JP2012156296A - 監視システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体デバイス製造工程において用いられる流体が正常に使用されているか監視して前記流体が人体に悪影響を与えることを防止する監視システムであって、気体濃度検出センサ(101a)、液体漏れ検出センサ(101b)、液体を溜めるタンクの液面の高さを検出するセンサ(101c)、のいずれかのセンサ(101)による異常状態の検出によって、アラームの発動、電子メールによるオペレータへの異常状態の通知、研削加工装置(11)の停止、の少なくとも一つの動作を行うことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
図1は、本実施の形態に係る監視システムが適用される設備を示す概略図である。図1に示すように、この監視システムが適用される設備内には、クリーンルームなどの作業室1と、廃液設備2と、オペレータが駐在する事務所3が含まれる。
11 研削加工装置
12 第1のタンク
12a 第1の純水配管
12b 第1の純水バルブ
12c 第1の供給配管
13 第2のタンク
13a 第2の純水配管
13b 第2の純水バルブ
13c 第2の供給配管
14 第3のタンク
14a 第3の純水配管
14b 第3の純水バルブ
14c 第3の供給配管
15 廃液配管
15a 廃液バルブ
16 ドア
17 制御装置
171 PLC
172 報知手段
172a ブザー
172b 警告灯
173 操作手段
173a 表示部
173b 入力部
174 メール処理部
18 操作装置
181 報知手段
181a ブザー
181b 警告灯
182 操作手段
182a 表示部
182b 入力部
2 廃液設備
21 廃液タンク
3 事務所
31 コンピュータ
100 監視システム
101 センサ
101a ガスセンサ
101b 漏液センサ
101c 液面センサ
102 自動排煙装置
103 報知手段
103a ブザー
103b 警告灯
104a〜c 端末
Claims (1)
- 研削加工装置で研削したワークの洗浄に用いられる流体が正常に使用されているか監視して前記流体が人体に悪影響を与えることを防止する監視システムであって、
前記流体は、フッ酸、アンモニア、オゾンのいずれかを含み、
気体濃度検出センサ、液体漏れ検出センサ、液体を溜めるタンクの液面の高さを検出するセンサ、のいずれかのセンサによる異常状態の検出によって、
アラームの発動、電子メールによるオペレータへの異常状態の通知、前記研削加工装置の停止、の少なくとも一つの動作を行うことを特徴とする監視システム。
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