TWI323332B - Continuous kiln with unit of dealing with discharge gas - Google Patents
Continuous kiln with unit of dealing with discharge gas Download PDFInfo
- Publication number
- TWI323332B TWI323332B TW093110365A TW93110365A TWI323332B TW I323332 B TWI323332 B TW I323332B TW 093110365 A TW093110365 A TW 093110365A TW 93110365 A TW93110365 A TW 93110365A TW I323332 B TWI323332 B TW I323332B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- gas
- exhaust
- exhaust gas
- kiln
- temperature
- Prior art date
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 155
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 49
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 claims description 23
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 claims 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 33
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 230000000391 smoking effect Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 238000009933 burial Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012041 precatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 230000036413 temperature sense Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/04—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
- F27B9/045—Furnaces with controlled atmosphere
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D17/00—Arrangements for using waste heat; Arrangements for using, or disposing of, waste gases
- F27D17/001—Extraction of waste gases, collection of fumes and hoods used therefor
- F27D17/002—Details of the installations, e.g. fume conduits or seals
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D21/00—Arrangements of monitoring devices; Arrangements of safety devices
- F27D21/0014—Devices for monitoring temperature
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D19/00—Arrangements of controlling devices
- F27D2019/0028—Regulation
- F27D2019/0031—Regulation through control of the flow of the exhaust gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F27D2099/0085—Accessories
- F27D2099/0086—Filters, e.g. for molten metals
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
界年月"日修(夷)正替換頁 玫、發明說明: 【發明所屬之技術痛域】 發明領域 …本發㈣有關於—種附設有用以處理氣體之排氣處理 單7G之連續t且該氣體係含有自被燒成物產生之黏結劍 揮發物者。 t先前老t彻r】 發明背景 在燒成含有以有機物作為域分之減劑之被燒成物 的連續t巾⑩結劑於昇溫中間領域(〜娜t之領域) 自被燒成物揮發。由於_結劑揮發物會對燒成造成不良 。響因此使3有軸劑揮發物之氣體(㈣之環境氣體) 通過排乱管路而排出窠外。然而,若排氣管路内排出氣體 之咖度降⑻職纟。_發物會凝固而附著於排氣管路之 内壁,且對燒成!之排氣系統或工廠排氣導管造成不良影 響0 為了因應此種問題,採取將排氣管路保溫或加熱而防 止黏結劑揮發物之㈣等對策,㈣,該情況下排氣管路 之保養費事,且所排出(氣體對人體有害或者產生惡臭。 故,目前揭示有一娃、Λ 種連續窯,該連續窯係於連續窯窯 内恤度大於預疋觸媒H性溫度之領域的寞壁上設置排氣 孔且於該排氣孔中内建栽持有觸媒之結構體藉此,自 排氣孔排出3有自被燒成物產生之黏結劑揮發物之氣體 時可藉由業已活化之觸媒使黏結劑揮發物燃燒並分解排 出 ??年/月//曰修(是)正替換g 氣體且構成無臭化(例如參照專利文獻1)。 【專利文獻1】 專利A開A報特開2001 —241862號公報(第2頁第1圖) |如則述連續窯般,於大於預定觸媒之活化溫度 之:域的窯壁上設置排氣孔且於其内部内建載持有觸媒 之、、構體者由於"^不殘留地自排氣孔排出含有自被燒成 產生之黏揮發物之氣體,目此,含有黏結劑揮發物 之氣體會/亏染内環境而使被處理物之品質惡化,或者於 熏内之低溫表面凝結或有少許《自之被燒成物出 口散出。又,如該連續窯般,於設置在窯壁上之排氣孔内 建載持有觸媒之結構體且使黏結冑彳揮發物燃燒者亦具有無 法旱握黏結劑揮㈣之燃燒狀態*進行調節以得到高燃燒 效率之問題。 【韻^明内容^】 發明之揭示 本發明之目的係提供一種可解決前述問題之具有排氣 處理單元之連續窯。 為了達成前述目的,本發明之具有排氣處理單元之連 續窯係將管狀或細長箱狀之氣體吸入構件設置在窯體内之 上。卩與被燒成物之搬送方向正交之方向,或設置在窯體内 之侧°卩與被燒成物之搬送方向平行之方向,而前述氣體吸 入構件係大致橫跨全長地形成多數吸入氣體之孔或縫隙, 且該氣體含有自被燒成物產生之黏結劑揮發物者,又,於 自該氣體吸入構件朝窯體外導出之排氣管路中途,設置有 泠年/月々曰修(更)正替換頁 内建觸媒載體之排氣處理單元,且該觸媒載體係载持有氧 化分解前述黏結劑揮發物之觸媒且可自由通氣者 若如該連續窯般,將大致橫跨全長地形成有多數孔或 縫隙之管狀或細長箱狀之氣體吸入構件設置在窯體内之1 部與被燒成物之搬送方向正交之方向,或設置在窯體内之 側部與被燒成物之搬送方向平行之方向,則由於含有自2 燒成物產生之黏結劑揮發物之窯體内氣體廣範圍地自前述 氣體吸入構件之各孔或縫隙吸入且不殘留,因此不會污染 窯内或環境氣體,且含有減卿發物之氣體不會自熏體 之被燒成物出口散出。又,含有自氣體吸入構件吸入之黏 結劑揮發物之氣體在通過内建於排氣管路中途之排氣處理 單元之觸媒健時包含在該排域體内,且黏結劑揮2物 不會於通往室外之排氣管路内凝固或發出惡臭。 於本發明之連續熏中,用以將排出氣體加熱至大於觸 媒之活性溫度之辅助加熱器宜内建於比排氣處理單元之觸 媒載體更靠近氣體導人口側處。若内建此種輔助加熱器, 則即使導人排氣處理單元之排出氣體的溫度低於觸媒之活 化溫度,亦可利用輔助加熱器將排出氣體加熱至活化溫度 以上,藉此,可利用業已活化之觸媒確實地氧化分解(燃燒) 排出氣體中之黏結劑揮發物,又,於氧化分解不足時可藉 由輔助加熱器進一步提高排出氣體之溫度以促進氧化分 解。 又’於本發明之連續熏中,用以控制藉辅助加熱器加 熱之排出氣體溫度之第—溫度感測器宜設置於比排氣處理 1323332 __ Μ年/月"日修(臭)正替換頁 單元之觸媒載體更靠近氣體導入口側處,且用以監視處理 後之排出氣體溫度之第二溫度感測器宜設置於比排氣處理 單元之觸媒載體更靠近氣體排出口側處。依此,若設置第 一溫度感測器與第二溫度感測器,則可藉由對照以第一溫 5 度感測器檢測之處理前之排出氣體溫度(藉輔助加熱器加 熱之處理前之排出氣體溫度)與以第二溫度感測器檢測之 處理後之排出氣體溫度,掌握利用觸媒進行之黏結劑揮發 物之氧化分解處理(燃燒)狀態。即,若處理後之排出氣體溫 度相較於處理前之排出氣體溫度上昇,則可判斷為進行利 10 用觸媒之黏結劑揮發物之氧化分解處理(燃燒),且可判斷為 雙方之溫度差異愈大則氧化分解愈可有效且不斷地進行。 另一方面,若處理後之排出氣體溫度低於處理前利用加熱 器加熱之排出氣體溫度時,則可判斷為未進行利用觸媒之 黏結劑揮發物之氧化分解處理。故,在判斷為未進行黏結 15 劑揮發物之氧化分解處理時或判斷為不足時,藉由以輔助 加熱器提高處理前排出氣體之加熱溫度,或如後述調整自 排氣處理單元之空氣取入口取入空氣之量,而可確實且充 分地進行利用觸媒之黏結劑揮發物之氧化分解處理。 又,於本發明之連續窯中,可調節流量之空氣取入口 20 宜設置於比排氣處理單元之輔助加熱器更靠近氣體導入口 側處,若設置此種空氣取入口,則藉由自外部所取入之空 氣,可促進黏結劑揮發物之氧化分解,且可調節空氣之導 入量而提高氧化分解之效率。 再者,於本發明之連續窯中,過濾器宜内建於比排氣 8 1323332 __ %年/月"日修(更)正替換頁 處理單元之觸媒載體更靠近輔助加熱器側處,若依此構 成,則可利用過濾器防止觸媒載體之網眼阻塞。 圖式簡單說明 第1圖係有關本發明一實施形態之具有排氣處理單元 5 之連續窯之概略橫截面圖。 第2圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 元之連續窯之概略橫截面圖。 第3圖係同一具有排氣處理單元之連續窯之側視圖。 第4圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 10 元之連續窯之概略橫截面圖。 第5圖係同一具有排氣處理單元之連續窯之側視圖。 L實施方式]1 較佳實施例之詳細說明 以下參照圖式詳細說明本發明之具體實施形態。 15 第1圖係顯示有關本發明具有排氣處理單元之連續窯 之一實施形態之概略橫截面圖。 該具有排氣處理單元之連續窯係藉由利用將陶瓷纖維 真空成形之厚壁板狀硬質隔熱材所構成之底壁la、上壁 lb、左右側壁lc、lc來形成扁平之長方體狀窯體1,且藉由 20 埋設於上壁lb等之複數電加熱器Id加熱窯體内部。 該窯體1係於前後方向(第1圖中為與紙面垂直之方向) 長距離地形成,且左右貫通窯體1之搬送用滾輪2於前後方 向隔著預定間隔地配置複數根。各搬送用滾輪2之兩端部係 受到支承且可自由旋轉,而滚輪端之鏈輪2a係與共通之驅 9 竹年/月//日修(恿)正替換頁 動用鏈(未圖示)嚙合。故,若起動共通之驅動用鏈,則各搬 送用滚輪2同時以預定旋轉速度旋轉,且可以一定速度朝前 後方向搬送被燒成物W。 於自被燒成物W產生黏結劑揮發物之寞體1内之葬溫 中間領域上部,管狀之氣體吸入構件3係大致跨全寬地設置 於與被燒成物W之搬送方向(前後方向)正交之方向,即,窯 體1之左右寬度方向。該氣體吸入構件3係於兩端堵塞之管 體大致全長上,形成多數吸入含有自被燒成物w產生之黏 結劑揮發物之窯體1内環境氣體之孔3ae又,亦可於窯體i 内之上部設置大致跨全長地形成後述_之細長箱狀氣體 吸入構件30,以取代該管狀之氣體吸入構件3。 於前述氣體吸入構件3連接有貫通之上壁lb而導 出熏體1外且分歧為複數根(第i圖中為3根)之排氣管路4。該 等分歧之純管路4係集中於—簡氣管路而與利用文氏 管效果之噴射純連接,且藉由該切㈣進行排氣。又, 亦可將排氣管路4連接在純用送行排氣,以取代 喷射器4a。 *於該排氣管路4中途設置有排氣處理單元5,且自該排 $处單元5起於熏體1側分歧之排氣管路4係利用保溫用 加熱器4b與保溫用隔熱材扣雙重地覆蓋。因此,含有自氣 ,吸入構件3吸入之黏結劑揮發物之氣體在導入前述處理 單tg5刖不會產生溫度降低而使黏結劑揮發物凝固。於使前 I處單元5*近熏體1而縮短熏體1至前述處理單元5之排 氣e路4之距離時,則不需要該等保溫用加熱祕或保溫用 1323332 汽年/月"日修(¾正替換頁 隔熱材4c。 前述排氣處理單元5係觸媒載體5a内建於氣密之單元 殼體内且可自由拆卸交換者,且該觸媒載體化係載持有氧 化分解黏結劑揮發物之觸媒且可自由通氣者,又,用以將 5排出氣體加熱至大於觸媒之活性溫度之輔助加熱器5b係内 建於比該觸媒載體5a更靠近氣體導入口侧處,且用以控制 藉前述辅助加熱器5b加熱之排出氣體溫度之第一溫度感測 器5c係設置於比該觸媒載體5&更靠近氣體導入口側處, 又,用以監視處理後之排出氣體溫度之第二溫度感測器5d 10係設置於比觸媒載體5a更靠近氣體排出口側處。又,用以 防止觸媒載體5a之網眼阻塞之過濾器5e係内建於比觸媒載 體5a更靠近輔助加熱器5b側處且可自由拆卸交換,再者, 具有流量調節閥5f之空氣取入口 5g係設置於比輔助加熱器 5b更靠近氣體導入口側處。觸媒載體5a宜使用:於接觸面 15 積大之蜂窩狀結構之陶瓷製或耐熱金屬製之載體上載持有 活化溫度位於200〜350°C之範圍之Pt、Pd、Ag^O等氧化觸 媒者。 於如前述構造之具有排氣處理單元之連續窯中,若將 含有黏結劑之被燒成物W,如電漿顯示器用玻璃基板等搭 20 載於托架上,且將其裝載於搬送滾輪2而一面於窯體1内搬 送一面加熱,則在到達寞體1内之昇溫中間領域時,黏結劑 揮發物自被燒成物W產生’然而’由於含有該黏結劑揮發 物之窯體1内環境氣體(空氣)廣範圍地自管狀氣體吸入構件 3之多數孔3a吸入且不殘留’因此,含有黏結劑揮發物之環 11 1323332 朽年/月//曰修(更)正替換頁 境氣體不會自前述窯體1之出口散出。 依此3有自氣體吸入構件3吸入之黏結劑揮發物之氣 體通過排氣管路4而送至減處理單元5且不會產生溫度降 低,同時利用輔助加熱器5b加熱至大於觸媒之活性溫度, 5較為理想的是35〇1以上。又,在通過過遽器化時除去排出 氣體中之固體成分等,且在通過觸媒載體5a時,排出氣體 中之黏結劑揮發物利用業已活化之氧化觸媒氧化分解(燃 燒)而藉由喷射器4a排氣。故,不會產生如以往排出氣體中 之黏結劑揮發物凝固或發出惡臭者。又,在送至排氣處理 10單元5之排出氣體溫度充分高於觸媒之活化温度時,則不用 藉由輔助加熱器5b加熱,且通往觸媒載體5a而進行氧化分 解處理。 如則述般氧化分解包含在排出氣體之黏結劑揮發物 時,係藉由於監視器等中顯示並對照以第一溫度感測器5c 15檢測之處理前之排出氣體溫度與以第二溫度感測器5d檢測 之處理後之排出氣體溫度,以確認處理後之排出氣體溫度 相較於處理前之排出氣體溫度為高溫且確實地進行黏結劑 揮發物之氧化分解,同時’在氧化分解不足且雙方溫度差 異小時,宜提高輔助加熱器5b之加熱溫度或利用流量調節 20閥5f增加來自空氣取入口 5g之空氣導入量等來進行調節, 並促進黏結劑揮發物之氧化分解且提高處理效率。 第1圖所示具有排氣處理單元之連續窯係僅於窯體1内 之昇溫中間領域上部與被燒成物W之搬送方向正交之方向 設置一個管狀氣體吸入構件3,然而,藉由於昇溫中間領域 12 1323332 冷年/月"日修(更)正替換頁 上部在搬送方向間隔地設置複數氣體吸入構件3,則當然可 更破實地進行含有自被燒成物W產生之黏結劑揮發物之環 境氣體的吸人。 第2圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 5元之連續窯之概略橫截面圖,第3圖係同一連續窯之側視 圖。 ’’’、 為了取代前述管狀氣體吸入構件3,該具有排氣處理單 凡之連續窯係於窯體1内之昇溫中間領域上部與被燒成物 W之搬送方向正交之方向設置細長箱狀之氣體吸入構件 1〇 %,且该氣體吸入構件30係於下面大致全長上形成氣體吸 入用之縫隙30a(參照第3圖)。又,排氣管路4、4係自該氣體 吸入構件30之兩端貫通窯體1之左右側壁lc、lc且朝外部導 出,並分別於該等排氣管路4、4中途(接近自窯體丨之導出 處者)設置前述排氣處理單元5、5。依此,由於排氣管路4、 15 4之導出處至排氣處理單元5、5之距離短,因此省略用以覆 蓋排氣管路4、4之保溫用加熱器或保溫用隔熱材。 由於該具有排氣處理單元之連續窯之其他構造係與前 述第1圖之具有排氣處理單元之連續窯相同,因此,於第2、 3圖中相同之構件係附上相同標號並省略說明。 20 此種實施形態之具有排氣處理單元之連續窯亦藉由形 成有缝隙30a之細長箱狀氣體吸入構件3〇,使含有自被燒成 物W產生之黏結劑揮發物之環境氣體廣範圍地被吸入且不 殘留,同時通過排氣管路4,4而送至排氣處理單元5,5。 又,在通過觸媒載體5a、化時,由於黏結劑揮發物被氧化 13 1323332 年/月"日修(更)正替換頁 分解(燃燒)J•業經處理之排出氣體藉由噴射器4a、⑽氣, ^此可潔淨地保持燒成環境,且黏結劑揮發物不會凝固 或發出心臭。又,黏結劑揮發物之氧化分解狀態可藉由對 照以第一溫度感測器5c與第二溫度感測器5d檢測之處理前 5排出氣體溫度與處理後排出氣體溫度來掌握,且在氧化分 解不足時可藉由提高輔助加熱器5b之加熱溫度或增加來自 空氣取入口 5g之空氣導入量等來進行調節,並促進氧化分 解且提向處理效率。 第4圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 10元之連續熏之概略橫截面圖,第5圖係同—連續寞之側視 圖。 該具有排氣處理單元之連續窯係藉由搬送滚輪2 一面 同時搬送搭載於2段托架上之上下被燒成物w、w一面進行 燒成,且於‘f體1内之昇溫中間領域之至少—側部分,於與 15被燒成物W之搬送方向平行之方向設置前述管狀氣體吸入 構件3 又,排氣管路4係自該氣體吸入構件3貫通窯體^之 侧壁lc且朝外部導出,並於該排氣管路4中途(接近自熏體工 之導出處者)設置前述排氣處理單元5。氣體吸入構件^可於 窯體1之側部上下設置複數個,此時,含有黏結劑揮發物之 2〇環境氣體之吸入會變得更加良好。又,由於該連續寞中排 氣管路4之導出處至排氣處理單元5之距離亦短,因此省略 用以覆蓋排氣管路4之保溫用加熱器或保溫用隔熱材。 由於該具有排氣處理單元之連續窯之其他構造係與前 述第2、3圖之具有排氣處理單元之連續,窝相同因此於 14 1323332 汗年/月//日修(氣)正替換頁 第4、5圖中相同之構件係附上相同標號並省略說明。 如該實施形態之具有排氣處理單元之連續窯般同時搬 送上下被燒成物W'W且進行燒成形式者若於窯體J内之上 部設置氣體吸入構件3,則不易不殘留地排出含有自上下被 5燒成物w w產生之黏結劑揮發物之環境氣體,然而,若 如該實施形態之連續窯般,於窯體i内之昇溫中間領域之側 部,在與被燒成物W之搬送方向平行之方向設置管狀氣體 吸入構件3 ’則含有自被燒成物w產生之黏結劑揮發物之環 境氣體不會^:到被燒成物W、W干擾而廣範圍地被吸入且 1〇不殘留,並通過排氣管路4而送至排氣處理單元5。又,在 通過觸媒載體5a時,由於黏結_發物被氧化分解(燃燒) 且業經處理之排出氣體藉由喷射器4a排氣,因此黏結劑揮 發物不會凝固或發出惡臭。又,氧化分解狀態係與前述第 U 1、2、3圖之連續t相同,可藉由對照以第—溫度感測器& 15與第二溫度感測器5峨測之處理前排出氣體溫度與處理後 排出氣體溫度來掌握,且在氧化分解不足時可藉由提高辅 助加熱器5b之加熱溫度或增加來自空氣取入口化之空氣導 入量等來促進氧化分解並提高處理效率。 2〇 前述實施形態之連續窯皆於窯體内之上部或側部中之 住'者設置氣體吸入構件,然而,亦可依照情況之不同於 窯體内之上部與側部兩者設置氣體吸入構件,且更確實地 進行含有黏結劑揮發物之環境氣體之吸入。 本發明之具有排氣處理單元之連續窯係廣範圍地自氣 體。 及入構件吸入含有自被燒成物…產生之黏結劑揮發物之 15 1323332 _ 作年/月//曰修(更)正替換頁 環境氣體且不殘留,並送氣至排氣處理單元,於通過該單 元之觸媒載體時利用觸媒氧化分解(燃燒)黏結劑揮發物並 進行排氣,因此,可消除窯内之污染且於潔淨之環境氣體 . 中進行燒成,同時可解決黏結劑揮發物之凝固、惡臭之產 5 生、自窯體出口散出等問題。又,於排氣處理單元設置輔 助加熱器、第一及第二溫度感測器、可調節流量之空氣取 入口等者可掌握黏結劑揮發物之氧化分解狀態,且藉由調 節輔助加熱器之加熱溫度或來自空氣取入口之空氣導入 量,可促進黏結劑揮發物之氧化分解並提高處理效率。 10 【圖式簡單說明】 第1圖係有關本發明一實施形態之具有排氣處理單元 - 之連續窯之概略橫截面圖。 • 第2圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 元之連續窯之概略橫截面圖。 15 第3圖係同一具有排氣處理單元之連續窯之側視圖。 第4圖係有關本發明其他實施形態之具有排氣處理單 元之連續窯之概略橫截面圖。 第5圖係同一具有排氣處理單元之連續窯之側視圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 1...寞體 la. ..底壁 lb. ..上壁 lc. ..側壁 Id…電加熱器 2.. .搬送用滾輪 2a...鏈輪 3,30·..氣體吸入構件 3a._.孔 4.. .排氣管路 16 1323332 __ 泠年/月"日修(更)正替換頁 4a...喷射器 5d...第二溫度感測器 4b...保溫用加熱器 5e...過滤器 4c...保溫用隔熱材 5f...流量調節閥 5...排氣處理單元 5g...空氣取入口 5a...觸媒載體 30a...縫隙 5b...輔助加熱器 W...被燒成物 5c...第一溫度感測器 17
Claims (1)
1323332 99年1月 第93110365號專利申請案申請專利範圍替換本 拾、申請專利範圍:界年/月//曰修(更)正替換頁 1· 一種具有排氣處理單元之連續窯,其特徵在於:將管狀 或細長知狀之氣體吸入構件大致跨整體窯寬地水平設 置在窯體内之上部與被燒成物之搬送方向正交之方 5 向’或設置在窯體内之㈣巾與被燒餘之搬送方向平 行之方向,且前述氣體吸人構件係大致跨全長地形成有 多數吸入氣體之孔或縫隙,錢體含有被燒成物所產生 之黏結劑揮發H於自简體吸人構件朝錢外導 出之排氣管路中途設置有排氣處理單元,該排氣處理單 10 元内建有: 觸媒載體,係載持有將前述黏結劑揮發物予以氧化 分解之觸媒且可自由通氣者; 輔助加熱器,係較該觸媒栽體更靠近氣體導入口 侧,且將排出氣體加熱至觸媒之活性化溫度以上者; 第一溫度感測器,係用以控制該輔助加熱器所加熱 之排出氣體的溫度者; 過濾器,係較觸媒載體更靠近前述輔助加熱器側 者;及 第二溫度感測器,係較觸媒載體更靠近氣體排出口 2〇 側,用以監視處理後之排出氣體的溫度者。 2.如申請專利範圍第i項之連續寞,其係將可調節流量之 空氣取入口設置於較前述排氣處理單元之前述輔助加 熱器更靠近前述氣體導入口側。 18 1323332 柒、指定代表圖: 外年/月//日修(戔)正替換頁 (一) 本案指定代表圖為:第(1 )圖。 (二) 本代表圖之元件代表符號簡單說明: 1.. .窯體 la. ..底壁 lb. ..上壁 lc. ..側壁 ld. ..電加熱器 2.. .搬送用滾輪 2a...鏈輪 3.··氣體吸入構件 3a...孔 4.. .排氣管路 4a...喷射器 4b··.保溫用加熱器 4c…保溫用隔熱材 5...排氣處理單元 5a...觸媒載體 5b...輔助加熱器 5c··.第一溫度感測器 5d···第二溫度感測器 5e··.過濾、器 5f...流量調節閥 5g···空氣取入口 W...被燒成物 捌、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式 4
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003109414A JP4010411B2 (ja) | 2003-04-14 | 2003-04-14 | 排出ガス処理ユニット付き連続焼成炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200506304A TW200506304A (en) | 2005-02-16 |
TWI323332B true TWI323332B (en) | 2010-04-11 |
Family
ID=33470584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW093110365A TWI323332B (en) | 2003-04-14 | 2004-04-14 | Continuous kiln with unit of dealing with discharge gas |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4010411B2 (zh) |
KR (1) | KR100600504B1 (zh) |
CN (1) | CN100408148C (zh) |
TW (1) | TWI323332B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI476356B (zh) * | 2007-05-29 | 2015-03-11 | Espec Corp | Heat treatment device |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004206983A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Pioneer Electronic Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法及び熱処理装置 |
CN1979071B (zh) * | 2005-12-09 | 2010-09-22 | 光洋热系统株式会社 | 连续烧制炉 |
KR101308278B1 (ko) * | 2005-12-15 | 2013-09-13 | 고요 써모시스템 주식회사 | 연속 소성로 |
JP2007212030A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理装置 |
JP5107528B2 (ja) * | 2006-04-24 | 2012-12-26 | 光洋サーモシステム株式会社 | 排出ガス処理ユニット |
JP4372806B2 (ja) * | 2006-07-13 | 2009-11-25 | エスペック株式会社 | 熱処理装置 |
KR100707730B1 (ko) | 2007-01-29 | 2007-04-16 | (주)씨맥스 | 슬롯형 리모트 대기압 플라즈마 반응기 |
JP4589942B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2010-12-01 | エスペック株式会社 | 気体処理ユニット |
JP5070185B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2012-11-07 | 光洋サーモシステム株式会社 | 排気ガス処理装置 |
JP5784548B2 (ja) * | 2012-06-12 | 2015-09-24 | フロンティア・ラボ株式会社 | 触媒反応シミュレーション装置 |
LU92235B1 (en) * | 2013-07-01 | 2015-01-02 | Wurth Paul Sa | Steam condensation tower for a granulation installation |
CN105222588A (zh) * | 2014-06-13 | 2016-01-06 | 长葛市吉庆机械厂 | 具有导流槽的窑炉 |
CN107328246A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-11-07 | 通威太阳能(安徽)有限公司 | 一种电池片烧结炉排风装置及其烧结炉 |
CN108398031B (zh) * | 2018-01-30 | 2024-02-09 | 佛山高砂工业窑炉有限公司 | 一种锂电池材料烧成炉用并联式尾气燃烧处理装置 |
CN109141043B (zh) * | 2018-07-13 | 2020-02-04 | 温州申汇合金有限公司 | 一种合金精炼设备的废气回收处理设备 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11159965A (ja) * | 1997-11-27 | 1999-06-15 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理炉 |
JP2001147008A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-05-29 | Ngk Insulators Ltd | 焼成炉の脱バインダーガス処理方法及びそれに用いる焼成炉 |
JP2001241862A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-09-07 | Ngk Insulators Ltd | 脱臭機能付き焼成炉 |
JP2002257314A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ngk Insulators Ltd | 熱風発生装置 |
-
2003
- 2003-04-14 JP JP2003109414A patent/JP4010411B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-04-14 TW TW093110365A patent/TWI323332B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-14 CN CNB2004100338230A patent/CN100408148C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-04-14 KR KR1020040025669A patent/KR100600504B1/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI476356B (zh) * | 2007-05-29 | 2015-03-11 | Espec Corp | Heat treatment device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4010411B2 (ja) | 2007-11-21 |
KR20040075793A (ko) | 2004-08-30 |
JP2004316987A (ja) | 2004-11-11 |
CN100408148C (zh) | 2008-08-06 |
TW200506304A (en) | 2005-02-16 |
CN1540271A (zh) | 2004-10-27 |
KR100600504B1 (ko) | 2006-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI323332B (en) | Continuous kiln with unit of dealing with discharge gas | |
JP6363955B2 (ja) | 二重機能キャップを有する喫煙物品 | |
CN106509995B (zh) | 电加热烟具及其加热组件和控制方法 | |
JP2022532883A (ja) | 非接触式電子タバコヒーター | |
TW200821526A (en) | Heat treating device | |
JP6726722B2 (ja) | 多孔質外面を有する食用物品を汚染除去する方法およびシステム | |
US7118441B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing plasma display panel | |
WO2013187561A1 (ko) | 열분해 기능을 가진 오븐 | |
WO2022007459A1 (zh) | 炭加热卷烟 | |
CN100593681C (zh) | 热处理装置 | |
WO2014077505A1 (ko) | 열분해 기능을 가진 조리기기 | |
JP4617010B2 (ja) | 汚染土壌の浄化装置 | |
JP5107528B2 (ja) | 排出ガス処理ユニット | |
JP2011242091A (ja) | 温風供給装置 | |
JP2003214772A (ja) | 熱処理炉 | |
JP5122427B2 (ja) | ファンヒータ | |
JP2005331162A (ja) | 連続式焼成炉 | |
KR100592546B1 (ko) | 휴대용 담배연기 정화기 | |
JP2013011407A (ja) | 水分を含有する廃棄物の処理装置及び処理方法 | |
JP3824730B2 (ja) | 産業廃棄物の乾燥装置 | |
KR20190000735U (ko) | 정화 기능을 갖는 후드 시스템 | |
JP2005034708A (ja) | 一酸化炭素その他の処理、除去装置 | |
JP3785009B2 (ja) | 賦活処理用連続加熱炉 | |
JP2008023512A (ja) | 脱煙脱臭装置付き石窯 | |
JP5608334B2 (ja) | 炭化綿製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |