TWI334451B - Verfahren und vorrichtung zur schmelztauchbeschichtung eines metallstanges - Google Patents

Description

1334451 玖、發明說明： [發明所屬之技術領域] - 一種將金屬條帶熔浸鍛覆的方法，特別是將一鋼帶熔 次鍍覆者，其中該金屬條帶至少一部段一部段地用預設的 運送速度通過一容器，該容器容納該熔融的鍍覆金屬。此 外還關於一種金屬條帶的熔浸鍍覆的裝置。 [先前技術] 傳統的金屬帶的金屬熔浸鍍覆的設備有一需密集維修 的部分，亦即鍍覆容器（它具有位在其中的設計）。所要鍍馨 覆的金屬帶旳表面在鍍覆前要清洗除去氧化物剩餘物並 作活化以與鍍覆金屬接合，因此之故，該金屬帶表面在鍍 覆前要在一還原性的大氣中用熱程序處理，由於氧化物層 先則用化學方式或用到磨方式除去，因此利用這種還原性 熱程序可將表面活化，使它在熱程序之後變成純金屬元素 性。 一種此類解決方案的例子見於歐洲專利EP 0 073 044 B1。依國際專利WO 96/〇3533或日本專利特公開5- 086446的解決方案，也使用電磁性封閉件，以將鍍覆容器 下方密封。 在德專利DE 42 03 578 A1同樣地發表了一種具有電 磁式封閉性的熔浸鑛覆設備，在此處，要使金屬條帶在該 「鏟覆金屬」巾的駐留時間不受金屬條帶的通過速度影響 地受控制，故主張在金屬條帶 余帶通過時，使該熔融液狀的鍍 覆材料朝向金屬條帶表面運動且排除空氣的狀況下翻動。 8 1334451 上述所有解決方案基本上都上在鍍覆容器中預設鍍覆 金屬的液面高度。一般’金屬條帶通過該鍍覆槽的通過速 度對於熔浸鍍覆的種類及品質而言為重要的影響因素。此 外，除了在DE 42 08 578 A1所發表的解決方案，並沒有 可能主動地對熔浸鍍程序造成影響。換言之，金屬條帶在 鍍覆介質中的駐留時間在習知的熔浸鍍覆裝置以動態方式 大多藉由金屬條帶通過鍍容器的通過速度而改變，因為鍍 覆槽液面只能極端遲鈍地藉由在金屬條帶上的鍍覆使物料 帶出而降低’ 0此鐘覆槽液面不能用於當作動態的最終控 制元件以調整品質特點。 [發明内容] 毛明的目的在提供一種方法及其相關裝置，以將4 屬條帶作料鍍覆，藉之可㈣效地影響料鍍覆的參类 而不需將金屬條帶通㈣融鍍覆金屬的通過速度改變。 ^目的依本發明達成之道，在方法方面，係將金屬條 炼融的中的駐留時間藉著控制及調節容器中該 .鍍覆金屬的液面狀態高度面作預設。 的液明的構想係利用鍵覆容器中的炫融施覆金屬 數作針對標的影響。利用這種鍍㈣品質的參 ，而 l種進仃方式，可影響鍍覆品質 金屬㈣通過該鍍覆裝i的運送速度。 依本發明第一個次要特點在於 經過輯融鍍覆金屬及經過一條接在：=帶只垂直地 通過去 過條接在…方的導引通道 夕―個設在金屬冑帶兩邊的電感器產生 1334451 瓜電磁場，將容器中的鍍覆金屬保持在導引通道的區域 。因此’依此特點，使用具有電磁式底封閉作用的習知 CV〇L^(Continucus ^ Gaivanjsing ^ 直鍍覆線）。 ^ $ 此外，金>1條帶通過容器的運送速度S可保持值定。 用於將金屬條帶作溶浸鍍覆的本發明的裝置（在其中該 金屬條帶至少部段式地垂直地通過該容納溶融鍍覆金屬的 容器)的特徵在於有調節/控制手段，以依金屬條帶在該熔 融覆金屬中的預設駐留時間而定而控制或調節容器中之熔 融鍍覆金屬的液面狀態高度。 在此，該裝置宜具有一個接在容器前方的導引通道以 及至少二個感應器，該感應器設在導引通道的區域中在金 屬條帶兩側，以產生一電磁場，以將該鏟覆金屬保持在容 器中（CVGL方法）。 一種有利的方式，係使該用於將容器中的熔融鍍覆金 屬的液面狀態的南度作控制或調節的手段具有測量手段以 測量容器中熔融鍍覆金屬的液面狀態，並有影響手段，以 景> 響液面狀態’該影響手段與該控制或調節裝置連接。 此外，該用於影響熔融鍍覆金屬的液面狀態的手段有 —流出道’以將熔融鍍覆金屬從容器放出進入一預置容器 中’並有一泵，以將嫁融鍍覆金屬從預置容器送入該容器 中，在此，該預置容器宜設在該容器下方。 要儘量有效且快速地影響容器中的熔融鍍覆金屬的液 面狀態’事實顯示’容器之谷納體積宜比預置容器的容積 10 1334451 1許少倍’在此’谷器的容納體積特宜為預置容器的$〜 20%之間。 ' [實施方式] 此裝置有今器(3) ’充以熔融的鍍覆金屬⑺，舉例而 言二它可鋅或銘，所要鍍覆的金屬條帶⑴（呈鋼帶形式）沿 運运方向垂直向上以預設之運送速度乂通過容器⑶，此運 送速度在程序t保持恆定。 在此可看出·點.基本上也可使金屬條帶⑴從上向下 通過容器（3)。 為了要使金屬條帶（1)诵過交 益(3)，故該容器(3)的底 &域係開放者，此處有一導利 · ㈣通道（4)。為了使炫鑛覆金屬 (2)不致通過導引通道& , 古“ …4)向下流出’故在金屬條帶⑴兩側 有感應器（5)，它們產生一 叔磁场，在熔融金屬的體積中產 生立體力置，與該鍍覆合屬 道⑷下方密封。^金屬⑺的重力抗衡，因此使導引通 1Γ感益（5)係二個對立設置的交流場（WechseifeId)或 你移％(Wanderfeid)或電感器，它 择作日描氺 匕們在2Hz〜lOKHz的頻域 耜作且構成一股垂直於運送方 4 的&向電磁場，單相李 統（父流場電感器）用的較佳領域 糸 多相h 土 1主錢在2仟赫〜10仟赫之間’ 夕相系統用者（例如漂移場電咸 # €α盗）則在2赫〜2仟赫間。 在所提議的熔浸鍍覆裝置，推 m — 衮*係' 經由適當的手段以主動 式對谷器（3)中的熔融鍍覆金屬的液面 並依標的用此液面高度影響程序 冋又&衫曰， θ枉序參數及鍍覆品質。 為此設有液面狀態高度h的 控制或調節手段（6)，其中 由圖式可看出，液面高度.h可在很大的限度中 面南度hmin與-最大液面高度hmax之間移動。 ’、' 的運液面狀態的實際高“以及金屬條帶⑴ 成金屬條帶⑴在鑛覆金屬⑺中的駐留時 ，由此再侍到對於熔浸鍍覆程序的重要影響參數。 2控制或調節液面狀態高度h的手段⑹主要由一測 :丰⑺構成，藉之可測量實際的液面狀態高度h，由測 :卿斤測的值送到一控制·或調節褒置⑽，該控制· …周即裝置也得到金屬條帶⑴在鍍覆金屬(2)中的駐留時門 面此控制_或調節裝置⑽可以對該用於影響液 也同度h的影響手段（8)(9)[亦即對於—流出道（—一 熔融鍍覆金屬(2)可用它從容器⑺放出―以及對 調印的系⑼——鑛覆金屬（2)可用它聚入容器（3)中]造二 «藉由對於流入容器（3)的流入道或流出容器⑺的流出道 作相關的影響，可藉該控制_或調節裝置⑽作控 而保持所要或所需的液面狀態高度h。 一 如果為此在該容器（3)下方設一預定容器（11)，則特別 ^利。如實施例中所示，有一管路（12)將流出道⑻與預置 容器（11)連接，有另一管路（13)以相同方式設置，該管路 (U)中設有一泵，藉之可將鍍覆金屬（2)從預置容器 器（3)中。 因此鍍覆槽液面可藉由流出道（8)及泵（9)用動態方式控 制或調節。因此可以使用液面狀態高度h當作調整值以調 節所鍍覆之金屬條帶〇)的品質。 12 丄334451 藉著將鍍覆槽液面h,依標的作改變，使金屬條帶（1)在 鍍覆金屬（2)中的駐留’時間t改變，--在恆定的運送速度 的清开乂 —可以將鐘覆裝置後方之已錄覆的金屬條帶（j) 的°°質特性作調節或作後調節。 【圖式簡單說明】

圖式部分 圖係本發明之一熔浸鍍覆裝置的實施例 條金屬條帶通過此裝置。 元件代表符號 (1) 金屬條帶（鋼帶） (2) 鍍覆金屬 (3) 容器 旳未意管 (4) (5) (6) 〇) (8) (” (1〇) (11) (12) (13) 導引通道 電感器 用於控制或調節液面狀態高度的手段 用於測量液面高度的測量手段 用於衫響液面狀態的手段，流出道 用於影響液面狀態的手段，泵 控制-或調節裝置 預置容器 管路 管路 運送速度 駐留時間 13 1334451 h 容器中、熔融鍍覆金屬的位面狀態高度 h m i η 最小位面南度 hmax 敢大位面局度 R 運送方向

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Claims (1)

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1 _ 一種將金屬條帶（1)熔浸鍍覆的方法，其中該金屬條 帶至少一部段一部段地用預設的運送速度（v)通過一容器（3) ，該容器容納該熔融的鍍覆金屬（2)，其中，用一控制或調 節手段（6)控制或調節容器（3)中熔融鍍覆金屬（2)的液面狀 . * ·.·' 拾、申請專利範固： 癌的两度（h) ’用一測量手段測量該容器（3)中之熔融鍍 覆金屬（2)的液面狀態的高度；且用一影響手段（8)(9)影響 该液面狀態的高度（h)，其中該熔融鍍覆金屬（2)可利用一轉 速受調節的泵（9)泵入該容器（3)中，且可經由一流出道（8) 從該容器（3)放出，且上述各手段（6)⑺⑻（9)係與一控制或 調節裝置（1G)連接，該金屬條帶⑴在該㈣錄覆金屬中的 駐邊時間⑴利用控制或調節該容器⑺中之溶融鍵覆金屬 (2)液面狀態的高度（h)而預設。 2·如申請專利範圍第1項之方法，其中： 金屬條<ητ(1)只垂直地通過該熔融覆金屬（2)及通過_ 条接在# H (3)則方的導引通道⑷’且在導引通道⑷的聋 凡用至夕—個设在金屬條帶（1)兩側的電感器（5)產生_ 股電磁場以將該鏟覆金屬（2)保持在容器（3)中。 3·如申請專利範圍第1或第2項之方法，豆中： 定。將該金屬條帶⑴通過該容器（3)的運送速度（V)保❸ ⑴在；Λ將：金屬條帶⑴溶浸鍍覆的裝置，該金屬條 的容器 少部段式地通過一個容納溶融鑛覆金屬 这裝置有控制或調節手段(6)，以依金屬條 15 1334451 (1)在熔融鑛覆金屬（2)卡的預設駐留時間⑴而定而控制或 調節該容器（3)中的熔’融鍍覆金屬（2)的液面狀態高度（h)， 有影響手段（8)(9)以影響該液面狀態，該影響手段具有—轉 速受控制的泵（9) ’藉之可將鍍覆金屬（2)泵入容器中，且具 有一流出道（8)以將鍍覆金屬（2)從容器（3)流出，並有至少 一測量手段（7)以測量容器（3)中熔融鍍覆金屬的液面狀 態的局度（h)，其中，上述各手段與控制或調節裝置連接， 且該金屬條帶（1)在熔融鍍覆金屬（2)中的駐留時間⑴可藉 著該控制或調節裝置以控制或調節該容器（3)中熔融鍍覆金 屬（2)的液面狀態的高度（h)而預設。 5 ·如申睛專利範圍第4項之裝置，其中： 該裝置有一條接在玄g、恭十ΛΑ播3丨_

在容器（3)中。 6.如申請專利範圍第4項之裝置，其

，其中： 7.如申請專利範圍第6項之裝置，其中 該預置容器（11)設在容器下方。

16 1334451 倍。 · 9. 如申請專利範圍•第8項之裝置，其中： 該容器（3)的容納體積在該預置容器（11)的容納體積的 5%〜20%之間。 10. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中： 該金屬條帶（1)為一鋼帶。

拾壹、圖式： 如次頁

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