TWI325307B - Heat plate with constant temperature and its assembly pot - Google Patents

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Description

1325307 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種烤盤及具烤盤之鍋具，尤指一種 藉由加熱液體至沸騰以恆溫該烤盤者。 【先前技術】 按，由於人們對於生活品質的要求亦不斷提高，使得 各行各業一直致力於研發更新、更進步之產品，以符合更 便利及效率之目的，且此一驅勢不僅侷限於高科技產品領 域而已，連與人們生活息息相關之庶務用品，藉著人們對 其不便利與不良設計之抱怨，亦被改良而大幅提高其便利 性及進步性，使得各製造商在進行產品設計時，莫不以更 好的使用效果、更便利的功能作為設計導向，而其中例如 韓式烤肉店之商家所使用之一種傳統之韓國式烤肉盤，如 第1圖所示，第1圖為傳統之韓國式烤肉盤之剖面結構圖， 係於一烤肉盤500上沖出一隆起部5〇1，使得隆起部5〇1 於烤肉盤500上朝其一側凸起，使得烤肉盤5〇〇上對應於 隆起部501之另一側便凹陷成一凹槽5〇2，烤肉盤5〇〇可被 放置於爐火上加熱，藉由烤肉盤具有高導熱之特性，使得 烤肉盤500所獲得之高溫可逐漸地被導引至隆起部5〇1之 表面，以供使用者於隆起部501之表面放置食材，用以對 食材進行焕烤。 然而’由於烤肉盤5〇〇與隆起部5〇丨與爐火間之距離 不一，導致爐火對烤肉盤5〇〇近距離加熱的效果，無法與 爐火於凹槽502内對距離較遠的隆起部5〇1加熱的效果一 1325307 10 : 底座 202 :凸塊 101 :凸緣 203 :開口 102 :環狀溝槽 204 :蓋體 10 3 :加熱層 205 :氣孔 104 :鍋體 30 :液體 20 :盤體 201 :容置空間 40 :電氣產生熱能之裝置 10

Claims (1)

1325307
99年4月8日修正替換頁 十、申請專利範圍： 1. 一種恆溫烤盤，至少包含： 一底座；以及 一半球型盤體’該半球型盤體之頂部上具有一開口， 該半球型盤體之周緣與該底座之—面密合，H’ 形成-容置空間，其中該開口供注入一液體至該容=; 内，藉由加熱該液體至沸騰以恆溫該半球型盤體，並提供 排放因汽化所產生之氣體。 ,、 2. 如申請專利範圍第丨項所述之恆溫烤盤，其中該開 口上活動地設有一蓋體。 、^汗 3. 如申請專利範圍第2項所述之恆溫烤盤，其中該蓋 體樞設於該盤體鄰近該開口之位置，供轉動而覆蓋或=出 4.如申請專利範圍第3項所述之恆溫烤盤，其中該蓋 體上貫設有一氣孔。 5.如申請專利範圍帛i項所述之值溫烤盤 2對該盤體之—面設有—加熱層，該加熱層之材質為可 睪電之金屬。 6·如中請專利範圍第i項所述之恆溫烤盤，其中該液 1325307 99年4月8日修正替換頁 體為水。 ___ 7. 如申請專利範圍第6項所述之值溫烤盤其中該液 體為含有鹽成分之水。 8. 如申請專利範圍第1項所述之惙溫烤盤，其中該液 體為油。 9. 一種具恆溫烤盤之鍋具，至少包含： 一錯體；以及 一半球型盤體’該半球型盤體之頂部上具有一開口， 該半球型盤體之周緣與該鍋體之内面密合，並與該鋼體間 形成一容置空間’該鍋體之周緣與該半球型盤體間形成一 環狀溝槽，其中該開口供注入一液體至該容置空間内，藉 由加熱該液體至沸騰以恆溫該盤體’並提供排放因汽化所 產生之氣體。 10. 如申請專利範圍第9項所述之鍋具，其中該開口 上活動地設有一蓋體。 11. 如申請專利範圍第1〇項所述之鍋具，其中該蓋體 樞設於該盤體鄰近該開口之位置’供轉動而覆蓋或露出該 開口。 12. 如申請專利範圍第11頊所述之鍋具，其中該蓋體i S1 12 上貫設有 氣孔
背h申請專利範圍第9項所述之鋼具，其中該銷體 電之體之""面設有—加熱層，該加熱層之材質為可導 為水 14.如申請專利範圍第9項所述之鍋具， 其中該液體 為含:鹽==利範圍第Μ項所述之鍋具，其中該液體 為/6· Μ請專利㈣第9項所述之鋼具，其中該液體 13
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