TWI334492B - High refractive index layer, production process of curable coating composition, antireflection film, polarizing plate and image display device using thereof - Google Patents

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1334492 玖、發明說明： (一） 發明所屬之技術領域 本發明係關於一種高折射率層、一種使用此高折射率 層之抗反射膜、一種偏光板、及一種影像顯示裝置，而且 進一步關於一種可硬化塗料組成物之製法、一種硬化膜、 一種使用此膜之抗反射膜、一種偏光板、及一種影像顯示 裝置。 (二） 先前技術 具有抗反射力之保護膜（抗反射膜）迄今已提供於用 於透鏡或影像顯示裝置之透明基材上，如玻璃或塑膠基材 。特別地，抗反射膜係配置於用於各種顯像裝置之顯示表 面上，如液晶顯示裝置（LCD)、電漿顯示面板（PDP)、電發 光顯示器（ELD)、與陰極射線顯示裝置（CRT)，以抑制由於 外部光或外部影像造成之對比降低。因此，抗反射膜需要 具有高物理強度（例如，抗刮性）、化學抗性、及耐候性 (例如，抗濕熱性與抗光性等）。至於用於影像顯示器之 抗反射膜，亦已須爲具高折射率層之抗反射膜，其具有比 合成樹脂透鏡用抗反射膜高之折射率，而且其爲無色及透 明。 近年來，液晶顯示裝置（LCD)已變成大尺寸，而且裝 有抗反射膜之液晶顯示裝置大量增加。 亦在液晶顯示裝置（LCD)中，偏光板爲不可或缺之構 件，而且通常具有其中偏光膜係以兩個保護膜保護之結構 。對保護膜提供抗反射力造成大爲降低顯示裝置之製造成 1334492 本及厚度。 抗反射膜通常由多層膜形成，其係i多層彼此層壓且 彼此折射率不同（如高折射率層、中折射率層、與低折射 率層）之含金屬氧化物透明及薄層組成》此金屬氧化物透 明薄膜係藉化學蒸氣沈積（CVD)法、物理蒸氣沈積（PVD)法 '或真空蒸氣沈積法（其爲物理蒸氣沈積法之一種）形成 。或者，亦已提議藉由依照溶膠法使用金屬化合物（如金 屬烷氧化物）形成膠體金屬氧化物顆粒膜，繼而後處理（UV 射線照射；參見 JP-A-9- 1 57855號專利；電漿處理；參見 JP-A-2000-9 90 8號專利）而形成薄膜。 然而，上述形成金屬氧化物透明薄膜之方法之生產力 不良，而且不適合大量生產》因此，已期待一種藉由具高 生產力之塗覆技術形成薄膜之方法。 在藉塗覆製備抗反射膜之情形，使用黏合劑樹脂作爲 用於形成膜之基質。此黏合劑樹脂通常具有1.45至1.55之 折射率，因此藉由選擇其中使用之無機顆粒之種類及量而 適當地調整各層之折射率。特別地，在高折射率層，具高 折射率之無機細粒爲必要的，而且將具高折射率之無機細 粒均勻地分散於具足夠膜強度之基質中而不黏聚極爲重要 〇 至於具高折射率之無機細粒，已知具有1.7或更高折 射率之透明單金屬（例如，Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta 、La、或In)氧化物之細粒（例如，JP-A-8-1 1 040 1與JP-A-8-1 22504號專利；在此使用之名詞” JP-A”表示「未審査 1334492 公告日本專利申請案」）。亦已提議藉由將高折射無機細 粒以較高量引入薄膜中，同時將高折射無機細粒保持爲細 微分散狀態，而形成高折射率層（例如，參見JP-A-11-153703 與JP-A-2001-1 66104號專利）。其中，二氧化鈦爲一種具 有極高折射率之化合物，而且對於將此化合物如細粒引入 極爲有效（例如，JP-A-2000-9908 與 JP-A-200 1 -3 1 0423 號 專利）。然而，二氧化鈦具有光催化活性且具有嚴重不良 之耐候力。因此，在日光下長期使用高折射率膜（抗反射 膜）時，其分解含於高折射率膜中之有機化合物且膜之物 理強度與光學性能嚴重地退化，因此此膜涉及關於膜之耐 久力之問題。對於此問題，爲了改良耐候力之目的，已提 議一種以其他之金屬化合物覆蓋二氧化鈦顆粒表面以提供 層壓結構細粒之技術（例如，JP-A-200 1 - 1 661 04與 JP-A-2000-204301 號專利）。 另一方面，亦已提議各種含多種選自上述金屬元素、Si 、Al、Fe、W等之元素之複合金屬氧化物（雙重氧化物） (例如，JP-A-8-234001、 JP-A-10-306258 與 JP-A-11-140207 號專利）。特別地，其中揭示含高複合氧化物（含鈦）之 高折射率膜。例如，已提議如氧化鈦-氧化鉋-氧化矽之複 合金屬氧化物（JP-A-2000-204301號專利）、氧化鈦-氧化 鉻-氧化錫之複合氧化物（JP-A-8-113760號專利）、及氧 化錫-氧化鈦之複合氧化物（JP-A- 1 0-306258號專利）之複 合金屬氧化物。 亦已提議一種因複合氧化物含Si、A1等與上述高折射 -7- 1334492 率金屬元素一起，而改良顆粒之分散力及膜性質之技術（ 例如，參見 JP-A-9-21901、 JP-A-11-140207 與】？-八-2002-3 0 2 5 0號專利）。 然而，此含鈦複合氧化物遭受耐光性之降低，雖然其 可隨增加含量之具高折射率之氧化鈦而將折射率維持在高 程度。此外，上述技術仍不足以使用足以維持充分膜強度 及抗脆性之量之基質設計高折射薄膜。 因此，已需要製備一種耐候力（特別是抗光性）及膜 強度（例如，抗脆性、硬度與黏附性）優良之高折射率膜 。然而，此需求尙未完全符合。另一方面，已提議以氧化 鈦與氧化鉍之複合氧化物作爲強化黃色熱電-光燈泡發光效 率之金屬氧化物塗料（JP-A-7-281023號專利）。然而，其 中並未揭示複合氧化物可作爲塗料型式抗反射膜之無色透 明膜。 (三）發明內容 本發明之一個目的爲提供一種耐候力優良之高折射率 層。 本發明之進一步目的爲提供一種耐候力優良之抗反射 膜，其可不昂貴地大規模提供。 本發明之另一個目的爲提供一種製造光學性質及耐久 力優良之可硬化塗料組成物之方法。 本發明之進一步目的爲提供一種光學性質及耐久力優 良之硬化膜。 本發明之進一步目的爲提供一種光學性質及耐久力優 -8- 1334492 良之抗反射膜，其可不昂貴地大規模提供。 本發明之進一步目的爲提供一種已經由適當手段接受 產生抗反射性質處理之偏光板及一種影像顯示裝置。 上述之問題可藉以下組成之本發明解決。 1. 一種高折射率層，其包括基質與高折射率複合氧化物之 細粒， 其中高折射率複合氧化物之細粒爲含以下之複合氧化物 之細粒：鈦元素；及至少一種金屬元素，其中至少一種 金屬元素之氧化物具有1.9 5或更高之折射率，及 此複合氧化物摻雜至少一種選自Co離子、Zr離子與A1 離子之金屬離子。 2·如第1項所述之高折射率層，其中高折射率複合氧化物 之細粒經至少一種選自無機化合物與有機化合物之化合 物表面處理。 3. 如第1或2項所述之高折射率層，其中基質含至少一員 選自有機黏合劑、有機金屬化合物與其部份水解物之硬 化產物。 4. 如第1至3項任一項所述之高折射率層，其具有1.75 至2.4之折射率。 5. 如第1至4項任一項所述之高折射率層，其係由藉由使 用分散劑將高折射率複合氧化物之顆粒分散而得到之組 成物形成’其中分散劑爲一種具有至少一個選自羧基、 硫基、膦基、與氧膦基之陰離子性基之化合物。 6·如第5項所述之高折射率層，其中分散劑爲一種含可交 -9- 1334492 聯或可聚合官能基之化合物。 —種抗反射膜，其依序包括：透明撐體；如第1至6項 任一項所述之高折射率層；及具有小於丨.5 5之折射率之 低折射率層。 8· 一種抗反射膜，其依序包括透明撐體；兩層如第1至6 項任一項所述且彼此折射率不同之高折射率層：及具有 小於1 · 5 5之折射率之低折射率層。

9.如第7或8項所述之高折射率層，其進一步在透明撐體 與高折射率層間包括硬塗層。 1〇·—種偏光板，其包括偏光膜及其保護膜，其中保護膜爲 如第7至9項任一項所述之抗反射膜。 11· 一種偏光板，其包括一種偏光膜及其保護膜，其中保護 膜之一爲如第7至9項任一項所述之抗反射膜，及另一 個保護膜爲具有光學各向異性之光學補償膜。

12. 如第11項所述之偏光板，其中該光學補償膜包括透明 撐體及含光學各向異性層之光學補償層，此光學各向異 性層含一種具盤型結構單位之化合物，其中盤型結構單 位之碟面向透明撐體面傾斜，及碟面與透明撐體面間之 角度在光學各向異性層之深度方向改變。 13. —種影像顯示裝置，其在影像顯示表面上包括如第7至 9項任一項所述之抗反射膜或如第1〇至12項任一項所 述之偏光板。 14. —種製造包括膜形成可硬化化合物及高折射率複合氧化 物細粒之可硬化塗料組成物之方法，其中高折射率複合 -10- 1334492 氧化物細粒含：鉍元素；及至少一種金屬元素’其中至 少一種金屬元素之氧化物具有1.95或更高之折射率， 其中此方法包括使用具小於1毫米之平均粒度之介質濕 分散高折射率複合氧化物顆粒與分散劑，因而製造具15〇 奈米或更小之平均粒度之高折射率複合氧化物細粒。 15. 如第14項所述之方法，其中該分散劑爲一種具極性基 之聚合物分散劑。 16. 如第15項所述之方法，其中該極性基爲至少一種選自 羧基、硫基、膦基、氧膦基之陰離子性基。 17. 如第15或16項所述之方法，其中該分散劑爲一種具有 可交聯或可聚合官能基之化合物。 18. 如第14至17項任一項所述之方法，其中該膜形成可硬 化化合物爲可硬化有機黏合劑、有機金屬化合物與其部 份水解物至少之一。 19. —種硬化膜，其具有1.85至2.5之折射率，而且由含膜 形成可硬化化合物與具1〇〇奈米或更小之平均粒度之高 折射率複合氧化物細粒之可硬化塗料組成物形成’此高 折射率複合氧化物細粒含：鉍元素；及至少一種金屬元 素，其中至少.一種金屬元素之氧化物具有1.95或更高 之折射率。 20. —種抗反射膜，其依序包括透明撐體；如第19項所述 之硬化膜；及具有小於1.55之折射率之低折射率層。 21. —種抗反射膜，其依序包括透明撐體；兩層如第19項 所述且彼此折射率不同之硬化膜；及具有小於丨.55之折 1334492 射率之低折射率層。 2 2.如第20或21項所述之抗反射膜，其進一步在透明撐體 與硬化膜間包括硬塗層。 23. —種偏光板，其包括偏光膜及其保護膜，其中保護膜爲 如第20至22項任一項所述之抗反射膜》 24. —種偏光板，其包括一種偏光膜及其保護膜，其中保護 膜之一爲如第20至22項任一項所述之抗反射膜，及另 一個保護膜爲具有光學各向異性之光學補償膜。 25. 如第24項所述之偏光板，其中該光學補償膜包括透明 撐體及含光學各向異性層之光學補償層，此光學各向異 性層含一種具盤型結構單位之化合物，其中盤型結構單 位之碟面向透明撐體面傾斜，及碟面與透明撐體面間之 角度在光學各向異性層之深度方向改變。 2 6.—種影像顯示裝置，其在影像顯示表面上包括如第20 至22項任一項所述之抗反射膜或如第23至25項任一 項所述之偏光板。 27· —種影像顯示裝置，其包括如第20至22項任一項所述 之抗反射膜或如第23至25項任一項所述之偏光板，其 中偏光板爲提供於液晶光電管兩側上之兩個偏光板之顯 示側上之偏光板’及抗反射膜配置於液晶光電管之相反 側。 2 8.如第26或27項所述之影像顯示裝置，其爲透光型、反 射型或半透光型液晶顯示裝置，其各爲TN-、STN-、IPS-、VA-、或 OCB-模式。 1334492 (四）實施方式 本發明更詳細地敘述於下。 首先，關於高折射率層之本發明更詳細地敘述於下。 [高折射率層] 本發明之高折射率層含鈦與至少一種金屬元素（其氧 化物具有1.95或更高之折射率）之複合氧化物細粒，及基 質。 本發明之高折射率層具有較佳爲1.75至2.40，更佳爲 1.80至2.40，仍更佳爲1.85至2.30之折射率》 (高折射率複合氧化物之細粒） 本發明中之高折射率複合氧化物細粒敘述於下。 依照本發明之複合氧化物細粒爲鈦元素、與至少一種 選自其氧化物具有1.95或更高折射率之金屬元素之金屬元 素（以下亦簡稱爲”Met”）之複合氧化物顆粒，此複合氧化 物摻雜至少一種選自Co離子、Zr離子與A1離子之金屬離 子。至於其氧化物具有1.9 5或更高折射率之金屬元素，Ta 、Zr、In、Nd、Sb、Sn、與 Bi 較佳，以 Ta、Zr、Sn、與 Bi 特佳。 複合氧化物細粒中之Ti元素比例（以二氧化鈦（Ti〇2) 計）較佳爲0.6至0.99重量比例，更佳爲0.7至0.95重量 比例，仍更佳爲0.75至0.90重量比例。 複合氧化物細粒較佳爲具有如金紅石結構 '金紅石/銳 欽礦混合結晶結構、銳駄礦結構、或非晶結構。顆粒之主 要成分特別是金紅石結構。 -13- 1334492 複合氧化物顆粒爲摻雜至少一種選自Co離子、Zr離 子與Α1離子之金屬離子之複合氧化物顆粒。至於摻雜之金 屬離子’ Co離子與Zr離子較佳，以Co離子特佳。 就維持折射率程度而言，以組成複合氧化物之金屬 [Ti + Met]總量計，摻雜至複合氧化物中之金屬離子含量較 佳爲不超過25重量％之範圍》此含量更佳爲〇.〇5至10重 量％，仍更佳爲0,1至5重量％，最佳爲0.3至3重量％。 摻雜之離子可以任何金屬離子與金屬原子之形式存在 ，而且較佳爲存在於複合氧化物之表面至其內部。較佳爲 金屬離子存在於表面及其內部。 在以上述範圍之量摻雜金屬離子時，所得之複合氧化 物高折射率細粒需要在380奈米至600奈米範圍之良好透 明度及高折射率，而且明顯地抑制或去除不欲之光催化活 性。顆粒之折射率可調整至1.98至2.60之範圍，而且較佳 爲將折射率調整至2.00至2.55之範圍內。 複合氧化物高折射率細粒之一級顆粒之重量平均粒度 較佳爲1至200奈米，更佳爲3至150奈米，仍更佳爲5 至100奈米，特佳爲10至80奈米之範圍。 細粒之粒度可依照光散射法或由電子顯微照片測量。 細粒之表面積比較佳爲15至400平方米/克，更佳爲20至 200平方米/克》 在不犧牲折射率與透明度之範圍內，依照本發明之高 折射率複合氧化物細粒可依照最終目的進^步含其他元素 。可含其他之元素作爲雜質，因此其不特別地限制。其他 -1 4 _ 1334492 元素之實例包括 Li、Be、B、Na、Mg、Si、K、Ca、Sc、V 、C r、Μ n、F e、N i、C u ' Z n ' G a ' G e、R b ' S r、Y、Μ o、 Cs、Ba、La、Hf、W、T1、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu 、Gd ' Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb 等。例如，力口入 Si 而形 成三元複合氧化物可使顆粒更細且改良顆粒之分散力。 複合氧化物細粒可依照習知燒結法、溶膠法、噴鍍法 、或CVD法合成。例如，可參考Kozo Tabe等人編輯之 Kinzoku Sartkabutsu To Fukugo S a n k a b u t s 11 Γ Kabushikikaisha Kodansha 於 1978 年出版）；Jpn. J. Appl. Phvs.竿 32 卷， 第 4158-4162 頁（1993); JP-A-11-71103; JP-A-11-228139; JP-A-11-79746;及 JP-A-2002-206062 號專利所示之敘述。 至於以Co離子、A1離子或Zr離子摻雜劑摻雜複合氧 化物之方法，可使用習知方法。例如，摻雜之氧化物可依 照離子注射法（例如，敘述於Shun-ichi Gonda' Junzo isikawa 與Eiji Kamijo編輯且由K.K. CMC在1 989年出版之Ion Beam Oyo Gijutsu； Yasushi Aoki 之 HyomenKagaku，第 18，（5) 卷，第 262 頁，1 998；及 Hyomen Kagaku 第 20 (2)卷，第 60 頁 ’ 1 999 )或 JP-A-5-3 30825、JP-A-1 1 -263620 ' JP-T-1 1 -5 1 2336號專利（在此使用之名詞’’JP-T”表示PCT專利申請 案之公告日文翻譯）或EP-A-03 3 5 7 73號專利所述之方法製 造。 依照本發明之複合氧化物細粒之高折射率細粒可接受 表面處理。此表面處理可藉由使用至少一種選自無機化合 物與有機化合物之化合物改良顆粒表面而進行，其用以調 -15- 1334492 整顆粒表面之濕性質以使顆粒在有機溶劑中變細，及改良 在高折射率層形成組成物中之分散力或分散安定性。用於 表面處理之無機化合物之實例包括含鈷無機化合物（例如 ，（:〇02、Co203與C〇304 )、含鋁化合物（例如，Al2〇3與 ai(oh)3) '含锆無機化合物（Zr〇2與Zr(OH)4)、及含矽無 機化合物（例如，Si02)。 至於用於表面處理之有機化合物，可使用習知之無機 塡料用表面改良劑，如金屬氧化物或無機顏料。例如，其 叙述於 Ganrvo Bunsan A n t e i k a To Hvom en S h o r i G ϊ j u t s u -Hvoka，第 1 章（Gijutsu Joho Kyokai 於 2001 年出版）。 更特別地，已有描述具有極性基（其對高折射率複合 氧化物細粒之表面具有親和力）之有機化合物，及偶合化 合物。對高折射率複合氧化物細粒之表面具有親和力之極 性基之實例包括羧基 '膦基、羥基、氫硫基、環形酸酐基 、與胺基。在分子內具有至少一個極性基之化合物較佳。 其實例包括長鏈脂族羧酸（例如，硬脂酸、月桂酸、油酸 、亞麻油酸、次亞麻油酸等）、多醇化合物（例如，異戊四 醇三丙烯酸酯、二異戊四醇五丙烯酸酯、經ECH改質甘油 三丙烯酸酯等）、含膦基化合物（例如，經EO (環氧乙烷 )改質磷酸三丙烯酸酯等）、烷醇胺（例如，乙二胺EO加 成物（5莫耳）等）》 至於偶合化合物，已有描述習知有機金屬化合物，其 包括矽烷偶合劑、鈦酸酯偶合劑與鋁酸酯偶合劑。矽烷偶 合劑最佳。特別地，例如，已有描述敘述於JP-A-2002-9908 _ 1 6 _ 1334492 及JP-A-2001-3 1 -423號專利，第[ooii]至[0015]段之化合物 〇 用於表面處理之上述化合物可以其二或更多種之組合 使用。爲了使高折射率複合氧化物細粒之表面接受有機化 合物及/或有機金屬化合物之表面處理而產生疏水性質，將 具極性基之有機化合物及/或有機金屬化合物溶於有機溶劑 中’及將已或未接受無機化合物之表面處理之高折射率複 合氧化物細粒分散於溶液中，繼而將有機溶劑完全地蒸發 ’如此使顆粒表面被塗覆。 本發明之複合氧化物細粒可作爲核/殼結構之細粒，其 中顆粒組成具有含無機化合物殻之核。至於殼，含至少一 種選自Al、Si與Zr之元素之氧化物較佳。特別地，例如 ’已有描述於JP-A_200 1 - 1 66 1 04號專利所示之敘述。 含於高折射率層之高折射率複合氧化物細粒之形狀並 未特別地限制，而且可描述爲似米粒形、球形、立方形、 似軸形、似針形、及不定形狀。 (高折射率複合氧化物細粒之分散液） #發明之高折射率層較佳爲藉由使用分散劑將高折射 率·胃合氧化物顆粒以製備用於形成高折射率層之組成物， &將其塗覆於透明撐體或其他層上，繼而乾燥而形成。 用於分散高折射率複合氧化物細粒之分散劑較佳爲具 @1*生基（其對複合氧化物細粒之表面具有親和力）之低分 子量化合物或聚合物化合物。 極性基之實例包括羥基、氫硫基、羧基、硫基、膦基 -17- 1334492 、氧膦基、-P( = 〇)(R)(〇H)基、-0-P( = 0)(R)(0H)基、磺醯胺 基、含環形酸酐基、胺基、與四級銨基。在上述基中，R 表示含1至18個碳原子之烴基（例如，甲基、乙基、丙基 、丁基、己基 '辛基、癸基、十二碳基、十八碳基、苄基 、苯乙基、與環己基）。極性基中，具有解離質子之基可 爲鹽形式。胺基及四級銨基可爲任何一級胺基、二級胺基 與三級胺基，以三級胺基或四級銨基更佳。在二級胺基、 三級胺基或四級銨基中鍵結至氮原子之基較佳爲含1至12 個碳原子之脂族基（例如，與關於上述R所述相同）。三 級胺基亦可爲形成含氮環（例如，六氫吡啶環、嗎啉環、 六氫吡哄環、或吡啶環）之胺基，此外，四級銨基可爲此 環形胺基之四級銨基。特別地，具有1至6個碳原子之烷 基者更佳。 至於四級銨基之抗衡離子，鹵離子、PF6離子、SbF6 離子、BF4離子、磺酸離子等較佳。 極性基較佳爲陰離子性基。特別地，羧基、硫基、膦 基、氧膦基、及這些基之鹽較佳，以羧基、膦基與氧膦基 更佳》 分散劑在分子內可具有多個極性基。 分散劑更佳爲具有可交聯或可聚合官能基。在此使用 之名詞「可交聯或可聚合官能基」表示可聚合形成聚合物 且可使聚合物鏈經聚合物鏈彼此交聯之官能基。 可交聯或可聚合官能基之實例包括可與自由基物種（ 例如，（甲基）丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、或乙烯氧 -18- 1334492 基羰基、或乙烯氧基）進行加成反應或聚合反應之乙烯不 飽和基、陽離子可聚合基（例如，環氧基、硫環氧基、氧 雜環丁基、乙烯氧基、或螺正酯基）、及多縮合反應性基 (例如，可水解矽烷基或N:羥甲基），以乙烯不飽和基與 環氧基較佳。 特別地，例如，已有描述於JP-A-200 1 -3 1 0423號專利 ，第[0013]至[0015]段所述者，雖然本發明之化合物不限於 此。 至於用於分散用於本發明高折射率層之高折射率複合 氧化物細粒之分散劑，聚合物分散劑亦較佳。特別地，具 陰離子性基且具可交聯或可聚合官能基之聚合物分散劑較 佳。 聚合物分散劑之重量平均分子量（Mw)並未特別地限制 ’但是較佳爲lxlO3或更大。Mw更佳爲2xl03至lxlO6 ’仍更佳爲5x 103至2x 1〇5，特佳爲1X 1〇4至ιχ ι〇5β 聚合物分散劑中之極性基及可交聯或可聚合官能基係 含於聚合物主鏈末端或成爲聚合物形成單位側鏈（以下亦 稱爲「側鏈」）之取代基。其中極性基係鍵結至聚合物主 鏈末端及/或側鏈，而且可交聯或可聚合官能基係鍵結至側 鏈之聚合物分散劑較佳。至於將極性基引入側鏈中之技術 ’例如，有聚合含陰離子性基單體（例如，（甲基）丙烯 酸、順丁烯二酸、部份酯化順丁烯二酸、伊康酸、巴豆酸 、（甲基）丙烯酸2-羧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-硫乙酯 、（甲基）丙烯酸2-膦氧基乙酯、（甲基）丙烯酸2,3-二 一 1 9 一 1334492 羥基丙酯、（甲基）丙烯酸2-N，N-二甲胺基乙酯、或（甲 基）丙烯醯氧基乙基三甲銨PF6離子鹽）之技術，及利用 酸酐在具有羥基或胺基之聚合物上之聚合物反應之技術。 在側鏈中具有極性基之聚合物分散劑中，以全部聚合 單位之重量計’含極性基之聚合單位之含量較佳爲0.1至100 重量％，更佳爲1至80重量％，特佳爲5至50重量％之範 圍。 另一方面，至於將極性基引入主鏈末端中之技術，有 在含極性基鏈轉移劑（例如，乙硫醇酸）存在下進行聚合 反應之技術，使用含極性基引發劑（例如，Wako Pure Chemical Industries，Ltd.製造之V-501)進行聚合反應之技 術，及使用具反應性基（如鹵素原子、羥基或胺基）之鏈 轉移劑或聚合引發劑進行聚合反應，然後經聚合反應引入 極性基之技術。 特佳分散液爲在其側鏈中具有陰離子性基之分散液。 至於可交聯或可聚合官能基，已有描述爲可與自由基 物種（例如，（甲基）丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、或 乙烯氧基）進行加成反應或聚合反應之乙烯不飽和基、陽 離子可聚合基（例如，環氧基、氧雜環丁基或乙烯氧基） 、及多縮合反應性基（例如，可水解矽烷基或N-羥甲基） ，以乙烯不飽和基較佳。亦對於這些可交聯或可聚合官能 基，聚合物主鏈與可交聯或可聚合官能基間之原子（不含 鍵結至碳原子、氮原子、砂原子等之氫原子）總數較佳爲6 或更多個，更佳爲8至22個，而使交聯或聚合反應更順利 -20- 1334492 地進行。 依照本發明之分散劑具有聚合單位，其在側鏈中具乙 烯不飽和基作爲可交聯或可聚合官能基。至於側鏈中具乙 烯不飽和基之聚合單位之實例，可利用聚丁二烯或聚-1,2 -異戊二烯結構之聚合單位，或指定殘基（_c〇〇r或_ CONHR中之R基）鍵結之（甲基）丙烯酸酯或醯胺之聚合 單位。指定殘基（R)之實例包括-(CUCRfCI^I^、-(CH20)n-CH2CR, = CR2R3 ' -(CH2CH20)n-CH2CR,=CR2R3 ' -(CH2)n-NH-C0-0-CH2CR,=CR2R3 ' - (C Η 2) „-Ο - C Ο - R, = C R2 R3 、與- (CH2CH20)2-X(其中1至r3各表示氫原子、鹵素原 子（例如’氟原子或氯原子）' 含1至20個碳原子之烷基 '芳基、烷氧基、芳氧基、或氰基，心與r2S r3視情況 地彼此鍵結形成環’ η表示1至1〇之整數，及X表示二環 戊二烯基殘基）。酯部份之指定殘基包括_CH2CH = CH2 (對 應JP-A-64-17047號專利所述之（甲基）丙稀酸嫌丙酯之 ^ ^ ' -CH2CH20-CH2CH=CH2 ' -CH2CH2OCOCH=CH2 ' - CH2CH2OCOC(CH3) = CH2 ' -CH2C(CH3) = CH2 ' -ch2ch = ch-C6H5 ' -CH2CH2OCOCH = CH-C6H5 ' -CH2CH2-NHCOO- ch2ch = ch2、與- ch2ch2o-x (其中X表示二環戊二烯基殘 基）。酿胺基部份之指定殘基之實例包括-CH2CH = CH2、-CH2CH2-Y (其中Y表示1-環己烧基殘基）、-CH2CH2-OCO- ch = ch2' 與-ch2ch2-oco-c(ch3) = ch2。 使用具有乙烯不飽和基之分散劑，在自由基（聚合引 發自由基或在可聚合化合物之聚合期間產生之生長自由基 -21- 1334492 合物鏈造 基吸引分 氫原子） 結形成分 技術，例 至於具有 組成含極 劑之全部 :較佳爲1 分、含可 成分之共 各種觀點 力 '及所 丙烯酸酯 苯乙烯與 限制，但 合成容易 JP-A-1 1· )加入不飽和鍵基而直接或經可聚合化合物之聚 成分子間之加成聚合時發生硬化。或者，在自由 子中之原子（例如，相鄰不飽和鍵之碳原子上之 而產生聚合物自由基，然後聚合物自由基彼此鍵 子間之交聯時發生硬化。 至於將可交聯或可聚合官能基引入側鏈中之 如’可參考JP-A-3_24965 3號專利所示之敘述。 可交聯或可聚合官能基之單位之含量，此單位可 性基聚合單位以外之所有聚合單位，而且以分散 聚合單位計，含可交聯或可聚合官能基單位之含| 至8 0重量％，特佳爲3至6 0重量％。 依照本發明之分散劑可爲含極性基可聚合成 交聯或可聚合官能基可聚合成分、與其他可聚合 聚物》其他可聚合成分並未特別地限制，而且視 而選擇，如分散安定力、與其他單體成分之相容 形成膜之強度。其較佳實例包括甲基丙烯酸酯、 、羧酸乙烯酯、（甲基）丙烯醯胺與其衍生物、 其衍生物、及丙烯腈。 依照本發明之分散劑對聚合形式並未特別地 是嵌段共聚物或無規共聚物較佳。就製造成本與 性而言，無規共聚物特佳。 這些分散劑之較隹指定實例敘述於，例如； 153703 號專利，第[0023]至[0042]段。 用於高折射率複合氧化物細粒之分散劑之量較佳爲1 1334492 至50重量％ ’更佳爲5至30重量％，最佳爲5至20重量％ 之範圍。二或更多種分散劑可組合使用。 較佳爲藉由在上述分散劑存在下將細粒分散於分散介 質中，而分散高折射率複合氧化物細粒。 至於分散介質，較佳爲使用具有60至170°C之沸點之 液體。 分散介質之實例包括水、醇類（例如，甲醇、乙醇、 異丙醇、丁醇、與苄醇）、酮類（例如，丙酮、甲乙酮、 甲基異丁基酮、與環己酮）、酯類（例如，乙酸甲酯、乙 酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲 酸丙酯、與甲酸丁酯）、脂族烴類（例如，己烷、環己烷 )、鹵化烴類（例如，二氯甲烷、氯仿或四氯化碳）、芳 族烴類（例如，苯、’甲苯、與二甲苯）、醯胺類（例如， 二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、與正甲基吡咯啶酮）、醚 類（例如，二乙醚、二噚烷、四氫呋喃、與二乙醇二甲酸 )、及醚醇類（例如，1-甲氧基-2-丙醇、乙基纖維素、與 甲基甲醇）。其可單獨或組合其二或更多種使用。較佳之 分散介質包括甲苯、二甲苯、甲乙酮、甲基異丁基酮、環 己酮、與丁醇。 較佳爲使用分散機械分散高折射率複合氧化;物細粒。 分散機械之實例包括砂輪硏磨機（例如，具針之球磨機） 、高速動葉輪硏磨機、圓石硏磨機、輥磨機、磨粉機、與 磨膠機。特別地，砂輪硏磨機與高速動葉輪硏磨機較佳。 亦可進行預備性分散處理。用於預備性分散處理之分 -23- 1334492 械之實例包括球磨機、三輥硏磨機、捏合機、與擠壓機》 高折射率複合氧化物細粒較佳爲儘可能細微地分散於 分散介質中，而且重量平均粒度較佳爲1至200奈米，更 佳爲3至150奈米，仍更佳爲5至100奈米，特佳爲10至 80奈米。 藉由使高折射率複合氧化物細粒細微至200奈米或更 小，可形成高折射率層而不損壞透明度。 以高折射率層重量計，高折射率複合氧化物細粒之含 量較佳爲10至90重量％，更佳爲15至80重量％，特佳爲 15至75重量％。二或更多種高折射率複合氧化物細粒可用 於高折射率層內。 在分散處理完成後，高折射率複合氧化物細粒係如亦 含用於製備形成高折射率層用塗料溶液之分散劑之分散液 而使用。 其次，關於可硬化塗料組成物之製法之本發明更詳細 地敘述於下。 本發明之方法爲一種製造可硬化塗料組成物之方法’ 其至少含鉍元素及至少一種選自其氧化物具有丨·95或更高 折射率之金屬元素之金屬元素之高折射率複合氧化物細粒 、及膜形成可硬化化合物，此方法包括使用平均粒度小於1 毫米之介質濕分散高折射率複合氧化物細粒與分散劑’因 而產生平均粒度爲150奈米或更小之高折射率複合氧化物 細粒。 [可硬化塗料組成物] -24- 1334492 依照本發明之可硬化塗料組成物至少含鉍元素及至少 —種選自其氧化物具有1.95或更高折射率之金屬元素之金 屬元素之高折射率複合氧化物細粒、及膜形成可硬化化合 物。 (高折射率複合氧化物細粒） 高折射率複合氧化物細粒包括鉍元素（Bi)及至少一種 選自其氧化物具有1.95或更高折射率之金屬元素之金屬元 素（以下亦簡稱爲”Met”）。至於其氧化物具有1.95或更 高折射率之金屬元素，Ti、Ta、Zr、In、Nd、Sb、與Sn較 佳，以Ti、Ta與Zr更佳。 就莫耳比例[Bi/Bi + Met]而言，Bi在複合氧化物細粒中 之比例較佳爲〇.〇1至0.15,更佳爲0.02至0.13,特佳爲0.03 至〇. 1 〇。具有此範圍內之比例之細粒可得具有明顯高折射 率之硬化膜，同時在波長3 00至60 0奈米之範圍維持良好 之透明度。 複合氧化物細粒之結構可視爲單一物質、各元素之氧 化物或其複合氧化物之混合物或非晶物質。雖然折射率之 改良歸因於何種因素並不明確，由於Met-Bi-Ο模型之存在 ，依照本發明之複合氧化物細粒具有比Bi氧化物（即，Bi2〇3 )或Met氧化物（即，Ti02、Ta205、Zr02等）高之折射率 。就得到高折射率而言，複合氧化物細粒亦具有結晶結構 〇 在不犧牲折射率與透明度之範圍內，依照本發明之高 折射率複合氧化物細粒可依照最終目的進一步含其他元素 -25- 1334492 ，如此形成多元素複合氧化物。可含其他之元素作爲H胃

，因此其不特別地限制。其他元素之實例包括Li、Be、B 、Na ' Mg、A1、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Μη、Fe、Co、Ni 、Cxi、Zn ' Ga ' Ge、Rb、Sr、Y ' Μo、Sn、Sb、Cs ' Ba、

La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb 、Dy、Ho、Er、Tm、Yb等。例如，加入Si或A1而使顆 粒更細且改良顆粒之分散力。 高折射率複合氧化物可依照習知燒結法、溶膠法、噴 鍍法、或CVD法合成。例如，可參考Kozo Tabe等人編輯 之 Kinzoku Sankabntsii To Fukugn Sankahutsn ( Kabushikikaisha Kodansha 於 1978 年出版）；Jpη T Appl Phys.第 32 卷，第 4 1 58-4 1 62 頁（1 993);1?-八-11-711〇3;】？-A-ll-228139: JP-A-11-79746:及 JP-A-2002-206062 號專利 所示之敘述。 依照本發明之複合氧化物顆粒可接受表面處理。此表 面處理可藉由使用無機化合物及/或有機化合物改良顆粒表 面而進行，其用以調整顆粒表面之濕性質以使顆粒在有機 溶劑中變細，及改良在高折射率層形成組成物中之分散力 或分散安定性。 至於用於表面處理之無機化合物，已描述物化地吸附 至顆粒表面上之無機化合物，及其實例包括含矽無機化合 物（例如，Si02)、含鋁無機化合物（例如，ai2o3、ai(oh)3 等）、含鈷無機化合物（例如，Co02、Co203、Co304等）、 含鉻無機化合物（例如，Zr02 ' Ζγ(ΟΗ)4等）、及含鐵無機 -26- 1334492 化合物（例如，F e 2 Ο 3 )。 至於用於表面處理之有機化合物，可使用習知之無機 塡料用表面改良劑，如金屬氧化物或無機顏料。例如，其 欽述於 G a n r y ο B u n s an Anteika To H v r> m β n S h o r i G i j u t s u - H.yoka，第 1 章（Gijutsu Joho Kyokai 於 2001 年出版〉。 更特別地，已有上述之有機化合物。 本發明之複合氧化物細粒可摻雜至少一種選自Co離 子、Zr離子與A1離子之金屬離子。就維持折射率値而言， 以組成複合氧化物之金屬總重量計，摻雜至複合氧化物中 之金屬離子含量較佳爲不超過20重量％之量。此含量更佳 爲0.05至10重量％，仍更佳爲0.1至5重量％，最佳爲0.3 至3重量％。摻雜之金屬離子可以金屬離子或金屬原子之狀 態存在，而且可存在於表面至內部之任何適當位置。 以金屬離子摻雜複合氧化物細粒用以得到具良好抗光 性同時維持高折射率之複合氧化物細粒。上述金屬離子中 ，Co離子用於摻雜較佳。. 至於以金屬離子摻雜顆粒之方法，可使用習知方法。 例如，可使用離子注射法（Shun-ichiGonda、Junzoisikawa 與Eiji Kamijo編輯且由K.K. CMC在1 989年出版之Ihjl Ream Oyo Gijutsu ； Yasushi Aoki 之 Hvomen Kagaku» 第 18(5) 卷，第 262 頁，1 998；及 Shoichi Abo 之 Hyomen Kagaku·’ 第 20(2)卷，第 60 頁，1 999 )。 以可硬化塗料組成物總重量計，可硬化塗料組成物中 之複合氧化物細粒含量較佳爲40至75重量％，更佳爲45 -27- 1334492 至65重量％。在以此範圍內之含量加入時，使用可硬化塗 料組成物形成之硬化膜具有令人滿意之膜強度及高折射率 。複合氧化物細粒以其二或更多種之組合使用。 (分散劑） 用於本發明製法之分散劑並未特別地限制，但是較佳 爲具極性基（其對複合氧化物細粒之表面具有親和力）之 小分子化合物或聚合物化合·物。 本發明之分散劑之極性基之實例包括羥基、氫硫基、 羧基、硫基、膦基、氧膦基、-P( = 〇)(R”（〇H)基、醯胺基（ -CONHR2、-S02NHR2 )、含環形酸酐基 '胺基、與四級銨 基。在上述基中，R1表示含1至18個碳原子之烴基（例如 ，甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二碳 基、十八碳基、氯乙基、甲氧基乙基、氰乙基、苄基、甲 基；基、苯乙基、與環己基）。R2亦表示氫原子或與R1相 同。 極性基中，具有解離質子之基可爲鹽形式。 胺基及四級銨基亦可爲任何一級胺基' 二級胺基與三 級胺基，以三級胺基或四級銨基更佳。在二級胺基、三級 胺基或四級銨基中鍵結至氮原子之基較佳爲含1至12個碳 原子之脂族基（例如，與關於上述R所述相同）》三級胺 基亦可爲形成含氮環（例如，六氫吡啶環、嗎啉環、六氫 吡哄環、或吡啶環）之胺基，此外，四級銨基可爲此環形 胺基之四級銨基。特別地，含1至6個碳原子之烷基者更 佳° 1334492 至於四級銨基之抗衡離子，鹵離子、PF6離子、SbF6 離子、BF4離子、B(R3)4離子（其中R3表示烴基，如丁基 '苯基、甲苯基、萘基、或丁基苯基）、磺酸離子等較佳 〇 極性基較佳爲陰離子性基。特別地，羧基、硫基、膦 基、氧膦基、及這些基之鹽較佳，以羧基、膦基與氧膦基 更佳。 分散劑在分子內亦可具有多個極性基。 分散劑更佳爲具有可交聯或可聚合官能基。可交聯或 可聚合官能基之實例包括可與自由基物種（例如，（甲基 )丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、乙烯氧基羰基、或乙烯 氧基）進行加成反應或聚合反應之乙烯不飽和基、陽離子 可聚合基（例如，環氧基、硫環氧基、氧雜環丁基、乙稀 氧基、或螺正酯基）、及多縮合反應性基（例如，可水解 矽烷基或N-羥甲基），以乙烯不飽和基與環氧基較佳， 特別地’例如，已有描述於jp_A_2〇01_31〇423號專利 ，第[0013]至[0015]段所述者。 至於依照本發明之分散劑，聚合物分散劑更佳。特別 地，具陰離子性基作爲極性基且具可交聯或可聚合官能基 之聚合物分散劑較佳。 聚合物分散劑之重量平均分子量（Mw)並未特別地限制 ，但是依照GPC法測量相對聚苯乙烯較佳爲1χΐ〇3或更大 »Mw更佳爲2><1〇3至1χ1〇6，仍更佳爲5><1〇3至1χι〇5 ，特佳爲8χ 103至8χ 1〇4。 -29- 1334492 具此範圍之Mw之聚合物分散劑將細粒完全 而且可提供不形成黏聚物或沈瀨之安定分散液。 聚合物分散劑中之極性基及可交聯或可聚合 含於聚合物形成單位之主鏈末端，或作爲聚合物 側鏈（以下亦稱爲「側鏈」）之取代基。極性基 結至聚合物主鏈末端及/或側鏈，而且可交聯或可 基較佳爲鍵結至側鏈。 至於將極性基引入主鏈末端中之技術，有在 鏈轉移劑（，例如，乙硫醇酸）存在下進行聚合反 ，使用含極性基引發劑（例如，Wako Pure Industries, Ltd.製造之V-5-1)進行聚合反應之技 用具反應性基（如鹵素原子、羥基或胺基）之鏈 聚合引發劑進行聚合反應，然後經聚合反應引入 技術β 至於將極性基引入側鏈中之技術，例如，有 離子性基單體（例如，（甲基）丙烯酸、順丁烯 份酯化順丁烯二酸、伊康酸、巴豆酸、（甲基）' 羧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-硫乙酯、（甲基） 膦氧基乙酯、·（甲基）丙烯酸2,3-二羥基丙酯、 丙烯酸2-Ν，Ν-二甲胺基乙酯、（甲基）丙烯醯氧 甲銨*PF6離子鹽）或含羥基不飽和化合物與環形 如，順丁烯二酸酐、戊二酸酐、或酞酸酐）間之 技術，及利用聚合反應（例如，羥基、胺基或環 酐或經鹵素取代酸化合物間之反應，及異氰酸基 :地分散， 官能基係 形成單位 較佳爲鍵 '聚合官能 含極性基 應之技術 Chemical :術，及使 轉移劑或 極性基之 聚合含陰 二酸、部 丙烯酸2-丙烯酸2_ (甲基） 基乙基三 酸酐（例 加成物之 氧基與酸 或羧基與 -30- 1334492 具羥基或胺基之酸化合物間之反應）之技術。 至於含極性基聚合物成分之指定實例，可參考JP_A_ 11-153703號專利’第[0024]至[0041]段所示之敘述。 亦在側鏈中具有極性基之聚合物分散劑中，以全部聚 合單位之重量計，含極性基之聚合單位之含量較佳爲〇5 至50重量％ ’更佳爲1至40重量％，特佳爲5至3〇重量％ 之範圍。 亦在可交聯或可聚合官能基係鍵結至側鏈時，聚合物 主鏈與可交聯或可聚合官能基間之原子（不含鍵結至碳原 子、氮原子、砂原子等之氫原子）總數較佳爲6或更多個 ’仍更佳爲8至22個’而使交聯或聚合反應更順利地進行 〇 依照本發明之分散劑較佳爲具有聚合單位，其在側鏈 中具乙締不飽和基作爲可交聯或可聚合官能基。至於側鍵 中具乙稀不飽和基之聚合單位之實例，可利用聚-丨，2 -丁二 稀或聚-1，2 -異戊一燦結構之聚合單位，或指定殘基（_c〇OR 或-<：0>11111中之1〇鍵結之（甲基）丙烯酸酯或醯胺之聚合 單位。指定殘基（R)之實例包括-(CH2)n-CR|=CR2R3、_ (CH20)n-CH2CR, = CR2R3 ' - ( c H 2 C Η 2 Ο) η. c H 2 C R, = C R2 R3 ' -(CH2)n-NH_C0-0-CH2CR 丨= CR2R3 ' _(CH2)n-0-C0-R 丨=CR2R3 、與- (ch2ch2o)2-x(其中1至r3各表示氫原子、鹵素原 子（例如’氟原子或氯原子）、含1至20個碳原子之烷基-、芳基、烷氧基、芳氧基、或氰基，1與1或r3視情況 地彼此鍵結形成環，η表示1至1〇之整數，及又表示二環 1334492 戊二烯基殘基）。酯部份之指定殘基包括-ch2ch = ch2 (對 應JP-A-64- 1 7047號專利所述之（甲基）丙烯酸烯丙酯之 聚合物）、-0112(：112〇-(：112(：11 = (：112、-(：1^2(：112〇(：0(：11 = <：112、-CH2CH2OCOC(CH3) = CH2 ' -CH2C(CH3) = CH2 ' -ch2ch = ch-C6Hs ' -CH2CH2OCOCH = CH-C6H5 ' -CH2CH2-NHCOO-ch2ch=ch2、與-ch2ch2〇-x(其中X表示二環戊二烯基殘 基）。醯胺基部份之指定殘基之實例包括-ch2ch=ch2、-CH2CH2-Y (其中Y表示1-環己烯基殘基）、-ch2ch2-oco-ch = ch2、與-ch2ch2-oco-c(ch3) = ch2。 使用具有乙烯不飽和基之分散劑，在自由基（聚合引 發自由基或在可聚合化合物之聚合期間產生之生長自由基 )加入不飽和鍵基而直接或經可聚合化合物之聚合物鏈造 成分子間之加成聚合時發生硬化。或者，在自由基吸引分 子中之原子（例如，相鄰不飽和鍵之碳原子上之氫原子） 而產生聚合物自由基，然後聚合物自由基彼此鍵結形成分 子間之交聯時發生硬化。 至於將可交聯或可聚合官能基引入側鏈中之技術，例 如’可參考JP-A-3-249653號專利所示之敘述。 至於可交聯或可聚合官能基之含量，此基亦可組成含 極性基聚合單位以外之所有聚合單位，而且以分散劑之全 部聚合單位計，含可交聯或可聚合官能基單位之含量較佳 爲1至70重量％，特佳爲5至5〇重量％。 依照本發明之分散劑可爲含極性基可聚合成分、含可 交聯或可聚合官能基可聚合成分、與其他可聚合成分之共 -32- 1334492 聚物。其他可聚合成分並未特別地限制，只要其可與對應 含極性基可聚合成分及含可交聯或可聚合官能基可共聚合 成分之單體共聚合，而且視各種觀點而選擇，如分散安定 力及所形成膜之強度。其較佳實例包括甲基丙稀酸酯、丙 烯酸酯、羧酸乙烯酯、（甲基）丙烯醯胺與其衍生物、苯 乙烯與其衍生物、及丙烯腈。以全部可聚合成分計，聚合 物分散劑中之其他可聚合成分之含量較佳爲5至95重量％ ，更佳爲30至85重量％。含其他可聚合成分之分散劑之指 定實例示於’例如，JP-A-11-153703號專利，第[〇〇23]至[0 04 2] 號專利。 依照本發明之分散劑並未特別地限制其聚合形式，但 是嵌段共聚物或無規共聚物較佳。此外，由含可交聯或可 聚合基之可聚合成分之聚合物嵌段A (嵌段A)與含有含 極性基之可聚合成分之聚合物嵌段B (嵌段B)組成之AB 型嵌段共聚物、ΑΒΑ型嵌段共聚物、及接枝型嵌段共聚物 較佳。分散劑之嵌段共聚物結構可將複合氧化物細粒轉化 成細粒且改良所得分散液之安定力及硬化膜之膜厚。其可 歸因於聚合鏈在分散溶劑中以尾狀形式吸附至複合氧化物 細粒上，如此利於高聚合物吸附至細粒上，而且使聚.合嵌 段（嵌段Α)之硬化反應較易進行。 嵌段共聚物可依照習知活性聚合反應法製造。即，ΑΒ 型與ΑΒΑ型嵌段共聚物可藉已知之所謂活性聚合反應法合 成，如離子聚合反應（使用有機金屬化合物（例如，烷基 鋰、二異丙基醯胺鋰或鹵化烷基鎂）或碘化氫/碘系統）、 1334492 使用卟啉金屬錯合物作爲觸媒之光聚合反應、基移動聚合 反應、或使用含二硫胺甲酸基化合物及/或含黃原酸基化合 物作爲引發劑以光照射下之聚合反應。 活性聚合可依照敘述於以下之合成方法進行，例如，p. Lutz ' P. Masson 等人之 Ρ ο 1 v m . Bull. 12，79 (1984)，B . C. Anderson、G. D. Andrews 等人之 Macromolecules. 14，1601 (1 98 1)，Koichi Migite 與 Koichi Hatada 之 Kobunshi Kako. 3 6, 3 6 6 ( 1 987)，Toshinobu Higashimura 與 Mitsuo Sawamoto 之 Kohunshi Ronbunshu, 46，189 (1989)，M. Kuroki 與 T. Aida 之 J. Am. Chem. Soc…109,4737 (1987)，D. Y. Sogah、W. R. Hertler 等人之 Macromolecules. 20，1473 (1987)，Takayuki O t s u 之 Kobunshi. 37，k 24 8 (1988)，及 Shun-ichi Himori 與 Ryuichi Otsu 之 Polvm. Rep. Jap.. 3.7，3508 (1988)。 AB型嵌段共聚物亦可藉由使用合成單官能性巨單體經 自由基聚合反應合成接枝型共聚物之方法（合成單官能性 巨單體之方法敘述於文獻YoshikiNakajo與YuyaYamashita 之 Senrvo To Yakuhin. 30，232 (1985)，Akira Ueda 與 Susumu N a g a i 之 Kaeaku T o Kogvo. 60, 57 (1986) > P . F . P empp & E . F r a n t a 之 Advances i n Polymer Science. 58，1 (1984)等） ， 或藉由使用偶氮雙高聚合物引發劑之自由基聚合反應之方 法（Akira Ueda 與 Susumu Nagai 之 Kaeaku To K 〇gyr> 6 0,57 (1 986)等）合成。 用於複合氧化物細粒之分散劑之量較佳爲1至100重 量％，更佳爲5至50重量％，最佳爲10至40重量％之範圍 -34- 1334492 。二或更多種分散劑可組合使用。 (分散介質） 至於用於濕分散本發明之複合氧化物細粒之分散介質 ，較佳爲使用具有50 °C或更高沸點之液體。具有60°C至180 °C之沸點之有機溶劑更佳。 用於本發明之分散介質之實例包括醇類（例如，甲醇 、乙醇、丙醇、丁醇、苄醇、乙二醇、丙二醇、與乙二醇 單乙酸酯）、酮類（例如，甲乙酮、甲基異丁基酮、環己 酮、與甲基環己酮）、醋類（例如，乙酸甲醋、乙酸乙酯 、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯 、與乳酸乙酯）、脂族烴類（例如，己烷與環己烷）、鹵 化烴類（例如，甲基氯仿）、芳族烴類（例如，苯、甲苯 與二甲苯）、醯胺類（例如，二甲基甲醯胺、二甲基乙醯 胺與正甲基吡咯啶酮）、醚類（例如，二噚烷、四氫呋喃 、乙二醇二甲醚、與丙二醇二甲醚）、及醚醇類（例如，！_ 甲氧基-2-丙醇、乙基纖維素與甲基甲醇）^其可單獨或以 二或更多種之組合使用◊較佳之分散介質包括甲苯、二甲 苯、甲乙酮、甲基異丁基酮、環己酮、與丁醇。 分散介質係以使得全部分散組成物成分（.包括複合氧 化物細粒與分散劑）之含量變成較佳爲5至50重量％，更 佳爲10至30重量％之量使用。在此範圍內，分散容易地進 行’而且造成具有產生良好作業力之黏度之分散液。 (使高折射率複合氧化物顆粒變細） 依照本發明之高折射率複合氧化物細粒係以平均粒度 -35- 1334492 爲1 50奈米或更小之細微狀態均勻地分散於可硬化塗料組 成物中。因此，由可硬化塗料組成物形成之硬化膜可爲具 有均勻光學性質之透明，高折射性硬化膜。 將高折射率複合氧化物顆粒分散成上述範圍粒度之細 粒，可僅藉由與分散劑一起使用平均粒度不超過1毫米之 介質之濕分散法而完成。 至於濕分散機械，已有描述習知者，如砂輪硏磨機（ 例如，具針之球磨機）、精磨機、高速動葉輪硏磨機、圓 石硏磨機、輥磨機、磨粉機、與磨膠機。特別地，對於將 本發明之複合氧化物細粒分散成細粒，砂輪硏磨機、精磨 機與高速動葉輪硏磨機較佳。 至於用於分散機械之介質，使用具有小於1毫米之平 均粒度者以得到具有均勻粒度，平均粒度爲100奈米或更 小之無機細粒。介質之平均粒度較佳爲0.8毫米或更小， 更佳爲0.1至0.5毫米。 至於用於濕分散之介質，球粒較佳。其指定實例包括 氧化锆球粒、玻璃球粒、陶瓷球粒、與鋼球粒。平均大小 爲0.1至0.5毫米之氧化鉻球粒由於其耐久力及小粒度而特 佳。 分散步驟中之分散溫度較佳爲20至60°C，更佳爲25 至45°C。在此範圍內之溫度分散成細粒不造成分散顆粒再 黏聚及.沈澱。其係歸因於分散劑吸附於複合氧化物顆粒上 適當地進行，使得不發生由於分散劑自顆粒脫附而造成之 分散液安定力失敗。 -36- 1334492 亦可在濕分散步驟前進行預備性分散處理。用於預備 性分散處理之分散機械之實例包括球磨機、三輥硏磨機、 捏合機、與擠壓機。 本發明之濕分散法製造之複合氧化物細粒較佳爲在分 散介質中儘可能細微，及其在可硬化塗料組成物中之重量 平均粒度爲150奈米或更小。唯有在此範圍，此組成物可 形成不犧牲透明度且具有優良之均勻折射率之高折射率膜 。複合氧化物細粒之粒度較佳爲5至150奈米，更佳爲10 至100奈米，仍更佳爲10至80奈米。 亦較佳爲此細粒不含平均粒度爲500奈米或更大之大 顆粒。以全部顆粒計，此大顆粒之含量較佳爲1 0%或更小 。此外，平均粒度爲3 00奈米或更大之顆粒之含量爲10% 或更小。 複合氧化物細粒之形狀並未特別地限制，而且可描述 爲似米粒形、球形、立方形、似軸形、短纖維形、及不定 形狀。 本發明之高折射率複合氧化物細粒亦可較佳爲核/殻結 構細粒，其中核爲此細粒及殼包括無機化合物。至於此殼 ，至少一種選自 Al、Si與Zr之元素之氧化物較佳。特別 地’例如，已有描述於JP-A-2001-1 66104號專利所示之敘 述。 [硬化膜] 本發明之硬化膜係藉由塗覆至少含高折射率複合氧化 物細粒與膜形成可硬化化合物之可硬化塗料組成物，然後 -37- 1334492 藉光及/或熱硬化而形成均勻薄膜。 由本發明之可硬化塗料組成物形成之硬化膜較佳爲具 有1.85至2.50，更佳爲1.90至2.30之高折射率。 存在於硬化膜基質中之細粒之大小亦爲平均粒度100 奈米或更小，較佳爲5至1〇〇奈米，更佳爲1〇至1〇〇奈米 ，最佳爲1〇至80奈米。 高折射率層用基質及用於形成膜之可硬化化合物詳細 敘述於下。 高折射率層至少含高折射率細粒及基質。 依照本發明之較佳具體實施例，高折射率層用基質係 藉由塗覆用於形成高折射率層之組成物及將其硬化而形成 ，此組成物含以下至少之一：（1)可硬化有機黏合劑及（2)具 有可水解官能基及/或其部份縮合物之有機金屬化合物。 膜形成可硬化化合物爲以下至少之一 ：（1)可硬化有機 黏合劑及（2)具有可水解官能基及/或其部份縮合物之有機金 屬化合物。亦較佳爲組合使用（1)與（2 ) » (1)可硬化有機黏合劑 至於可硬化有機黏合劑，已有描述由以下形成之黏合 劑： (i) 習知熱塑性樹脂； (ii) 習知反應性可硬化樹脂與硬化劑之組合；及 (iii) 黏合劑先質（下述之可硬化多官能性單體或多官能 性寡聚物）與聚合引發劑之組合^ 用於形成高折射率層之塗料組成物或可硬化塗料組成 -38- 1334492 物（名詞「塗料組成物」在以下偶而表示用於形成高折射 率層之塗料組成物或可硬化塗料組成物）係由含上述（i)、（u) 或（iii)之黏合劑形成成分 '高折射率複合氧化物細粒與分 散劑之分散液製備。將此塗料組成物塗覆於透明撐體上以 形成塗膜，然後藉適合使用之特定黏合劑形成成分之方法 硬化，因而形成高折射率層β此硬化方法係視黏合劑成分 之種類而適當地選擇》例如，已有描述一種藉由加熱或以 光照射至少之一，造成硬化化合物（例如，多官能性單體 或多官能性寡聚物）之交聯反應或聚合反應之方法。特別 地，一種使用上述（iii)之組合藉由經光照射造成硬化化合 物之交聯反應或聚合反應，而形成硬化黏合劑之方法較佳 6 此外，較佳爲造成含於高折射率複合氧化物細粒分散 液中之分散劑之交聯反應或聚合反應，同時或事後塗覆塗 料組成物。 在如此製備之高折射率層或硬化膜中，分散劑及黏合 齊！I先質、可硬化多官能性單體或多官能性寡聚物，進行交 聯或聚合反應，因此分散劑之陰離子性基進入黏合劑中。 &外’高折射率層或硬化膜中之黏合劑作用，.使得陰離子 性基可維持無機細粒之分散狀態，因此交聯或聚合結構使 #合劑產生膜形成力，而改良含高折射率複合氧化物細粒 t高折射率層或硬化膜之物理強度、化學抗性與耐候力。 熱塑性樹脂之實例包括聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、纖 &素樹脂、聚醚樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、氯 -39- 1334492 乙烯/乙酸乙烯酯共聚物樹脂、聚丙烯酸樹脂、聚甲基丙嫌 酸樹脂、聚烯烴樹脂、胺甲酸酯樹脂、聚矽氧樹脂、與酶 亞胺樹脂。 至於反應性可硬化樹脂，亦較佳地使用熱固化及/或游 離放射線可硬化樹脂。熱固性樹脂之實例包括酚樹脂、尿 素樹脂、酞酸二烯丙酯、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽 和聚酯樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂 、三聚氰胺-尿素共縮合樹脂、聚矽氧樹脂、與聚矽氧烷樹 脂。游離放射線可硬化樹脂之實例包括具以下官能基之樹 脂’如自由基可聚.合不飽和基（例如，丙稀釀氧基、苯乙 烯基、或乙烯氧基）及/或陽離子可聚合基（例如，環氧樹 脂或硫環氧樹脂），而且此樹脂例示爲聚酯樹脂、聚醚樹 脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、 螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、與聚硫醇多烯樹脂。 這些反應性可硬化樹脂係如所需藉由加入習知化合物 而使用，如交聯劑（例如，環氧基化合物、聚異氰酸酯化 合物、多醇化合物、多胺化合物、或三聚氰胺化合物）' 聚合引發劑（例如，UV光引發劑，如偶氮雙化合物、有機 過氧基化合物、有機鹵素化合物、鏺鹽化合物、或酮化合 物）、及聚合加速劑（例如，有機金屬化合物、酸化合物 或鹼性化合物）。特別地，例如，已有描述敘述於Shinzo Yamasita 與 Tosuke Kaneko 所著之 K ak v 〇 Handbook ( Taiseisha於1981年出版）之化合物《 現在所示之敘述主要關於形成可硬化黏合劑之較佳方 -40- 1334492 法，即，使用前述之組合（3)，藉由經由以光照射造成可硬 化化合物交聯或聚合反應而形成黏合劑之方法。 至於光可硬化、多官能性單體或多官能性寡聚物之官 能基，已有描述可藉由以UV射線、電子束或放射線照射 而聚合之官能基。其中，UV射線可硬化官能基特佳。光可 硬化多官能性單體或多官能性寡聚物之官能基可爲自由基 可聚合或陽離子可聚合。 至於自由基可聚合基，已有描述乙烯不飽和基，如（ 甲基）丙烯醯基、乙烯氧基、苯乙烯基、與烯丙基，以（ 甲基）丙烯醯基較佳。 較佳爲加入分子內具2或更多個自由基可聚合基之多 官能性單體。 自由基可聚合、多官能性單體較佳爲選自具有至少2 個終端乙烯不飽合鍵之化合物。更佳爲分子內具有2至6 個終端乙烯不飽合鍵之化合物。此化合物在聚合物材料領 域爲廣爲所知，而且其可使用而無任何特定之限制。例如 ’其爲單體、聚合物（即，二聚物、三聚物或寡聚物）、 或其混合物或其共聚物之化學形式。自由基可聚合單體之 實例包括不飽和羧酸（例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康 酸、巴豆酸、異巴豆酸、或順丁烯二酸），其酯或醯胺， 而且較佳地描述爲不飽和羧酸與脂族多羥基醇化合物間之 醋及不飽和羧酸與脂族多胺化合物間之醯胺。可使用具親 核性取代基（如羥基、胺基或氫硫基）之不飽和羧酸酯或 ϋ胺與單官能性或多官能性異氰酸酯或環氧基化合物間之 -41- 1334492 加成物’及具多官能基羧酸之脫水縮合產物。具親電子性 取代基（如異氰酸基或環氧基）之不飽和羧酸酯或醯胺與 單官能性或多官能性醇、胺或硫醇間之反應產物亦較佳。 至於其他實例，亦可使用以不飽和膦酸或苯乙烯取代不飽 和羧酸而製備之化合物。 脂族多羥基醇化合物之實例包括乙二醇、丙二醇、丁 二醇、己二醇、二乙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷 '三 羥甲基乙烷、環己二醇、環己三醇 '肌醇、環己二甲醇、 異戊四醇、葡萄糖醇 '二異戊四醇、三異戊四醇、甘油、 與二甘油。至於脂族多羥基醇與不飽和羧酸間之可聚合化 合物之實例，已有描述敘述於JP-A-2001-139663號專利， 第[0026]至[0027]段之化合物。 至於可聚合酯之其他實例，較佳爲使用，例如，甲基 丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸烯丙酯，亦可 較佳地使用敘述於 JP-B-46-27926 ' JP-B-5 1 -47334 與 JP-A-57-196231號專利之脂族醇系列酯、具有芳族骨架且敘述於 JP-A-2-226149號專利者、及敘述於JP-A-1-165613號專利 之具胺基化合物。 脂族多羥基胺化合物與不飽和羧酸間之可聚合醯胺單 體之指定實例亦包括亞甲貳（甲基）丙烯醯胺、1，6 -亞己貳 (甲基）丙烯醯胺、二伸乙三胺参（甲基）丙烯醯胺、苯 二甲基貳（甲基）丙烯醯胺、及具有環伸己基且敘述於JP-B-54-2 1 726號專利之化合物。 亦可使用分子內具2或更多個可聚合乙烯基之乙烯基 1334492 胺甲酸醋（例如’ JP-B-48-41708號專利）、胺甲酸酯丙烯 酸酯（例如，JP-B-2- 1 67 65號專利）、具環氧乙烷骨架之 胺甲酸酯化合物（例如，JP-B-62-39418號專利）、聚醋丙 烯酸酯（例如’ JP-B-5 2-3 0490號專利）、及敘述於Nihnn Sge-chaku.Xyokaishi» 第 20 卷，第 7 期，第 300 至 308 頁（1 984) 之光可硬化單體與寡聚物。 這些自由基可聚合多官能性單體可以其二或更多種之 組合使用。 其次’含陽離子可聚合基化合物（以下亦稱爲「陽離 子可聚合化合物」或「陽離子可聚合有機化合物」）敘述 於下。 至於用於本發明之陽離子可聚合化合物，可使用任何 在活性能量射線敏感性、陽離子聚合引發劑存在下，以活 性能量射線照射時進行聚合反應及/或交聯反應者。其典型 實例包括環氧基化合物、環形硫醚化合物、環形醚化合物 、螺正酯化合物、及乙烯醚化合物。在本發明中，可使用 —或多種陽離子可聚合化合物。 至於含陽離子可聚合基化合物，分子內具2至10個陽 離子可聚合基之化合物較佳，以具3至5個陽離子可聚合 基之化合物特佳。硬化劑之分子量爲3000或更小，較佳爲 200至2000之範圍，特佳爲400至1500之範圍。如果分子 量太小，則在膜形成步驟期間蒸發成問題，而如果太大， 則與纖維素丙烯酸酯摻雜組成物之相容力不良，因此此分 子量不佳。 -43- 1334492 至於環氧基化合物，已有描述脂族環氧基化合物與芳 族環氧基化合物》 至於脂族環氧樹脂，例如，已有描述脂族多羥基醇之 聚縮水甘油醚或其環氧烷加成物、脂族長鏈多元酸之聚縮 水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯或甲基丙烯酸縮水甘油酯之 同元聚合物或共聚物。此外，除了上述環氧基化合物，例 如，已有描述脂族高碳醇之單縮水甘油醚、高碳脂族酸之 縮水甘油酯、環氧化大豆油 '環氧基硬脂酸丁酯、環氧基 硬脂酸辛酯、環氧化棉子油、與環氧化聚丁二烯。 至於脂環形環氧基化合物，亦可描述具有至少一個脂 環形環之多羥基醇之聚縮水甘油醚，及藉由以適當之氧化 劑（如過氧化氫或過氧酸）將含不飽和脂環形環（例如， 環己烯、環戊烯、二環辛烯、或三環癸烯）化合物環氧化 而得之含環形環氧己烷或環形環氧戊烷化合物。 至於芳族環氧基化合物，例如，已有描述具有至少一 個芳族核之單羥基或多羥基酚之單或多縮水甘油醚，或其 環氧烷加成物。至於這些環氧基化合物，例如，已有描述 敘述於 JP-A-1 1 -242 1 0 1號專利，第[0084]至[0086]段之化 合物，及述敘述於：^-八-10-158385號專利，第[〇〇44]至[0 04 6] 段之化合物。 這些環氧基化合物中，就快速硬化性質而言，芳族環 氧化物與脂環形環氧化物較佳，以脂環形環氧化物特佳。 在本發明中，環氧化物可獨立地或以其二或更多種之適當 組合使用。 -4 4 _ 1334492 至於環形硫醚化合物，已有描述其中上述化合物之環 氧基環經硫環氧基環取代之化合物。 含氧雜環丁基成爲環形醚之化合物具有1至10個，較 佳爲1至4個氧雜環丁基。這些化合物較佳爲組合含環氧 基化合物使用。 特別地，例如，已有描述敘述於JP-A-2000-239309號 專利，第[0024]至[0025 ]段之化合物。 至於螺正酯化合物，例如，已有描述敘述於JP-T-2000-506908號專利之化合物。 至於乙烯烴化合物，已有描述苯乙烯化合物、經乙烯 基取代脂環形烴化合物（例如，乙烯基環己烷與乙烯基貳 環庚烯）'關於自由基可聚合單體已敘述之化合物（其中 VI對應- 〇- )、丙懦基化合物（例如，敍述於Journal ofPolymer Science: Part A: Polymer Chemistry > H 32 # » 2895 (1 994) )、院氧基重稀化合物（例如，敘述於Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry，第 34 卷，1 01 5 (1 996) 及JP-A-2002-29 1 62號專利）、及異丙烯基化合物（例如 ，敘述於 Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry > 第 34 卷，205 1 ( 1 996))。 這些化合物可以其二或更多種之適當組合使用。 至於本發明之多官能基化合物，較佳爲使用分子內具 有上述自由基可聚合基及陽離子可聚合基至少之一之化合 物。例如，已有描述敘述於JP-A-8-277320號專利，第[0031] 至[0052]段，及 JP-A-2000-1 91 737 號專利，第[〇〇15]段之 1334492 化合物。用於本發明之化合物不限於此。 以自由基可聚合化合物：陽離子可聚合化合物計，自 由基可聚合化合物及陽離子可聚合化合物係以較佳爲90:10 至20:80’更佳爲80:2〇至30:70之重量比例包含。 其次，在上述組合（3)中組合黏合劑先質使用之聚合引 發劑詳細敘述於下。 至於聚合引發劑，已有描述熱聚合引發劑及光聚合引 發劑。 熱聚合引發劑之實例包括敘述於下之習知有機過氧基 化合物（例如，敘述於JP-A-2001-139663號專利，第[0019] 段之化合物）、偶氮雙化合物、及鏺.類化合物。 至於光聚合引發劑，描述爲在以光照射時可產生自由 基或酸之化合物。用於本發明之光聚合引發劑具有較佳爲 400奈米或更小之最大吸收波長。在此UV射線區域具有吸 收波長之化合物可在白光燈下處理。 較佳地用於本發明之自由基產生、聚合引發劑爲在以 光照射時產生自由基而引發及加速具可聚合不飽和基之化 合物聚合之光聚合引發劑。 至於自由基產生化合物，適當者可選自已知之聚合引 發劑及具有低鍵解離能量之鍵之化合物。此自由基產生、 聚合引發劑可單獨或以其二或更多種之組合使用。 至於自由基產生、聚合引發劑，已有描述胺化合物（ 敘述於JP-B-44-201 89號專利）、有機鹵化化合物、羰基化 合物、金屬錯合物化合物、六芳基二咪唑化合物、有機硼 一 4 6 _ 1334492 酸化合物、與二碾化合物（敘述於JP-A_61_ 1 66544號專利 )。其中，羰基化合物較佳。 至於有機齒化化合物，指定實例欽述於Wakabayashi 等人之 B-ΐαΐ Chem. Soc. Japan 42，2924 (1969)，美國專利 第 3，9 0 5，8 1 5 號，Μ · P · H u 11 之 Journal of Heternr.vclic Chemistry, 1(第3期），（1979)，及其特定實例包括經三 鹵甲基取代噚唑化合物與S -三嗪化合物。更佳爲，已有描 述其中至少一個經單-、二-或三-鹵素取代甲基鍵結至S -三 嗓環之S-三嗪衍生物。 至於其他之有機鹵素化合物，已有描述敘述於JP-A-5· 27 83 0號專利’第[003 9]至[0048]段之酮類、硫化物類、碾 類、與含氮原子雜環。 至於羰基化合物，例如，已有描述敘述於Saishin UV Koka 第 60 至 62 頁（Kabushiki Kaisha Gijutsu Joho

Kyokai於1991年出版）之化合物、苯乙酮化合物：羥基苯 乙酮化合物、二苯基酮化合物、噻噚烷化合物、安息香化 合物（如安息香乙醚與安息香異丁醚）、苯甲酸酯衍生物 (如對二甲胺基苯甲酸乙酯與對二乙胺基苯甲酸乙酯）、 苄基二甲基縮酮、及醯基氧化膦。 至於金屬錯合物化合物，已有描述鈦錯合物（例如， JP-A-5 -8 3 5 8 8號專利）及鐵-芳烯錯合物（例如，JP-A-卜 152109號專利）。至於六芳基二咪唑化合物，已有描述敘 述於JP-B-6-2 92 85號專利及美國專利第4,622,286號之化 合物。至於有機硼酸酯化合物，例如，已有描述敘述於日 -47- 1334492 本專利第 2764769 號、JP-A-2002-116539 號專利、Kunts， Martin 之 Rad Tech ‘98. Proceeding April 19-22，1 9 8 8, Chicago之化合物，至於其他之有機硼化合物，已有描述有 機硼過渡金屬配位錯合物（例如，JP-A-7-292014號專利） 〇 自由基產生化合物可單獨或以其二或更多種之組合加 入。以光自由基可聚合單體總量計，其可以0.1至30重量 % ’較佳爲0.5至25重量％，特佳爲1至20重量％之量加 入。在其以此範圍內之量加入時，所得塗料組成物獲得隨 時間令人滿意之安定力且顯示高聚合性質。 其次，可作爲光聚合引發劑之酸產生劑詳細敘述於下 〇 至於酸產生劑，已有描述如光陽離子性聚合用光引發 劑、消光劑（例如，染料）、光變色劑之已知化合物，及 用於微光阻之已知酸產生劑，及其混合物。 酸產生劑之實例包括有機鹵化化合物、二確I化合物及 鎗類化合物。至於有機鹵化化合物及二碾化合物之指定實 例J ’已有描述如關於自由基產生化合物所述之相同化合物 〇 鑰類化合物之實例包括重氮鹽、銨鹽、亞胺鹽、鱗鹽 、鎭鹽、銃鹽、紳鹽、與硒鹽，例如，已有描述敘述於JP-A-2002-29162號專利，第[0058]至[0059]段之化合物。特佳 爲使用鐽鹽作爲酸產生劑，就光聚合引發時之感光力及化 合物之材料安定力而言，特別是重氮鹽、鍈鹽、銃鹽、與 -48- 1334492 亞胺鹽較佳。 鐵鹽之指定實例包括敘述於JP-A-9-26 8 205號專利， 第[003 5 ]段之澱粉化毓鹽，敘述於JP-A-2000-7 1 366號專利 ，第[0 0 10]至[00 1 1]段之二芳基錤鹽或三芳基鎭鹽，敘述於 JP-A-200 1 -288205號專利，第[0017]段之硫苯甲酸S-苯酯 之銃鹽，及敘述於JP-A-200 1 - 1 3 3696號專利，第[0030]至 [0033]段之鏺鹽。 至於酸產生劑之其他實例，已有描述敘述於 JP_A-2002-29 1 62號專利，第[0059]至[0062]段之有機金屬/有機 鹵化物化合物，具鄰硝基苄基型保護基之光酸產生劑，及 光解時可產生磺酸之化合物。 這些酸產生劑可單獨或以二或更多種之組合使用。以 10重量份之全都聚合化合物計，這些酸產生劑可以0.1至 50重量％，較佳爲0.5至20重量％，特佳爲1至15重量％ 之量加入。就所得塗料組成物之安定力及聚合反應性而言 ，加入上述範圍之酸產生劑較佳。 在塗料組成物中組合使用自由基可聚合有機化合物及 陽離子可聚合有機化合物時，以組成物總重量計，較佳爲 加入0.5至1〇重量％之自由基聚合引發劑與1至10重量％ 之陽離子聚合引發劑。更佳爲，自由基聚合引發劑係以1 至5重量％之量，及陽離子聚合引發劑係以2至6重量％之 量加入。 除了光聚合引發劑，可使用感光劑。感光劑之指定實 例包括有機胺化合物（正丁胺、三乙胺與N-苯基甘胺酸） -4 9 ~ 1334492 '膦（例如，三正丁膦）、Michler’s酮、與9-氧二苯并硫 哌喃。至於市售感光劑，已有描述Nihon Kayaku K.K.製造 之 KA YACURE ( DMBI、EPA )等。 光聚合反應較佳爲藉由在將塗料組成物塗覆及乾燥後 ，以UV射線照射而進行。 (2)具可水解官能基之有機金屬化合物 亦較佳爲使用具可水解官能基及/或其水解物之有機金 屬化合物，藉溶膠反應形成塗膜，繼而將膜硬化，作爲高 折射率層用或在本發明之硬化膜中作爲基質。至於此有機 金屬化合物，已有描述含Si、Ti、Zr、A1等之化合物。至 於可水解官能基，已有描述烷氧基、烷氧基羰基、鹵素原 子 '與羥基，以烷氧基特佳，如甲氧基、乙氧基、丙氧基 、或丁氧基》 有機金屬化合物之較佳實例較佳爲以下通式及其部份 水解物（部分縮合物）表示之有機矽化合物。此外，已知 通式U)表示之有機矽化合物可易於水解繼而進行脫水縮合 反應： ^^(1)： (Ra)m-Si(X)n 在通式（1)中，Ra表示含1至3〇個碳原子之經取代或 未取代脂族基、或含6至14個碳原子之經取代或未取代芳 表示鹵素原子（例如’氯原子或溴原子）、〇η基、 0Rb基或OCORb基（其中Rb表示經取代或未取代烷基）， m表示〇至3之整數，及η表示1至4之整數，m與η之 和爲4 ’其條件爲在m表示〇時，χ表示〇Rl^ 〇c〇Rb。 -50- 1334492 在通式（1)中，Ra表示之脂族基之較佳實例包括含1至 18個碳原子者（例如，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、 己基、辛基、癸基、十二碳基、十六碳基、十八碳基、苄 基、苯乙基、環己基 '環己基甲基、己烯基、癸烯基、與 • . · 十二烯基）。更佳爲含1至12個，特佳爲1至8個碳原子 者。Ra表示之芳基之實例包括苯基、萘基、與蒽基，以苯 基較佳。 取代基並未特別地限制，但是其較佳實例包括鹵素原 子（例如，氟、氯或溴）、羥基、氫硫基、羧基、瓌氧基 、烷基（例如，甲基、乙基、異丙基、丙基、或第三丁基 )、芳基（例如，苯基或萘基）、芳族雜環基（呋喃基、 吡唑基或吡啶基）、烷氧基（例如，甲氧基、乙氧基、異 丙氧基、或己氧基）、芳氧基（例如，苯氧基）、烷硫基 (例如，甲硫基或乙硫基）、芳硫基（例如，苯硫基）、 烯基（例如，乙烯基或卜丙烯基）、烷氧基矽烷基（例如 ，三甲氧基矽烷基或三乙氧基矽烷基）、醯氧基（乙醯.氧 基或（甲基）丙烯醯基等）、烷氧基羰基（例如，甲氧基 羰基或乙氧基羰基）、芳氧基羰基（例如，苯氧基羰基） 、胺甲醯基（例如，胺甲醯基、N-甲基胺甲醯基、N，N-二 甲基胺甲醯基、或N-甲基-N-辛基胺甲醯基）、與醯基胺基 (乙醯基胺基、苯甲酿基胺基、丙烯胺基、或甲基丙嫌胺 基）。 其中，更佳爲羥基、氫硫基、羧基 '環氧基' 烷基、 烷氧基矽烷基 '醯氧基 '與醯胺基，及環氧基、可聚合醯 -51- 1334492 氧基（（甲基）丙嫌釀氧基）、與可聚合醯基胺基（丙烯 胺基或甲基丙烯胺基）。這些取代基可進一步經取代。

Rb表不經取代或未取代烷基。至於此烷基之取代基， 可使用與關於RaE描述相同者。 m表示0至3之整數。n表示1至4之整數。„!與η 之和爲4。m較佳爲表不0' 1或2，特佳爲1。在m表示〇 時，X表示ORb基或OCORb基。 以高折射率層或硬化膜之全部固體成分計，通式（1)化 合物之含量較佳爲10至90重量％，更佳爲20至70重量％ ，特佳爲3 0至5 0重量％。 通式（1)之化合物之指定實例敘述於JP-A-2001-166104 號專利，第[0054]至[0056]段。 在高折射率層或硬化膜中，有機黏合劑較佳爲具有矽 醇基。黏合劑中矽醇基之存在用以進一步改良高折射率層 或硬化膜之物理強度、化學抗性及耐候力。 例如，可藉由複合通式（1)表示之含可交聯或可聚合官 能基有機矽化合物作爲黏合劑形成成分，與含於高折射率 複合氧化物細粒之分散液中之黏合劑先質（例如，可硬化 多官能性單體或多官能性寡聚物）、聚合引發劑、及分散 劑一起組成塗料組成物，及將此塗料組成物塗覆於透明撐 體上，然後造成分散劑、多官能性單體或多官能性寡聚物 、及通式（1)表示之化合物間之交聯反應或聚合反應，而將 矽醇基引入黏合劑中。 在加入含矽醇基重複單位之情形，其含量較佳爲2至 -52- 1334492 98莫耳％，更佳爲4至96莫耳％，最佳爲6至94莫耳％。 用以將依照本發明之有機金屬化合物硬化之水解/縮g 反應較佳爲在觸媒存在下進行。觸媒之實例包括無機@ , 如氫氯酸、硫酸與硝酸，有機酸，如草酸、乙酸、甲酸、 三氟乙酸、甲磺酸、與甲苯磺酸，無機鹼，如氫氧化鈉、 氫氧化鉀與氨，有機鹼，如三乙胺與吡啶，金屬烷氧化物 ，如三異丙氧鋁、四丁氧鉻、與四丁氧基酞酸酯，及金屬 螯合化合物，如β-二酮與β-二酮酯。特別地，例如，已有 描述敘述於JP-A-2000-275403號專利之化合物。 以有機金屬化合物計，組成物中之觸媒化合物含量爲 0.01至50重量％，較佳爲0.1至30重量％，更佳爲0.5至 1 0重量％。較佳爲適當地調整反應條件。 亦較佳爲高折射率層或膜形成可硬化化合物之基質具 有用以維持或改良本發明之複合氧化物細粒在高折射率層 中之分散狀態之指定極性基。指定極性基之實例包括陰離 子性基、胺基與四級銨基。至於此陰離子性基、胺基與四 級銨基，已有描述與關於分散劑已敘述之極性基相同者。 具指定極性基之高折射率層用基質係藉由，例如，複 合含高折射率複合氧化物細粒及分散劑之分散液與形成高 折射率層之塗料組成物，複合具指定極性基之黏合劑先質 (例如，具指定極性基之可硬化多官能性單體或多官能性 寡聚物）與聚合引發劑之組合、及通式（1)表示之具指定極 性基與可交聯或可聚合官能基之有機矽化合物至少之一， 及如所需複合具指定極性基與可交聯或可聚合官能基之單 1334492 官能性單體，然後將此組成物塗覆於透明撐體上’而且造 成分散劑、單官能性單體、多官能性單體或多官能性寡聚 物及/或通式（1)表示之有機矽化合物間之交聯反應或聚合反 應而得。 在塗料組成物中，具指定極性基之單官能性單體係作 爲無機細粒之分散助劑。此外，在塗覆組成物後，具指定 極性基之單體與分散劑、多官能性單體或多官能性寡聚物 進行交聯反應及/或聚合反應形成黏合物，而造成具優良物 理強度、化學抗性與耐候力之高折射率層，同時維持無機 細粒在高折射率層中之良好分散力。 以分散劑計，具胺基或四級銨基之單官能性單體之含 量較佳爲0.5至50重量％，更佳爲1至30重量％。藉由在 塗覆高折射率層同時或之後之交聯或聚合反應形成黏合劑 可使單官能性單體有效地施展其功能。 至於用於本發明高折射率層之其他基質，已有描述對 應有機黏合劑（1)者，及藉由將具有可交聯或可聚合基之習 知有機聚合物硬化而形成者。較佳爲聚合物在形成高折射 率層後具有其他之父聯或聚合結構。聚合物之實例包括聚 烯烴（由飽和烴組成）、聚醚、聚硯'聚胺甲酸酯、聚酯 、聚胺、聚醯胺、與三聚氰胺樹脂。其中，聚烯烴、聚醚 及聚碾較佳，以聚烯烴與聚醚更佳。有機聚合物在硬化前 之重量平均分子量較佳爲1 X 1〇3至1 X 106，更佳爲3 X 1〇3 至 1 X 1 05。 另一方面，含具有極性基之黏合劑之硬化膜可藉由將 -54- 1334492 具指定極性基之單體加入可硬化塗料組成物，將此組成物 塗覆於透明撐體上，及造成交聯劑、多官能性單體或多官 能性寡聚物、與具有可水解官能基之有機金屬化合物之交 聯反應或聚合反應而形成。 在可硬化塗料組成物中，具指定極性基之單體係作爲 高折射率複合氧化物細粒之分散助劑。此外，在塗覆組成 物後，具指定極性基之單體與分散劑、多官能性單體或多 官能性寡聚物進行交聯反應及/或聚合反應形成黏合物，而 造成具優良物理強度、化學抗性與耐候力之高折射率層， 同時維持細粒之良好分散力。 藉由在塗覆可硬化塗料溶液同時或之後之交聯或聚合 反應形成黏合劑，可使這些單體在塗覆硬化膜之前有效地 施展其功能。 以分散劑計，具胺基作爲指定極性基之單體之含量較 佳爲0.5至50重量％，更佳爲1至30重量％。 至於用於本發明之膜形成可硬化化合物，除了可硬化 有機黏合劑 '有機金屬化合物及/或其部份水解物，亦已有 描述具可交聯或可聚合基之已知有機聚合物。使用此聚合 物造成其中聚合物主.鏈具有交聯或聚合結構之硬化膜形成 °聚合物主鏈之實例包括聚烯烴（由飽和烴組成）、聚醚 、聚碾、聚胺甲酸酯、聚酯、聚胺、聚醯胺、與三聚氰胺 樹脂。其中’聚烯烴主鏈、聚醚主鏈及聚碾主鏈較佳，以 聚烯烴主鏈與聚醚主鏈更佳，其係藉不飽和可聚合基之加 成聚合得到。有機聚合物在硬化前之重量平均分子量較佳 -55- 1334492 爲 1 χ ΙΟ3 至 1 χ 1〇6，更佳爲 3 x 1〇3 至 1 χ ι〇5。 硬化前之有機聚合物較佳爲具有含與關於分散劑 相同之指定極性基之重複單位、及具交聯或聚合結構 複單位之共聚物。以全部重複單位計，聚合物中具陰 性基之重複單位之含量較佳爲〇·5至99重量％，更佳 至95重量％，最佳爲6至90重量％。重複單位可具有 更多個相同或不同之陰離子性基。 在含具矽醇基之重複單位時，其含量較佳爲2至 耳％，更佳爲4至96莫耳％，最佳爲6至94莫耳％。 在含具胺基或四級銨基之重複單位時，其含量較 0.1至50莫耳％，更佳爲0.5至30莫耳％。 此外’即使是在上述矽醇基、胺基或四級銨基含 陰離子性基之重複單位或具交聯結構或聚合結構之重 位時，亦可得到相同之效果。 聚合物中具交聯或聚合結構之重複單位之含量較 1至90重量％，更佳爲5至80重量％，最佳爲8至60 %。 藉黏合劑之交聯或聚合形成之基質較佳爲藉由將 形成高折射率層之塗料組成物塗覆於透明撐體上，及 覆同時或之後造成交聯或聚合反應而形成。 視用途及目的而定，本發明之高折射率層或可硬 成物可進一步含適當之其他化合物。例如，在高折射 上提供低折射率層之情形，較佳爲高折射率層之折射 透明撐體之折射率高，而且由於加入芳族環、氟以外 所述 之重 離子 :爲3 二或 98莫 佳爲 於具 複單 佳爲 重量 用於 在塗 化組 率層 率比 之鹵 -56- 1334492 素元素（例如，Br、I、Cl)或如S、N或P之原子可增強 有機化合物之折射率，較佳爲亦使用藉由含其之可硬化化 合物之交聯或聚合反應得到之黏合劑。 爲了藉由在高折射率層上形成低折射率層而形成抗反 射膜，高折射率層之折射率較佳爲1.65至2.40,更佳爲1.75 至2.20，特佳爲1.80至2.20。 對於高折射率層或可硬化塗料組成物，除了上述成分 (例如，無機細粒、聚合引發劑與感光劑），可加入樹脂 、界面活性劑 '抗靜電劑、偶合劑 '增稠·劑、著色防止劑 、著色劑（顏料與染料）、防沬劑、調平劑、阻燃劑、UV 射線吸收劑、紅外線吸收劑、膠黏劑、聚合抑制劑、抗氧 化劑、表面改良劑 '及導電性金屬細粒。 高折射率層亦可藉由加入平均粒度爲0.2至1〇微米之 顆粒而具有眩光降低力，作爲下述之眩光降低層。 高折射率層之厚度可視用途而適當地設計。在使用高 折射率層作爲光學干涉層之情形，此厚度較佳爲30至200 奈米’更佳爲50至170奈米，特佳爲60至150奈米。在 其中高折射率層亦作爲硬塗層之情形，此厚度較佳爲0.5 至10微米’更佳爲1至7微米，特佳爲2至5微米。 由水與有機溶劑適當地選擇用於高折射率層之塗覆溶 劑。有機溶劑之實例包括醇類 '酮類 '酯類、醯胺類 '醚 類、醚酯類、烴類、與鹵化烴類。特別地，已有描述如敘 述於分散劑之相同化合物。較佳爲主要含酮溶劑（例如， 甲乙酮、甲基異丁基酮或環己酮）之塗覆溶劑，及以含於 -57- 1334492 塗料組成物之溶劑總重量計，酮溶劑之含量較佳爲10重量 %或更高。此含量更佳爲30重量％或更高，仍更佳爲60重 量％或更高》 高折射率層之強度較佳爲Η或更高，更佳爲2H或更 高’最佳爲3Η或更高，其係藉依照jis Κ5400之鉛筆硬度 測試測量。 在依照JIS Κ5400之Taber測試前後之測試樣本之磨 損量較佳爲儘量小。 在其中高折射率層不含產生眩光降低力之顆粒之情形 ，此層之霧化較佳爲5%或更小，更佳爲3%或更小，特佳 爲1 %或更小。 高折射率層較佳爲直接或經其他層形成於透明撐體上 〇 在本發明中，高折射率層可藉由依照已知之薄膜形成 法，如浸塗法、空氣刀塗覆法、簾塗法、輥塗法、線棒塗 覆法、凹版塗覆法、微凹版塗覆法、或擠塗法，將用於形 成高折射率層之塗料組成物塗覆於透明基板膜上，乾燥且 以光及/或熱照射而製備。就快速硬化而言，以光照射而硬 化爲有利的。此外，亦較佳爲在光硬化處理之後半部熱處 理。 (硬化膜之形成） 本發明之硬化膜較佳爲在透明撐體上直接或經其他層 形成。 在本發明中，硬化膜可藉由依照已知之薄膜形成法， 1334492 如浸塗法、空氣刀塗覆法、簾塗法、輥塗法、線棒塗覆法 、凹版塗覆法、微凹版塗覆法、或擠塗法，將本發明之可 硬化塗料組成物塗覆於透明撐體膜上，乾燥且以光及/或熱 照射而製備。就快速硬化而言，以光照射而硬化爲有利的 。此外，亦較佳爲在光硬化處理之後半部熱處理。 至於用於光照射之UV光之光源，已有描述超高壓汞 燈、高壓汞燈、中壓汞燈、低壓汞燈、化學燈、碳弧燈、 金屬鹵化物燈、氙燈、與日光燈。已有描述使用波長爲3 5 0 至420奈米之各種可得雷射光源之多光束照射。 在形成硬化膜時，游離放射線可硬化化合物之交聯反 應或聚合反應較佳爲在氧濃度爲10體積％或更小之大氣中 進行。藉由在氧濃度爲10體積％或更小之大氣中形成，可 改良硬化膜之物理強度、化學抗性與耐候力，此外，對相 鄰硬化膜之層之黏附性。氧濃度更佳爲6體積％或更小，仍 更佳爲4體積％或更小，特佳爲2體積％或更小，最佳爲1 體積％或更小。 至於將氧濃度降至1 0體積％或更小之程度之技術，較 佳爲藉由以其他氣體，較佳爲氮（以氮沖洗），取代大氣 (氮濃度：約79體積％ :氧濃度：約2 1體積％ )。 本發明硬化膜之厚度可視最終用塗而適當地決定。在 使用本發明之硬化膜作爲下述抗反射層之情形，此厚度較 佳爲30至2 00奈米，更佳爲50至170奈米，特佳爲60至 150奈米。在其中本發明之硬化膜作爲硬塗層之情形，此厚 度較佳爲0.5至10微米，更佳爲1至7微米，特佳爲2至 -59- 1334492 5微米。本發明之硬化膜亦可如下所述加入0.2至10微米 之顆粒而同時作爲眩光降低層。 在藉依照JIS K5400之鉛筆硬度測試測試時，本發明 ' 之硬化膜之硬度較佳爲Η或更高，而且2H或更高之硬度 更佳，以3Η或更高之硬度最佳。 ^ 亦在依照JIS Κ54〇0之Taber測試前後之測試樣本之 · 磨損量較佳爲儘量小。 在硬化膜不含產生眩光降低功能之顆粒之情形，較佳 爲硬化膜之霧化儘量小。其較佳爲5%或更小，更佳爲3% ^ 或更小，特佳爲1 %或更小。 本發明之高折射率層或硬化膜係用於抗反射膜或偏光 板。在此情形，較佳爲提供一種在高折射率層涉或硬化膜 側具抗刮性質及防污性質之最外層。此最外層敘述於下。 至於用於改良抗刮性質之手段，使層表面產生滑動性 質爲有效的，而且可使用如將含矽化合物或含氟化合物引 入最外層中之已知手段。 此含氟化合物具有較佳爲1.35至1.50，更佳爲1.36 ^ 至1.47之折射率。此含氟化合物亦含35至80重量％之氟 原子。 含氟化合物之實例包括含氟聚合物、含氟界面活性劑 、含氟醚、與含氟矽烷化合物。特別地’例如，已有描述 敘述於 JP-A-9-2225 0 3 號專利，第[0018]至[0026]段，JP-A-1 卜38202 號專利，第[0019]至[0030]段，及 JP-A-2001-40284 號專利，第[0027]至[0028]段之化合物。 -60- 1334492 至於含氟聚合物’包括含氟原子之重複單位、含可交 聯或可聚合官能基之重複單位、及包括其他取代基之重複 單位（以下稱爲「其他重複結構單位」）之共聚物較佳。 至於可交聯或可聚合官能基，已有描述與高折射率層相同 者。至於其他重複結構單位，爲了在塗料溶劑中獲得溶解 性質’烴系列可共聚合成分較佳。已將約5〇%之此成分引 入其中之含氟聚合物較佳。在此情形，較佳爲組合聚矽氧 化合物。 至於此聚矽氧化合物，具有聚矽氧烷結構，在高聚合 物鏈中含可硬化官能基或可聚合官能基，及在膜中具有橋 接結構之化合物較佳。例如，已有描述反應性聚矽氧，如 市售 Saila Plane(例如，chisso Κ·Κ·製造）及 JP-A-11-258403 號專利所述之化合物，其中矽醇基鍵結至聚矽氧烷結構之 兩個末端。 具可交聯或可聚合基之含氟聚合物之交聯或聚合反應 較佳爲藉由在塗覆用於形成最外層之塗料組成物之塗料同 時或之後，以光照射或加熱而進行。至於聚合引發劑及敏 感劑，已有描述與用於高折射率層相同者。 至於高折射率層或硬化膜之基質，藉矽烷偶合劑（例 如，以上通式（1)之化合物）與具指定含氟烴基之矽烷偶合 劑間之縮合反應而得之溶膠硬化產物亦較佳。 例如，已有描述含多氟烷基矽烷化合物或其部份水解 縮合物（例如，敘述於 JP-A-58-142958、 JP-A-58-147483 與JP-A- 5 8- 1 47484號專利之化合物）、敘述於JP-A-9- 1 575 82 1334492 號專利之含全氟烷基矽烷偶合劑、及含有聚「全氟烷基醚 j基之含氟長鏈基之矽烷基化合物（例如，敘述於JP-A-2000-1 17902、JP-A-2001 ·48590 與 JP-A-2002-53 804 號專利 之化合物）。 至於在此使用之觸媒，已有描述已關於高折射率層所 敘述者。

除了上述成分，最外層可含濾光劑（例如，無機細粒 與有機細粒）、矽烷偶合劑、滑動劑（例如，聚矽氧化合 物，如二甲基聚矽氧）、及界面活性劑。特別地，較佳爲 加入無機細粒、矽烷偶合劑或滑動劑。 至於無機細粒，具低折射率之化合物較佳，如含氟顆 粒（例如，氟化鎂、氟化鈣或氟化鋇）。特佳爲二氧化矽 (矽石）。無機細粒之一級顆粒之重量平均粒度較佳爲1 至150奈米，更佳爲1至100奈米。在最外層中，顆粒較 佳爲更細微地分散。

本發明之最外層具有較佳爲0.25或更小之表面動磨擦 係數。在此使用之名詞動磨擦係數表示表面與直徑5毫米 之不銹鋼球間之動磨擦係數，其係藉由對鋼球施加0.98牛 頓之負載，使此鋼球以60公分/分鐘之速度沿表面移動而 測量。動磨擦係數較佳爲〇 . 1 7或更小，特佳爲0.1 5或更小 最外表面對水之接觸角較佳爲90°或更大，更佳爲95 或更大，特佳爲1〇〇°或更大。 [抗反射膜] -62- 1334492 本發明之高折射率層或硬化膜可較佳地用於形成抗反 射膜。更特別地，本發明之高折射率層或硬化膜可作爲藉 由層壓具有透光性質且彼此折射率不同之二或更多層（透 光層）而形成之多層抗反射膜中之一層。本發明之高折射 率層或硬化膜主要作爲抗反射膜之高折射率層或中折射率 層，而且亦可作爲高折射硬塗層或高折射眩光降低層。此 外，在多層抗反射膜中，具最高折射率之層稱爲高折射率 層，具最低折射率之層稱爲低折射率層，及具中折射率層 之其他層稱爲中折射率層。抗反射膜之中折射率層可爲由 本發明之可硬化塗料組成物形成之高折射率膜組成之層。 在本發明之抗反射膜不具有眩光降低性質時，其霧化 較佳爲儘量低。在此抗反射膜具有眩光降低功能時，其霧 化較佳爲0.5至50%，更佳爲1至40%，最佳爲1至30%。 (低折射率層） 低折射率層亦可作爲最外層或可在最外層下方。 在低折射率層亦作爲最外層之情形，亦可應用以上關 於最外層已敘述之說明。在低折射率層係在最外層下方之 情形，低折射率層較佳爲含有含矽化合物 低折射率層之折射率爲1.20至1.55,較佳爲1.30至1.50 ，更佳爲1.35至1.48，特佳爲1.40至1.48。 在低折射率層係提供於最外層下方時，其係藉塗覆法 或氣相法（例如，真空沈積法、噴鍍法、離子電鍍法、或 電漿CVD法）形成。塗覆法因其使製造不昂貴而較佳。低 折射率層之厚度較佳爲30至2 00奈米，更佳爲50至150 -63- 1334492 奈米，最佳爲60至120奈米》 在低折射率層不含產生眩光降低功能之顆粒之情形， 較佳爲硬化膜之霧化儘量小。此霧化値較佳爲5%或更小， 更佳爲3 %或更小，特佳爲1 %或更小。 在藉依照JIS K5400之鉛筆硬度測試測試時，低折射 率層之硬度較佳爲Η或更高，而且2H或更高之硬度更佳 ，以3Η或更高之硬度最佳。 亦對於在依照JIS Κ5400之Taber測試前後之測試樣 本之磨損量、動磨擦係數、及水接觸角，如外層之相同性 質較佳。 此外，在低折射率層係提供於最外層下方時，低折射 率層較佳爲含矽化合物。 (硬塗層） 硬塗層係提供於透明撐體表面上以使抗反射膜產生充 分之物理強度。特別地，較佳爲提供於透明撐體與高折射 率層之間。 硬塗層較佳爲藉由光及/或熱可硬化化合物之交聯反應 或聚合反應形成。例如，其可藉由將含聚酯（甲基）丙烯 酸酯 '聚胺甲酸酯（甲基）丙烯酸酯、多官能性單體或多 官能性寡聚物、或含可水解官能基之有機金屬化合物之塗 料組成物塗覆於透明撐體上，及造成可硬化化合物之交聯 反應或聚合反應而形成。 至於含於可硬化化合物之可硬化官能基，光可聚合官 能基較佳，及具可水解官能基之有機金屬化合物較佳爲有 一 6 4 _ 1334492 機烷氧基矽烷基化合物。 這些化合物之指定實例爲關於高折射率層已描述者。 硬塗層較佳爲含一級顆粒之平均粒度爲300奈米或更 小之無機細粒。更佳之無機細粒具有1 〇至1 5 〇奈米之大小 ，而且仍更佳之無機細粒具有20至100奈米之大小。在此 平均粒度表示重量平均粒度。具非破壞透明性之硬塗層可 藉由將一級顆粒之平均粒度調整至200奈米或更小而形成 〇 無機細粒係用以增強硬塗層之硬度，同時用以抑制塗 層之硬化收縮。其亦爲了控制硬塗層折射率之目的而加入 0 至於硬塗層之指定結構組成物，可參考1?-入-2002-144913、JP-A-2000-9908、WO 00/4 6617 號等專利所示之敘 述。 以硬塗層總重量計，硬塗層中之無機細粒含量較佳爲 10至90重量％，更佳爲15至80重量％。 如前所述，抗反射膜之高折射率層可施展硬塗層之功 能。在高折射率層亦作爲硬塗層時，其較佳爲藉由使用關 於本發明之高折射率層所述之技術，將複合氧化物細粒細 微地加入硬塗層中而形成層。 此外，下述平均粒徑爲0.2微米至10微米之顆粒可加 入硬塗層中，以產生具眩光降低性質之眩光降低劑之功能 〇 硬塗層之厚度可視最終用途而適當地設計。硬塗層之 -65- 1334492 厚度較佳爲0.2至10微米，更佳爲Ο.5至7微米， 0.7至5微米。 在藉依照JIS Κ5400之鉛筆硬度測試測試時， 之硬度較佳爲Η或更高，而且2Η或更高之硬度更佳 或更高之硬度最佳。 亦在依照JIS Κ5400之Taber測試前後之測試 磨損量較佳爲儘量小。 (透明撐體） 透明撐體較佳爲塑膠膜》透明撐體之厚度並未 限制，但是較佳爲1至3 00微米，更佳爲30至150 仍更佳爲40至120微米。透明撐體之透光率較佳爲 更高，更佳爲86%或更高。透明撐體之霧化較佳爲 更小’更佳爲1 .0%或更小。透明撐體之折射率較佳 至 1.7。 組成透明撐體之塑膠膜之實例包括纖維素酯（ 三乙醯纖維素 '二乙醯纖維素、丙醯纖維素、丁醯 、乙醯基丙醯纖維素、或硝基纖維素）、聚醯胺、 酯、聚酯（例如，聚對酞酸乙二酯、聚萘甲酸乙二g I，4·環己烷二亞甲基對酞酸酯、聚乙烯-二苯氧3 4，4’-二羧酸酯 '或聚對酞酸丁二酯）'聚苯乙烯（ 間規聚苯乙烯）、聚烯烴（例如，聚丙烯、聚乙烯 基戊嫌）、聚碾'聚醚碾、聚烯丙酯、聚醚醯亞胺 基丙燃酸甲酯、與聚醚酮。其中，三乙醯纖維素、 醋、聚對酞酸乙二酯、與聚萘甲酸乙二酯較佳。特 特佳爲 硬塗層 ，以3H 樣本之 特別地 微米， 8 0 %或 2.0 % 或 爲1.4 例如， 纖維素 聚碳酸 眉、聚-基乙院-例如， 或聚甲 、聚甲 聚碳酸 別地， 1334492 在用於液晶顯示裝置之情形，三乙醯纖維素較佳^ 在透明撐體爲三乙醯纖維素時，此三乙醯纖維素膜較 佳爲藉由鑄製將三乙醯纖維素溶於溶劑中而製備之三乙醯 纖維素摻雜物之單層或共鑄製多層之鑄製法而得。至於成 膜法，例如，可使用 Hatsumei Kvokai Kokai Gihn ( Kogi No. 2001 - 1 745 > Hatsumei Kyokai 在 2001 年 3 月 15 日出版） ，第22至30頁所述之方法。 視最終用途而定，可對透明撐體加入各種添加劑（例 如，塑性劑、細粒、UV射線保護劑、退化防止劑、光學各 向異性控制劑、剝除劑、及紅外線吸收劑）。以透明撐體 計，各添加劑之量較佳爲〇.〇1至20重量％，更佳爲〇.〇5 至10重量％。其詳細說明示於Hatsumei Kyokai Kokai Gihn (Kogi No. 200 1 - 1 745，Hatsumei Kyokai 在 2001 年 3 月 15 日出版），第16至22頁，而且較佳爲使用其中所述之材 料。 透明撐體可接受表面處理。表面處理之實例包括化學 處理、機械處理、電暈放電處理、火燄處理、UV射線照射 處理、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處 理、酸處理、臭氧氧化處理、及鹼處理。輝光放電處理、UV 射線照射處理、電暈放電處理、及火燄處理較佳，以輝光 放電處理、電暈放電處理及鹼處理特佳。 (抗反射膜中之其他層） 爲了形成具有較佳抗反射性質之抗反射膜，較佳爲在 透明撐體與高折射率層之間’提供具有高折射率層折射率 -67- 1334492 與透明撐體折射率間之折射率之中折射率層。 中折射率層較佳爲以本發明高折射率層所述之相同方 式製備，其藉由控制層中無機細粒之含量而調整折射率。 在抗反射膜中可提供上述以外之層。例如，可提供黏 著層、遮蔽層、滑動層、抗靜電層、與底漆層。遮蔽層係 提供以遮蔽電磁波或紅外線。 亦在液晶顯示裝置中使用抗反射膜之情形，爲了改良 視角特徵之目的，可提供含0.1至10微米平均粒度之顆粒 之底塗層。在此使用之名詞「平均粒度」表示二級顆粒（ 或在顆粒不黏聚時爲一級顆粒）之重量平均粒度。顆粒之 平均粒度較佳爲0.2至5.0微米，更佳爲0.3至4.0微米。 至於此顆粒，已有描述用於眩光降低層之無機顆粒及有機 顆粒。 此顆粒之折射率較佳爲1.35至1.80,更佳爲1.40至1.75 〇 底塗層較佳爲形成於硬塗層與透明撐體之間。底塗層 亦可施展硬塗層之功能。 在將平均粒度爲0.1微米至10微米之顆粒加入底塗層 之情形，底塗層之霧化較佳爲3 %至60%，更佳爲5%至50% 〇 (用於形成抗反射膜之方法） 在本發明中，組成抗反射膜之各層較佳爲藉塗覆法形 成。在藉塗覆法形成時，各層可依照已關於高折射率層所 述之方法形成。亦可同時塗覆二或更多層（例如，敘述於 -68- 1334492

Yuji Harazaki 所著及 Asakura Shoten 於 1973 年出版之 Coating Kogaku，第253頁）。至於塗覆法，線棒塗覆法、 凹版塗覆法、及微凹版塗覆法較佳。 視用途及目的而定，亦可將其他化合物加入抗反射層 之各層，如樹脂、分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、增稠 劑、著色防止劑、著色劑（顏料與染料）、防沫劑、調平 劑、阻燃劑、UV射線吸收劑、膠黏劑、聚合抑制劑、抗氧 化劑、及表面修改劑。 (抗反射膜之物理性質） 在本發明中，高折射率層上之抗反射膜之最外層具有 較佳爲0.25或更小之表面動磨擦係數。在此使用之名詞動 磨擦係數表示高折射率層上之表面與直徑5毫米之不銹鋼 球間之動磨擦係數，其係藉由對鋼球施加0.98牛頓之負載 ，使此鋼球以60公分/分鐘之速度沿表面移動而測量。動 磨擦係數較佳爲〇. 1 7或更小，特佳爲0.1 5或更小。 高折射率層側上之抗反射膜對水之接觸角較佳爲90° 或更大，更佳爲95°或更大，特佳爲100°或更大。 在其中抗反射膜不具有眩光降低力之情形，其較佳爲 具有儘量低之霧化。 在其中抗反射膜具有眩光降低力之情形，其霧化較佳 爲0.5%至50%，更佳爲1%至40%，最佳爲1%至30%。 (抗反射膜之表面均勻度） 可在本發明抗反射膜之高折射率層側表面上形成均勻 度，以產生眩光降低性質。 69 - 1334492 眩光降低性質係與表面之平均表面粗度（Ra)相關。就 自100平方公分表面積隨機取得之1平方毫米表面積之平 均表面粗度（Ra)而言，表面之均勻性較佳爲0.01至0.4微 米，更佳爲〇.〇3至0.3微米，仍更佳爲0.05至0.25微米 ，特佳爲0.07至0.2微米。 至於平均表面粗度（Ra)，其敘述示於Jiro Nara所著及 K.K. S 〇 g 〇 Gijutsu Center 出版之 Technocompact Series ( 6 ) r Hyomen A r a s a No Sokutei-Hvoka Ho 〇 本發明之抗反射膜表面上之谷與峰之形狀可藉原子對 原子力顯微鏡（AFM)評估。 至於形成表面均勻度之方法，可使用已知之方法。在 本發明中，以高壓將具不均勻表面之板壓在膜表面上而形 成不均勻度之方法（例如，JP-A-2000-3 29905號專利所述 之壓花），及將顆粒加入抗反射膜上任何層以形成眩光降 低層，而在抗反射膜表面上形成不均勻度之方法較佳。 在藉由將顆粒加入抗反射膜之任何層以形成眩光降低 層時，使用之顆粒具有0.2至10微米之平均粒度。在此使 用之名詞「平均粒度」表示二級顆粒（或在顆粒不黏聚時 爲一級顆粒）之重量平均粒度。 至於顆粒，已有描述無機顆粒及有機顆粒。其指定實 例包括JP-A-200 1 -3 3 625號專利，第[0014]段所述之化合物 〇 顆粒之折射率較佳爲1.35至1_80,更佳爲1.40至1.75 ，更佳爲1.45至1.75。 -70- 1334492 產生眩光降低性質之顆粒可加入形成於抗反射膜上之 任何層，較佳爲硬塗層、低折射率層或高折射率層，特佳 爲硬塗層或高折射率層。其可加入多層。 [抗反射膜之組成] 依照本發明之高折射率層組成具透光性質且包括二或 多層折射率彼此不同之層壓層（透光層）之多層抗反射膜 之一或多層》 包括二層層壓層之抗反射膜具有依序爲透明撐體、高 折射率層、與低折射率層（最外層）之階層結構。此透明 撐體、高折射率層、與低折射率層具有滿足以下關係之折 射率： 高折射率層之折射率 > 透明撐體之折射率 > 低折射率層之 折射率 亦可在透明撐體與高折射率層之間提供硬塗層。此外 ，此膜可包括高折射率硬塗層或高折射率眩光降低層及低 折射率層。 包括至少三層層壓層之抗反射膜具有依序爲透明撐體 、中折射率層、高折射率層、與低折射率層（最外層）之 階層結構。此透明撐體、中折射率層、高折射率層、與低 折射率層具有滿足以下關係之折射率： 高折射率層之折射率 > 中折射率層之折射率 > 透明撐體之 折射率 > 低折射率層之折射率 亦可在透明撐體與中折射率層之間提供硬塗層。此外 ，此膜可包括中折射率硬塗層、高折射率層及低折射率層 -71- 1334492 就形成具有更優良抗反射力之抗反射膜而言，較佳爲 多層結構中之各層具有如JP-A-200 1 - 1 8 8 1 04號專利所述之 各層厚度與可見光波長間之關係。 此外，名詞「高折射率」、「中折射率」與「低折射 率j表示層間相對較高或較低之關係。 亦較佳爲藉由將平均粒度爲0.2至10微米之顆粒加入 硬塗層、中折射率層或高折射率層，而形成具眩光降低力 之抗反射膜。 亦在低折射率層包括無機化合物層時，較佳爲提供防 污層作爲最上層。 [偏光板] 本發明之較佳偏光板具有本發明之抗反射膜作爲偏光 板之至少一個保護膜。如以上所述，偏光板之保護膜，如 同與高折射率層對立之撐體表面，即，層壓於偏光膜之表 面，對水具有40°或更小之接觸角。 具有抗反射力之偏光板可藉由使用本發明之抗反射膜 作爲偏光板保護膜而形成，如此造成大爲降低顯示裝置之 製造成本及厚度。 用以進一步改良液晶顯示裝置在亮室中之對比之偏光 板亦可藉由使用本發明之抗反射膜作爲偏光板之一個保護 膜，及下述之光學補償膜（其具有光學各向異性）作爲偏 光板之另一個保護膜，形成偏光板而得。 (偏光板之保護膜） -72- 1334492 在使用本發明之抗反射膜作爲偏光板之保護膜之情形 ’較佳爲使透明撐體與高折射率層側對立之表面之接觸角 爲4〇 °或更小，以使偏光膜得到充分之黏附性。 在此情形，特佳爲使用三乙醯纖維素膜作爲透明撐體 〇 至於形成本發明偏光板之保護膜之方法，已有描述以 下兩種方法： (1) 一種在經皂化處理透明撐體之一側上塗覆各上述層（ 例如，高折射率層、硬塗層、與最外層）之方法；及 (2) —種在透明撐體之一側上塗覆各上述層（例如，高折 射率層、硬塗層、與最外層），及將其上層壓偏光膜 之側皂化處理之方法。 此外，亦可將皂化處理溶液塗覆於以偏光膜層壓之抗 反射膜之透明撐體表面上，因而進行以偏光膜層壓之表面 之皂化處理。 本發明之抗反射膜表面之親水性產生處理可以已知方 式進行。例如，較佳爲將透明撐體或抗反射膜浸於鹼性溶 液中適當之時間，或將鹼性溶液塗覆於其上因而進行皂化 處理。 至於鹼性溶液及處理方法，可參考 JP-A-2002-82226 及W0 0 2/46 809號專利所示之敘述。此處理較佳爲以經皂 化處理膜表面之接觸角變爲45°或更小之方式進行。 將偏光板保護膜之如此產生親水性之表面黏附於偏光 膜而使用。 -73- 1334492 至於光學性能（例如，抗反射力與眩光降低力）、物 理性能（例如，抗刮性質）、化學抗性、防污性質（例如 ，抗污性）、及耐候力（例如，抗濕熱性與抗光性），較 佳爲偏光板之保護膜具有關於本發明抗反射膜所述之性能 膜 償 補 學 光 光學補償膜（阻滯膜）可改良液晶顯示裝置之視角特 徵。 至於光學補償膜，可使用已知者，但是就加寬視角而 言，JP-A-2001-1 00042號專利所述之光學補償膜較佳，其 具有光學各向異性層，其包括一種具碟型結構單位之化合 物及其中碟型化合物與撐體間之角度在深度方向改變。 此角度較佳爲改變使得其隨距光學各向異性層撐體側 之距離增加而增加。 在使用光學補償膜作爲偏光膜保護膜之情形，以偏光 膜層壓之表面較佳爲經皂化處理。此處理較佳爲依照上述 使用鹼之皂化處理進行。 其中光學各向異性層進一步含纖維素酯之具體實施例 、及其中定向層係形成於光學各向異性層與透明撐體間之 具體實施例亦較佳。 [影像顯示裝置] 此抗反射膜可應用於影像顯示裝置，如液晶顯示裝置 (LCD)、電漿顯示面板（PDP)、電發光顯示器（ELD)、與陰極 射線顯示裝置（CRT)。此抗反射膜之透明撐體側黏附於影像 -74- 1334492 顯示裝置之影像顯示側。 本發明之抗反射膜及偏光板較佳爲用於以下模式之透 光型、反射型或半透光型液晶顯示裝置：如扭轉向列（TN) 模式 '超扭轉向列（STN)模式、垂直排列（VA)模式、平面內 交換（IPS)模式、或光學補償彎曲光電管（OCB)模式。

亦在使用透光型或半透光型液晶顯示裝置之情形，使 用市售照明度改良膜（具有偏光選擇層之偏光分離膜，例 如，Sumitomo 3M K · K ·製造之 D - B E F )可提供產生較高可 視性之顯示裝置。 亦在組合λ/4板時，可使用本發明之偏光板或抗反射 膜作爲反射型液晶顯示裝置之偏光板，或作爲有機EL顯示 器之表面保護板，以減少來自表面及內部之反射光。 [實例] 本發明在以下更特定地說明。然而，本發明不應視爲 受其限制。 [實例1-1]

(硬塗層用塗料溶液之製備） 將45 0.0克之矽石細粒於甲乙酮之分散液（MEK-ST; 固體成分含量：30重量％; Nissan Kagaku Κ.Κ.製造）、15.0 克甲乙酮、220.0克環己酮、與16.0克光聚合引發劑（Irgacure 907; Nihon Ciba Geigy Κ·Κ.製造）加入 315.0 克之二異戊 四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙烯酸酯之混合物（DPHA :Nihon Kayaku Κ·Κ.製造），及將所得混合物攪拌。使攪拌 混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯製造之過濾器過濾，而 -75- 1334492 製備硬塗層用塗料溶液。 (高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL1-1)之製備） 將38.6克之以下結構之分散劑（D-1)、0.5克之第三丁 基氫醌聚合抑制劑、及702克甲基異丁基酮加入218克之 Ti與Zr之複合氧化物[Ti/Ti + Zr = 0.80重量比例（以氧化物 計）]，其含3重量％含量之摻雜Co離子（P-1)，及使混合 物在精磨機中分散而製備重量平均粒度爲65奈米之高折射 率複合氧化物細粒之分散液（PL-1)。 分散劑 (D-1) CH3 Ο

ί I II CH2=C-C00(CH2)20(CH2)4- Ο- -ΡΟΗ l J2 (中折射率層用塗料溶液之製備） 將 58.4 克之 DPHA、3.1 克之 Irgacure 907、1 .1 克感 光劑（Kayacure DETX，Nihon Kayaku K.K.製造）、482.4 克甲乙酮、與1869.8克環己酮加入88.9克之上述高折射率 複合氧化物細粒之分散液（PL 1-1)，繼而攪拌。使攪拌混合 物經孔度爲0.4微米之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備 中折射率層用塗料溶液。 (高折射率層用塗料溶液之製備） 將 47.9 克之 DPHA、4.0 克之 Irgacure 907、1.3 克之 Kayacure DETX、455.8克甲乙酮、與1427.8克環己酮加入 586.8克之上述高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL1-1) ，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯製 造之過濾器過濾，而製備高折射率層用塗料溶液。 -7 6 - 1334492 (低折射率層用塗料溶液之製備） 取代折射率爲1.42之可熱交聯含氟聚合物（Opstar JN7228;固體成分含量：6重量％; JSR K.K.製造）之溶劑 ，而得具有10重量％固體成分含量之可熱交聯氟聚合物於 甲基異丁基酮之溶液。將8.〇克之矽石細粒於甲乙酮之分 散液（MEK-ST ;固體成分含量：30重量％ ; Nissan Kagaku K.K.製造）、1.75克以下之矽烷化合物、73.0克甲基異丁 基酮、與33.0克環己酮加入56.0克之可熱交聯氟聚合物溶 液’繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備低折射率層用塗料溶液。 (矽烷化合物之製備） 將161克3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103: Shin-etsu Kagaku Kogyo K.K.製造）、123 克草酸與 415 克 乙醇加入裝有攪拌器與回流冷凝器之反應器中，而且在70 °C反應4小時後，將反應混合物冷卻至室溫而得矽烷化合 物如可硬化組成物。 (抗反射膜之製備） 使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液塗覆於80微米厚 之三乙醯纖維素膜（TD-80UF ; Fuji Photo Film Co.，Ltd.製 造）。在100°C乾燥後，使用160瓦/公分氣冷式金屬鹵化 物燈（Ai Graphics Κ·Κ·製造）以具400毫瓦/平方公分之強 度及300毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同 時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小 之程度，因而將塗層硬化。如此形成3.5微米厚之硬塗層 1334492 使用凹版塗覆器在硬塗層上塗覆中折射率層用塗料溶 液。在100 °C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物 燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之強度 及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同時 以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1 .〇體積％或更小之 程度，因而將塗層硬化。如此形成中折射率層（折射率：1 .65 :厚度：67奈米）》 使用凹版塗覆器在中折射率層上塗覆高折射率層用塗 料溶液。在1〇〇 °C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵 化物燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之 強度及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層， 同時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更 小之程度，因而將塗層硬化。如此形成高折射率層（折射 率：1·96;厚度：105奈米）。 使用凹版塗覆器在高折射率層上塗覆低折射率層用塗 料溶液。在80 °C乾燥後，使用160瓦/公分氣冷式金屬鹵化 物燈（Ai Graphics K.K.製造）以具5 5 0毫瓦/平方公分之強 度及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，及 在l2〇eC加熱1〇分鐘，同時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃 度保持在1.0體積％或更小之程度，因而形成低折射率層（ 折射率：1.43;厚度：86奈米）。如此形成抗反射膜。 [比較例1 - A ] 以如實例1之完全相同方式製備抗反射膜，除了使用 -78- 1334492 已經氧化鋁與硬脂酸表面處理之Ti與Zr之複合氧化物細 粒[Ti/Ti + Zr = 0.80]代替實例1-1之複合氧化物細粒。 (抗反射膜之評估） 評估各如此製備之抗反射膜之以下項目。結果列於表 1 〇 (1) 霧化評估 使用霧化計（NHD-1001DP; Nihon Denshoku Kogyo K.K. 製造）評估各抗反射膜之霧化。 (2) 反射度評估 使用光譜光度測定計（V-550，ARV-474; NihonBunko K.K.製造）在380至780奈米之波長範圍測量5°入射角之 光譜反射度。測定在450至650奈米波長範圍之平均反射 度。 (3) 耐候測試 耐候測試係使用日光氣候計（S-80; Suga Shikenki K.K. 鲁 製造），在光源爲日光碳弧燈，相對濕度60%，及測試期 間爲1 00小時之條件下進行。觀察抗反射膜在暴露前後之 白化程度且依照以下三級評估： A :目視地未觀察到白化》 B :目視地觀察到一點白化。 C:目視地觀察到嚴重之白化。 (4) 黏附性評估 已在測試（3)中暴露之各抗反射膜在溫度爲25°C及相對 濕度爲6 0 %之條件下接受水分調節。 -79- 1334492 使用切割刀在各抗反射膜之高折射率層側表面上形成 格型圖樣之凹痕，其爲縱向方向11條凹痕與橫向方向11 條凹痕，如此形成總共1 00個以凹痕包圍之正方形，及在 相同之位置使用Nitto Denko K.K.製造之聚酯製膠帶（第31B 號）重複地進行3次黏附測試。目視地觀察脫離之發生， 及依照以下4級評估： 〇0:在100片中完全未觀察到脫離》 〇 :在1 〇〇片中觀察到2或更少片脫離。

△:在1〇〇片中觀察到3至10片脫離。 X:在100片中觀察到超過10片脫離》 (5) 鉛筆硬度評估 在使暴露前後之抗反射膜在溫度爲25 °C及相對濕度爲 60%之條件下調節水分後' 使用jIS S6〇〇6指定之測試鉛筆 ’依照JIS K5 400所述之鉛筆硬度評估法以1公斤之負載 評估鉛筆硬度。 (6) 鋼絲絨抗刮性評估

觀察在使#〇〇〇〇鋼絲絨以1公斤之負載在暴露前後之 抗反射膜上來回刮1 0次時之刮痕狀態，而且依照以下3級 評估： A :完全未觀察到刮痕。 B:形成一些刮痕，雖然難以觀察到。 C:形成嚴重之刮痕。 -80- 1334492 表 1 實例Μ 比較例1-A 霧化 0.3% 0.3% 反射度 1.0% 1.1% 耐候力 暴露前 A A 暴露後 A C 黏附性 暴露後 00 X 鉛筆硬度 暴露後 3H 小於1H 抗刮性 暴露後 A C 在實 例1-1 及比較例1-A得到之樣品在使用fedeomete】 之暴露測 試前作 爲抗反射膜之光學性質及機械性質良好。 此外 ，耐候 測試後之樣品評估顯示 ，實例1 -1顯示 Arrr m 膜白化， 而且對 於黏附性、鉛筆硬度及 抗刮性之項目保 持 測試前之 性能。 另一 方面， 在比較例1-A得到之樣 品遭受嚴重之膜 白 化，而且 對於黏 附性、鉛筆硬度及抗刮 性之項目遭受退 化 ，因此發 現實際 上無法使用。 如上 所述， 本發明之膜樣品顯示極 爲優良之耐候力 > 因此爲良 好之抗 反射膜。 此外 ，本發 明之抗反射膜表面對水之接觸角爲101° 9 及動磨擦 係數爲 〇.〇8。此測量係以如下之方式進行》 (7)接觸角 1評估 使樣 品在溫 度爲25°c及相對濕度爲 6 0 %之條件下接 受 水分調節 2小時。評估在低折射率層側 上之抗反射膜表 面 -81- 1334492 對水之接觸角。 (8)動磨擦係數評估 評估動磨擦係數，如低折射率層側上之抗反射膜表面 之滑動性質作爲指數。在使樣品在溫度爲25 °C及相對濕度 爲60%之條件下接受水分調節2小時後，在使用動磨擦係 數測量機（HEIDON-14)及速度爲60公分/分鐘之100克負載 下之直徑5毫米之不銹鋼球下，測量動磨擦係數。 [實例1-2]至[實例1-4] 以如實例1-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用高 折射率複合氧化物細粒之各分散液（PL1-2至PL1-4)代替 高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL1-1)。 此外，各高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL 1-2 至PL1-4)中之分散顆粒之平均粒度在60至90奈米之範圍 內，及此顆粒顯示良好之單分散性質。 -82- 1334492 分散劑（重量比例） ?h3 9°och3 9h3 ch=ch2 十 H “廿 CH2^-(-CH2-6-^— ooi (;〇〇 (^ςΟοο-^Λ—/5 I COO(CH2)2OCO(CH2)2COO Mw ax 104 ch3 0 CH2=C-COO(CH2)2〇P(〇H)2 (0.8) ch3 CH2=C-COO(CH2)2N(CH3)2 (0句 ch3 c〇〇qh3 ch3 ch3 -f-CHa C-)-4-CH2 c4— b -fcH2 i-4—f CH2-i-A-- L' H v ,2s\ i bs 50 I SO 000(CH2)20P(0H)2 COOCHg h COO(CH2)2OOCCH=CHCOO(CH2)2〇OC ' (5ή=ΟΗ2 Mw: 2 X l〇4 (重量比例）；（” -b”表示隔離鍵.） 頮 • · H~> 鎧_ _ 領二 N _ 頮 鹚 Co離子 1.5% Co離子 2.5% Zr離子 1.0% 1- Ιι Ss <〇5 鈦與锆之複合氧 化物；Ti含量： 0.85 鈦與锆之複合氧 化物；Ti含置： 0.82 鈦與錫之複合氧 化物；Ti含量： 0.90 1 1 δ·Ν燦 <0® 蹈粜 PL1-2 PL1-3 PL1-4 S <N rn 1334492 以如實例1 -1之相同方式，如此得到之抗反射膜之性 質評估顯示與在實例1-1得到之膜相同或超越之性質。 [實例2-1] (硬塗層之形成） 將125克之DPHA之多官能性丙烯酸酯單體及125克 之胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物UV-6300B( Nihon Gosei Kagaku K.K.製造）溶於439克之工業變性醇中。將7.5克之Irgacure 90 7與5.0克之Kayacure DETX於49克甲乙酮之溶液加入 所得溶液。在將混合物攪拌後，使其經孔度1微米之聚丙 烯製過濾器過濾。 使用棒塗器將所得之形成硬塗層用塗料溶液塗覆於 TAC-TD80U之三乙醯纖維素膜，繼而在120°C乾燥。繼而 以UV射線照射塗層而形成7.5微米厚之硬塗層。 (複合氧化物細粒之分散液（PL2-1)之製備） 將38.6克之以下結構之分散劑及704.3克環己酮加入 257.1克之含鈦與鉍之複合氧化物[Ti/(Ti + Bi) = 0.95莫耳比 例](P-2)，繼而在精磨機中分散而製備重量平均粒度爲55 奈米之高折射率複合氧化物細粒之分散液。 分散劑 ch3 cooch3 ch3 COO(CH2)2C^(OH)2 C00(CH2)200C-CH=CH2 o

Mw: 1.5 X 104 (重量比例） (中折射率層用塗料溶液之製備） 將58.4克之DPHA之多官能性丙烯酸酯、3.1克之 -84- 1334492

Irgacure 907、1.1 克之 Kayacure DETX、482.4 克甲乙酮、 與1809.8克環己酮加入88.9克之上述高折射率複合氧化物 細粒之分散液（PL2-1)，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲 〇 .4微米之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備中折射率層用 塗料溶液。 (高折射率層用塗料溶液（PL2-1)之製備） 將22.3重量份四乙氧基矽烷與719重量份縮水甘油 氧基聚甲基二乙氧基矽烷加入裝有磁性攪拌器之玻璃製容 器，及在攪拌下將溶液溫度保持在5至10°C時，經3小時 逐滴加入36.8重量份之0.01 N氫氯酸。在逐滴加入結束後 ，攪拌進行0.5小時而得四乙氧基矽烷與γ-縮水甘油氧基聚 甲基二乙氧基矽烷之部份水解物。繼而將397.8重量份高 折射率複合氧化物細粒之分散液（PL2-1)(濃度：30.5重量 %)、65重量份丁基纖維素、及2.6重量份乙醯醋酮酸鋁 (作爲硬化劑）與〇 . 5重量份過氯酸銨加入1 3 7重量份之 四乙氧基矽烷與γ-縮水甘油氧基聚甲基二乙氧基矽烷之部 份水解物。在充分攪拌後，將所得溶液過濾而製備形成高 折射率層用塗料溶液（PL2-1)。 (抗反射膜之製備） 使用凹版塗覆器在硬塗層上塗覆中折射率層用塗料溶 液。在100°C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物 燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之強度 及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同時 以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小之 -85- 1334492 程度，因而將塗層硬化。如此形成中折射率層（折射率：I . 65 :厚度：67奈米）。 使用凹版塗覆器在中折射率層上塗覆高折射率層用塗 料溶液（PL2-1)。在l〇〇°C乾燥後’使塗層在120°C熱處理2 小時而將塗層硬化。如此形成高折射率層（折射率：1.9 5 ; 厚度：107奈米）。 依照JP-A-2000-24 1 603號專利之實例1所述之方法， 在高折射率層上形成低折射率層（折射率：1.44;厚度：82 奈米）。如此形成抗反射膜。 (抗反射膜之評估） 以如實例1 · 1之完全相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果顯示如實例1-1之相同良好性質。 [實例2-2]至[實例2-4] 以如實例2-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用高 折射率複合氧化物細粒之各分散液（PL2-2至PL2-4)代替 複合氧化物細粒之分散液（PL2-1)。 此外，各高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL2-2 至PL2-4)中之分散顆粒之平均粒度在60至90奈米之範圍 內，及此顆粒顯示良好之單分散性質。 -86- 1334492

分散劑（重量比例） X €-> I 〇 S 〇 〇 〇 1 X 〇 5 ch3 ch3 -fCHz-M-f-CH2-CH4~(-CH2-C4— ' T 、 | ；60 V COO(CH2)3S〇3H cooch3 cooch=ch2 0 CH2=CH-COO(CH2)2〇(CH2)2〇-|—ί〇Η 羰 璲 cN 鎧_ N _ 潁 Zr離子 1.2% Zr離子 1.0% Co離子 1.5% 複合氧化物細粒 (重量比例） 鈦與銦之複合氧 化物；Ti含量： 0.85 N rrAf . 〇 s 芻·· ·· ¢1] _ ^ <D < Η 鈦與組之複合氧 化物；Ti含量： 0.90 複合氧化物細 粒之分散液 PL2-2 PL2-3 PL2-4 實例 <N CN cn <N <N —[—00—

1334492 以如實例2-1之相同方式’如此得到之抗反射膜之性 質評估顯示與在實例2-1得到之：膜相同之性質° [實例3] (高折射率複合氧化物細粒之分散液之製備） 使92克之Ti與Ta之複合氧化物細粒[Ti/(Ti + Ta) = 0.8 莫耳比例](P·3)(其接雜姑離子（摻雜量：4重量％ ))、31 克之以下結構之含欽化合物 '及337克環己酮之混合物’ 在砂輪硏磨機（1/4G砂輪硏磨機）中以1 600 rpm細微地分 散6小時。至於介質，使用1毫米直徑氧化锆球粒。然後 加入0.1克之1N氫氯酸，及在氮大氣下將混合物加熱至80 °C。攪拌進行4小時。摻雜複合氧化物之所得經表面處理 細粒之粒度爲6 0奈米。 <含鈦化合物> CH2 = CHCOO(CH2)4Ti(OC2H5)3 (高折射率層用塗料溶液之製備） 將28.8克之DPHA、19.1克之具以下結構之可聚合化 合物、2.4 克之 Irgacure 907 ' 0.8 克之 KayacureDETX、1.9 克之具以下結構之銃化合物、455.8克甲乙酮、與1427.8 克環己酮加入586.8克之上述複合氧化物細粒之分散液 (PL3-1)，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米之聚 丙烯製造之過濾器過濾，而製備高折射率層用塗料溶液。 <可聚合化合物> ^VS.CH20C0(CH2)4C00N^^ 銃化合物> -88- 1334492

(防污層用分散液之製備） 將異丙醇加入熱可交聯含氟聚合物（】N-7214; Nihon Gosei Gomu K.K·製造）而製備0.6重量％粗略地分散之分 散液。將此粗略分散液以超音波處理而逐漸細微地分散， 如此製備防污層用塗料溶液。 (抗反射膜之製備） 依照JP-A- 1 5 1 936號專利之實例1所述之方法製備80 微米厚纖維素丙烯酸酯膜。在此透明撐體上如實例1所述 形成硬塗層及中折射率層。使用凹版塗覆器在中折射率層 上塗覆以上製備之高折射率層用塗料溶液。在100°C乾燥後 ，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（Ai Graphics K.K. 製造）以具5 5 0毫瓦/平方公分之強度及600毫焦耳/平方公 分之照射量之紫外線照射塗層，同時以氮沖洗大氣使得大 氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小之程度，然後在100 °C 加熱1 〇分鐘，因而將塗層硬化》如此形成高折射率層（折 射率：1.94 ;厚度：1 05奈米）。 依照真空沈積法在高折射率層上形成88奈米厚矽石膜 (折射率：1 .46 )。使用#3線塗器在低折射率層上塗覆防 污層用塗料溶液，繼而在120°C乾燥1小時。使用#3線塗 器在抗反射膜之低折射率層上塗覆面漆層用塗料溶液，繼 而在120°C乾燥1小時而製備抗反射膜。 以如實例1 -1之相同方式，如此得到之抗反射膜之性 質評估顯示，對於所有之性質爲如實例1-1之相同良好結 1334492 果。 (影像顯示裝置之評估） 具有如此製備之本發明抗反射膜之影像顯示裝置之抗 反射性能優良，而且產生極爲優良之可視性。 [實例4] (偏光板保護膜之製備） (偏光板之製備） 將75微米厚聚乙烯醇膜（Kurary Co.，Ltd.製造）浸於 由1 000克水、7克碘與105克碘化鉀組成之水溶液中，以 吸附碘。繼而將此膜在4重量％硼酸水溶液中縱向地單軸拉 伸4.4倍，而且同時維持拉伸狀態而製備偏光板。 使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以經皂化處理三 乙醯纖維素表面面對抗反射膜，將本發明之抗反射膜（偏 光板保護膜）層壓於偏光膜之一側》此外，使用相同之聚 乙烯醇系黏著劑，將已經上述之相同方式皂化處理之纖維 素丙烯酸酯膜（TD-80UF)層壓於偏光膜之另一側。 (影像顯示裝置之評估）

具有如此製備之本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA 、或OCB模式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置 之抗反射性能優良，及可視性極爲優良。 [實例5] (偏光板之製備） 使用具光學各向異性層之光學補償膜（Wide View Film SA-12B; Fuji Photo Film Co., Lt d.製造），其中盤型結構 1334492 單位之碟面對透明撐體面傾斜，及其中盤型結構單位之碟 面與與透明撐體面間之角度在光學各向異性層之深度方向 改變，在如實例4之相同條件下將光學各向異性側之對立 表面皂化。 使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，將實例4製備之 經皂化處理三乙醯纖維素表面層壓於偏光膜之一個表面上 。此外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑，在偏光膜之另一 側上層壓光學補償膜之經皂化處理三乙醯纖維素表面。

(影像顯示裝置之評估） 相較於晷有無光學補償膜之偏光板之液晶顯示裝置， 具有如此製備之本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、與 OCB模式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置之亮 室中對比較佳，提供極寬之上、下、左、與右視角，此外 ，顯示極爲優良之抗反射性能，因此可視性與顯示品質極 爲優良。 [實例6-1] (硬塗層用塗料溶液之製備） % 將450.0克之矽石細粒於甲乙酮之分散液（MEK-ST; 固體成分含量：30重量％，NissanKagakuK.K.製造）、15_0 克甲乙酮、220.0克環己酮、與16.0克光聚合引發劑（Irgacure 907; Nihon Ciba Geigy K.K.製造）加入 315.0 克之二異戊 四醇五丙烯酸酯與二異戊四醇六丙烯酸酯之混合物（DPHA ;Nihon Kayaku K.K.製造）及將所得混合物擾拌。使攪拌 混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯製造之過濾器過濾’而 -9 1 ~ 1334492 製備硬塗層用塗料溶液。 (二氧化鈦細粒分散液（PL1 1-1)之製備） 使257克之已經氧化鋁與硬脂酸表面處理之鈦/鉍複合 氧化物[Bi/(Ti + Bi) = 0.05莫耳比例](複合氧化物之含量： 85%) (P-1)、38.6克之以下結構之分散劑、2.6克陽離子性 丙烯酸酯DMAEA ( K.K. Kojin製造）、及700克環己酮， 在精磨機中與粒度0.2毫米之氧化锆球粒（K.K. Nikkato製 造之YTZ球）一起接受分散步驟。此分散步驟係在35至40 °C進行8小時。使用200篩目耐綸布將球粒分離而製備複 合氧化物細粒分散液（PL1 1-1)。 藉掃描型電子顯微鏡測量如此得到之分散劑之分散顆 粒之粒度，發現顆粒爲具有良好單分散性質且具有80奈米 之平均粒度之顆粒。 分散液之粒度分布之測量（使用基於雷射分析測量散 射顆粒之粒度之裝置；LA-920; Horiba Seisakusho製造） 亦顯示，粒度爲5 00奈米或更大之顆粒之含量爲爲0%。 分散劑 Ο

| CH2=CH-COO(CH2)2COO{Chy2〇-j^P—OH 亦在靜置1個月後檢驗所得分散液之性質時，發現在 分散液中未觀察到沈澱，分散顆粒之粒度與1個月前之大 小相同，及500奈米或更大之含量仍爲0%。 (中折射率層用塗料溶液之製備） 將 58.4 克之 DPHA、3.1 克之 Irgacure 907、1.1 克之 感光劑（Kayacure DETX，Nihon Kayaku K.K.製造）、482.4 -92- 1334492 克甲乙酮、與1869.8克環己酮加入88.9克之上述複合氧化 物細粒之分散液（PL11-1)，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度 爲0.4微米之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備中折射率 層用塗料溶液。 (高折射率層用塗料溶液之製備）_ 將 47.9 克之 DPHA、4.0 克之 Irgacure 907、1.3 克之 Kayacure DETX、455_8克甲乙酮、與1427.8克環己酮加入 586·8克之上述複合氧化物細粒之分散液（PL11-1)，繼而攪 拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯製造之過濾 器過濾，而製備高折射率層用塗料溶液。 (低折射率層用塗料溶液之製備） 取代折射率爲1.42之可熱交聯含氟聚合物（〇pstar JN7 228;固體成分含量：6重量％; JSR K.K.製造）之溶劑 ，而得具有10重量％固體成分含量之可熱交聯氟聚合物於 甲基異丁基酮之溶液。將8.0克之矽石細粒於甲乙酮之分 散液（MEK-ST;固體成分含量：30重量％; Nissan Kagaku K.K.製造）、I·75克以下之矽烷化合物、73.0克甲基異丁 基酮、與33.0克環己酮加入56.0克之可熱交聯氟聚合物溶 液，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米之聚丙烯 製造之過濾器過濾，而製備低折射率層用塗料溶液。 (矽烷化合物之製備） 將161克3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（KBM-5103; Shin-etsu Kagaku Kogyo K.K.製造）、123 克草酸與 415 克 乙醇加入裝有攪拌器與回流冷凝器之反應器中，而且在 1334492 7 〇 °C反應4小時後，將反應混合物冷卻至室溫而得矽院化 合物如可硬化組成物。重量平均分子量爲1600，及分子量 爲1000至2000之成分以寡聚物成分計之含量爲10〇%。氣 相層析之分析顯示起始丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷完全未 保留。 (抗反射膜之製備）

使用凹版塗覆器將硬塗層用塗料溶液塗覆於80微米厚 之三乙醯纖維素膜（TD-80UF; Fuji Photo Film Co.，Ltd.製 造）。在100°C乾燥後，使用160瓦/公分氣冷式金屬鹵化 物燈（Ai Graphics K.K.製造）以具400毫瓦/平方公分之強 度及3 00毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同 時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小 之程度，因而將塗層硬化。如此形成3.5微米厚之硬塗層

使用凹版塗覆器在硬塗層上塗覆中折射率層用塗料溶 液。在l〇〇°C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物 燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之強度 及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同時 以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小之 程度，因而將塗層硬化。如此形成中折射率層（折射率：1.65 ;厚度：67奈米）。 使用凹版塗覆器在中折射率層上塗覆高折射率層用塗 料溶液。在100 °C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵 化物燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之 -94- 1334492 強度及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層， 同時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更 小之程度，因而將塗層硬化。如此形成高折射率層（折射 率：1.96;厚度：105奈米）。 使用凹版塗覆器在高折射率層上塗覆低折射率層用塗 料溶液。在80 °C乾燥後，使用160瓦/公分氣冷式金屬鹵化 物燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之強 度及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，及 在120 °C加熱10分鐘，同時以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃 度保持在1. 〇體積％或更小之程度’因而形成低折射率層.（ 折射率：1.43 ;厚度：86奈米）。如此形成抗反射膜。 [實例6 - 2 ] (複合氧化物細粒分散液之製備） 將25 7克之用於實例6-1之經表面處理複合氧化物細 粒（P-1)、40克之以下結構之聚合物分散劑、及702克環己 酮加入精磨機，而且與粒度〇.2毫米之氧化锆球粒一起分 散。此分散步驟係在35至40°C進行5小時。如此製備平均 粒度65奈米之複合氧化物細粒分散液（PL1 1-2) ’其含0%之 具500奈米粒度之顆粒。 聚合物分散劑：

COOCHa COOi COO(CHj)2COO(CHa)2〇Pi0)(〇H)2 ,-ch4— I /15 COOiCHaJaOCOiCH^zCOOtCHaJaOOC-CH^CH；

Mw = 2 x 104 (重量組成比例） -95- 1334492 亦在靜置1個月後檢驗所得分散液之性質時，發現在 分散液中未觀察到沈澱，分散顆粒之粒度與1個月前之大 小相同，及5 00奈米或更大之含量仍爲0%。 以如實例6-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用上 述複合氧化物細粒分散液（PLU-2)代替複合氧化物分散液 (PL 1 1 -1 )。 [比較例6 - A ] 以如實例6-1之複合氧化物分散液（PL11-1)之相同方 式製備分散液，除了使用大小爲1.0毫米之玻璃球粒代替 大小爲0.2毫米之玻璃球粒。所得分散液中之此分散顆粒 具有極寬之粒度分布且具有約250奈米之平均粒度。500奈 米或更大之顆粒之比例爲10體積％或更大。 使用上述分散液代替複合氧化物分散液（PL11_1)，以 如實例6-1之相同方式製備抗反射膜。 [比較例6 - B ] 以如實例6-1之完全相同方式製備抗反射膜，除了使 用已經氧化鋁與硬脂酸表面處理之二氧化鈦細粒（TTO-5 1(C) ;二氧化鈦含量：79 至 85%; Ishihara Sangyo K.K.製造） 代替用於實例6-1之複合物細粒（P-1)。 然而，藉由改變無機細粒/DPHA之重量比例，使得以 如實例6-1之相同方式製備之抗反射膜之折射率變成與實 例6-1相同（1.96)，而製備高折射率層用塗料溶液。無機細 粒/DPHA之重量比例由60/40變成69/31，而顆粒量增加。 [比較例6-C] -9 6 - 1334492 使用鉍細粒（Bi203)代替用於實例6-1之複合氧化物細 粒。此外’進行如實例6-1之相同步驟而製備抗反射層。 然而，藉由改變無機細粒/DPHA之重量比例，使得以 如實例6-1之相同方式製備之抗反射膜之折射率變成與實 例6-1相同（1.96)，而製備高折射率層用塗料溶液。無機細 粒/DPHA之重量比例由60/40變成73/27，而顆粒量增加。 (抗反射膜之評估） 評估各如此製備之抗反射膜之以下項目。結果列於表 4。 (1) 霧化評估 使用霧化計（NHD-1001DP; Nihon Denshoku Kogyo K.K. 製造）評估各抗反射膜之霧化。 (2) 反射度評估 使用光譜光度測定計（V-550，A RV-474; Nihon Bunko K.K.製造）在380至780奈米之波長範圍測量5°入射角之 光譜反射度。測定在450至.650奈米波長範圍之平均反射 度。 (3) 耐候測試 耐候測試係使用日光氣候計（S_80; Suga Shikenki Κ·Κ· 製造），在光源爲日光碳弧燈，相對濕度60%，及測試期 間爲1 〇〇小時之條件下進行。觀察抗反射膜在暴露前後之 白化程度且依照以下三級評估： A :目視地未觀察到白化。 B:目視地觀察到一點白化。 -97- 1334492 C :目視地觀察到嚴重之白化。 (4) 黏附性評估 已在測試（3)中暴露之各抗反射膜在溫度爲25 °C及相對 濕度爲60%之條件下接受水分調節。 使用切割刀在各抗反射膜之高折射率層側表面上形成 格型圖樣之凹痕，其爲縱向方向11條凹痕與橫向方向 π 條凹痕，如此形成總共100個以凹痕包圍之正方形，及在 相同之位置使用Nitto Denko K.K.製造之聚酯製膠帶（第31B 號）重複地進行3次黏附測試。目視地觀察脫離之發生， 及依照以下4級評估： 00:在100片中完全未觀察到脫離。 〇:在100片中觀察到2或更少片脫離。 △:在100片中觀察到3至10片脫離。 X:在100片中觀察到超過10片脫離。 (5) 鉛筆硬度評估 在使暴露前後之抗反射膜在溫度爲25 °C及相對濕度爲 60%之條件下調節水分後，使用JIS S 6006指定之測試鉛筆 ，依照JIS K5400所述之鉛筆硬度評估法以1公斤之負載 評估鉛筆硬度。 (6) 鋼絲絨抗刮性評估 觀察在使#〇〇〇〇鋼絲絨以1公斤之負載在暴露前後之 抗反射膜上來回刮1 0次時之刮痕狀態，而且依照以下3級 評估： A:完全未觀察到刮痕。 1334492

B :形成一 些刮痕， 雖然難以觀察到。 C =形成嚴重之刮痕 〇 表 4⑷ 實例6-1 實例6-2 比較例6-A 霧化値 0.8% 0.5% 5% 平均反射度 0.3% 0.25% 1% 白化測試 A A A 黏附性 暴露前 00 〇〇 > 暴露後 0 0 > 鉛筆硬度 暴露前 3H 3H 2H至3H (不均勻） 暴露後 3H 1H或更 2H至3H (不均勻） 抗刮性 暴露前 A A B 暴露後 A A B 霧化値 平均反射度 白化測試 黏附性 暴露前 暴露後 鉛筆硬度 暴露前 暴露後 抗刮性 暴露前 暴露後 表 4所示之結果顯示 表 4(B)

比較例6-B 比較例6-C 1.3% - 變黃 0.38% - 變黃 C A 00 0 X 0 3H 3H 1H或更小 3H A A B A 以下之事實。 -99- 1334492 在實例6-1與6-2及比較例6-B得到之暴露測試前新 鮮膜之光性質、黏附性、硬度、及抗刮性良好。另一方面 ，在比較例6-A得到之樣品顯示大光學値。此外，其顯示 退化之黏附性、硬度及抗刮性。 另一方面，在比較例6-C得到之僅含氧化鉍之樣品遭 受嚴重之膜變黃而實際上無法作爲抗反射膜。 此外’實例6-1與6-2之耐候測試後之膜樣品顯示與 耐候測試前之膜幾乎相同之良好性質。然而，在比較例6-B 得到之樣品遭受膜白化及嚴重之膜強度退化。 如上所述，本發明之膜樣品顯示極爲優良之耐候力及 優良之光學性質與膜強度。 此外，實例6-1與6-2製備之各抗反射膜表面對水之 接觸角爲101° ，及動磨擦係數爲0.08。此測量係以如下之 方式進行。 (7) 接觸角評估 使樣品在溫度爲25°C及相對濕度爲60%之條件下接受 水分調節2小時。評估在低折射率層側上之抗反射膜表面 對水之接觸角。 (8) 動磨擦係數評估 評估動磨擦係數，如低折射率層側上之抗反射膜表面 之滑動性質作爲指數。在使樣品在溫度爲2 5 °C及相對濕度 爲6 0%之條件下接受水分調節2小時後，在使用動磨擦係 數測量機（HEIDON-14)及速度爲60公分/分鐘之100克負載 下之直徑5毫米之不銹鋼球下，測量動磨擦係數。 -100- 1334492 [實例6-3]至[實例6-8] 以如實例6-2之相同方式製備抗反射膜，择 複合氧化物細粒分散液（PL11-3至PL11-8)代1 物細粒分散液（PL1 1-2)。 此外，各複合氧化物細粒之分散液（PLU·3 )中之分散顆粒之平均粒度在60至80奈米之驾 此顆粒顯示良好之單分散性質。 了使用各 複合氧化 至 PL11-8 圍內，及 -101- 1334492

分散劑（重量比例） 〇< Ο X 〇 *·_ 〇 土 ϋ II ϋ ch3 -fcH2-CH-)-(-CH2-CH-A——f-CH2—C-)—— …… ^ z j /10 \ 2 1 | ^15 CH=CHa COOICHJaSOaK COO-ΑΛ COO(CH2)aOCOCH=CH-COO(CH2)2OOC 7 MW2X10* HOOCtCH^aS-^-CHa-C ) (_CHa-GH^~|— COOCHj I νΛνιί 1 n v i COOCH2CH=CH2 Mw 1 · 0 x 10 CH2=CH-C〇(〇CHaCHj)20Q-^r~y-SQaK CH, CH3 CH2=CH-COOCH2CHCH2OOC(CH2)2S-j-(-CH2-C—)^-{-CH2-CH-Jy—(-CH2-C-^4- 〇 0H COOCHj | ，2 0〇品0^。^(0叫2 COO(CH2)2N(CH3)2 Mw1.5x10« [CH2=CH-COO(CH2)2〇(CH2)2 ] 2N(CH2)aS03Na 複合氧化物細粒分散液 PL11-3 PL11-4 PL11-5 PL11-6 PL11-7 PL11-8 實例 m νό VO VO \6 r- v〇 00 VO

IsT—I— 1334492 以如實例6-1之相同方式，如此得到之抗反射膜之性 裊

質評估顯示與在實例6-1得到之膜相同或超越之性質。 [實例7-U (硬塗層之形成） 將125克之DPHA之多官能性丙烯酸酯單體及125克 之胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物UV-6300B( Nihon Gosei Kagaku K.K.製造）溶於439克之工業變性醇中。將7.5克之Irgacure 907與5.0克之Kayacure DETX於49克甲乙酮之溶液加入 所得溶液。在將混合物攪拌後，使其經孔度1微米之聚丙 烯製過濾器過濾。 使用棒塗器將所得之形成硬塗層用塗料溶液塗覆於 TAC-TD80U之三乙醯纖維素膜，繼而在120°C乾燥。繼而 以UV射線照射塗層而形成7.5微米厚之硬塗層。 (複合氧化物細粒分散液（PL2-1)之製備） 將38.6克之以下結構之分散劑及704.3克環己酮加入 257.1克之含鈦、鉍與鋁之複合氧化物[Bi/(Ti + Bi + Zr) = 0.08 莫耳比例；Zr/Bi + Ti + Zr = 0.05莫耳比例](P-2)，繼而在精磨 機中與粒度0.3毫米之氧化锆球粒一起分散。此分散步驟 係在40至45 °C進行6小時而製備複合氧化物細粒分散液 (PL2-1)。如此得到之分散液中之分散顆粒具有75奈米之 平均粒度，5 00奈米或更大之顆粒之含量爲0%。

-103- 1334492

分散齊丨J WHUnHoiooo-HO)ooo-5)ooo H9gH3·,) a ( oJg5-^j-SNPHQ)OOONf5)08 εΐ ^HrHD4-^-HDINH04-^ fo w{HO)d-o-HO)ooo X 000^ =j I o ο-ό-ϋ

Mw: 4 χ 104(接枝部份之 Mw: 8 χ 10 -1 04- 1334492 (中折射率層用塗料溶液之製備） 將5 8.4克之DPHA之多官能性丙烯酸酯' 3.1克之 Irgacure 907、1.1 克之 Kayacure DETX' 482.4 克甲乙酮、 與1 869.8克環己酮加入88.9克之上述複合氧化物細粒之分 散液（PL2-1)，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲0.4微米 之聚丙烯製造之過濾器過濾，而製備中折射率層用塗料溶 液。 (高折射率層用塗料溶液之製備） 將22.3重量份四乙氧基矽烷與77.9重量份γ-縮水甘油 氧基聚甲基二乙氧基矽烷加入裝有磁性攪拌器之玻璃製容 器，及在攪拌下將溶液溫度保持在5至1 0 °C時，經3小時 逐滴加入36.8重量份之0.01 N氫氯酸。在逐滴加入後，攪 拌進行0.5小時而得四乙氧基矽烷與γ-縮水甘油氧基聚甲基 二乙氧基矽烷之部份水解物。繼而將397.8重量份複合氧 化物細粒之分散液（PL2-1)(濃度：30.5重量％) 、65重量 份丁基纖維素、及2.6重量份乙醯醋酮酸銘（作爲硬化劑 )與0.5重量份過氯酸銨加入137重量份之四乙氧基矽烷 與縮水甘油氧基聚甲基二乙氧基矽烷之部份水解物。在 充分攪拌後，將所得溶液過濾而製備形成高折射率層用塗 料溶液。 (抗反射膜之製備） 使用凹版塗覆器在硬塗層上塗覆中折射率層用塗料溶 液。在100°C乾燥後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物 燈（Ai Graphics K.K.製造）以具550毫瓦/平方公分之強度 -105- 1334492 及600毫焦耳/平方公分之照射量之紫外線照射塗層，同時 以氮沖洗大氣使得大氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小之 程度，因而將塗層硬化》如此形成中折射率層（折射率：1.65 :厚度：67奈米）。 使用凹版塗覆器在中折射率層上塗覆高折射率層用塗 料溶液。在l〇〇°C乾燥後，使塗層在120°C熱處理2小時而 將塗層硬化。如此形成高折射率層（折射率：1.95 ;厚度： 107奈米）。 依照JP-A-2000-24 1 603號專利之實例1所述之方法， 在高折射率層上形成低折射率層（折射率：1.44 ;厚度：82 奈米）。如此形成抗反射膜。 (抗反射膜之評估） 以如實例6-1之完全相同方式評估如此製備之抗反射 膜。結果列於表5。 表5 實例7-1

霧化値 0.9% 平均反射度 0.4% 白化測試 A 黏附性 暴露前 00 暴露後 0 _硬度 暴露前 3H 暴露後 3H 抗刮性 暴露前 A 暴露後 A 1334492 [實例7-2]至[實例7·4] 以如實例7-1之相同方式製備抗反射膜，除了使用複 合氧化物細粒之各分散液（PL2-2至PL2-4)代替複合氧化 物細粒之分散液（PL2-1)。 此外，各高折射率複合氧化物細粒之分散液（PL2-2 至PL2-4)中之分散顆粒之平均粒度在55至80奈米之範圍 內，及此顆粒顯示良好之單分散性質。

-107- 1334492 分散劑（重量比例） 0 ^-^CH20(CH2)aCOO{CH2)2〇P〇3H2 ,? £ Η~8§\ £ ο ϋ—Ο-ο 3? 2 午％ 8 〇 γ, Ο Ο—ϋ—8 5 X： *〇 ^18 χ δ-8 5 5ν J 〇^^NpC〇〇(CH2)eCOOH (80) Θ © (CaHsJgNiCHJaCOOH · PfV (20) / 複合氧化物細粒（重量比例） <□ S 鹅 ·. •N _ % 1 mil X 赞》 W I Μ m 写 經 齡鬆去式 Γ0 臧《_ g ·· JJ i5 如a 艇ϊ Ν Η 頭S ^ Ά r-! m • * 1 1 <π〇 蹈？ •Ν Ν 趣s 讅a 複合氧化物細粒 之分散液 PL2-2 PL2-3 PL2-4 1 CS cn 1334492 以如實例7 _ 1之相同方式，如此得到之抗反射膜之性 質評估顯示與在實例7-1得到之膜相同之性質。 [實例8] (複合氧化物細粒之分散液（PL3-1)之製備） 使 92克之含鉍、鉻與鈦之複合氧化物之細粒 [Bi/(Bi + Ti + Zr) = 0.07 莫耳比例；Zr/Bi + Ti + Zr = 0.05 莫耳比例 ](P-3)、31克之以下結構之含鈦化合物、及337克環己酮 之混合物，在砂輪硏磨機（1/4G砂輪硏磨機）中以1 600 rpm 細微地分散6小時。至於介質，使用粒度爲0.2毫米之氧 化錆球粒。然後加入0.1克之1 N氫氯酸，及在氮大氣下 將混合物加熱至80°C。攪拌進行4小時而製備複合氧化物 細粒分散液（PL-3)。所得經表面處理細粒之粒度爲70奈米 〇 <含鈦化合物> I ?Ha 1 I CH^C-COOtCHaJj jjTIJOCjHs) (高折射率層用塗料溶液之製備） 將28.8克之DPHA、19.1克之具以下結構之可聚合化 合物、2.4 克之 Irgacure 907、0.8 克之 KayacureDETX、1.9 克之具以下結構之銃化合物、455.8克甲乙酮、與1427.8 克環己酮加入586.8克之上述複合氧化物細粒之分散液 (PL3-1)，繼而攪拌。使攪拌混合物經孔度爲〇·4微米之聚 丙烯製造之過濾器過濾，而製備高折射率層用塗料溶液。 <可聚合化合物>

OCO(CH^4COO — 109- 1334492 <銃化合物>

(防污層用分散液之製備） 將異丙醇加入熱可交聯含氟聚合物.（JN-7214; Nihon Gosei Gomu K.K.製造）而製備0.6重量％粗略地分散之分 散液》將此粗略分散液以超音波處理而逐漸細微地分散， 如此製備防污層用塗料溶液》 (抗反射膜之製備） 依照JP-A- 1 5 1 936號專利之實例1所述之方法製備80 微米厚纖維素丙烯酸酯膜。在此透明撐體上如實例6-1所 述形成硬塗層及中折射率層。使用凹版塗覆器在中折射率 層上塗覆以上製備之高折射率層用塗料溶液。在1〇〇艽乾燥 後，使用240瓦/公分氣冷式金屬鹵化物燈（八丨〇1^?1^(^1^1<：. 製造）以具550毫瓦/平方公分之強度及600毫焦耳/平方公 分之照射量之紫外線照射塗層，同時以氮沖洗大氣使得大 氣之氧濃度保持在1.0體積％或更小之程度，然後在l〇〇°C 加熱10分鐘，因而將塗層硬化》如此形成高折射率層（折 射率：1 _94 ;厚度：1〇5奈米）。 依照真空沈積法在高折射率層上形成88奈米厚矽石膜 (折射率：1 .46 )。使用#3線塗器在低折射率層上塗覆防 污層用塗料溶液，繼而在120 °C乾燥1小時。使用#3線塗 器在抗反射膜之低折射率層上塗覆面漆層用塗料溶液，繼 而在12(TC乾燥1小時而製備抗反射膜。 以如實例6-1之相同方式，如此得到之抗反射膜之性 -110- 1334492 質評估顯示，對於所有之性質爲如實例6-1之相同良好結 果。 [實例9] (偏光板保護膜之製備） 使用實例6-1至6-8及實例7-1至7-4製備之抗反射膜 ，以如下之方式使本發明高折射率層之對立側上之透明撐 體表面接受鹼性皂化處理。 使各膜通過60°C介電加熱輥而將膜表面溫度提高至40 °C，然後使用棒塗器將以下組成物之鹼溶液（S)以15 cc /平 方米之塗覆量塗覆於其上，及在蒸氣型遠紅外線加熱器（

Noritake Company Limited 製造）下加熱至 110 °C 保持 15 秒 後，類似地使用棒塗器將純水以3 cc/平方米之量塗覆於其 上。此時之膜溫爲40°C。繼而將使用噴塗器以水淸洗及空 氣刀以水淸除之組合重複3次，然後使膜在70 °C乾燥區保 持5.秒而乾燥。 鹼溶液（S)之組成物： 氫氧化鉀 水 異丙醇 8.5 5重量％ 2 3.2 3 5 重量 ％ 5 4.2 0重量％ 界面活性劑（K-l; Cl4H290(CH2CH20)2()H) 1.0 重量 ％ 丙二醇 1 3.0重量％ 防沫劑（Surfinol DF110D; Nissan Kagaku KogyoK.K.製造） 0.015 重量 ％ (偏光膜之製備） 1334492 將75微米厚聚乙烯醇膜（Kur ary Co.，Ltd.製造）浸於 由100克水、7克碘與105克碘化鉀組成之水溶液中，以吸 附碘。繼而將此膜在4重量％硼酸水溶液中縱向地單軸拉伸 4.4倍’而且同時維持拉伸狀態而製備偏光板。 使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，以經皂化處理三 乙醯纖維素表面面對抗反射膜，將本發明之抗反射膜（偏 光板保護膜）層壓於偏光膜之一側。此外，使用相同之聚 乙烯醇系黏著劑，將已經上述之相同方式皂化處理之纖維 素丙烯酸酯膜（TD 8 0UF)層壓於偏光膜之另一側。 (影像顯示裝置之評估） 具有如此製備之本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA 、或OCB模式透光型、反射型 '或半反射型液晶顯示裝置 之抗反射性能優良’，及可視性極爲優良。 [實例10] (偏光板之製備） 使用具光學各向異性層之光學補償膜（Wide View Film SA-12B; Fuji Photo Film Co·, Ltd.製造），其中碟型結構 單位之碟面對透明撐體面傾斜，及其中碟型結構單位之碟 面與與透明撐體面間之角度在光學各向異性層之深度方向 改變，在如實例9之相同條件下將光學各向異性側之對立 表面皂化。 使用聚乙烯醇系黏著劑作爲黏著劑，將實例9製備之 經皂化處理三乙醯纖維素表面層壓於偏光膜之一個表面上 。此外，使用相同之聚乙烯醇系黏著劑，在偏光膜之另一 -112- 1334492 側上層壓光學補償膜之經皂化處理三乙醯纖維素表面。 (影像顯示裝置之評估） 相較於具有無光學補償膜之偏光板之液晶顯示裝置， 具有如此製備之本發明偏光板之TN、STN、IPS、VA、與 OCB模式透光型、反射型、或半反射型液晶顯示裝置之亮 室中對比較佳，提供極寬之上、下、左、與右視角，此外 ，顯示極爲優良之抗反射性能，因此可視性與顯示品質極 爲優良。

工業應用力 使用含高折射率複合氧化物細粒（包括指定元素）之 高折射率層組成物之抗反射膜之耐候力優良（特別是抗光 性），而且可大規模不昂貴地提供。 此外，具上述優點之抗反射膜可用於偏光板或影像顯 示裝置以提供具優良可視性及顯示品質之影像》

使用由含高折射率複合氧化物超細顆粒（包括指定元 素）之塗料組成物形成之高折射率硬化膜之抗反射膜之耐 候力亦優良（特別是抗光性），而且可大規模不昂貴地提· 供。 此外，具上述優點之抗反射膜可用於偏光板或影像顯 示裝置以提供具優良可視性及顯示品質之影像。

Claims (1)

13344& 2^3/^£] 1 ' W、、* 、 補无 第9 3 1 05 649號「高折射率層、可硬化塗料組成物之製法、 抗反射膜、偏光板及使用其之影像顯示裝置」專利案 (2007年2月13日修正） 拾、申請專利範圍： 種高折射率層，包括基質與高折射率複合氧化物之細粒 其中高折射率複合氧化物之細粒爲含以下之複合氧化物 之細粒：鈦元素，及至少一種金屬元素，其中至少一種金 屬元素之氧化物具有1.95或更高之折射率，且 此複合氧化物摻雜有至少一種選自Co離子、Zr離子與A1 離子之金屬離子。 2 ·如申請專利範圍第1項之高折射率層，其中高折射率複合 氧化物之細粒，用至少一種無機化合物與有機化合物之化 合物表面處理過。 3.如申請專利範圍第1或2項之高折射率層，其中基質含至 少一員選自有機黏合劑、有機金屬化合物與其部份水解物 之硬化產物。 4 ·如申請專利範圍第1或2項之高折射率層，其具有丨.7 5 至2 . 4之折射率。 5 .如申請專利範圍第1或2項之高折射率層，其係藉由使用 分散劑將高折射率複合氧化物之顆粒分散而得到之組成 物所形成的，其中分散劑爲一種具有至少一個選自竣基、 硫基、膦基、與氧膦基之陰離子性基之化合物。 6 _如申請專利範圍第5項之高折射率層，其中分散劑爲一種 含可交聯或可聚合官能基之化合物。 -1 - 1334492 7 . —種抗反射膜，依序包括：透明撐體 '如申請專利範圍第 1項之高折射率層、及具有小於1 · 5 5之折射率之低折射率 層。 8 . —種抗反射膜，依序包括透明撐體；兩層如申請專利範圍 第1項且彼此折射率不同之高折射率層，及具有小於1 . 5 5 之折射率之低折射率層。 9 _如申請專利範圍第7或8項之抗反射膜，其進一步在透明 撐體與高折射率層間包括硬塗層。 10.—種偏光板，包括偏光膜及其保護膜，其中保護膜爲如 申請專利範圍第7項之抗反射膜。 11· —種偏光板，包括一種偏光膜及其保護膜，其中保護膜 之一爲如申請專利範圍第7項之抗反射膜，及另一個保護 膜爲具有光學各向異性之光學補償膜。 1 2 .如申請專利範圍第1 1項之偏光板，其中該光學補償膜包 括透明撐體及含光學各向異性層之光學補償層，此光學各 向異性層含一種具碟型結構單位之化合物，其中碟型結構 單位之碟面向透明撐體面傾斜，及碟面與透明撐體面間之 角度在光學各向異性層之深度方向改變。 13.—種影像顯示裝置，其在影像顯示表面上包括如申請專 利範圍第7項之抗反射膜或如申請專利範圍第1 〇項之偏 光板。 14_一種製造可硬化塗料組成物之方法，其包括膜形成可硬 化化合物及高折射率複合氧化物細粒，其中高折射率複合 氧化物細粒含：鉍元素，及至少一種金屬元素；其中至少 -2- 1334492 一種金屬元素之氧化物具有1.95或更高之折射率； 其中此方法包括使用具小於1毫米之平均粒度之介質濕分 散高折射率複合氧化物顆粒與分散劑，因而製造具1 50奈 米或更小之平均粒度之高折射率複合氧化物細粒。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之方法，其中該分散劑爲一種具 極性基之聚合物分散劑。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項之方法，其中該極性基爲至少一 種選自羧基、硫基、膦基、氧膦基之陰離子性基。 1 7 .如申請專利範圍第1 5或1 6項之方法，其中該分散劑爲 一種具有可交聯或可聚合官能基之化合物。 18. 如申請專利範圍第14或15項之方法，其中該膜形成可 硬化化合物爲可硬化有機黏合劑、有機金屬化合物與其部 份水解物至少之一。 19. —種硬化膜，其具有1.85至2.5之折射率’而且由含膜 形成可硬化化合物與具1 00奈米或更小之平均粒度之高折 射率複合氧化物細粒之可硬化塗料組成物形成’此高折射 率複合氧化物細粒含··鉍元素，及至少—種金屬元素；其 中至少一種金屬元素之氧化物具有1.95或更高之折射率 〇 20· —種抗反射膜，其依序包括透明撐體、如申請專利範圍 第1 9項之硬化膜，及具有小於1 · 5 5之折射率之低折射率 層。 21· —種抗反射膜，其依序包括透明撐體 '兩層如申請專利 範圍第19項且彼此折射率不同之硬化膜’及具有小於 -3- 1334492 1 · 5 5之折射率之低折射率層。 22 .如申請專利範圍第20或2 1項之抗反射膜，其進一步在 透明撐體與硬化膜間包括硬塗層。 23. —種偏光板，其包括偏光膜及其保護膜，其中保護膜爲. 如申請專利範圍第2 0項之抗反射膜。 24. —種偏光板，其包括一種偏光膜及其保護膜，其中保護 膜之一爲如申請專利範圍第20項之抗反射膜，及另一個 保護膜爲具有光學各向異性之光學補償膜。 25 .如申請專利範圍第24項之偏光板，其中該光學補償膜包 括透明撐體及含光學各向異性層之光學補償層，此光學各 向異性層含一種具碟型結構單位之化合物；其中碟型結構 單位之碟面向透明撐體面傾斜，及碟面與透明撐體面間之 角度在光學各向異性層之深度方向改變。 26.—種影像顯示裝置，其在影像顯示表面上包括如申請專 利範圍第20項之抗反射膜或如申請專利範圍第2 3項之偏 光板。 -4 ~