
定光を複数のトレンチが形成された被測定体に照射する
とともに他方の測定光を参照ミラーに送り、前記被測定
体からの反射光と前記参照ミラーから反射してくる参照
光とを干渉させてこの干渉縞から前記トレンチの深さを
測定する深さ測定装置において、前記参照ミラーは前記
被測定体の表面からの反射光強度と前記トレンチ底面か
らの反射光強度とに各々対応した反射率部を有すること
を特徴とする深さ測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6024488A JPH01235807A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 深さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6024488A JPH01235807A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 深さ測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01235807A true JPH01235807A (ja) | 1989-09-20 |
Family
ID=13136569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6024488A Pending JPH01235807A (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 深さ測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01235807A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001024235A3 (en) * | 1999-09-30 | 2002-04-25 | Lam Res Corp | Methods and apparatuses for trench depth detection and control |
JP2008191036A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Topcon Corp | 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法 |
JP2010014426A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Topcon Corp | 測定装置 |
JP2011518312A (ja) * | 2007-12-14 | 2011-06-23 | インテクプラス カンパニー、リミテッド | 立体形状測定装置 |
JP2016519427A (ja) * | 2013-03-29 | 2016-06-30 | エスエヌユー プレシジョン カンパニー,リミテッド | Tsv測定装置及び測定方法 |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP6024488A patent/JPH01235807A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001024235A3 (en) * | 1999-09-30 | 2002-04-25 | Lam Res Corp | Methods and apparatuses for trench depth detection and control |
US6582619B1 (en) | 1999-09-30 | 2003-06-24 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for trench depth detection and control |
JP2008191036A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Topcon Corp | 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法 |
JP2011518312A (ja) * | 2007-12-14 | 2011-06-23 | インテクプラス カンパニー、リミテッド | 立体形状測定装置 |
JP2010014426A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Topcon Corp | 測定装置 |
JP2016519427A (ja) * | 2013-03-29 | 2016-06-30 | エスエヌユー プレシジョン カンパニー,リミテッド | Tsv測定装置及び測定方法 |
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