TW200835956A - Display panel and method for manufacturing thereof and electric-optic device including the display panel and method for manufacturing thereof. - Google Patents

Description

200835956 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本《是有-種光電裝置之顯和減絲程綠，且特別是關 於一種降低顯示面板製程時間之方法。 【先前技術】 隨著製造能力的進步及消費者需求量的增加，平面顯示器（如：電聚顯 •示面板此㈣ Pand;PDP)、有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode ; 0LED)面板、液晶顯示面板(liquidcrystal卿i; Lcp)以及場發式顯 示器(Field Emission Display ; FED)等已經進入大量生產的階段。尤其液晶 顯示面板具有薄、輕、低耗電量、無輻射污染以及能釣與半導體製程技術 相容等優點，因此舉凡桌上型電腦、筆記型電腦、手機、個人數位助理以 及數位相機等’皆採用液晶顯示面板作為主要之顯示裝置，而且已被消費 者大量的使麟生活巾。然而，不管是液晶顯示面板、或其它面板，其重 鲁量的縮減仍是一重要的目標。 以液晶顯不面板之透明基板之材質為玻璃說明，該成對透明基板之重 量為液晶顯不面板總重量之主要部份，因此可藉由薄化該成對透明基板之 厚度以達減少液晶顯示面板重量之目的。 習知的薄化該透明基板之技術包含研磨與拋光。通常是以化學機械研磨 (Chemical Mechanical Polishing ; CMP)技術來施行，其先將研磨液（如： Si〇2、ALA以及Ce〇2等)填充於研磨墊之空隙中，再利用機械力量將研磨 墊對玻璃表面施予一作用力，並利用高轉速之作用力使得玻璃和位於研磨 200835956 墊工隙中之研磨液之化學顆粒相互作用，其用以提供玻璃表面之機械切削 力與化學作用以增加其研磨與拋光效率。因此為了能大幅縮減透明基板之 厚度，此階段是讀粗大的研顧姉磨該透縣板之表面。由於此階段 中採用較為粗大的研麵m於研磨後之義基板之表面為—極度粗 糙之表面，因此，稱為粗磨階段。

再者’上述階段所研磨之透縣板之表面為一極度粗糖之表面，因此， 不願用於後續顯和板之製終猶止增加後續製程之誤麵大。所以， 尚需對於粗磨後之透縣板之表面進行第二階段之細磨，即為習知馳光 階段。此階段_較羽且㈣、之研細粒，錢該翻基板之厚度進 -步縮減至默值’並使躲齡鮮坦化。於f知技射，聽製作顯 示面板的-對_基板兩者之⑽表面馳光至絲，脚形成所謂的「亮 面」之後，才能繼續形成其他元件的製程。 細，將該對透明基板加以研磨至贼厚度並將雙面之表面馳光以 達到亮面的程度’需要耗費相當長久的時間，從而降低產品之終因此， 需要-種能大崎低製造時間以提高鱗之顯涵板之製程方法。 【發明内容】 本發明之主要目的為提供—_示面板，其包含—對透縣板。該透 明基板是以簡化薄化處理製程所形成。 其可大幅降低薄 本發明之另—目的為提虹述_面板之製造方法， 化處理時間以提高產率。 本發明之再-目的為提供一種光電裝置，其包含上述之顯示面板。該 200835956 顯示面板是以簡化薄化處理製程所形成。 本發明之又—目的為提供上述光職置之製造方法，其可大幅降低薄 化處理時間以提高產率。 根據本發明之-转，該顯示面板包含-對透明基板，該對透明基板 之至j/-者之外表面具有—介於讀微米至_微米之間之輪廓算術平均 偏差粗糙度。 根據本發明之另—方面，雜示面板包含_對翻基板，賴透明基板 之至夕者之外表面具有實質上小於9Q%之霧度。 根據本發明之再-方面，該顯示面板製造方法包含提供_對透明基板； 薄化該透·板之厚度，以使得該對透明基板之至少—者之外表面具有介 於〇.〇2微米至G·66微米之間之輪廓算術平均偏差粗縫度。 根據本發明之又-方面，該顯示面板製造方法包含提供一對透明基 板；薄化該透贿板之厚度，以使得該對透明基板之至少—者之外表面具 有實質上小於90%之霧度。 根據本發明之—方面’該光電裝置包含-顯示疏，賴示面板所具 有之-對透明基板之至少一者之外表面具有-介於〇〇2微米至〇66微米之 間之輪廓算術平均偏差粗糙度。 根據本發明之另-方面，該光電裝置包含—顯—板，該齡面板所具 有之-對透明基板之至少-者之外表面具有實質上小於慨之霧度。 根據本發明之再-方面’該光電裝置製造方法包含製造—顯示面板，其 中包含提供-對透明基板；薄化該透明基板之厚度，以使得該對透明基板 200835956 之至少-者之外表面具有介於讀微米至_微米之間之輪靡算術平均偏 差粗糙度。 ，該光輕隸造方法包含觀—顯示面板， 根據本發明之又一方面 ’以使得該對透明基 其中包含提供-對翻基板；薄化該_基板之厚度 板之至少-者之外表面具有實質上小於规之霧度。 為讓本發明之上述目的、特徵、和優點能更鴨紐，下文特舉幾個

較佳實施例，並配合所酬式，作詳細說明如下。 【實施方式】 本發明是藉由將薄化技術用於製造一顯_板1〇(請參閱第六圖)之一對 透明基板以達到薄化該顯示面板1G之總厚度。其中在薄化該對透明基板 時’是使得該對透明基板之至少一者之外表面具有實質上介於_微米至 0.66微米之之輪廊异妍均減度㈣、鱗，使該對細基板之至少一 •者之外表面可不被處理成亮面，且其具有實質上小於霞之霧度(Haze)、或 上述之組合。 ”月乡閱圖-(A)至圖-(〇為本發明第一實施例之顯示面板的製造流程 圖。如圖-⑷所示，提供一成對之第一透明基板ι〇ι與第工透明基板撤， 其至夕者之材f包含無機材質(如：玻璃、石英、或其它）、有機材質(如： 聚碳酸輸、？編貞、臟M、或其它㈣、壯述之組合），或上述之組 合。於溥化處理時’該第一透明基板1〇1與第二透明基板ι〇2為一整片未 、、’刀款透明基板之形式或輕切割成為合適尺寸之透明基板之形式。於本 、僧1¾第-透明基板101分別具有一初始外表面i〇ia以及與該初始 8 200835956 *卜表面lGla成相反面之一初始内表面誦，該第二透明基板iG2分別具有 -初始外表面l〇2a以及與該初始外表面_成相反面之一初始内表面 1〇2卜如圖所示’該等初始外表面101a、102a與該等初始内表面i〇ib、i咖 是分別為一極度粗糙之表面。 請參考圖一(B)所示，於本實施例中，是將該第一透明基板1〇1之初始 内表面101b以及該第二透明基板1〇2之初始外表面1〇2a、初始内表面i〇2b Φ 分別利用研磨後再進行拋光之加工，進而使得該第一透明基板101之初始 内表面101b與第二透明基板1〇2之初始外表面i〇2a與初始内表面1〇处分 別形成一平坦光滑之光亮内表面101b，、102b，以及光亮外表面1〇2a，。於本 κ施例中，該弟一透明基板101之初始外表面l〇la與其它三面不同，其僅 藉由研磨以形成一粗糙外表面l〇la’，並無經過拋光之步驟。或者，亦可藉 由研磨然後加以不完全撤光以形成該粗链外表面l〇la’。該第一透明基板 101之粗糙外表面l〇la，被處理至具有介於0 〇2微米至0 66微米之間之輪廓 • 算術平均偏差粗糙度(Ra)及介於0.18微米至6·〇微米之間之輪廓最大高度粗 糙度(Ry)之至少一者時，所製造出來的顯示面板10在視覺上並不會產生無 法觀看影像之現象（如·影像失真、色彩失真、或其它現象)時，即謂之 符合顯示面板後續製程之基板。或者，以霧度計(haze meter)，且使用光源 (如：D65光源、可見光、近可見光光源、或其它光源)照射該第一透明基板 101，並配合一標準公式(如：ns K7136公式、ISO 14782公式、或其它公 式)來測量，於該標準公式下，所測量出該第一透明基板101之光學特性符 合實質上小於90%之霧度(Haze)、實質上大於85%之全光透射率(Total light 200835956 '實質上小於77%之散射光透射率①砲^ _打_汾_) 以及實質上大於8,5%之平行光透射#(ρ_ε1 Hght ____卜 者。 八中首先該弟透明基板IQ!之粗糙外表面ΙΟ〗〆應具有實質上小於 之霧度’簡免視覺上可見之絲異^較佳地，射符合上述其餘的 光學特性之結4 ^更佳地，應另外符合上述其餘的光學特性之至少二 者或者符Π上述其餘的光學特性之至少三者。換言之，對於該第一透 明基板m之粗糙外表面101a，而言，該等光學特性之重要性依序為：霧度 >平订光透射率 > 散射光透射率 > 全光透射率。最理想狀態是該第—透明基板 101之粗糙外表面l〇la’符合上述之四種光學特性。 ;本6⑯纟丨巾在!％>{透明基板薄化完成並使之達成上述特定條件 後，接著將一彩色濾光層104設置於該第一透明基板1〇1之光亮内表面 l〇lb’上，該彩色濾光層1G4包含至少三色阻、或其它蝴如：黑色矩陣、 配向元件、配向元件、支撐件、共用電極、或其它）、或上述之組合，以及 將-元件層103形成於該第二透明基板1〇2之光亮内表面聊上，該元件 層103包含薄膜電晶體、訊號線、電容、畫素電極、共用電極線、或其它 元件(如：配向元件、支撐件、或其它）、或上述之組合。其中，薄膜電晶體 包含源極、没極、閘極、主動層、介電層、保護層、平坦層、或其它層別、 或上述之組合。再者，薄膜電晶體之類型包含頂閘型、底閑型、或其它類 型、或上述之組合。該主動層之材質包含非晶石夕、多晶石夕、單晶石夕、微晶 石夕、或上述之組合，且絲層驗用切之材f，健地，亦更包含推雜 200835956 子(如· N型、P型、或上述之組合）。介電層、保護層及平坦層之至少一者 之枯貝包含無機材質(如·氮化石夕、氧化石夕、氮氧化石夕、碳化石夕、或其它材 質、或上述之組合)、有機材質(如：有機石夕化合物、聚義、聚醋類、光阻、 或其它、或上述之組合)、或上述之組合。然後，將一具有介電係數之層1〇6， 形成於元件層1〇3及彩色濾光層綱之間。該具有介電係數之層之材 θ包含-液晶材質、-發光材質(如··無機材f、有機材質、或上述之組旬、 • 或上述之組合。再者，彩色據光層綱與元件層1〇3之表面之至少-者， 較佳地，設置有一配向膜(未圖示）。 請參考圖-(C)所示，射該光學膜片1〇5設置於該第一透明基板1〇1 及第二透明基板102之至少-者之外表面上。在本實施例，以該光學膜片 ι〇5分別没置於該第-透明基板101之粗糙外表面1〇la，與該第二透明基板 102之光允外表面102a’上以當作範例。若該透明基板具有一折射率n，則 用於將光學膜片105設置於該第一透明基板1〇1之粗链外表面ι〇ι&，與該第 _ 二透明基板102之光亮外表面脑，上之透明黏膠的折射率約在i至⑽七 範圍内。該光學膜片105 &含一補償膜、一偏光膜、一增亮膜、一光穿透 反射選擇膜、偏光片、-波長選擇片、或其它功、或上述之組合。其 中該光學膜片1〇5更具有-輪廓算術平均偏差粗糙度㈣，其實質上大於或 實質上小於該第-透明基板1G1之粗糙外表面皿&，所具有之輪廓算術平均 偏差粗糙雖a)或實質上相同於該第一透明基板1〇1之粗糙外表面讀^所 具有之輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)。 .本實施例雖然將該第-透明基板1〇1之外表面經由研磨而使之具有上 200835956 述特定粗财蚊學難條件，德鮮树及各層麟設置於該第一透 明基板101與第二透明基板1〇2之間以形成完整之顯示面板。但本發明 亚不限制於此H透縣板1G1亦於形成完整之顯示面板1G之後，且 、:未又置光予膜片1()5於該第一透明基板1〇1之外表面及該第二透明基板 卜表面之至者之&，再經由進—步研磨较研磨加上不完全抛光 以使其外表Φ組猶_。齡輪哪—透_⑼之内 % 表面以及該第一透明基板102之兩絲面均處理至-光亮表面。 再者，本發明之上述實施例，雖以第一透明基板101之外表面來說明， 且符合本刺所权至少-者_徵，但碰於此，料為運麟第二透 明基板102之外表面而第一透明基板1〇1之外表面為光亮表面，如圖一⑼ 所示、或第二透明基板102之外表面及第一透明基板ι〇ι之外表面，如圖 一 (E)所示。 印參閱®—為本發明n施例。本實施例的各層排卿份不同於 • 第一實施例的各層排列，而其它元件亦同於第-實施例，在此不再詳述。 ¥色渡光層104及該元件層1〇3形成於該第二透明基板ι〇ι之光亮内表面 腿，上，且該具有介電係數之層1〇6形成於該第一透明基板1〇2之光亮内 表面腦，與該第二透板收之光亮内表面膨之間。再者，依彩色滤 光層1〇4及元件層1〇3之排列方式，分顺c〇A (c〇1〇r他过〇n a刪方式 或是AOC(_y on ▲ filter)方式。亦即，彩⑽光層⑽設置在元件層 103上’稱之為COA，如圖二(A)所示。元件層1〇3設置在彩色遽光層1〇4 上’稱之為AOC ’如圖二⑻所示。換句話說，該具有介電係數之層伽形 12 200835956 成於第一透明基板101及該彩色濾光層104之間或形成於第一透明基板1〇1 及該兀件層103之間。必需說明的是，本實施例於第一透明基板之光亮内 表面上，設置有共用電極(未圖示），而其它元件(如··黑色矩陣、配向元件、 支撐件、或其它、或上述之組合），設置於第一透明基板1〇1及第二透明基 板102之至少一者上。再者，第一透明基板1〇1、彩色濾光層1〇4或元件層 103之表面之至少一者，較佳地，設置有一配向膜(未圖示）。此外，光學膜 片105 5又置於該弟一透明基板ίο〗及第二透明基板IQ】之至少一者之外表 面上。在本實施例，以該光學膜片105分別設置於該第一透明基板101之 粗糙外表面l〇la，與該第二透明基板1〇2之光亮外表面1〇2a，上來當作範 例。該光學膜片105包含一補償膜、一偏光膜、一增亮膜、一光穿透反射 選擇膜、偏光片、一波長選擇片、或其它功能片、或上述之組合。其中該 光學膜片105更具有一輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)，其實質上大於或實質 上小於該第一透明基板1〇1之粗糙外表面1〇la，所具有之輪廓算術平均偏差 粗糙度(Ra)或實質上相同於該第一透明基板1〇1之粗糙外表面1〇1&，所具有 之輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)。 再者，本發明之上述實施例，雖以第一透明基板1〇1之外表面來說明， 且符合本發明所述之至少一者的特徵，但不限於此，亦運用於第二透明基 板102之外表面而第一透明基板101之外表面為光亮表面，如圖二〇及 所示、或第二透明基板102之外表面及第一透明基板101之外表面，如圖 二(E)及(F)所示。 以下將更詳細說明上述實施例所述之特定範圍之決定依據。請參閱表 13 200835956 疋上述貝鉍例所述之該輪廓算術平均偏差粗链度㈣之範圍與藉由霧度 計(haze me㈣測量所測得之霧度、全光透射率 、散射光透射率以及平行光 透射率之關係：

表一輪廓算術平均偏差粗糙度與各光學特性之關係 、、’二由表可發現’當該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪 • 廊算術平均偏差粗糙雖a)實質上為〇·〇2微米及該輪庵最大高度粗糙度(Ry) 實質上為0·18微米(其於三個表面為亮面)之至少一者時，該透明基板具有 實質上為1·1%之霧度、9U%之全光透射率、:L0%之散射光透射率以及 90.0%之平行光透射率’當該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪 廓算術平均偏差粗糙度(Ra)實質上為〇祝微米及該輪廓最大高度粗链度_ 實貝上為5·97微米之至少一者時，該透明基板具有實質上為9〇1%之霧度、 86.1%之全光透射率、77.6%之散射光透射率以及8·5%之平行光透射率。若 該對透明基板之至少一者之外表面所具有之該輪廓算術平均偏差粗糙度 200835956 (Ra)貝貝上大於0.66微米或該輪廓最大南度粗链度㊉y)實質上大於6·〇微米 (未列表)時，該透明基板具有實質上大於90%之霧度、小於8S%之全光透射 率、大於77%之散射光透射率以及小於8.5%之平行光透射率，然而，此時 若配合該光學膜片105將導致肉眼可見之霧狀現象。故本發明，較佳地9 將該輪廓算術平均偏差粗糙度(Ra)決定為實質上介於〇 〇2微米至〇·66微米 之間之範圍以及該輪廓最大南度粗植度(Ry)決定為實質上介於微米至 6.0微米之間之範圍之至少一者。 上述貫施例中’是利用研磨技術處理該對透明基板至少之一者的外表 面，使該透明基板達到預定厚度之餘，該外表面並符合上述特定粗糙度或 光學特性條件。如上所述，亦可利用研磨之後加上不完全拋光以達到同樣 效果。亦即，即使拋光，亦不需要拋光至光亮的程度，換言之，該外表面 不需要加工成亮面，如此可縮短薄化製程的時間。 再者，若利用上述之方法處理該對透明基板分別之外表面，經由實驗 發現，當該對透明基板之外表面所分別具有之該輪廓算術平均偏差粗糙度 (Ra)只貝上大於〇·5微米及該輪廓最大南度粗链度(办)實質上大於4 〇微米 之至少一者日可’該透明基板分別具有實質上大於88%之霧度、小於％%之 全光透射率、大於75%之散射光透射率以及小於10%之平行光透射率，然 而，此時若配合該光學膜片305將導致肉眼可見之霧狀現象，故本發明， 較佳地，將該輪廓算術平均偏差粗縫度(Ra)決定為實質上介於〇 〇2微米至 0·5微米之間之範圍以及該輪廓最大高度粗糙度(Ry)決定為實質上介於 被米至4.0微米之間之範圍之至少一者。 15 200835956 如上所述，利用研磨技術處理該對透明基板分別之外表面，使該對透 明基板達到預定厚度之餘，該等外表面並分別符合上述特定粗糙度或光學 特性條件，或利用研磨之後加上不完全拋光以達到同樣效果。亦即，即使 拋光，亦不需拋光至光亮的程度，換言之，該等外表面均不需要加工成亮 面，如此可縮短薄化製程的時間。 以下將更詳細說明本發明為何不須將透明基板之外表面拋光至亮面之 依據。請參閱表二，其於經過不同之撤光時間後，測量該輪靡算術平均偏 差粗糙度(Ra)及該輪廓最大高度粗糙度(Ry)之變化量··

輪廓解均偏餘赌、輪絲大高餘糙度與滅_之關係 由表一^現’於-定範圍内，該輪廓算術平均偏差粗綠度㈣以及該 16 200835956 輪廓最大高絲_(Ry)於贼5分織職k瓶量為最大。而於後續 之椒光時間内’雜廓算辨均偏差織雖φχ及雜歸大高度粗链度 ㈣均保持在-罐且平均讀化4，且並無_之增加。齡之，抛光至 亮面的步驟並非必要。 請參閱圖三’為本發明之顯示面板的拋光時間與對比之關係示意圖。 本圖例是以第-實施例為範例，且其中之英文標號為表示抛光時間，請參 # 閱表二所示。並藉由圖例可發現圖形軸有變動，但變動程度為可接受之 誤差範圍内，因此，對比實質上與拋光時間無關。 請參閱圖四，為本發明之顯示面板的撤光時間與亮度之關係示意圖。 本圖例是以第-實關絲例，且其中之英文魏為表示拋光_，請參 閱表二所示。並藉由圖例可發現圖形雖然有變動，但變動程度為可接受之 誤差範圍内，因此，亮度實質上與抛光時間無關。 請參閱圖五，為本發明之顯示面板的椒光時間與可視角之關係示意 φ ^。本圖例是以第一實施例為範例，且其中之英文標號為表示搬光時間， 請參閱表二所示。並藉由圖例可發現圖形雖然有變動，但變動程度為可接 文之誤差範圍内，因此，該可視角實質上與拋光時間無關。 分析經由不同之拋光時間之上述圖例後，發現在特定範圍内，所有的 光學資料均與經過拋光處理後之光學資料相似，並且與椒光程度無關，因 此本發明證實即使捨棄拋光步驟或利用拋光不完全之方式處理該對透明基 板之至少其中一者之外表面亦能製造視覺上可接受之顯示面板。因此，本 發明可有效地大幅降低顯示面板之製程時間。再者，由上述圖三、圖四及 17 200835956 圖五之圖形得知，影響基板之光學性質之重要因素來自於其它因素(如·光 源之類型、背光模組之組裝方式、光學膜片之類型、等）。但嚴謹的嘹，若 要得到較好之對比，較佳地，應採用拋光時間約10分鐘至約25八 夕、 刀鐘’然 而必需要排除上述影響基板之光學性質之重要因素來自於其它因素(如光 源之類型、背光模組之組裝方式、光學膜片之類型、等）。 請參閱圖六，為本發明之光電裝置12之結構示意圖。如圖所示，該光 Φ 電裝置12包含該顯示面板10，以及一電子元件11。電子元件u包括如. 控制元件、操作元件、處理元件、輸人元件、記憶元件、驅動元件、發光 轉、保護元件、制元件、侧元件、或其它魏元件、或上述之組合。 而光屯裝置之麵包括可攜式產品（如手機、攝影機、照相機、筆記型電 腦、遊戲機、絲、音雜《、電子㈣、電子信件收發器、地圖導航 益或類似之產品）、影音產品（如影音放映器或類似之產品）、榮幕、電視、 看板、投影機内之面板等。另外，顯示面板1〇包含液晶顯示面板、有機電 • 激發光顯示面板，視其面板中之晝素電極及没極之至少-者所電性接觸之 上述實施例所述之具有介電係數之層之材料，如：液晶材料、發光材料、 或上述之組合。射發光材㈣含織材料、錢翻、或上述之組合， 再者’無機材料及錢機之至少—者之分子大小包含高分子、小分=、 或上述之組合。 、’丁、σ以上所述’雜本發明已較佳實補揭露如i，然其並非用以限 定本發明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍内，⑪ 作各種更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界 18 200835956 定者為準。 【圖式簡單說明】 圖一 (A)至(C)為本明第一實施例之顯示面板的製造流程圖。 圖一(D)至(E)為本發明第一實施例之顯示面板之其它態樣。 圖二(A)至(F)為本發明第二實施例之顯示面板的各種態樣。 圖三為本發明之拋光時間與對比之關係示意圖。 圖四為本發明之抛光時間與亮度之關係示意圖。 圖五為本發明之搬光時間與可視角之關係示意圖。 圖六為本發明之光電裝置之示意圖。 【主要元件符號說明】 101 :第一透明基板 102:第二透明基板 101a、102a:初始外表面 101b、102b:初始内表面 101a，、102a’：經過處理之外表面 101b’、102b’：光亮内表面 103 :元件層 104:彩色濾光層 105 :光學膜片 106:具有介電係數之層 19 200835956 10 :顯示面板 11 :電子元件 12:光電裝置

Claims (1)

1. 200835956 十、申請專利範圍： 1· 一種顯示面板，包含: 一對透明基板；以及 一具有介電係數之層，設置於該對透明基板之内表面之間； 其中，該對透明基板之至少-者之外表面具有一實質上介於〇〇2微米至 〇·66微米之間之平均粗糙度。 2·如申凊專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有—實f上介於αΐ8微綠6 G微紅間之輪廓最大高度粗縫 度。 3·如申請專利範圍第1項所述之面板，其中該對透明基板之至少一者之外 表面具有一實質上小於90%之霧度。 4_如申请專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 5·如申凊專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有一實質上小於77%之散射光透射率。 6·如申请專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面具有一實質上大於8.5%之平行光透射率。 7·如申凊專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中一者 内表面上具有一元件層，以及該對透明基板之另外一者内表面上具有一彩 色濾光層。 8·如申凊專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中一者 21 200835956 内表面上具有一元件層以及一彩色濾光層。 9·如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一者 之外表面上具有一光學膜片。 10·如申請專利範圍第9項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廓算術平 均粗糙度實質上不同於該對透明基板之至少一者之外表面之該輪廓算術平 均粗糙度。 11.如申請專利範圍第9項所述之顯示面板’其中該光學膜片之輪廓算術平 均粗糙度實質上相同於麟透鳴板之至少—者之外表蚊該輪廓平均粗 糙度。 12·如申請專利範圍第9項所述之顯示面板，其中該光學膜片包含一補償 膜、一偏光膜、增亮膜、光穿透反射選擇膜、偏光片、波長選擇片、或上 述之組合。 I3.如申請專利範圍第i項所述之顯示面板，其中該具有介電係數之層之材 料包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 14· 一種顯示面板，包含： 一對透明基板；以及 一具有介電係數之層，設置於該對透明基板之内表面之間； 其中該對透明基板之至少-者之外表面具有一實質上小於9〇%之霧 度。 15·如申晴專利範圍帛14賴述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 22 200835956 16·如申睛專利範圍第14項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面具有一實質上小於77%之散射光透射率。 I7·如申明專利範圍第M項所述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面具有一實質上大於8.5%之平行光透射率。 18·如申請專利範圍帛^獅述之顯示面板，其中該對透明基板之至少一 者之外表面上具有一光學膜片。 φ 19· *申請專利範圍帛18項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廓算術 平均粗棱度實同機對透明基板之至少-者之外表面之該輪康算術 平均粗糙度。 20·如申請專利範圍第18項所述之顯示面板，其中該光學膜片之輪廓算術 平均粗糙度實質上相同於該對透明基板之至少一者之外表面之該輪廓算術 平均粗糙度。 21·如申請專利範圍第18項所述之面板，其中該光學膜片包含一補償膜、 φ 一偏光膜、增亮膜、光穿透反射選擇膜、偏光片、波長選擇片、或上述之 組合。 22·如申請專利範圍第14項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中一 者内表面上具有一元件層，以及該對透明基板之另外一者内表面上具有一 彩色濾光層。 23·如申請專利範圍第14項所述之顯示面板，其中該對透明基板之其中— 者内表面上具有一元件層以及一彩色濾光層。 24·如申請專利範圍第14項所述之面板，其中該具有介電係數之層之材料 23 200835956 包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 , 25·-種光電裝置’包含如中請專職圍第1獅述之顯示面板。 26· —種光電裝置，包含如申請專利範圍第14項所述之顯示面板。 27· —種顯示面板之製造方法，包含： 提供一對透明基板;以及 薄化該對透明基板之至少-者，以使得該對透明基板之至少一者之外 Φ 表面具有一實質上介於0.02微米至〇.66微来之間之輪縛術平均粗糙度。 28. 如申請專利範圍第27項所述之雜，更包含形成一具有介電係數之層 於該對透明基板之間。 29. 如申請專利範圍第28項所述之方法，其中該具有介電係數之層之材料 包含液晶材料、發光材料或上述之組合。 3〇.如申請專利範圍第27項所述之方法，更包含形成一元件層於該對透明 基板之其巾-者之喊面上，以及形成—彩色航層於該對細基板之另 0 外一者之内表面上。 3L如申請專利範圍第27項所述之方法，更包含形成—元件層及一彩色據 光層於該對透明基板之其中一者之内表面上。 32. 如申請專利範圍第27項所述之方法，更包含設置一光學膜片於該對透 明基板之至少一者之外表面上。 33. 如申請專利範圍第32項所述之方法’其中該光學膜片包含一補償膜、 一偏光膜、增聽、光穿航魏、波長_、或上述之 組合。 24 200835956 从如申請專利範圍第η項所述之方法，其中該光學膜片之輪廊算術平均 粗糙度實質綱_脚紐奶算 粗链度。 35.如申請專利範圍第％項所述之方法，其中該光學膜片之輪廊算術平均 粗糙度實質上__對透明基板之至少—者之外表蚊該輪轉術平均 粗糙度。 _ 36·如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有-實質上介於〇·18微米至6·〇微米之間之最大輪廊高度粗 37·如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上小於90%之霧度。 38·如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 39·如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該對透明基板之至少—者之 φ 外表面具有一實質上小於77%之散射光透射率。 40. —種顯示面板之製造方法，包含·· 提供一對透明基板；以及 薄化該對透明基板之至少-者，以使得該對透明基板之至少一者之外 表面具有一實質上小於90%之霧度。 41. 如申请專利範圍第4〇項所述之方法，更&含形成一具有介電係數之層 於該對透明基板之間。 42. 如申睛專利fe圍第41項所述之方法，其中該具有介電係數之層之材料 25 200835956 包括液晶材料、發光材料或上述之組合。 月求項4〇所述之方法，更包含，形成一元件層於該對透明基板之其 中者之内表面上以及形成一彩色濾光層於該對透明基板之另夕卜一者之内 表面上。 44.如請求項40所述之方法，更包含，形成一元件層及-彩色細於該 對透明基板之其中一者之内表面上。 • 胃求項4G所述之方法，更包含n光學則於該對透明基板之 至少一者之外表面上。 月求項45所叙方法，其巾該具有介電舰之層之機包含液晶材 料、發光材料或上述之組合。 从如申請專利範圍第40項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上大於85%之全光透射率。 狀如申請專利範圍第40項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 • 夕卜表面具有-實質上小於w之散射光透射率。 收如申請專利範圍第40項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有-實質上大於85%之平行光透射率。 5〇.如申請專利範圍第40項所述之方法，其中該對透明基板之至少一者之 外表面具有一實質上介於〇.18微米至6.〇微米之間之輪廓最大高度嫌度。 51·種光电裝置之製造方法，包含如申請專利範圍第π項所述之顯示面 板之製造方法。 兑-種光電裝置之製造方法，包含如申請專利麵第仙項所述之顯示面 26 200835956 板之製造方法。