TWI354828B - - Google Patents

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1354828 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種光電裝置之顯示面板及其製程方法，且特別是關 於一種降低顯示面板製程時間之方法。 【先前技術】 隨著製造能力的進步及消費者需求量的增加，平面顯示器（如：電漿顯 示面板(Plasma Display Panel; PDP)、有機發光二極體(0rganic Light Emitting Diode ; OLED)面板、液晶顯示面板(liquid crystal panel ; LCP)以及場發式顯 示器(Field Emission Display ; FED)等已經進入大量生產的階段。尤其液晶 顯示面板具有薄、輕、低耗電量、無輻射污染以及能夠與半導體製程技術 相容等優點’因此舉凡桌上型電腦、筆記型電腦、手機、個人數位助理以 及數位相機等’皆採用液晶顯示面板作為主要之顯示裝置，而且已被消費 者大量的使用於生活中。然而，不管是液晶顯示面板、或其它面板，其重 量的縮減仍是一重要的目標。 以液晶顯示面板之透明基板之材質為玻璃說明，該成對透明基板之重 量為液晶顯示面板總重量之主要部份’因此可藉由薄化該成對透明基板之 厚度以達減少液晶顯示面板重量之目的。 習知的薄化該透明基板之技術包含研磨與拋光。通常是以化學機械研磨 (Chemical Mechanical Polishing ; CMP)技術來施行，其先將研磨液（如： Si〇2、AL2〇3以及CeCb等）填充於研磨墊之空隙中，再利用機械力量將研磨 墊對玻璃表面施予一作用力，並利用高轉速之作用力使得玻璃和位於研磨 5 1354828 塾空隙中之研舰之化學難相互侧，其肋提做璃表面之機械切削 力與化學作用以增加其研磨與挺光效率。因此為了能大幅縮減透明基板之 厚度，此階段是雜粗大的研磨顆粒粗雜透明基板之表心由於此階段 中採用較為粗大的研磨顆粒，以至於研磨後之透明基板之表面為一極度粗 輪之表面，因此，稱為粗磨階段。 再者，上述階段所；^磨之透明基板之表面為一極度粗縫之表面，因此， _ 獨祕後咖飾板之製財，腦止增加後續餘之誤差變大。所以， 尚需對於粗磨後之透明基板之表面進行第二階段之細磨，即為習知的抛光 階&。此階段巾較均自且較小之研磨驗，以使該翻基板之厚度進 .· 步縮減至敎值’並使其祕表面平坦化。於習知技射，胁製作顯 •示面板的一對透明基板兩者之内外表面均拋光至光亮，亦即形成所謂的「亮 面」之後，才此繼續形成其他元件的製程。 、然而’將該對透縣板加以研磨至敗厚度並將雙面之表面均拋光以 鲁軸冗面的程度’需要耗費相當長久的時間，從而降低產品之產率。因此， 而要種能大研低製造時間以提高產率之顯示面板之製程方法。 【發明内容】 本發明之主要目的為提供—種顯示面板，其包含—對透明基板。該透 明基板是以簡化薄化處理製程所形成。 本發月之3目的為提供上述顯示面板之製造方法，其可大幅降低薄 化處理時間以提高產率。 本發明之再-目的為提供—種光電裝置’其包含上述之顯示面板。該 1354828 顯示面板是以簡化薄化處理製程所形成。 本發明之又一目的為提供上述光電裝置之製造方法，其可大幅降低薄 化處理時間以提高產率。 根據本發明之一方面，該顯示面板包含一對透明基板，該對透明基板 之至少一者之外表面具有一介於〇〇2微米至〇66微米之間之輪廓算術平均 偏差粗縫度。 根據本發明之另-方面，纖示面板包含_舰縣板，珊透明基板 之至少一者之外表面具有實質上小於9〇%之霧度。 根據本發明之再-方面，該顯示面板製造方法包含提供—對透明基板； 薄化該透明基板之厚度，贿得該職喊板之至少—者之外表面具有介 於0.02微米至G.66微米之間之輪縛術平均偏差粗糙度。 根據本發明之又-方面，該顯示面板製造方法包含提供一對透明基 板；薄化該透縣板之厚度，以使得該對透鳴板之至少__者之外表面具 有實質上小於90%之霧度。 根據本發明之-方面，該光電裝置包含—顯示面板，該顯示面板所具 有之-對透明基板之至少—者之外表面具有—介於_微米至Q 66微米之 間之輪摩真術平均偏差粗輕度。 根據本發明之另-方面’該光魏置包含—顯示面板，該顯示面板所具 有之對透明基板之至少一者之外表面具有實質上小於9〇%之霧度。 根據本發明之再-方面’該光電裝置製造方法包含製造一顯示面板，其 中L s提供紐明基板，薄化該翻基板之厚度錢得珊透明基板 1354828 之至少-者之外表面具有介於〇.〇2微米至〇·66微米之間之輪廟算術平均偏 差粗趟度。 根據本發明之又-方面，該光電裝置製造方法包含製造—顯示面板， 其中包含提供-對透明基板；薄化該透明基板之厚度，以使得該對透明基 板之至少一者之外表面具有實質上小於90%之霧度。 為讓本發明之上述目的、特徵、和優點能更碰，下文特舉幾個 較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。 【實施方式】 本發明是藉由將薄化技術用於製造一顯示面板1〇(請參閱第六圖)之一對 透明基板以達到薄化該顯示面板1G之總厚度。其中在薄化該對透明基板 時’是使得該對透明基板之至少-者之外表面具有實質上介於_微米至 〇·66微米之間之輪廓算術平均粗縫度收)、或者，使該對透明基板之至少一 者之外表面可不被處理成亮面，且其具有實f上小於之霧度(Η_、或 上述之組合。 請參閱圖-⑷至圖-(C)為本發明第一實施例之顯示面板的製造流程 圖。如圖-⑷所示’提供一成對之第一透明基板ι〇ι與第二透明基板1〇2， 其至少-者之材質包含無機材質(如：玻璃、石英、或其它）、有機材質(如： 聚碳酸醋類、聚酿類、聚醯類、或其它材質、或上述之組合），或上述之組 合。於薄化處理時，該第一透明基板1〇1與第二透明基板1〇2為一整片未 經切割之透縣板之形式練域成為合適尺寸之透鳴板之形式。於本 實施例中，娜—透明絲⑼分财有—初料表面腕錢與該初始 1354828 卜表面101a成相反面之一初始内表面1〇lb，該第二透明基板脱分別具有 -初始外表面l〇2a以及與該初始外表面隐成相反面之一初始内表面 _。如圖所示’該等初糾表Φ魏、廳與該等初始内表面腿、腿 是分別為一極度粗糖之表面。 請參考圖-(B)所示，於本實施例+，是將該第一透明基板1〇1之初始 内表面ioib以及該第二透明基板102之初始外表面1〇2a、初始内表面i〇2b 分別利用研磨後再進行拋光之加工，進而使得該第一透明基板1〇1之初始 内表面101b與第一透明基板1〇2之初始外表面i〇2a與初始内表面i〇2b分 別形成一平坦光滑之光亮内表面1〇lb’、1〇2b，以及光亮外表面1〇2a^於本 實施例中，該第一透明基板101之初始外表面1〇13與其它三面不同，其僅 藉由研磨以形成一粗糙外表面101a’，並無經過拋光之步驟，或者，亦可藉 由研磨然後加以不完全拋光以形成該粗糙外表面101a，。該第一透明基板 101之粗糙外表面101a’被處理至具有介於002微米至〇66微米之間之輪磨 算術平均偏差粗糙度(Ra)及介於0.18微米至6·〇微米之間之輪廓最大高度粗 糙度(Ry)之至少一者時，所製造出來的顯示面板1〇在視覺上並不會產生無 法觀看影像之現象（如：影像失真、色彩失真、或其它現象）時，即謂之 符合顯示面板後續製程之基板。或者，以霧度計(haze meter)，且使用光源 (如：D65光源、可見光、近可見光光源、或其它光源)照射該第一透明基板 101，並配合一標準公式(如：JIS K7136公式、ISO 14782公式、或其它公 式)來測量，於該標準公式下，所測量出該第一透明基板101之光學特性符 合實質上小於90%之霧度(Haze)、實質上大於85〇/〇之全光透射率(T〇tal Ught 1354828 transmittance)、實質上小於 77〇/〇之散射光透射率(Deftlsed lighttransmittance) 以及實質上大於8·5%之平行光透射率light transmittance)之至少一 者。 其中，首先該第一透明基板101之粗糙外表面101a，應具有實質上小於 90%之霧度’⑽免視覺上可見之躲異f。健地，還可符合上述其餘的 光學特性之至少-者。更佳地’應糾符合上述其餘的光學特性之至少二 者、或者，符合上述其餘的光學特性之至少三者^換言之，對於該第一透 明基板101之粗链外表面l〇la’而言，該等光學特性之重要性依序為：霧度 >平行光透射率〉散射光透射率>全光透射率。最理想狀態是該第—透明基板 101之粗縫外表面l〇la’符合上述之四種光學特性。 於本實施例中，在兩片透明基板薄化完成並使之達成上述特定條件 後’接著將-彩色遽光層104設置於該第一透明基板1〇1之光亮内表面 腿，上’該彩色遽光層104包含至少三色阻、或其它元件(如：黑色矩陣、 配向元件、配向元件、支撐件、共用電極、或其它）、紅述之組合，以及 將元件層103形成於該第二透明基板1〇2之光亮内表面廳，上，該元件 層1〇3包含薄旗電晶體、訊號線、電容、晝素電極、共用電極線、或其它 元件(如：配向元件、规件、或其它）、或上狀組合H _電晶體 包含源極、汲極、閘極、主動層 '介電層、保護層 '平坦層、或其它層別、 或上述之組合。再者，薄膜電晶體之類型包含頂閘型、底閘型、或其它類 型、或上述之組合。該主動層之材質包含非晶石夕、多晶石夕、單晶石夕、微晶 石夕、或上述之齡’且絲層職用含奴㈣，較佳地，亦更包含推雜 10 1354828 子(如N型P型、或上述之組合）。介電層、保護層及平坦層之至少—者 之材質包含無撕質(如：t切、氧切、氮氧切、碳财、或其它材 質、或上述之組合)、有機材f (如：有齡化合物、雜類、麵類、光阻、 或其它;或上述之组合)、或上述之組合。然後，將一具有介電係數之層】06, 形成於7L件層103及彩色絲相4之間。該具有介電係數之層⑽之材 質包含-液晶财、-發光材f (如：無機材f、有機材質、或上述之組旬、 或上述之組合。再者，槪料層⑽與元件層1G3之表面之至少一者， 較佳地，設置有一配向膜(未圖示）。 請參考圖一(C)所示，其中該光學膜片⑽設置於該第-透明基板101 及第-透月基板102之至少一者之外表面上。在本實施例，以該光學膜片 ι〇5分別設置於該第-透明基板101之粗鏠外表面i〇ia，與該第二透明基板 1〇2之光亮外表面廳，上以當作範例。若該透明基板具有一折射率n，則 用於將光學膜片105設置於該第一透明基板1〇1之婦外表面黯，與該第 二透明基板102之光亮外表面黯，上之透明黏膠的折射率約在丨至(购） 範圍内。該光學膜片1〇5包含一補伽、一偏光臈、一增亮膜、一光穿透 反射選擇膜、偏光片、―波長選擇片、或其它功能片、或上述之組合。其 中該光學膜片105更具有一輪廟算術平均偏差粗糙度㈣，其實質上大於或 實質上小於透鳴板1G1之_絲面職，所具有之輪廓算術平均 偏差粗糙度(Ra)或實質上相同於該第一透明基板1〇1之粗链外表面版所 具有之輪廓算術平均偏差粗縫度(Ra)。 •本實施例雖然將該第-透明基板1G1之外表面經由研磨而使之具有上 11 述特定粗财或光學触條件，储鱗元叙各層辦設置於該第一透 明基板1G2攝㈣爾^但本發明 並不限制於此。該第—透板1G1雜形成完整之顯賴板H)之後，且 尚未設置光_ 1G5_第—義基板⑼之外表面及該第二透明基板

⑼之外表面之至少-者之前’再經由進—步研縣是研磨加上不完全抛光 以使其外表面符合上述特定條件H意的是，該第—透喊板⑼之内 表面以及該第二透明基板1G2之兩個表面均處理至—光亮表面。 再者’本發明之上述實施例，雖以第一透明基板1〇1之外表面來說明， 且符合本發騎述之至少-者的賴，但稀於此，亦可為運用於第二透 明基板102之外表面而第一透明基板1〇1之外表面為光亮表面，如圖一⑼ 所不、或第二咖基板1G2之外表面及第__透明基板1()1之外表面，如圖 一 (E)所示。 請參閱圖二為本發明之第二實施例。本實施例的各層排列部份不同於 第一實施例的各層排列，而其它元件亦同於第一實施例，在此不再詳述。 彩色濾光層104及該元件層1〇3形成於該第二透明基板1〇1之光亮内表面 101b’上，且該具有介電係數之層1()6形成於該第一透明基板1〇2之光亮内 表面102b’與該第二透明基板1〇2之光亮内表面102’之間。再者，依彩色濾 光層104及元件層1〇3之排列方式，分別為c〇A (color filter on array)方式 或是A0C(array on color filter)方式。亦即，彩色濾光層l〇4設置在元件層 103上’稱之為COA，如圖二(A)所示。元件層103設置在彩色渡光層1〇4 上’稱之為AOC ’如圖二(B)所示。換句話說，該具有介電係數之層106形 12 1354828 成於第一透明基板101及該彩色濾光層104之間或形成於第一透明基板101 及該元件層103之間。必需說明的是，本實施例於第一透明基板之光亮内 表面上，設置有共用電極(未圖示），而其它元件(如：黑色矩陣、配向元件、 支撐件、或其它、或上述之組合），設置於第一透明基板1〇1及第二透明基 板102之至少一者上。再者，第一透明基板ιοί、彩色濾光層1〇4或元件層 103之表面之至少一者，較佳地，設置有一配向膜(未圖示）。此外，光學膜 片105設置於該第一透明基板1〇1及第二透明基板1〇2之至少一者之外表 面上。在本實施例，以該光學膜片105分別設置於該第一透明基板1〇1之 粗糙外表面l〇la，與該第二透明基板102之光亮外表面1〇2a，上來當作範 例。該光學膜片105包含一補償膜、一偏光膜、一增亮膜、一光穿透反射 選擇膜、偏光片、一波長選擇片、或其它功能片、或上述之組合。其中該 光學膜片105更具有一輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)，其實質上大於或實質 上小於該第-透明基板101之粗糙外表φ 1〇la，所具有之輪廟算術平均偏差 粗縫度(Ra)或實質上相同於該第一透明基板1〇1之粗糖外表面⑼f所具有 之輪廓算術平均偏差粗链度(Ra)。 再者，本發明之上述實施例，雖以第—透明基板1〇1之外表面來說明， 且符合本發日㈣述之至少-者雜徵，但秘於此，亦運第二透明基 板H)2之外表面而第—透明基板⑻之外表面為光亮表面，如圖二(〇及⑼ 所示、或第二透明基板1〇2之外表面及第一透明基板ι〇ι之外表面，如圖 二(E)及(F)所示。 以下將更詳細說明上述實施例所述之特定範圍之決定依據。請參閱表 13 疋上述實Μ綱述之該麵算術平觸差粗糙雖批範圍與藉由霧度 計(haze meter)測量所測得之裳择 又 務度、全光透射率、散射光透射率以及平行光 透射率之關係：

表-輪廓算術平均偏差粗糙度與各光學特性之關係 經由表-可發現，當該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪 廊算術平均偏差祕度㈣實質上為_微来及該輪廊最大高度粗趟度㈣ 實質上為0.18微米(其於三個表面為亮面)之至少一者時，該透明基板具有 實質上為U%之霧度、91 1%之全光透射率、i麗之散射光透射率以及 90.0%之平行光透射率’當該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪 廊算術平均偏差粗糙度㈣實質上為〇.66微米及該輪廟最大高度粗趟度_ 實質上為5.97微米之至少一者時，該透明基板具有實質上為9〇.1%之霧度、 86.1。/。之全光透射率、77 6%之散射光透射率以及8 5%之平行光透射率。若 該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪廓算術平均偏差粗糙度 !354828 (Ra)實質上大於0.66微米或該輪廓最大高度粗糙度(Ry)實質上大於6 〇微米 (未列表)時，該透明基板具有實質上大於90%之霧度、小於85%之全光透射 率、大於77%之散射光透射率以及小於8.5%之平行光透射率，然而，此時 若配合該光學膜片105將導致肉眼可見之霧狀現象。故本發明，較佳地， 將該輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)決定為實質上介於〇 〇2微米至〇 66微米 之間之範圍以及該輪廓最大高度粗糙度(Ry)決定為實質上介於Rig微米至 6·〇微米之間之範圍之至少一者。 上述實施例t，是利用研磨技術處理該對透明基板至少之一者的外表 面，使該透明基板達到預定厚度之餘，該外表面並符合上述特定粗糙度或 光千特性條件。如上所述，亦可利用研磨之後加上不完全拋光以達到同樣 效果。亦即，即使拋光，亦不需要拋光至光亮的程度，換言之，該外表面 不需要加工成亮面，如此可縮短薄化製程的時間。 再者，若利用上述之方法處理該對透明基板分別之外表面，經由實驗 發現，當該對透明基板之外表面所分別具有之該輪廓算術平均偏差粗糙度 (Ra)實質上大於〇 5微米及該輪廟最大高度粗糙度(办)實質上大於4 〇微米 之至少—者時，該透明基板分別具有實質上大於88。/。之霧度、小於85%之 全光透射率、大於75%之散射光透射率以及小於1〇%之平行光透射率然 而，此時若配合該光學膜片305將導致肉眼可見之霧狀現象，故本發明， 較佳地，將該輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)決定為實質上介於〇〇2微米至 0.5微米之間之範圍以及該輪廓最大高度粗糙度(Ry)決定為實質上介於〇 π 微米至4.0微米之間之範圍之至少一者。

15 ^54828 如上所述’利用研磨技術處理該對透明基板分別之外表面，使該對透 明基板達咖定厚度之餘，該料表面並分職合上雜定秘度或光學 特性條件’或糊研磨之後加上;^完全拋絲達_樣效果。亦即，即使 抛光，亦不需拋光至光亮的程度，換言之，該等外表面均不需要加工成亮 面，如此可縮短薄化製程的時間。 以下將更詳細說明本發明為何不須將透明基板之外表面拋光至亮面之 依據。請錢表二其於經過不同之抛光時間後，測量該輪廓算術平均偏 差粗糙度(Ra)及該輪廓最大高度粗糙度^之變化量：

^輪、輪轉大高度粗糙度與拋光時間之關係 紅由表一發現’於-定範圍内’該輪廓算術平均偏差粗糙度㈣以及該 1354828 輪廓最大高度粗糙度(Ry)於拋光5分鐘後所產生之變化量為最大。而於後續 之拋光時間内，該輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)以及該輪廓最大高度粗輪度 (Ry)均保持在一細微且平均之變化量，且並無顯著之增加。換言之，拋光至 亮面的步驟並非必要。 請參閱圖三，為本發明之顯示面板的拋光時間與對比之關係示意圖。 本圖例是以第一實施例為範例’且其中之英文標號為表示拋光時間，請參 閱表二所示。並藉由圖例可發現圖形雖然有變動，但變動程度為可接受之 誤差範圍内，因此，對比實質上與拋光時間無關。 請參閱圖四’為本發明之顯示面板的拋光時間與亮度之關係示意圖。 本圖例是以第一實施例為範例，且其中之英文標號為表示拋光時間，請參 閱表一所示。並藉由圖例可發現圖形雖然有變動，但變動程度為可接受之 誤差範圍内，因此，亮度實質上與拋光時間無關。 請參閱圖五’為本發明之顯示面板的拋光時間與可視角之關係示意 圖。本圖例是以第一實施例為範例，且其中之英文標號為表示拋光時間， "月參閱表一所示。並藉由圖例可發現圖形雖然有變動，但變動程度為可接 受之誤差範圍内’因此，該可視角實質上與拋光時間無關。 为析經由不同之拋光時間之上述圖例後，發現在特定範圍内，所有的 光學資料均與經過拋光處理後之光學資料相似，並且與拋光程度無關，因 此本發明證實即使捨棄拋光步驟或利用拋光不完全之方式處理該對透明基 板之至少其中一者之外表面亦能製造視覺上可接受之顯示面板。因此，本 發明可有效地大幅降低顯示面板之製程時間。再者，由上述圖三、圖四及 17 C S ) 1354828 圖五之圖形得知，影響基板之光學性f之重要因素來自於其它因素⑹光 源之類型、縣敎之組裝方式、光學刻之_、等）。但嚴謹的說，若 要得到較好之對比，地，應採職光時_ ig分鐘至約μ分鐘，缺 而必需要排除上述影板之光學性質之重要因素來自於其它因素(如^ 源之類型、背光模組之組裝方式、光學膜片之類型、等）。 請參閱圖六，為本發明之光電裝置12之結構示意圖。如圖所示，該光 電裝置12包含鶴示面板1G ’以及—電子元件u。電子元件η包括如： 控制元件、㈣元件、處理元件、輸人元件、記憶元件、驅動元件、發光 元件、倾元件、_元件、_元件、或其它魏元件、壯述之組合。 而光電裝置之類型包括可攜式產品（如手機、攝影機、照相機、筆記型電 腦、遊戲機、手銀、音樂播放器、電子相片、電子信狀發器、地圖導航 器或類似之產品）、影音產品（如影音放映器或類似之產品）、營幕、電視、 看板、投影機内之面板等。糾，顯示面板1G包含液晶顯示面板、有機電 激發光顯不面板，視其面板中之畫素電極及汲極之至少—者所電性接觸之 上述實施例所述之具有介電係數之層之材料，如：液晶材料、發光材料、 或上述之組合。其中發光材料句含無機材料、有機材料、或上述之組合， 再者，無機材料及有機材料之至少一者之分子大小包含高分子、小分子、 或上述之組合。 综合以上所述，雖然本發明已較佳實施例揭露如上，然其並非用以限 定本發明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍内，當可 作各種更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界 1354828 定者為準。 【圖式簡單說明】 圖一(A)至(C)為本發明第—實施例之顯示面板的製造流程圖。 圖一 (D)至(E)為本發明第—實施例之顯示面板之其它態樣。 圖二(A)至(F)》本發明第二實施例之顯示面板的各種態樣。 圖三為本發明之拋光時間與對比之關係示意圖。 圖四為本發明之拋光時間與亮度之關係示意圖。 圖五為本發明之拋光時間與可視角之關係示意圖。 圖六為本發明之光電裝置之示意圖。 【主要元件符號說明】 101:第一透明基板 102:第二透明基板 101a、102a :初始外表面 101b、l〇2b :初始内表面 101a’、l〇2a’：經過處理之外表面 101b’、l〇2b’：光亮内表面 103 :元件層 1〇4:彩色濾光層 105:光學膜片 106:具有介電係數之層 19 1354828 ίο:顯示面板 11 :電子元件 12:光電裝置

Claims (1)

1354828 ♦ I 100年07月29日修正替換 十、申請專利範圍： L--- 、 L 一種顯示面板，包含： 一對透明基板；以及 一具有介電係數之層，設置於該對透明基板之内夺面之門. 其中’該對透明基板之至少-者之外表面具有一實質上介於讀微米至 〇·66微米乏間之輪廟算術平均粗縫度且具有—實質上介於㈣微米至ό〇 微米之間之輪廓最大高度粗链度。 2·如申請專利範圍第i項所述之面板，其中該對透明基板之至少一者之外 表面具有一實質上小於90%之霧度。 • 3.如申轉利範圍第1項所述之顯示面板，其巾該對翻基板之至少一者 之外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 4. 如申凊專利範圍第j項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有―實質上小於77%之散射光透射率。 5. 如申請專利範圍第i項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有—實質上大於8.5%之平行光透射率。 6·如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該賊明基板之其中—者 内表面上具有—元件層，以及該對透明基板之另外一者内表面上具有—彩 色遽光層。 7’如申凊專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中—者 内表面上具有—元件層以及一彩色滤光層。 8.如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 21 1354828 .· · ~ …s~~~-- 100年07月29日修正替換 之外表面上具有一光學膜片。 ~~_____ 9·如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廓算術平 均粗糙度實質上不同於該對透明基板之至少一者之外表面之該輪廓算術平 均粗缝度。 10. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廓算術平 均粗糙度實質上相同於該對透明基板之至少一者之外表面之該輪廓平均粗 糙度。 11. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中該光學膜片包含一補償 膜、一偏光膜、增亮膜、光穿透反射選擇膜、偏光片、波長選擇片、或上 述之組合。 I2·如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該具有介電係數之層之材 料包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 13· —種顯示面板，包含： 一對透明基板；以及 一具有介電係數之層，設置於該對透明基板之内表面之間； 其中該對透明基板之至少一者之外表面具有一實質上小於9〇%之霧度 且具有一實質上介於0.18微米至6.0微米之間之輪廓最大高度粗糙度。 14. 如申请專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 15. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面具有一實質上小於77%之散射光透射率。 22 1354828 I 100年07月29日修正替換 16.如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該—— 者之外表面具有—實質上大於8.5%之平行光透射率。 17·如申清專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面上具有一光學膜片。 18. 如申„月專利範圍第17項所述之顯示面板’其中該光學膜片之輪廊算術 平均粗縫度實質上不同於該對透明基板之至少一者之外表面之輪廓算術平 均粗糙度。 19. 如申請專利範圍第17項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廊算術 平均粗糙度實質上相同於該對透明基板之至少一者之外表面之輪靡算術平 均粗糙度。 20. 如申請專利範圍第17項所述之面板，其中該光學膜片包含一補償膜、 一偏光膜、增亮膜、光穿透反射選擇膜、偏光片、波長選擇片、或上述之 組合。 21. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中一 者内表面上具有一元件層，以及該對透明基板之另外一者内表面上具有— 彩色渡光層。 22. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中一 者内表面上具有一元件層以及一彩色濾光層。 23·如申請專利範圍第項所述之面板，其中該具有介電係數之層之材料 包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 災一種光電裝置’包含如申請專利範圍帛i項所述之顯示面板以及—連接 23 > I 100年07月29日修正替換 至該顯示面板之電子元件。 ----- — 灶-種光電裝置，包含如巾請專利翻第13項所述之顯示面板以及一連 接至該顯示面板之電子元件。 26. —種顯示面板之製造方法，包含： 提供一對透明基板； 薄化該對透明基板之至少-者，以使得該對透明基板之至少一者之外 表面。有實質上"於0.〇2微米至〇 66微米之間之輪廓算術平均粗縫度且 具有-實質上介於0.18微米至6.0微米之間之最大輪廊高度粗链度；以及 形成一具有介電係數之層於該對透明基板之間。 27. 如申請專利範圍第26項所述之方法，其中該具有介電係數之層之材料 包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 28. 如申明專利氣圍第26項所述之方法，更包含形成一元件層於該對透明 基板之其中-者之内表面上，以及形成—彩色濾光層於該對透明基板之另 外一者之内表面上。 29. 如申請專利範圍第26項所述之方法，更包含形成一元件層及一彩色遽 光層於該對透明基板之其中一者之内表面上。 30. 如申凊專利範圍第26項所述之方法，更包含設置一光學膜片於該對透 明基板之至少一者之外表面上。 31. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該光學膜片包含-補償膜、 -偏光膜、增亮膜、光穿透反射選擇膜、偏光片、波長選擇片、或上述之 組合。 24 1354828 - — ___—^ 32. 如申嗜I 100年07月29曰修王替換 月專利域幻G項所述之方法，其巾該光 粗縫度龍上祁柯 、之麵异術平均 粗輪度。 對透喊板之至少-者之外表面之該輪廓算術平均 33. 如申請專利範圍第3〇項所述之方法 袓輪庚眘H 其中該光千膜片之輪廟算術平均 错又實質上相同於該對透明基板 粗輪度。 者之外表面之該輪廓算術平均 34·如申請專利範圍第26項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上小於90%之霧度。 35·如申請專利細第26項所述之方法，射該對透縣板之至少一者之 外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 36.如申請專利範圍第26項所述之方法，其中該對透明基板之至少—者之 外表面具有一實質上小於之散射光透射率。 37· —種顯示面板之製造方法，包含： 提供一對透明基板； 薄化該對透明基板之至少-者，以使得該對透明基板之至少一者之外 表面具有-實肚小於·之紐且具有—實質上介㈣18微米至6 〇微 米之間之輪廓最大高度粗縫度；以及 形成一具有介電係數之層於該對透明基板之間。 38. 如申請專利範圍帛37項所述之方法，其中該具有介電係數之層之材料 包括液晶材料、發光材料或上述之組合。 39, 如申請專利範圍第37項所述之方法，更包含，形成一元件層於該對透 25 丄外ozo 100年07月29日修正替拖 明基板之其中一者之 _— 」 心^表面上以及形成一彩色濾光層g該對透明基板之另一— 外一者之内表面上。 40. 如申δ月專利範圍第37項所述之方法，更包含，形成一元件層及一彩色 遽光層於靖透縣板之其巾-者之魄面上。 41. 如申睛專利範圍第37項所述之方法，更包含，設置一光學膜片於該對 透明基板之至少一者之外表面上。 .如申》月專利範圍第項所述之方法，其中該具有介電係數之層之材料 包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 43. 如申請專利範圍第37項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 44. 如申明專利範圍第37項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上小於77%之散射光透射率。 45. 如申請專利範㈣37項所述之方法，其中該對透明基板之至少—者之 外表面具有一實質上大於8.5%之平行光透射率。 46. -種光電裝置之製造方法，包含如申請專利範圍第26項所述之顯示面 板之製造方法’以及連接一電子元件至該顯示面板。 47. —種光電裝置之製造方法，包含如申請專利範圍第37項所述之顯示面 板之製造方法，以及連接一電子元件至該顯示面板。 26