TWI311697B - - Google Patents

Description

(1) 1311697 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種在製造半導體元件時包含針對被 處理體實施一定之處理的處理裝置在內的控制系統、控制 方法、及處理系統、以及電腦可讀取的記憶媒體及電腦程 式。 【先前技術】 例如在半導體元件的製造過程中乃針對半導體晶圓（ 以下只稱爲晶圓）實施各種的處理。該處理裝置則有在將 晶圓浸漬在儲存有處理液的1個或多個處理槽而進行完處 理後才進行乾燥處理的洗淨處理裝置。 該洗淨處理裝置則設有除了輸入有用於檢測供給到基 板之處理液之溫度的溫度感測器、或用於檢測處理液之濃 度的濃度感測器、用於檢測槽內之處理液之位置的位置感 測器等的各種的檢測資料來檢測處理裝置的狀態外，也會 根據各種的檢測資料來控制處理裝置的控制系統。該控制 系統，當處理裝置在作動中若感測器的檢測値超過事先所 設定的容許値時，則會發出警告以表示處理裝置有發生故 障之虞。 另一方面，在晶圓的處理中雖然是配置多個處理裝置 而構築出處理系統，但近年來該處理系統乃大規模化，因 此愈來愈要求能夠針對多數的處理裝置進行統籌管理。 因此在各處理裝置設置控制部，而將該些控制部連接 1311697 (2) 到主電腦，主電腦則在與各處理裝置之控制部之間經由各 種資料的授受而將各處理裝置的搜尋（tracking )處理、 或從各處理裝置所接收的過程資料當作履歷加以儲存而將 其內容顯示在顯示裝置上，根據該過程資料進行處理裝置 的各種參數校正或異常檢測等。 -又，在專利文獻1中則揭露有在利用如此的主電腦的 統籌管理中所儲存的過程資料乃是限定的’而很難早期地 t 發現處理裝置的異常或特性惡化的情形’因此除了主電腦 外，另外設置有會收集在各處理裝置的控制部中所產生的 全部的過程資料，而針對所收集到的過程資料進行分析且 輸出分析結果的控制部。藉此能夠增加所可以掌握的過程 資料，也能夠早期地發現各處理裝置之狀態的隨時的變化 〇 然而在如此的系統中，來自各處理裝置的過程資料非 常龐大，因此連來自各處理裝置的警告資訊也會龐大，而 I 不容易從該資訊來判斷處理裝置的狀態，因此要求能夠充 分地針對裝置異常或裝置壽命等進行管理。又，裝置的使 用狀況會因使用者而異，有時候發生即使根據過程資料同 樣地判斷裝置異常或裝置壽命，但實際上仍未到達裝置異 常或裝置壽命的情形。 專利文獻：特開平U- 1 6797號公報 【發明內容】 本發明的目的在於提供一能夠根據警告資訊來判斷處 -5- 1311697 (3) 年月 ir 潜換頁 理裝置的狀態，而能夠充分地管理裝置異常或裝置壽命等 之控制系統及控制方法及具體該控制系統之處理系統、更 且能進行該控制之電腦可讀取的記憶媒體及電腦程式。 若根據本發明的第1觀點提供一種控制系統，具有： 根據在針對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢測出 的資訊來控制上述處理裝置的控制機構、及當所檢測出的 資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警告產生機構，上述 控制機構則掌握從上述警告產生機構所產生之警告的發生 狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告。 若根據本發明的第2觀點提供一種控制系統，具有： 根據在針對被處理體實施一定之處理的多個處理裝置中所 檢測出的資訊來控制上述多個的處理裝置的控制機構、及 當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警告產 生機構，上述控制機構具有：根據在上述各處理裝置中所 檢測的多個的資訊而個別地控制上述多個處理裝置的多個 裝置控制部、從上述各裝置控制部接收一部分的資訊，而 根據該資訊來控制上述各處理裝置的主電腦、及從上述各 裝置控制部接收全部或幾乎全部的資訊，而根據該資訊來 控制上述各處理裝置的控制裝置，上述控制裝置則具有： 收集從上述各裝置控制部所接收之資訊及從警告產生機構 所接收之警告資訊的機構、將上述所收集的資訊加以分析 的機構、及根據上述警告資訊來掌握上述警告的發生狀態 ，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告的機構 年月日修正替換頁 96. 3. 3 3---' 1311697 (4) 若根據本發明的第3觀點提供一種控制方法，主要是 一根據在針對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢測 出的多個資訊來控制上述處理裝置的控制方法，會掌握當 所檢測出的資訊脫離一定的範圍時所發生之警告的發生狀 態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告。 若根據本發明的第4觀點提供一種處理系統，具備有 針對被處理體實施一定處理的處理裝置、及控制上述處理 裝置的控制系統’上述控制系統具有：根據在針對被處理 體實施一定處理的處理裝置中所檢測出的資訊來控制上述 處理裝置的控制機構、及當所檢測出的資訊脫離一定的範 圍時會發出警告的警告產生機構，上述控制機構則掌握從 上述警告產生機構所產生之警告的發生狀態，而當該發生 狀態達到一定的臨界値時會通知警告。 若根據本發明的第5觀點提供一種處理系統，具備有 針對被處理體實施一定處理的處理裝置、及控制上述處理 裝置的控制系統，上述控制系統具有：根據在針對被處理 體實施一定處理的處理裝置中所檢測出的資訊來控制上述 處理裝置的控制機構、及當所檢測出的資訊脫離一定的範 圍時會發出警告的警告產生機構，上述控制機構具有：根 據在上述各處理裝置中所檢測的多個資訊而個別地控制上 述多個處理裝置的多個裝置控制部、從上述各裝置控制部 接收一部分的資訊，而根據該資訊來控制上述各處理裝置 的主電腦、及從上述各裝置控制部接收全部或幾乎全部的 資訊，而根據該資訊來控制上述各處理裝置的控制裝置， 1311697 Γ：-1 年月曰|正替換頁 (5) La6.·. 3,Α3__) 上述控制裝置則具有：收集從上述各裝置控制部所接收之 資訊及從警告產生機構所接收之警告資訊的機構、將上述 所收集的資訊加以分析的機構、及 根據上述警告資訊來掌握上述警告的發生狀態，而當 ' 該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告的機構。 - 若根據本發明的第6觀點提供一種記憶媒體，是一可 藉由包含有根據電腦在針對被處理體實施一定處理的處理 i 裝置中所檢測出的多個資訊來控制上述處理裝置之軟體的 電腦所讀取的記錄媒體，上述軟體則掌握當所檢測的資訊 超過一定範圍時所產生之警告的發生狀態，而當該發生狀 態達到一定的臨界値時會通知警告。 若根據本發明的第7觀點提供一種電腦程式，是一可 藉由包含有根據電腦在針對被處理體實施一定處理的處理 裝置中所檢測出的多個資訊來控制上述處理裝置之軟體的 電腦程式，上述軟體則掌握當所檢測的資訊超過一定範圍 I 時所產生之警告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的 臨界値時會通知警告。 若根據本發明，由於能夠掌握從警告產生機構所產生 之警告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時 會通知警告，因此能夠早期發現或預測裝置異常及裝置壽 命。又，由於能夠設定從警告產生機構所產生之警告的發 生狀態的臨界値，而根據任意設定的異常設定來分析警告 的發生狀態而檢測裝置異常，因此當成爲對使用者而言實 際上想要掌握的處理異常等的裝置狀態時，則能夠通知警 -8- 1311697 (6) 年月 il 告’且能夠更早期且確實地發現乃至於預測處理裝置的異 常。具體地說由使用者來設定例如在一定時間內的警告產 生數、及從發生警告開始到發生下一次警告爲止的時間等 、通知裝置警告之發生狀態之警告的臨界値，當到達該臨 界値時則判斷爲產生裝置異常，藉此能夠根據使用者等級 確實地判斷處理裝置的狀態，而能夠更早期且確實地發現 乃至於預測裝置異常及裝置壽命。 【實施方式】 以下請參照所附圖面來說明本發明的實施形態。 在此則針對作爲基板的晶圓實施液處理來洗淨的處理 裝置的處理系統來說明。圖1爲表示與本發明之一實施形 態有關之處理系統的整體構成的方塊圖。 該處理系統1具有針對晶圓實施液處理而洗淨的多個 的處理裝置1 0 ’各處理裝置1 〇則根據作爲下位控制系統 的區段控制器（B C ) 1 1、及作爲上位控制系統的主控制器 (MC ) 12來控制。又’處理系統丨具有實施控制整個系 統的主電腦1、針對由各處理裝置的控制系統所產生的過 程資料進行分析而輸出其結果的諮詢群控制器（以下稱爲 AGC ) 17。 如圖2所示般，主控制器（μ C ) 1 2則具有：經由區 段控制器（B C ) 1 1而接收到檢測信號，而根據該檢測信 號將控制信號傳送到處理裝置1 〇的各構成部的控制部i 2 a 、針對由控制部1 2a所收到的過程資訊進行分析而檢測異 -9 - (7) 1311697 常情形的異常檢測部2 Ο、根據異常檢測部2 0的異常檢測 資訊而產生警報的警報產生部2 1、將從處理裝置1 0經由 區段控制器（Β c ) 1 1所收到而在控制部1 2 a中經過信號 處理的全部的過程資訊及警報資訊暫時地加以儲存的記憶 體1 8、從記憶體1 8取出事先所設定的一部分的種類的過 . 程資料（資料 1，3 )而將資訊寫入的 HCI ( Host Communication Interface) 13、及作爲與 AGC17 之邏輯運 .算的介面機構的 RAP (Remote Agent Progress) 16。 HCI13則藉由主控制器（MC ) 12從處理裝置10所得 來的全部的過程資料中只選擇事先所設定的一部分的種類 的過程資料而傳送到主電腦1 5。亦即，HCI 1 3從將主控制 器（MC ) 1 2所產生的全部的過程資料暫時地加以儲存的 記憶體1 8取出事先所設定的一部分的種類的過程資料（ 資料1，3 )而寫入到HCI傳送緩衝器1 9，而整理HCI傳 送緩衝器19的內容而傳送到主電腦15。又，也會將在主 I 控制器（MC ) 1 2中所產生的狀態資料等加以傳送。 RAP 1 6則藉由主控制器（M C ) 1 2將從處理裝置1 〇所 得到的全部的過程資料無條件地傳送到AGC 1 7。亦即， RAP16會從前頭開始依序地讀取被儲存在主控制器（Mc )1 2內之過程資料儲存用記憶體記憶體1 8的過程資料， 而在該資料結構下轉送到A G C 1 7。但是在此也可以進行將 資料的順號變換而排除相當一部分的資料的操作。 主電腦1 5則實施在與各處理裝置1 〇的主控制器（ MC) 12授受各種的資料，而進行各處理裝置1〇之搜軌處 -10- (8) (8) 1311697 年月日修正替換頁 96. 3^2^--- 理等之各處理裝置1 0的整體的動作控制。 A G C 1 7則根據各處理裝置之方法（過程條件値）的集 中管理或方法，而以各處理裝置1 0的過程控制爲始，將 從各處理裝置1 0所得到的全部的過程資料當作對象而實 施其分析處理、統計處理、過程資料或其分析/統計結果 的集中監視處理、以及將分析/統計結果反映至訣竅的處 理等。 AGC17是由AGC伺服器17a與AGC客戶17b所構成

AGC伺服器17a具有通訊I/F (介面部）部22、EQM 控制部23、及資料庫24。通訊I/F (介面部）部22是在 各處理裝置1 0的主控制器（MC ) 1 2與AGC客戶1 7b之 間的通過資料傳送系統1 4來傳送接收各種資料。E Q Μ控 制部2 3則主要除了根據事先所定義的過程條件與從各處 理裝置10所得到的過程資料來進行各處理裝置之過程的 各種參數校正外，也進行將所接收到的參數儲存在資料庫 24及從資料庫24檢索出應該轉送到AGC客戶17b的過程 資料的處理等。 AGC客戶l7b具有針對從AG伺服器17a所轉送的過 程資料進行分析處理及統計處理的資料分析部25、將所取 得的過程資料或其分析結果等轉換成可供客戶使用者來利 用•加工的資料的資料轉換部26、將轉換資料顯示在監視 器等的資料顯示部27、根據包含在被處理體上的膜厚等的 測量資料在內的過程資料的分析結果而如將訣竅（過程條 -11 - A IJ邊正替換頁 1311697 ⑼ 件）予以最佳化地加以更新的訣竅修正部2 8、及具有有別 於產生裝置警告而根據使用者位準來定義裝置異常，根據 任意設定的異常設定來分析警告的產生狀態’而即時地檢 測出裝置異常等之功能的 FDC ( Fault Detection Classification)功能部29。此外，訣竅也能夠被記憶在硬 碟或半導體記憶體、或在被收容在CDROM、DVD等之可 搬性的記憶媒體的狀態下設定在一定的位置。更且，也能 夠從其他的裝置例如經由專用線路而適當地傳送訣竅。 接著則說明處理裝置10的一例。圖3爲處理裝置10 的立體圖、圖4爲其俯視圖。 處理裝置1 0主要是由將晶圓W呈水平狀態被收容的 載體C予以搬進搬出、或予以保管的搬進搬出部31、利 用所設定的藥液針對晶圓W進行洗淨處理、或進行乾燥 處理等的處理部32、在搬進搬出部31與處理部32之間搬 送晶圓W的介面部3 3所構成。 搬進搬出部31是由已形成有用於載置可收容一定數 目、例如25個的晶圓W的載體C之基台41的載體搬出 入部34、與可以保管多個載體C的載體庫存部35所構成 。載體C則具有根據所設定的間隔而收容成大約水平狀， 且其一側面成爲晶圓W的搬出入口，而該搬出入口可由 蓋體所開閉的構造。又，載體庫存部3 5則設有多個的載 體保持構件43’而藉由該些載體保持構件43來保持載體 C°被載置在基台41而已收容有處理前的晶圓W的載體C 則藉由載體搬送裝置42被搬送到載體庫存部35，另一方 -12- at 11¾正替換頁 1311697 (10) 面，收容有處理後的晶圓W的載體C則利用載體搬送裝 置42從載體庫存部35被搬出到基台41。 在載體搬出入部34與載體庫存部35之間設有快門44 ，而當在載體搬出入部34與載體庫存部35之間授受載體 C時則打開快門44，而在其他以外的時間爲了要將載體搬 出入部3 4與載體庫存部3 5之間的環境加以分離則快門44 處於關閉的狀態。 載體搬送裝置42則具有至少可以讓載體C朝X方向 移動而驅動的多關節臂或伸縮臂等的臂42a，該臂42a則 抓握著載體C而搬送載體C。又，載體搬送裝置42則藉 由未圖示的Y軸驅動機構與Z軸驅動機構而朝γ方向及Z 方向（高度方向）驅動，藉此，能夠將載體C載置在被配 設在一定位置的載體保持構件4 3上。 載體保持構件43則在圖4中被設在形成載體庫存部 35的壁面附近’而在各位置在高度方向設置多段、例如4 段。載體庫存部3 5則具有可將已收容有處理前的晶圓w 的載體C暫時地保管、或是保管被取出晶圓w而內部成 爲空的載體C的作用。 在載體庫存部35與介面部33的邊界形成有窗部46, 在該窗部46的載體庫存部3 5側則如使載體c的蓋體面向 窗部46而來載置載體C般地設有具有與載體保持構件43 同樣的構造的檢查/搬出入台45。此外，也可以在不配設 檢查/搬出入台45的情形下，在面向窗部46之一定的空 間內載體搬送裝置4 2也能將載體c保持一定的時間。在 -13- (11) (11) 1311697 替換頁丨 窗部46的載體庫存部3 5側則設有用於進行被載置在檢查 /搬出入台45之載體C的蓋體的開閉的蓋體開閉機構47 ’ 藉由設成將窗部46及載體C的蓋體打開的狀態’能夠將 在載體C內的晶圓W搬出到介面部3 3側’相反地也能夠 從介面部3 3側將晶圓W搬入到空的載體C內。此外’蓋 體開閉機構47也可以設在窗部46的介面部33側。 在窗部46的介面部3 3側設有用於計測在載體C之晶 圓W的數目的晶圓檢查裝置48。晶圓檢查裝置晶圓檢查 裝置48則讓具有傳送部與接收部的紅外線感測頭在被收 容在載體C內的晶圓W的X方向端附近掃描於Z方向’ 而在傳送部與接收部之間檢測紅外線的透過光或反射光的 信號而檢測晶圓W的數目。晶圓檢查裝置4 8則最好是具 有可以與檢查晶圓W的數目同時地來檢測晶圓W是否根 據一定的間距呈平行地各配置1個在載體C內、或是晶圓 W是否呈現段差偏移而未被斜向收容等之功能。又，在確 認完晶圓W的收容狀態後，則如由載體庫存部3 5來保管 該載體C般地來控制載體搬送裝置42。此外，快門44的 開閉及窗部46的開閉、蓋體開閉機構47的動作則被控制 成與載體搬送裝置42的動作呈連動。 在介面部3 3側則設有晶圓搬出入裝置49、晶圓移換 裝置5 1、及晶圓搬送裝置5 2。晶圓移換裝置5 1則是由在 與晶圓搬出入裝置49之間進行晶圓W的授受，且變換晶 圓W的姿勢的姿勢變換機構Sla、及在姿勢變換機構5ia 與晶圓搬送裝置5 2之間進行晶圓w的授受的晶圓垂直保 -14 - (12) 1311697 持機構5 1 b所構成。 晶圓搬出入裝置49則通過窗部46而搬出在載體C內 的晶圓W而轉送到姿勢變換機構51a、或從姿勢變換機構 5 1 a取得已經結束液處理的晶圓W而將其搬入到載體C。 該晶圓搬出入裝置49具有進行未處理的晶圓W之搬送的 臂49a、與進行已經處理完畢之晶圓W之搬送的臂49b的 2系統的臂。臂49a及臂49b則如可以將被收容在載體C 內的多個晶圓W —次地保持而配合於在載體C內的晶圓 W的配列間距而將一定數根據所設定的間隔排列在Z方向 。又，在圖4所示的狀態下，臂49a及臂49b可以朝箭頭 A方向移動或自由伸縮，且能夠在Z方向上昇降所設定的 距離。更且，晶圓搬出入裝置49整體則構成可以朝Θ方 向旋轉，藉此，臂49a及臂49b也能夠針對被載置在檢查 /搬出入台45的載體C及姿勢變換機構51a的其他任一者 進 ί了取放（access)。 在晶圓搬出入裝置49中，例如在臂49a處於晶圓移 換裝置5 1側的狀態下，將臂49a插入到晶圓W的下側而 讓臂上昇一定的距離，而由臂49a來保持晶圓W，之 後讓臂49a朝逆方向移動而將在載體C內的晶圓W搬出 。接著在讓晶圓搬出入裝置49整體旋轉90度後，藉由讓 臂49a移動，而將爲臂49a所保持的晶圓W轉送到姿勢變 換機構5 1 a。另一方面，在臂4 9b處於處理部3 2側的狀態 下讓臂49b移動，在從姿勢變換機構5 1 a取出已經過液處 理的晶圓W後，在讓晶圓搬出入裝置49整體旋轉90度 -15- 正替換頁i 1311697 (13) 後，將臂4 9 b設成處於晶圓移換裝置51側的狀態，藉由 讓臂49b移動而將爲臂49b所保持的晶圓w搬入到空的 載體C。 在晶圓移換裝置51的姿勢變換機構51a中，藉由導 引構件從晶圓搬出入裝置4 9接受水平方向的多個晶圓W ’在該狀態下讓導引構件旋轉而將晶圓的姿態轉換爲垂直 狀態。 晶圓垂直保持機構5 1 b則可以根據爲在載體C內的晶 圓配列間距之一半的配列間距來收容相當於被姿勢變換機 構5 1 a將姿勢轉換爲垂直狀態之2個載體的5 0個晶圓W ，而將該相當於2個載體的晶圓W轉送到晶圓搬送裝置 52 ° 晶圓搬送裝置52則是在與晶圓垂直保持機構51b之 間進行處於垂直狀態的晶圓W的授受，而將未處理的晶 圓W搬入到處理部32，相反地從處理部32搬出已經結束 液處理等的晶圓W，且將其轉送到晶圓垂直保持機構51b 。在晶圓搬送裝置5 2中則晶圓W爲3個夾頭5 8 a〜5 8 c所 保持。晶圓搬送裝置52則在與晶圓垂直保持機構5 lb之 間進行晶圓W的授受，又，晶圓搬送裝置52則如能夠將 晶圓W搬送到處理部3 2般地沿著導軌5 3朝X方向移動 ，而能夠相對於處理部3 2進入/退出。 又，爲了要確認經過液處理的晶圓W是否發生損傷 或位置偏移，則在晶圓垂直保持機構5 1 b與晶圓搬送裝置 5 2之間進行晶圓W的授受的位置設有用來檢測晶圓W之 -16- 1311697 __ (Η) [ kVM替換頁 配列狀態的晶圓檢測感測器57。此外，晶圓檢測感測器 57並不限定於該位置，也能夠設置於在處理後的晶圓W 被搬送到晶圓搬出入裝置49之前可進行檢查的位置。晶 圓檢測感測器57則當作信號輸入機器將配線連接到區段 控制器（BC ) 1 1，而將檢測値當作輸出信號傳送到區段控 制器（B C ) 1 1。 在介面部3 3則在晶圓垂直保持機構5 1 b與晶圓搬送 t 裝置52之間可進行晶圓W的授受之位置的側方設有停放 區域4 0 a。在該停放區域4 0 a例如可以停放未處理的晶圓 W。例如當針對某個批量的晶圓W進行液處理或乾燥處理 時，則利用不需要讓晶圓搬送裝置52運轉的時間將接下 來應該進行液處理的晶圓W搬送到停放區域40a。藉此， 當例如與從載體庫存部3 5搬送晶圓W的情形相比較時， 則能夠縮短晶圓W朝處理部32的移動時間而能夠提高生 產效率。 b 處理部32是由液處理單元38、乾燥單元39、及停放 區域40b所構成，而從介面部33側依據乾燥單元39、液 處理單元38、停放區域40b的順序來配置。晶圓搬送裝置 52則沿著在X方向延伸存在的導軌53而能夠在處理部32 內移動。 停放區域40b則與停放區域40a同樣地是一供未處理 的晶圓W停放的位置。當針對某個批量的晶圓W進行液 處理或乾燥處理時，則利用不需要讓晶圓搬送裝置5 2運 轉的時間將接下來應該進行液處理的晶圓W搬送到停放 -17- (15) (15) 1311697

[ZIjS 區域40b。由於停放區域40b與液處理單元38相鄰，因此 在開始液處理時能夠縮短晶圓W的移動時間而能夠提高 生產效率。 液處理單元38具有第1藥液槽61、第2藥液槽63、 第3藥液槽65、第1水洗槽62、第2水洗槽64、第3水 洗槽66，如圖4所示般，從停放區域40b側依據第1藥液 槽61、第1水洗槽62、第2藥液槽63、第2水洗槽64、 第3藥液槽65、第3水洗槽66的順序來配置。又，在第 1藥液槽6 1與第1水洗槽62之間備有用於搬送晶圓W的 搬送裝置67、在第2藥液槽63與第2水洗槽64之間備有 用於搬送晶圓W的搬送裝置68、及在第3藥液槽65與第 3水洗槽66之間備有用於搬送晶圓W的搬送裝置69。 在第1藥液槽61則儲存有用來除去有機性污穢或表 面金屬雜質的藥液。用來除去有機性污穢或表面金屬雜質 的藥液則儲存有例如被加熱到1 3 0 °C左右的S P Μ液（濃硫 酸與過氧化氫水的混合溶液）。又，在第2藥液槽63則 儲存有用於除去粒子等之附著物的藥液，例如SC-1液（ 氨與過氧化氫與水的混合溶液）。在第3藥液槽6 5則儲 存有用於針對被形成在晶圓W之表面的氧化膜實施蝕刻 的蝕刻液、例如稀氟酸（DHF )。蝕刻液則除了稀氟酸外 ，也能夠使用氟酸（H F )與氟化氨的混合物（B H F )。又 當針對被形成在晶圓W之表面的氮化膜實施蝕刻時，則 可以使用磷酸當作蝕刻液。第1〜第3水洗槽62、64、66 則是一用來除去因爲分別藉由第1〜第3藥液槽61、63、 -18 - 1311697 H 替換頁 (16) 65的液處理而附著在晶圓W的藥液者，例如利用溢流清 洗或快速傾倒（quick dump )清洗等的各種的水洗手法。 搬送裝置67具有可以在Z方向昇降的驅動機構，讓 從晶圓搬送裝置52所收到的晶圓W下降而浸入第1藥液 槽6 1，在經過一定時間後拉起來，接著讓晶圓w朝X方 向平行移動而讓晶圓W浸入第1水洗槽62而保持一定的 時間後拉上來。結束在第1水洗槽62中的處理的晶圓W ，則在一次退回到晶圓搬送裝置5 2的夾頭5 8 a〜5 8 c後， 從晶圓搬送裝置52搬送到搬送裝置68。搬送裝置68、69 則具有與搬送裝置67同樣的構造，而同樣地動作。 在液處理單元3 8設有用於檢測在液處理單元3 8內之 環境的溫度的液處理單元溫度計59及用於檢測在液處理 單元38內之環境的壓力的液處理單元壓力計60。液處理 單元溫度計59及液處理單元壓力計60則當作信號輸入機 器將配線連接到區段控制器（BC ) 1 1 ’而分別將所檢測出 的溫度及壓力當作輸出信號傳送到區段控制器（BC ) 1 1。 乾燥單元3 9則配設有水洗槽5 4與用來洗淨晶圓搬送 裝置5 2的夾頭5 8 a〜5 8 c的夾頭洗淨機構5 6。在水洗槽 54的上部則設有被供給異丙醇（IPA )的蒸氣而將晶圓W 加以乾燥的乾燥室（未圖示）。又’在水洗槽54與乾燥 室之間則設有用來搬送晶圓W的搬送裝置55，藉由搬送 裝置55將在水洗槽54中經過水洗的晶圓W上拉而在乾 燥室內實施IPA乾燥。搬送裝置55除了不會在X方向上 移動外，則與上述搬送裝置搬送裝置67同樣地構成，而 -19- 1311697 - (17) 丨9年6.1嫩替換頁 在與晶圓搬送裝置52之間進行晶圓W的授受。 第1藥液槽6 1則如圖5所示般是由具有足以收容晶 圓W之大小的箱形的內槽8 0與外槽8 1所構成。內槽8 0 的上面則開口，而經由該上面的開口部而使晶圓W相對 於內槽8 0進出。外槽8 1則如可以承接從內槽8 0的上端 . 溢流的藥液般地包圍著內槽8 0的開口部而安裝。更且， 在被儲存在內槽8 0及外槽8 1之藥液的液面則分別設有用 I 來計測液面之位置的液面感測器82a、82b。該些的液面感 測器82a、82b則當作信號輸入機器而將配線連接到區段 控制器（B C ) 1 1，而將所檢測出的液面的位置當作輸出信 號傳送到區段控制器（B C ) 1 1。 在內槽8 0與外槽8 1之間則連接有在針對晶圓W的 蝕刻處理中會讓藥液循環流通而供給的循環供給回路84。 該循環供給回路8 4的其中一方則被連接到外槽8 1的底面 ，而在循環供給回路8 4的途中則依序地配列有泵8 6、溫 t 度控制部8 8、過濾器9 0。因此從內槽8 0溢流到外槽8 1 的藥液則流入循環供給回路84，在藉由栗86的作動而依 序通過溫度控制部8 8、過濾器9 0經過調溫及清淨後，則 經由噴嘴而再度被供給到內槽8 0內。噴嘴則被配置在外 槽81的下方，而朝著晶圓W的表面供給藥液。 溫度控制部8 8則具有不會讓在內槽8 0內的藥液較所 設定的處理溫度爲低或爲高地將從循環供給回路8 4被供 給到內槽8 0內的藥液在將晶圓W浸漬之前事先加以冷卻 或加熱的功能。如此般，藉著將事先被冷卻或加熱的藥液 -20- 1311697 (18) 供給到內槽8〇內可以維持在內槽80內之藥液的溫度。又 ’溫度控制部8 8則當作信號輸出機器而將配線連接到區 段控制器（B C ) 1 1 ’而接受從區段控制器（b c ) 1 1所輸 出的控制信號。例如溫度控制部88是由加熱器及冷卻水 供給機構所構成’而在將冷卻水導入到熱交換器內部的冷 卻水供給路徑的途中所配置的閥及加熱器則被連接到區段 控制器（B C ) 1 1。因此，因應必要經由區段控制器（b C )1 1將所設定的控制信號傳送到加熱器或閥的其中一者。 在循環供給回路8 4的途中則連接有讓在循環供給回 路84內的藥液流入到外槽81的分岐管分岐管92，更且在 分岐管92則設有用於檢測藥液的溫度及濃度的濃度•溫 度檢測部95。濃度•溫度檢測部95則當作信號輸出機器 而將配線連接到區段控制器（BC )區段控制器（BC ) 1 1 。在濃度•溫度檢測部95則設有用於檢測藥液之溫度的 溫度計95a、及用於檢測藥液之濃度的濃度計95b，而分 別將所檢測的溫度及濃度當作輸出信號而傳送到區段控制 器（BC) 11。 分岐管92則較循環供給回路84的管子爲細’例如分 岐管92的直徑爲循環供給回路84之直徑的1 /3。此時’ 由於能夠防止亂流的發生’因此即使是濃度•溫度檢測部 95使用超音波濃度計時，則用在計測的超音波不會受到亂 流渦的影響。又’也能夠抑制因此泵8 6的驅動而導致之 藥液的壓力變動對於濃度的計測所帶來的影響°因此能夠 進行高精度的濃度測量。 -21 - 1311697 --------- 年月日f正替換頁 (19) —· U- 在第1藥液槽61設有用於將藥液塡充到藥液的藥液 供給回路1 0 0。藥液供給回路1 0 0具備有：藥液供給源 101、純水供給源1〇2、及將藥液與純水加以混合的混合供 給部1 03。混合供給部1 〇3則當作信號輸出機器而將配線 連接到區段控制器（B C )區段控制器（B C ) 1 1。此外， 藥液供給回路1 00具有作爲藥液的補充機構的功能，當在 藥液槽6 1內之藥液的濃度降低時，則控制從藥液供給源 > 1 〇 1、純水供給源1 〇 2來補充藥液。 晶圓檢查裝置48、晶圓檢測感測器57、處理單元溫 度計59、液處理單元壓力計60、液面感測器82a、82b、 被設置在濃度•溫度檢測部9 5的溫度計9 5 a及濃度計9 5 b 、及其他多數的檢測機構的輸出信號則根據所設定的時間 間隔被傳送到區段控制器（B C )區段控制器（B C ) 1 1， 經由主控制器（M C ) 1 2被傳送到A G C 1 7而當作表示處理 裝置之各部分的狀態的檢測信號來檢測，而能夠檢測到處 I 理裝置之各部分的狀態變化。更且，當根據主控制器（ MC ) 1 2的異常檢測部異常檢測部20檢測到超過容許値的 檢測信號時，則藉由警報產生部2 1對操作者發出警報。 接著則說明該處理系統的控制動作。 在處理裝置10中，首先利用載體搬送裝置42從載體 庫存部3 5將構成1批量的載體C載置在檢查/搬出入台45 上’而藉由蓋體開閉機構47打開載體C的蓋體，更且則 打開窗部46藉由晶圓檢查裝置48來檢查被收容在載體c 之晶圓W的數目及收容狀態。而藉由檢查未被檢測出異 -22-

1311697 (20) 常的載體C則藉由臂49a傳送到姿勢變換機構5ia，而在 姿勢變換機構51a中轉換姿勢後被傳送到晶圓垂直保持機 構5lb。至於另一個載體C則藉由姿勢變換機構51a轉換 姿勢’而晶圓W則藉由臂49a而被傳送到晶圓垂直保持機 構5 1 b。如此般地將5 0個的晶圓W配列在晶圓垂直保持 機構5 1 b。 晶圓垂直保持機構5 1 b則滑動到晶圓搬送裝置5 2側 ，而晶圓W則被移送到夾頭5 8 a〜5 8 c。已經保持有晶圓 W的晶圓搬送裝置5 2則沿著導軌5 3而移動到液處理單元 38的第1藥液槽61或第1水洗槽62的位置，將晶圓w 移送到第1搬送裝置67後才開始晶圓W的液處理。晶圓 W的液處理則根據浸漬到第1藥液槽61與藉由第1水洗 槽6 2的洗淨、浸漬到第2藥液槽6 3與藉由第2水洗槽6 4 的洗淨、浸漬到第3藥液槽6 5與藉由第3水洗槽6 6的 洗淨的順序來進行。 而結束了在液處理單元3 8中的處理的晶圓w，在暫 時地被移送到晶圓搬送裝置5 2後則被移送到乾燥單元3 9 的搬送裝置5 5實施乾燥處理。結束了乾燥處理的晶圓w 則被移送到晶圓搬送裝置52而回到介面部33，藉由晶圓 檢測感測器5 7來檢查晶圓W的狀態。在此，當檢測出晶 圓W的狀態有異常時’則例如採取讓處理系統1停止而 進行維修等的處置。結束了液處理而回到介面部3 3的晶 圓W則可以藉由與將事先將未處理的晶圓W從載體庫存 部3 5搬送到晶圓搬送裝置5 2爲止的順序呈相反的順序而 -23- 1311697 (21) 將被載置在檢查/搬出入台45的空的載體載體 。收容了已經結束液處理之晶圓W的載體C 載體搬出入部34而移到下一過程。 針對作爲以上之被處理體之晶圓W的處 在主電腦15及AGC 17的過程控制下而藉由逼 BC) 11及主控制器（MC) 12來控制。 藉由各主控制器（M C ) 1 2經由區段控制 而從處理裝置1 0所得到的過程資料則被寫入 的過程資料儲存用記憶體i 8。被寫入到過程資 憶體1 8的過程資料則藉由作爲與外部轉送有 介面機構的HCI13與RAP16而經由TCP/IP等 系統14的獨立的頻道而被轉送到主電腦15與 在此’ H C I 1 3則從被儲存在過程資料儲存 之全部的過程資料中只抽出事先所設定的一部 過程資料而寫入到HCI傳送緩衝器nHCI 1 9的內容則經由資料傳送系統1 4而傳送到2 另一方面’ RAP 1 6則從過程資料儲存用記憶體 部的過程資料而轉送到A G C 1 7。 AGC17的AGC伺服器17a貝(J接受由各處？ 主控制器（MC) 12的RAP16所送來的過程資 該過程資料儲存在資料庫24外，也從該過程 資料產生各處理裝置的參數校正値，藉由將此 制器（M C ) 1 2而進行過程控制。 又’ AGC伺服器i7a當從AGC客戶17b

[赢1践正替換頁f c予以收容 則被搬送到 ^理動作，則 [段控制器（ 器（BC ) 1 1 到圖2所示 :料儲存用記 關的邏輯的 的資料傳送 AGC17。 用記憶體1 8 分的種類的 傳送緩衝器 兰電腦1 5。 1 8讀取全 I裝置10的 料，除了將 資料與訣竅 傳送到主控 接收到過程 -24- 1311697 (22) m膽替換頁 資料轉送要求時’則會從資料庫24讀取對應的過程資料 ，而經由通訊I/F22傳送到AGC客戶l7b。被轉送到agc 客戶Ub的過程資料則在資料轉換部26中被轉換成可以 爲客戶使用者加以利用•加工之形式的資料，而藉由資料 ' 顯示部27而顯示在監視器上。更且，被轉送到AGC客戶 -l?b的過程資料則在資料分析部25中進行分析及統計處理 ’將該分析結果藉由資料轉換部2 6而與過程資料同樣地 ^ 轉換成可以爲使用者所利用之形式的資料而顯示在監視器 上。藉此能夠在AGC客戶17b上實現—基板處理系統整 體的一元管理。 . 又’ AG C客戶1 7 b的資料分析部2 5則從過程資料的 分析結果進行處理裝置的異常檢測或異常預測，而當檢測 出異常時及已經預測出異常時，則除了將其主旨經由資料 顯示部2 7輸出到監視器外，也會通知給a G C伺服器1 7 a 。根據該通知AGC伺服器1 7a則針對用於控制已檢測出 異常或已預測出異常的處理裝置處理裝置1 〇的主控制器 (M C ) 1 2進行讓處理裝置丨〇停止的指示等的控制。 更且’ A G C客戶1 7b的訣竅修正部2 8則進行從針對 包含在基板上之膜厚測量結果等的測量資料在內的過程資 料的分析結果將訣竅（過程條件）予以最佳化的更新處理 〇 但是在上述資料分析部25中所進行的過程資料由於 龐大，且連來自各處理裝置的警告資訊也龐大’因此實際 上很不容易從在資料分析部2 5中的分析資訊來判斷處理 -25- I4urwfi 1311697 (23) 裝置的狀態，而經常很難迅速且充分地管理裝置的異常及 裝置的壽命等。又，裝置的使用狀況會因爲使用者而不同 ，因此即使是從在資料分析部2 5中的分析資訊來判斷管 理裝置的異常及裝置的壽命，有時候也有實際上未達到裝 置的異常及裝置的壽命的情形。在此’在本實施形態中’ 則在AGC客戶17b如上所述般設置FDC功能部29，除了 檢測裝置的異常情形（裝置產生警告）外’也具有可根據 使用者水準來定義異常的意義’而即時地檢測出任意所設 定的異常設定的功能，而能夠充分且確實地預測出裝置的 異常及裝置的壽命。 除了晶圓檢查裝置48、晶圓檢測感測器57、處理單 元溫度計59、液處理單元壓力計60、液面感測器82a、 8 2b、被設置在濃度•溫度檢測部95的溫度計95a及濃度 計95b等的輸出信號會根據所設定的時間間隔經由區段控 制器（BC )區段控制器（BC ) 1 1及主控制器（MC ) 12 的RAP16而被傳送到AGC17而被儲存在AGC客戶17b的 資料庫24外，當異常檢測部20檢測出來自該些檢測機構 而已經超過容許値的檢測信號時，則也會將由警報產生部 2】所發出的警告資訊送到AGC17，而將該些儲存在AGC 伺服器1 7 a的資料庫2 4。在F D C功能部2 9中則針對該些 的警告的產生狀態而根據使用者水準來設定一定的臨界値 來監視所設定之警告的產生狀態，而當該產生狀態達到上 述臨界値時則發出警告。 具體地說當在某個檢測機構中產生警報時，則會自動 -26- 1311697 (24) 地鍵入（entry)而使得FDC功能成爲ON，而FDC功能 部29具有會自動地開始監視的自動監視功能。此時，每 當在各種的檢測機構中產生警報時會依序自動地進入FDC 功能。又，也可以不是自動監視功能而設是定任意的檢測 機構，而當在所設定的檢測機構中產生警報時，則會使得 FDC功能成爲ON。 作爲警報產生對象的檢測機構當除了上述外有多個會 自動監視時，則必須要設定進入（ENTRY )數的上限。因 此，當在一定時間未達到上述臨界値時，則發生問題的可 能性低，因此設置刪除會自動地進入的功能，該功能的 ON · OFF及其時間最好是由使用者來設定。又，當針對某 個警報從開始監視到被通知警告爲止的時間、或在從被通 知一次警告後到被通知下一次警告爲止的時間超過一定時 間時，則設置刪除會進入自動監視的功能，而該功能的 ON · OFF及其時間最好是由使用者來設定。更且，由於警 告的種類多，因此最好將全部的警告依據例如處理裝置1 〇 的各構成部來分類。 應該掌握之警告產生狀態的典型例則可以是在一定時 間內的警告產生數、及從產生警告開始到產生下一個警告 爲止的時間，而能夠將該些當作檢測條件來設定。亦即， 當爲前者時，則設定爲當在一定時間內的警告產生數達到 一定的次數時會通知警告。又，當爲後者時，則設定爲當 從產生警告開始到產生下一個警告爲止的時間達到一定的 時間時會通知警告。例如當如圖8所示般，當從產生警告 -27- 1311697 年月曰修正替換頁 .96. 3. 2J3- (25) 開始到產生下一個警告是在1個小時發生時則通知_告。 因此，當爲前者時，則設成使用者可以設定上述「一定的 時間」及在一定時間內的「警告產生數」，而當爲後者時 ，則設成使用者可以設定從產生警告開始到產生下一個警 ' 告的時間。 . 與該FDC功能部29有關的資訊也藉由資料顯示部27 被顯示在監視器上。亦即，藉由指定FDC功能的ID則顯 • 示畫面成爲FDC功能畫面，而能夠從該畫面進行各種的 設定及狀態顯示。例如能夠將警告作一覽表示、或個別地 指定警告。又，能夠從該顯示畫面來設定FDC功能的 ON · OFF。能夠針對各處理裝置設定是否要將FDC功能設 定爲有效。更且，在該顯示畫面則當產生所設定的警告達 ' 到上述臨界値時則會顯示所通知的警告。此時則能夠設定 訊息服務報告、郵件報告、無報告等，而能夠連警告產生 的累積次數也顯示。 • 在指定檢測條件時的警告產生狀況能夠以圖形來顯示 。圖9爲橫軸爲時間、縱軸爲警告產生的累積次數而以圖 形來表示在一定時間內之警告產生數的情形，是一當反白 的圓點超過臨界値時會被通知警告的情形。圖1 〇爲橫軸 爲警告產生次數、縱軸爲累積時間而以圖形來表示從產生 警告開始到產生下一個警告爲止的時間，是一當反白的圓 點超過臨界値時會被通知警告的情形。 另外，在本實施形態中，當主電腦1 5當機時，則 AGC17會進行過程資料的回復處理。亦即，主電腦15在 -28- (26) 1311697 恢復後能夠直接從AGC 1 7取得在當機期間的過程資料。 藉此，由主電腦1 5針對各處理裝置1 〇所進行的搜軌（ TRACKING)處理能夠在回復後立βρ開始。 如上所述般，若根據本實施形態，從各處理裝置1〇 所得到之以晶圓檢查裝置4S、晶圓檢測感測器57、處理 單元溫度計59、液處理單元壓力計60、液面感測器82a、 8 2b、被設置在濃度•溫度檢測部95的溫度計95a及濃度 私計95b等的輸出信號爲代表之全部或幾乎全部之詳細的過 程資料則爲AGC所取得而集中加以監視，因此能夠早期 地發現各處理裝置之狀態的隨時的變化。藉此能夠提高包 含多個處理裝置1 〇在內之處理系統的維修信賴性。又， 在本實施形態中，藉由從針對包含基板上之膜厚測量結果 等之測量資料在內的詳細的過程資料所進行的分析結果或 統計結果而將在訣竅中的各資料更新爲更好的値，因此可 以從也考慮到各處理裝置1 〇之隨時的特性變動的各種的 > 觀點而自動地得到最佳的過程條件，而能夠提高晶圓W 之液處理的信賴性。 又，如此般藉由AGC 1 7取得從各處理裝置1 0所得到 的過程資料而加以集中監視，能夠擴大可掌握作爲各處理 裝置之狀態的資訊的範圍，相較於未設置AGC17的情形 能夠詳細且早期地發現處理裝置異常或惡化狀態、壽命。 在此，如以往般當在資料分析部25中進行全部的處理而 欲掌握處理裝置的狀態時，則由於要進行分析的資料龐大 ，因此實際上大多數很難充分地發揮異常檢測或異常預測 -29 - 1311697 ‘ (27) U §. δ««^| 的功能。在本實施形態中，在AGC客戶17b設置FDC功 能部29，而在發生裝置警告外另外分析警告的產生狀態而 能夠即時地檢測出裝置異常，因此能夠早期地發現或預測 裝置異常或裝置壽命。又，能夠根據使用者等級（USER • level )來對異常加以定義而能夠任意地進行異常設定， . 根據任意設定的異常設定來分析警告的發生狀態而能夠檢 測出裝置異常，因此當成爲使用者實際上所想要掌握之處

• 理異常等的裝置狀態時會通知警告，而能夠更早期且確實 地發現乃至於預測處理裝置的異常或壽命。具體地說由使 用者來設定例如在一定時間內的警告發生數、及從發生警 告開始到發生下一次警告爲止的時間等、發出裝置警告之 發生狀態之通知警告的臨界値，而當到達該臨界値時，貝IJ ' 判斷爲發生裝置異常，藉此可根據使用者等級確實地判斷 處理裝置的狀態，而能夠更早期且確實地發現乃至於預測 處理裝置的異常或壽命。 • 此外，本發明並不限定於上述實施形態也能夠有各種 的變形。例如在上述實施形態中雖然針對一定的檢測機構 是從開始檢測出發生警告後才執行FDC功能，但不管有 無檢測到發生警告的情形都可以從初始狀態來執行FDC 功能。又，雖然是將FDC功能部設在AGC內，但也可以 設在處理裝置的控制器。更且，本發明不一定要以 AGC 作爲前提，也能夠單獨地利用上述FDC功能。 又，在上述實施形態中雖然處理裝置是以針對晶圓實 施液處理而洗淨的裝置爲例，但不限定於此，也能夠應用 -30- 1311697 U· 3月· II正替換 (28) 在其他的處理裝置上。又，被處理體並不限定於晶圓。但 如在上述實施形態中所示的處理裝置般，當爲針對被處理 體實施一連串的多個處理時，則由於應該檢測的資訊的種 類多，而對應於此連警告的種類也會龐大，因此本發明特 別有效。 . 更且，在上述實施形態中雖然是以處理系統具有多個 處理裝置爲例，但處理裝置只有1台也沒關係。 【圖式簡單說明】 圖1爲表示與本發明之一實施形態有關之處理系統的 整體構成的方塊圖。 圖2爲表示與在本發明之一實施形態的處理系統中所 ' 使用的處理裝置的主控制器（MC)的過程資料轉送有關 之部分的構成的說明圖。 圖3爲表示在本發明之一實施形態的處理系統中所使 ® 用的處理裝置的一例的立體圖。 圖4爲表示在本發明之一實施形態的處理系統中所使 用的處理裝置的一例的立體圖。 圖5爲表示在本發明之一實施形態的處理系統中所使 用的處理裝置的第1藥液槽及其配管系統的槪略圖。 圖6爲表示區段控制器（BC )的主要的檢測機構的方 塊圖。 圖7爲在AGC的FDC功能部中應該檢測之警報產生 狀態的一例的說明圖。 -31 - Γ^Λ·^替換頁I FDC功能部中應該檢測之警報產生 〇 的FDC功能部中指定檢測條件時的 示的一例的說明圖。 的FDC功能部中指定檢測條件時的 示的其他例的說明圖。 1311697 (29) 圖8爲在AGC的 狀態的其他例的說明圖 圖9爲當在AGC 警報產生狀態的旗標顯

• 圖10當爲在AGC . 警報產生狀態的旗標顯 φ 【主要元件符號說明】 1 :處理系統 10 :處理裝置 1 2 :主控制器 1 2 a :控制部 * 2 0 :異常檢測部 2 1 :警告產生部 1 8 :記憶體 # 19 : HCI傳送緩衝

17 ： AGC 1 6 : RAP 13 ： HCI

1 4 :資料傳送系統 1 5 :主電腦 17a : AGC伺服器 17b : AGC 客戶 22 :通訊I/F -32- (30) 1311697 23 : EQM控制部 2 4 :資料庫 2 5 :資料分析部 26 :資料轉換部 - 2 7 :資料顯示部 . 2 8 :訣竅修正部 2 9: F D C功能部 φ 3 1 :搬出入部 3 2 :處理部 33 :介面 34:載體搬出入部 3 5 :載體庫存部 ’ 4 1 :載物台 42 :載體搬送裝置 43 :載體保持構件 Φ 44 :快門 45 :檢查/搬出入載物台 4 6 :窗部 47 :蓋體開閉機構 48 :晶圓檢查裝置 49 :晶圓搬出入裝置 5 1 a :姿勢轉換機構 49a、 49b:臂 52 :晶圓搬送裝置 -33- (31) 1311697 53 :導軌 5 1 b :晶圓垂直保持機構 5 7 :晶圓檢測感測器 4 0 a、4 0 b :停放區域 • 6 1 :第1藥液槽 . 63 :第2藥液槽 6 5 :第3藥液槽 φ 62 :第1水洗槽 64 :第2水洗槽 6 6 :第3水洗槽 67 :搬送裝置 6 8 :搬送裝置 • 5 9 :液處理單元溫度計 6 0 :液處理單元壓力計 .5 4 :水洗槽 Φ 80 :內槽 8 1 :外槽 8 2 a、8 2 b :液面感測器 84 :循環供給回路 86 :泵 8 8 :溫度控制部 9 0 :過濾器 92 :分歧管 9 5 :濃度•溫度檢測部 -34- (32) 1311697 9 5 a :溫度計 9 5 b :濃度計 100 :藥液供給回路 1 0 1 :藥液供給源 102 :純水供給源 . 1 0 3 :混合供給部 1 1 :區段控制部

-35-

Claims (1)

1311697 年月Eg i译換頁 98. t. 2 1___I 十、申請專利範圍 第94 1 1 492 1號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國98年1月21曰修正 1 . 一種控制系統，具有：

根據在針對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢 測出的資訊來控制上述處理裝置的控制機構；及 當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警 告產生機構， 上述控制機構則掌握從上述警告產生機構所產生之警 告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會通 知警告， 上述警告產生機構被設在上述控制機構。 2. 如申請專利範圍第1項之控制系統，其中上述控 制機構能夠設定從上述警告產生機構所產生之警告之發生 狀態的臨界値而掌握上述警告的發生狀態，而當該發生狀 態達到上述所設定的臨界値時會通知警告。 3. 如申請專利範圍第1項之控制系統，其中上述處 理裝置具有多個檢測機構，上述控制機構當從某個的檢測 機構發生警告時才開始掌握上述警告發生狀態。 4. 如申請專利範圍第1項之控制系統，其中上述處 理裝置具有多個檢測機構，上述控制機構當從事先所設定 的檢測機構發生警告時才開始掌握上述警告發生狀態。 1311697 ιι：ϋϋ 5. 如申請專利範圍第1項之控制系統，其中上述警 告的發生狀態爲在一定時間內的警告發生數目。 6. 如申請專利範圍第1項之控制系統，其中上述警 告的發生狀態爲從發生警告開始到發生下一次的警告爲止 的時間。 7. —種控制系統，具有：

根據在針對被處理體實施一定之處理的多個處理裝置 中所檢測出的資訊來控制上述多個的處理裝置的控制機構 ;及 當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警 告產生機構， 上述控制機構具有： 根據在上述各處理裝置中所檢測的多個的資訊而個別 地控制上述多個處理裝置的多個裝置控制部；

從上述各裝置控制部接收一部分的資訊，而根據該資 訊來控制上述各處理裝置的主電腦；及 從上述各裝置控制部接收全部的資訊，而根據該資訊 來控制上述各處理裝置的控制裝置， 上述控制裝置則具有： 收集從上述各裝置控制部所接收之資訊及從警告產生 機構所接收之警告資訊的機構； 將上述所收集的資訊加以分析的機構；及 根據上述警告資訊來掌握上述警告的發生狀態，而當 該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告的機構。 -2- 1311697 年月R修正替換更 8. 如申請專利範圍第7項之控制系統，其中上述通 知警告的機構能夠設定從上述警告產生機構所產生之警告 之發生狀態的臨界値。 9. 如申請專利範圍第7項之控制系統，其中上述控 制裝置更具有將上述分析的結果及上述警告之發生狀態加 以輸出的機構。

10. 如申請專利範圍第7項之控制系統，其中各處理 裝置具有多個檢測機構，上述控制裝置當從某個檢測機構 發生警告時才開始自動地掌握上述警告發生狀態。 11. 如申請專利範圍第7項之控制系統，其中各處理 裝置具有多個檢測機構，上述控制裝置當從事先所設定的 檢測機構發生警告時才開始掌握上述警告發生狀態。 12. 如申請專利範圍第7項之控制系統，其中上述警 告產生機構被設在上述控制機構。 1 3 .如申請專利範圍第7項之控制系統，其中上述警 告的發生狀態爲在一定時間內的警告發生數目。 14.如申請專利範圍第7項之控制系統，其中上述警 告的發生狀態爲從發生警告開始到發生下一次的警告爲止 的時間。 1 5 . —種控制方法，主要是一根據在針對被處理體實 施一定處理的處理裝置中所檢測出的多個資訊來控制上述 處理裝置的控制方法， 會掌握當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時所發生之 警告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會 -3- 1311697

Ί 通知警告， 設定在當所檢測的製程資訊脫離一定的範圍時所產生 之警告之發生狀態的臨界値而掌握上述警告的發生狀態， 而當該發生狀態達到上述所設定的臨界値時會通知警告。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項之控制方法，其中上述 處理裝置具有多個檢測機構，上述控制機構當從某個的檢 測機構發生警告時才開始自動地掌握上述警告發生狀態。

1 7 .如申請專利範圍第1 5項之控制方法，其中上述 處理裝置具有多個檢測機構，上述控制機構當從事先所設 定的檢測機構發生警告時才開始掌握上述警告發生狀態。 1 8 .如申請專利範圍第1 5項之控制方法，其中上述 警告的發生狀態爲在一定時間內的警告發生數目。 1 9 .如申請專利範圍第1 5項之控制方法，其中上述 警告的發生狀態爲從發生警告開始到發生下一次的警告爲 止的時間。

20. 一種半導體裝置的處理系統，具備有針對被處理 體實施一定處理的處理裝置、及控制上述處理裝置的控制 系統， 上述控制系統具有： 根據在針對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢 測出的資訊來控制上述處理裝置的控制機構；及 當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警 告產生機構， 上述控制機構則掌握從上述警告產生機構所產生之警 -4- 1311697 告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値時會通 知警告。 21. 一種半導體裝置的處理系統，具備有針對被處理 體實施一定處理的處理裝置、及控制上述處理裝置的控制 系統， 上述控制系統具有：

根據在針對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢 測出的資訊來控制上述處理裝置的控制機構；及 當所檢測出的資訊脫離一定的範圍時會發出警告的警 告產生機構， 上述控制機構具有： 根據在上述各處理裝置中所檢測的多個資訊而個別地 控制上述多個處理裝置的多個裝置控制部； 從上述各裝置控制部接收一部分的資訊，而根據該資 訊來控制上述各處理裝置的主電腦；及 從上述各裝置控制部接收全部或幾乎全部的資訊，而 根據該資訊來控制上述各處理裝置的控制裝置， 上述控制裝置則具有： 收集從上述各裝置控制部所接收之資訊及從警告產生 機構所接收之警告資訊的機構； 將上述所收集的資訊加以分析的機構；及 根據上述警告資訊來掌握上述警告的發生狀態，而當 該發生狀態達到一定的臨界値時會通知警告的機構。 22. 一種記憶媒體，是一可藉由包含有根據電腦在針 -5- 1311697 ——, ' I ，年月日f正替乾p 1. 2 1__1 對被處理體實施一定處理的處理裝置中所檢測出的多個資 訊來控制上述處理裝置之軟體的電腦所讀取的記錄媒體， 上述軟體則掌握當所檢測的資訊超過一定範圍時所產 生之警告的發生狀態，而當該發生狀態達到一定的臨界値 時會通知警告。

1311697 七、指定代表圈： (一） 、本案指定代表圖為：第（1 )圖 (二） 、本代表圖之元件符號簡單說明：

1 ： 處理系統 10 處理裝置 11 :區段控制器 12 主控制器 15 :主電腦 17 AGC 1 7£ ι : AGC伺服器 17b :AGC客戶 22 :通訊I/F 23 EQM控制部 24 :資料庫 25 資料分析部 26 :資料轉換部 27 資料顯示部 28 :訣竅修正部 29 FDC功能部 八、本案若有化 式： 學式時， 請揭示最能顯示發明特徵的化學