TWI322039B - - Google Patents

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丄： 九、發明說明： [相關之申請] . 本申請案係主張根據日本專利申請號碼2006-337686 號之優先權。 【發明所屬之技術領域】 •本發明係有關塗布用工具的清除裝置，其係使用於去 除下列塗布液，該塗布液係由設置在塗布用工具之唇端 .〇iP)部的尖端面之成為細長的縫隙（slit)狀之吐出°口將 塗布液供應給玻璃基板、樹脂薄膜、金屬箱等之種種的被 塗布體後，附著且殘留在上述塗布用工具之唇端部者。尤 其，有關一種塗布用工具的清除裝置，其係以在設置有上 述吐出口之塗布用工具的唇端部之尖端面使清除構件的尖 端部接觸於與塗布用工具的長度方向交叉之方向之狀態， 使/月除構件/13著塗布用工具的長度方向移動，而去除附著 且殘留在塗布用工具的唇端部之塗布液。 籲【先前技術】 以在’在製造電漿顯示器、有機電激發光顯示器 C rganic Electro-Luminescence Display) ^ ^ Baa ^ n 等時’將在唇端部的尖端面設置有成為細長的縫隙狀之吐 2的塗布用工具，—邊使其對於玻璃基板、樹脂薄膜、 金屬落等之種種的被塗布體相對行進，—邊從此塗布用工 具之吐出π將塗布液供應給上述被塗布體，而於被塗布體 的表面將塗布液予以塗布。 在此’如上述由參右爾丁丨， 八的吐出口將塗布液供應給 319277 6 1322039 上述被塗布體且於被塗布體塗布塗布液時，塗布液附著且 殘留在上述塗布用工具的唇端部之尖端面 .側之傾斜面。然後，如此殘留之塗布液於直至== 塗布作業之待機時間會乾燥且其滚度上昇，在此狀離下， 下-次塗布作業時’因高濃度化之塗布液會於被塗布 體產生條狀的塗布不均勾，而有發生中斷之問題。 因此，近年來，如日本特開平u_147〇62e 本特開2002-177848號公報所示，提m 日 视所不扣出有下列建議案，即 又 〇之塗布用工具的唇端部之尖端面，使葉片 (ade)等的清除構件之尖端部接觸於與塗布用工具的長 f方向交叉之方向，並以此狀態，使此清除構件沿著塗'布 ! = 移動，而將附著在塗布用工具的唇端部 塗布液進行吸引。 飞云除之 ，外’如上述藉著清除構件去除附著在塗布用工且 構件，在J二 夜附著且殘留在此清除 在上述日本特開平U — 號公 種供應洗淨液之方法，係如μ、+.包 托不有一 邊利用清除構件去除附 布用工具的唇端部之塗布液，並一邊由洗淨液#應 賁嘴供應洗淨液到此清除構件的移動方向側之面。-在上述日本特開謂-177848號公報中，提示有—’ ^塗:„#_件將附著在塗布用工具的唇端部 置之=除後，再導引此清除構件到設置有洗淨裝 置之預疋的位置並加以洗淨。 319277 7 丄JZZUjy 丄JZZUjy 工 但疋，如上述—邊利用清除構件去除附著在塗布用 •到此清除構件的移二淨液供應喷嘴供應洗淨液 .在塗布用工具的尖= :Γ:必須不使洗淨液從設置 部。因此，利用此^ ί 布用工具的内 工且之她而垃紋 由於難以供應洗淨液到與塗布用 •泠觸的清除構件之尖端部來進行洗淨，故有 塗布液附考且殘留在清除構件的尖端部之問題。 夕涂二I么利用'月除構件去除附著在塗布用工具的唇端部 '、布後，再將此清除構件導引至設置有洗淨妒置之預 地設定在設置有洗=置述清除構件適當 間，生產㈣也變置，而有洗淨操作花費時 【發明内容】 (發明所欲解決之課題） 類二η課:係解決塗布用工具之清除裝置的上述之 的塗布用工呈之尘她& ,穴町璲隙狀之吐出口 布用工具的長产又吏々除構件的尖端部接觸於與塗 構件沿著塗布；工二長，並以此狀態，使此清除 用工具的唇端部之塗布液：°移動’而去除附著在塗布 在塗::工，主要課題係利用清除構件將附著 實地去除附著在此清除構件之塗布液去㈣’可間早且確 (解決課題之手段） 8 S ； 319277 在本發明中，為了解決t杰 塗布用工具之清除裝置，係在課題，乃提供-種 .長的縫隙狀之吐出口的塗布用工塗布液之成為細 清除構件的尖端部接觸於與塗布用：:：的;端面’使 .向移動’並去_著在塗布用工具的度方 置又設置有將利用上述清除構二=的： :動：布液予以吸引的吸引部，同時在清除構件的 設置與清除構件—㈣動的洗淨液供應嗔 於完成去除附著在塗布用工具的唇端部 =液從此洗淨液供射嘴朝上料除構件㈣端部供應洗 於設置將藉著上述清除構件由塗布用工具的唇 除之塗布液予以吸引的吸引部時，可利用隔著所需 =2片葉片構件構成上述清除構件，並以此2片葉片 鲁構件間之間隙，作為吸引塗布液之吸引部。 此外，於上述塗布用工具之清除裝置中，在上述清除 =件之移動方向前側設置與清除構件一起移動之第2洗淨 飞供、喷嘴，J«於使清除構件移動而去除附著在塗布用工 2的唇端部之塗布㈣途中，可由上述第2洗淨液供應嘴 嘴供應洗淨液到位於塗布用工具的唇端部之尖端面的兩側 之傾斜面。 並且，在上述塗布用工具之清除襞置中，除了上述清 '于、構件之外，可设置一對輔助清除構件，係與位於上述塗 319277 9 動用工具的唇端部之尖端面的兩側之各個傾斜面接觸而移 .(發明之功效） 於本發明的塗有用··ρ ± 藉由清除構件由塗布用工除裝置中，如上述設置將 引的效弓丨都.I用具的唇端部去除之塗布液予以吸 構件如β @時在清除構件之移動方向後側設置與清除 ·===之洗淨液供應喷嘴，且於完成去除附著在塗 述端部之塗布液後，由此洗淨液供應噴嘴朝上 以的尖端部供應洗淨液來洗淨清除構件，故不像 此清除構件導引至預定的位置且利用洗淨裝置 時心而可簡單且有效地進行清除構件的洗淨，同 而徹底構件的尖端部之塗布液亦藉著上述洗淨液 :匕夕:’在上述清除構件的移動方向前側設置與 去除附著在塗布用工且移動清除構件而 第2洗淨液供應喷嘴供應洗淨液到位於塗布用工且的辰2 部之尖端面的兩側之傾斜面時，利用洗淨液從傾斜面去除 附著在上述傾斜面之塗布液且導引至塗布用工具的唇端部 之尖端面。然後’以此方式與洗淨液一起被導引之塗布液 便赭著清除構件而與附著在塗布用工具的 的塗布液-起被錢。再者，此時，由於洗淨液不供= 塗布用工具的唇端部之尖端面，而是供應到位於其兩側之 傾斜面，故此洗淨液不會從吐出口流入到塗布用工具之内 319277 10 1322039 部。 並且，除了上述清除構件之外，設置與位於上述塗布 用工具的唇端部之尖端面的兩側之各個傾斜面接觸而移動 之一對輔助清除構件，且如上述利用洗淨液使附著在傾斜 面之塗布液成為溶解之狀態，並利用此一對輔助清除構件 來錯時’便可更確實地核附著在上述傾斜面的塗布液。 措由以下說明本發明之特定實施例及相關附圖的敘 述，前述種種物體及發明的優勢和特徵將變得更明確。 【實施方式】 以下，就本發明之實施形態的塗布用工具之清除裴置 根據附圖加以具體地說明。再者，本發明的塗布用心之

清除裝置並不限^於下列實施形態所示者，在不變更發明 的要旨之範圍，可作適當的變更而實施。 X 在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中，如第i圖 至第3圖所示，從設置在塗布用工具1〇之唇端部^的： 端面11a之細長的縫隙狀之吐出口 12供應塗布液丨到被= 布體（未圖示）後’去除附著且殘留在此塗布用工具1〇之唇 端部11的尖端面11a以及位於此尖端面lla的兩側之傾ς 面lib的塗布液1。 ' 然後’在此實施形態的塗布用工具之清除農置中，在 設置有上述吐出口 12之塗布用工具1〇的尖端面11&，使 清除構件20的尖端部接觸於與塗布用工具1〇的長度方向 交又之方向’並以此狀態’透過移動褒置3〇使此清除 20沿著塗布用工具1 〇的長度方向移動。 319277 :匕：’利用此移動裴置與清除構件 並於此清除構件2n 嗖私動， ，的尖端部供庫洗二動方向後側，設置朝此清除_ 此清除構件20 之洗淨液供應喷嘴&且同時於 應喷嘴22、22，^t向前側’設置有-對第2洗淨液供 之塗布用工呈^ 洗淨液2到位於設置有吐出口 12 .Ub 具10的尖端面11a的兩側之各傾斜面Ub、 在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中 需間隔而相對之型… 構件他、2〇b隔著所 門二設置，並將此2片葉片構件2〇a、 端部用為吸引部23,以吸引從塗布用工具的唇 2〇=b 塗布液1。此外，依此將2片葉片構件 引邙23 :"1者所需間隔而相對之型態予以設置而作為吸 窄時可得到較強的吸引力 苹又為狹 1 取好是將此2片葉片構件 2〇a、20b的間隔設為〇 5幻舢之範圍。 又’在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中，於上 構件20之該移動方向的更後側之位置，在位 用工具10的唇端部u之尖端面Ua的㈣之各傾斜面 llb、Ub，使個別由葉片所構成之輔助清除構件41、41 的尖端部接觸於與塗布用工具1G的長度方向交叉之方 向’並利用移動裝置3卜31使上述辅助清除構件[Ο 沿著塗布用工具10之長度方向移動。 然後’在此實施形態的塗布用工具之清除裳置中，將 319277 12 1322039 =在：布用工具10的唇端㈣之尖端面…與位於盆 兩側之各傾斜面llb、llb的塗布液工予以去除時 - .圖所示，從設置在清除構件20的移動方向前側之一對 洗淨液供應噴嘴22、22將洗淨液2供應到位於塗布用工且 1〇的尖端面11a之兩側的各傾斜面Ub、Ub，同時如上^ .以使清除構件20的尖端部接觸於與塗布用工且的長= 方向交叉之方向的狀態，利用移動裝置％使㈣除構件又 2〇沿著塗布用工具1〇的長度方向移動。 如此一來，附著在塗布用工具1〇的各傾斜面ub iib 之塗布液1透過由第2洗淨液供應噴嘴22、22所供應之先 淨液2而從傾斜面llb、llb“缝㈣^端面 且此塗布液1與洗淨液2之混合物與附著在塗布用工且ι〇 的^端面11a之塗布W相同的透過上述清除構件2〇’而予 二聚集並-同被去除，且被吸引到上述清除構件別之吸引 部23 〇 此外，在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中，將 ,於上述π除構件20之該移動方向的更後側之位置且使 尖端部接觸位於塗布用工具1Q的尖端面Ua的兩側的各傾 斜面lib、lib之各辅助清除構件41、41，各別透過移動 裝置31、31使其沿著塗布用工具1〇的長度方向而移動。 然後，利用上述各辅助清除構件4卜41將殘留在上述傾斜 面lib、lib之塗布液丨與洗淨液2予以去除。 如此來，去除附著在塗布用工具1〇的尖端面 之塗布液i之同時，附著在各傾斜面llb'llb之塗布液】 319277 13 1322039 亦與洗淨液卜起從塗布用工具1G被適當地去除。 丨。的接、著端面如清除構件20將附著 m傾斜面ub、nb之塗布液1與洗淨 3。3”二:後，如第4圖所示’於上述各移動裝置 -r槿：f 具10分離之適當的位置，由設置在此 :除構件20的移動方向後側之上述洗淨液供應喷嘴21朝 m除構件20之尖端部供應洗淨液2。 如此來，如上述利用清除構件20去除附著在塗布用 工具10的塗布液1時’即使去除之塗布液1附著且殘留於 該^除構件20’但透過上述洗淨液供應噴嘴21所供應之 先淨液2，該塗布液1即可從清除構件2〇適當地被去除， 而便無塗布液1附著而殘留在此清除構件2()的尖端部之現 象。再者，亦可將此時產生的洗淨液2與塗布液1之混合 物，透過上述清除構件2〇的吸引部23來吸引。 此外，在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中，係 Φ於水平方向分開移動裝置30、31，但亦可於上下方向分開。 再者’在此實施形態的塗布用工具之清除裝置中，由 於個別使辅助清除構件41、41的尖端部接觸位於塗布用工 具丨〇之尖端面11a的兩側之各傾斜面llb、llb，而去除 殘留在傾斜面Ub、lib之塗布液1，故藉由上述輔助清除 構件4卜41去除殘留在各傾斜面llb、llb之塗布液1時， 有殘留在上述傾斜面llb、llb之塗布液1再次被導引至清 除元的塗布用工具10之尖端面11a之虞。因此，亦可在上 述輔助清除構件41、41的移動方向之更後側的位置，雖未 14 319277 1322039 圖不’設置與塗布用工具10的尖端面Ua接觸之第2清除 構件，並接觸此第2清除構件的尖端部且使之移動，而如 上述將再次被導引至塗布用卫具1〇的尖端面Ua 1予以去除。 收 又，關於將殘留在位於塗布用工具1〇之尖端面 .的兩側之各傾斜面llb、llb的塗布液丨予以去除之上述辅 助清除構件41、4卜雖未圖示，亦與上述清除構件2〇相 同，可依隔著所需間隔而相對之型態設置2片葉片構件， 且將此2片葉片構件間的間隙作為吸引從塗布用工具u 之傾斜面Ub、lib去除之塗布液1的吸引部來使用。 此外，亦可於上述輔助清除構件4卜41的移動方向後 =之位置’設置洗淨液供應噴嘴，其係與上述輔助清除構 件41、41 一起移動，而朝上述輔助清除構件4ι、ο的 端部供應洗淨液。 雖然透過此實施列已對本發明有£分福述，而值得注 意的是，不同的變更與調整對於該技術領域中具有通常知 識者而言是顯而易見的。 而除非此種變更與調整超出本發明範圍，否則應解釋 為包含在内。 【圖式簡單說明】 第1圖係在本發明之一實施形態的塗布用工具之清除 裝置中，攸塗布用工具的側面側表示去除附著在塗布用工 ^的唇端部之尖端面與其兩側的傾斜面之塗布液的狀態之 概略說明圖。 319277 15 第2圖係在同實施形態的塗布用工具之清除裝置中， 7塗：用工具的正面側表示去除附著在塗布用工具的唇端 、端面/、其兩側的傾斜面之塗布液的狀態之概略說明 一第3圖係在同實施形態的塗布用工具之清除裝置中， 表不個別使輔助清除構件的尖端部接觸 .尖端面之兩側的傾斜面之狀態的概略說明圖塗布用，、的 第”係在同實施形態的塗布用工具之清除裝置中， ::::清除構件去除附著在塗布用工具的塗布液後，從 :件==移動方向後側之洗淨液供應噴嘴朝清除 、 °卩供應洗淨液之狀態的概略說明圖。 【主要元件符號說明】 塗布液 2 塗布用工具 11 尖端面 lib 吐出口 20 葉片構件 21 第2洗淨液供應噴嘴 10 11a #12 20a 、 2〇b 22 23 41 吸引部 30、 輔助清除構件 洗淨液 唇端部 傾斜面 清除構件 洗淨液供應噴嘴 31移動裝置

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Claims (1)

1. 十、申請專利範圍： 1，-種3用工具之清除裝置，其特徵為： 口的布液之成為細長的缝隙狀之吐出 部接觸於與塗布用青除構件的尖端 -狀態，使此清除構件沿、著塗又方:二二方:’且以此 .用工具的唇端部之塗布液的塗布用 構;此清除裝置又設置有將利用上述清除 稱件攸塗布用工具的唇端 吸引部，同時並在此清除構件的二塗=予以吸引的 除構件-起移動之洗淨液:::嘴動=設置與清 嘴朝上之塗布液後，從此洗淨液供應f 嘴朝上述清除構件的尖端部供應洗淨液。 货 中申上°月專主利乾圍第1項的塗布用工具之清除裝置，盆 成:二除片構荦？隔著所需間隔之2片葉月構件所構 3.如申…二構件間之間隙成為上述吸引部。 中，於圍第1項的塗布用工具之清除褒置，其 起移動之^月2 I構件的移動方向前側設置與清除構件一 除附著在塗布用嘴’並於移動清除構件而去 第2洗淨液徂！ 部之塗布液的途中，從上述 、/、…噴嘴供應洗淨液到位 辱端部之尖端面的兩側之傾斜面。冑用工具的 =申請專利範圍第2項的塗布用工 中，於上述清除構件的移動方向前側設置與^件: 17 (S ) 319277 移動之第2洗淨液供應喷嘴，並於移動清除構件 ，附著在塗布用工具的唇端部之塗布液的途中，從 弟2洗淨液供應喷嘴供應洗淨液到位於塗布用工具的\ 唇端部之尖端面的兩側之傾斜面。 5. 如申請專利範圍第1項的塗布用工具清 二^上述清除構件之外，設置與上；塗;=

   Q端。卩之尖端面的兩側之各個傾斜面接 對輔助清除餐。 之一 如申請專利範圍第2項的塗布用工具之清除裝置，其 ^ 了上述清除構件之m與上述塗布用工具的 &端部之尖端面的兩側之各個傾斜面接觸而 對輔助清除構件。 如申請專利範圍第3項的塗布用工具之清除裴置，其 I 了上述清除構件之外，設置與上述塗布用工具的

   α端部之尖端面的兩侧之各個傾斜面接觸而移動之一 對辅助清除構件。 319277 18