TWI308562B - - Google Patents

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TWI308562B
TWI308562B TW094137933A TW94137933A TWI308562B TW I308562 B TWI308562 B TW I308562B TW 094137933 A TW094137933 A TW 094137933A TW 94137933 A TW94137933 A TW 94137933A TW I308562 B TWI308562 B TW I308562B
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Hideo Miyata
Masatoshi Murakami
Katsutoshi Ohno
Original Assignee
Showa Denko Kk
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description

1308562 (1) 九、發明說明 【發明所屬技術領域】 本發明係關於可恰當 成形材料的原料單體之爲 封端基體之封端基異氰酸 關於工業生產中藉由聚合 得高純度封端基異氰酸酯 【先前技術】 封端基異氰酸酯化合 基化合物(封端基劑)反 熱的話,封端基劑會解離 的性質。因此,藉由將硬 ,可與具有活性氫基之主 覆劑、黏接劑,成形材料 ® 將異氰酸酯基封端基 、苯酚類、內醯胺類、肟 •酯類、鄰苯二甲醯亞胺類 •硫酸氫鈉等。其中也可藉 烷酯類、丙二酸烷酯類、 化氫、氰化氫或亞硫酸氫 端基異氰酸酯化合物,在 基再生。例如,根據專利 基化之亞己基二異氰酸酯 使用作爲各種塗覆劑、黏接劑、 含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯 酯化合物的製造方法。更詳細爲 等可避免副產物的產生’可以獲 化合物的製造方法者。 物係,使異氰酸酯基與含活性氫 應在常溫下爲惰性,若將該等加 ,而具有所謂異氰酸酯基可再生 化劑的異氰酸酯基予以封端基化 劑事先配合,可廣泛的運用在塗 等。 化的封端基劑方面,所知有醇類 類、乙醯乙酸烷酯類、丙二酸烷 、咪唑類、氯化氫、氰化氫或亞 由取代苯酚類、肟類、乙醯乙酸 鄰苯二甲醯亞胺類、咪唑類、氯 鈉,將異氰酸酯基封端基化之封 較低的溫度下,解離使異氰酸酯 文獻1,以下列化合物進行封端 ’加熱20分鐘,解離溫度如下 -5- (2) 1308562
正丁醇:約170 t 苯酚:約1 6 0 °C 己內醯胺:約I 6 〇 °C 甲基乙基酮:約1 5 (TC 乙醯乙酸酯:約1 4 (TC 丙二酸二乙酯:約]3 0 °C
以封端基劑將異氰酸酯基封端基化之封端基異氰酸酯 化合物方面’例如專利文獻2中,可以例舉以1,2,4-三唑 、3,5-二甲基吡唑作爲封端基劑使用的聚封端基異氰酸酯 化合物。專利文獻3中,可以例舉以乙醯乙酸酯作爲封端 基劑使用的聚封端基異氰酸酯化合物。專利文獻4中,可 以例舉以丙二酸二酯作爲封端基劑使用的聚封端基異氰酸 酯化合物。 以吡唑系化合物將異氰酸酯基封端基化的反應例方面 ,可以例舉例如專利文獻5中,以有機溶劑將聚異氰酸酯 與 3,5 -二甲基吡唑在 5 0 °C〜1 1 〇 °C,較佳爲 7 〇 °C〜9 0 °C下 反應的方法。又,可以例舉專利文獻6中,以有機溶劑將 聚異氰酸酯與吡唑系化合物在不足5 (TC的溫度下反應的方 法。在該等的先前文獻記載的方法中,由於以有機溶劑將 異氰酸酯基與吡唑系化合物反應,反應後的產物中殘留有 反應時所使用的溶劑,進而有除去困難的問題。又,有關 對於如含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物的聚合性化 合物’其對封端基劑的反應並無相關的記載。 -6- (3) 1308562 又’以吡唑系化合物封端基化含有乙烯性不飽和基異 ' 氰酸酯化合物的異氰酸酯基的方法方面,例如專利文獻7 中’可以例舉將吡唑或其衍生物加熱至熔點以上而熔融或 • 將吡唑或其衍生物在甲苯或二甲苯等的惰性溶劑中溶解或 - 分散’對此加入含有乙烯性不飽和基之化合物、或使該化 合物溶解於惰性溶劑之溶液的方法。 由該方法封端基異氰酸酯化合物並不聚合而可安定地 ® 獲得’同時亦幾乎無副產物生成爲極優異。 但是,專利文獻7記載的吡唑或以其衍生物加熱至熔 點以上的方法中’因吡唑或其衍生物昇華之故,爲了讓反 應圓滑地進行,過多的吡唑或其衍生物成爲必要,在生產 性方面並不佳。因此,更有效率獲得封端基異氰酸酯化合 物的方法被需求著。 另一方面’專利文獻7記載的使用惰性溶劑的方法, 可以用比較低的溫度進行反應,可防止吡唑或其衍生物的 昇華,讓反應可以圓滑地進行,所以較佳。但是,使用甲 苯或二甲苯等的惰性溶劑,對人體或環境有安全性的問題 ' ,而且也有製造步驟變複雜的問題。又,反應所使用惰性 溶劑有除去的困難,產物有溶劑殘留。因此,以封端基異 氰酸酯化合物作爲各種塗覆劑、黏接劑、成形材料的原料 單體等有不能使用的可能性,所以不使用惰性溶劑之封@ 基異氰酸酯化合物的製造方法被尋求著。 [專利文獻1]日本特開平03-0171 16號公報 [專利文獻2]日本特開平07-3 04843號公報 (4) 1308562 [專利文獻3 ]日本特開昭5 2 · 1 1 6 4 2 0號公報 [專利文獻4 ]日本特開昭5 7 · 1 2 1 0 6 5號公報 [專利文獻5]日本特開平08-225509號公報 [專利文獻6 ]日本特開平〇 8 _丨0 4 7 2 6號公報 [專利文獻7]日本特開平10_3] 6663號公報 【發明內容】 ® [發明揭示] [發明欲解決之課題] 本發明係以提供封端基異氰酸酯化合物的製造方法, 亦即,藉由以吡唑系化合物將含有乙烯性不飽和基之異氰 酸酯化合物的異氰酸酯基予以封端基化之封端基異氰酸酯 化合物的製造方法中,更有效率的獲得該化合物,而且不 使用惰性溶劑的製造方法爲目的。
[解決課題之手段] 本發明人等戮力檢討的結果’根據本發明首先發現可 以解決上述課題的方法,於是完成本發明。 本發明由以下事項構成° 〔】〕一般式(I) 1308562 (5) 【化1】 Q1
• · · (I) 〔式中,Q1及Q2爲各自獨立,氫原子、碳數]〜6的 烷基、RCONH-或表示ROCO- (R爲碳數1〜6的丨兀基)〕 所示之吡唑系化合物(I )與,
一般式(11) 【化2】
.· · (II) 〔式中,R1表示氫原子或甲基,R2表示- C〇-’ -COOR3- (R3爲碳數2〜6烷撐基)〕所示之含有乙稀丨生 不飽和基之異氰酸酯化合物(II ), 在0。(:〜9〇它的溫度範圍內反應爲其特徵之一般式 III )所示之封端基異氰酸酯化合物的製造方法。 I化3】
• · · (III) (式中,W ’ R2,QI,Q2與上述式相同。) 〔2〕以一般式(ΙΠ )所示之封端基異氰酸酯化合物 (ΙΠ )使用作爲溶劑或分散媒爲其特徵之〔I〕記載的製 (6) 1308562 '造方法。 • 〔 3〕在該封端基異氰酸酯化合物(IΠ )中溶解或分 散的該吡唑系化合物(I )中,添加該含有乙烯性不飽和 基之異氰酸酯化合物(11 )爲其特徵之〔2〕記載的製造方 法。 〔4〕在該吡唑系化合物(丨)中添加,於該封端基異 氰酸酯化合物(III )中溶解或分散的含有乙烯性不飽和基 ® 之異氰酸酯化合物(11)爲其特徵之〔2〕記載的製造方法 〔5〕在該封端基異氰酸酯化合物(1Π )中溶解或分 散的該吡唑系化合物(I )中添加,於該封端基異氰酸酯 化合物(m)中溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰 酸醋化合物(II )爲其特徵之〔2〕記載的製造方法。
〔ό〕在該封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ )中溶解或分 散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II)中,添 加該卩比哩系化合物(I )爲其特徵之〔2〕記載的製造方法 〔7〕在該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(11 )中添加’於該封端基異氰酸酯化合物(III )中溶解或分 散的該吡唑系化合物(I )爲其特徵之〔2〕記載的製造方 法。 〔8〕在該封端基異氰酸酯化合物(III )中溶解或分 散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(Π )中添加 ’於該封端基異氰酸酯化合物(III )中溶解或分散的該啦 -10- (7) 1308562 '唑系化合物(I )爲其特徵之〔2〕記載的製造方法。 : 〔9〕將在該封端基異氰酸酯化合物(III )中溶解或 分散的該吡唑系化合物(I ),與在該封端基異氰酸酯化 合物(III )中溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸 酯化合物(II ),同時加入反應器內爲其特徵之〔2〕記載 ' 的製造方法。 〔10〕Q1及Q2爲碳數1〜5的烷基之如〔]〕〜〔9〕 Φ 項中任一項記載的製造方法。 〔11〕R2爲-COOR3-(R3爲碳數2〜6的烷撐基)之 如〔1〕〜〔1 0〕項中任一項記載的製造方法。 〔1 2〕在聚合抑制劑的存在下,使該吡唑系化合物( I)與該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II )反應 爲其特徵之如〔1〕〜〔1 1〕項中任一項記載的製造方法
〔1 3〕該聚合抑制劑,相對於封端基異氰酸酯化合物 (III)爲使用如10〜20000ppm的量爲其特徵之〔12〕記 載的製造方法。 〔14〕相對於該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合 物(II ),該吡唑系化合物(I )以0.5〜2 · 0倍的莫耳量 反應爲其特徵之如〔1〕〜〔13〕項中任一項記載的製造 方法。 〔15〕使未反應的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化 合物(Π )含有lOOOppm以下的量爲其特徵之以如該〔1 〕〜〔1 4〕項中任一項記載的製造方法所獲得的封端基異 -11 - (8) 1308562 氰酸酯化合物。 〔]6〕不含有未反應的吡唑系化合物(1 )或含有3 重量%以下的量爲其特徵之以如該〔1〕〜〔1 4〕項中任一 項記載的製造方法所獲得的封端基異氰酸醋化合物。 〔發明效果〕 依據本發明的製造方法,所得爲效率佳的封端基異氰 ® 酸酯化合物,同時幾乎不會有副產物的產生之故’可以獲 得高純度的該化合物。又,本發明的製造方法,不必要使 用如習知的甲苯或二甲苯等的惰性溶劑之故’對人體或環 境的安全性優異,同時製造步驟或製造設備可爲簡易。 藉由本發明所製造的封端基異氰酸酯化合物,不殘留 惰性溶劑,可以恰當使用於各種塗覆劑、黏接劑、成形材 料等廣泛的領域。
[實施發明之最佳型態] 關於本發明更詳細的說明如下。 本發明中關於一般式(III)所示之封端基異氰酸酯化 合物(III )的製造方法爲吡唑系化合物(I ),與含有乙 燦性不飽和基之異氰酸酯化合物(II)在ot〜90。(:的溫度 範圍內反應的方法。 -12- (9)1308562
...(III) (式中,R1、R2、Q1、Q2與下述式相同。) 依照此種製造方法,作爲原料之吡唑系化合物(I ) 的昇華難以發生,因不必使用過多的原料,所得爲效率佳 的封端基異氰酸酯化合物。又,幾乎不會產生副產物之故 ,可以獲得高純度的封端基異氰酸酯化合物。進而,因不 必使用惰性溶劑之故,對人體或環境的安全性優異同時, 製造步驟或製造設備可爲簡易。 本發明的製造方法中所使用的吡唑系化合物(I )以 一般式(I ) 【化5】 ...(I) 表不,式中Q1及Q2爲各自獨立,氫原子、碳數1〜6 的烷基、RCONH-或R〇CO-(R爲碳數1〜6的烷基),較 佳以碳數1〜5的烷基較理想。又,R以碳數1〜4的烷基 爲佳。 此種吡唑系化合物(I )方面,例如,可以使用無取 代吡唑、3,5-二甲基吡唑、3-乙醯基胺基吡唑、吡唑_3,5_ 二羧酸二乙酯等各種之物。該等中,取得容易,而且使用 -13- (10) 1308562 作爲硬化性樹脂時的硬化性或其他物性等方面,以3 , 5 -二 甲基吡唑爲特佳。本發明中所使用的吡唑系化合物(1 ) 可以藉由習知的方法製造。 本發明的製造方法中所使用的含有乙烯性不飽和基異 氰酸酯化合物(II)以一般式(Π) 【化6】
表示。式中,R1爲氫原子或甲基。R2爲,-CO-、 -COOR3- ( R3爲碳數2〜6的烷撐基),較佳爲_C〇〇r3_ ( R3與前述相同)較理想。 如此種的含有乙嫌性不飽和基之異氨酸醋化合物(11 )方面,可以例舉如2-異氰酸根合(isosyanat〇 )乙基( 甲基)丙烯酸酯、3 -異氰酸根合丙基(甲基)丙烯酸醋、 2 -異氰酸根合-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯,甲基丙烯醯 m 基異氰酸酯等。本發明中所使用的含有乙烯性不飽和基之 異氰酸酯化合物(11 )可以由習知的方法製造。 • 本發明的封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ )係以此種吡唑 • 系化合物(I),與含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合 物(π )在〇 °C〜9 0 °c的溫度範圍內反應而製造。該等化合 物的添加順序並無特別的限制,例如,藉由 (1 )在反應器中放入吡哩系化合物(I ),於攪拌下 添加含有乙細性不飽和基之異氰酸醋化合物(H),讓化 合物(I )及(Π )反應的方法, -14- (11) 1308562 (2 )在反應器中放入含有乙烯性不飽和基之異氰酸 酯化合物(11 ) ’在攪拌下添加吡唑系化合物(I ),讓化 合物(I )及(II )反應的方法’ (3 )在反應器中於攪拌下,同時添加吡唑系化合物 (I ),與含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(11 )兩 種,讓化合物(1 )及(π)反應的方法等可以製造封端基 異氰酸酯化合物(ΗI )。
吡唑系化合物(η與含有乙烯性不飽和基之異氰酸 酯化合物(π )的反應溫度依該化合物(I )及化合物(11 )的種類而不同,吡唑系化合物(I)以熔點以下爲佳, 通常爲0°c〜90°C,較佳爲5°c〜70°C,更佳以10°c〜60°c 較理想。此種溫度範圍下,所得爲效率佳的封端基異氰酸 酯化合物,同時因幾乎沒有副產物的產生之故,可以獲得 高純度的該化合物。亦即,反應溫度不足〇 °C時,反應速 度變慢,影響到生產性之故,無法獲得效率佳的封端基異 氰酸酯化合物,另一方面,反應溫度超過9CTC時,因吡唑 系化合物(I)昇華之故,無法獲得效率佳的封端基異氰 酸酯化合物,進而恐怕無法藉由乙烯性不飽和基的聚合來 凝膠化獲得高純度封端基異氰酸酯化合物(III )。此外, 反應溫度的上限較佳爲使吡唑系化合物(I)不能昇華的 範圍,可依照所使用的吡唑系化合物(I )的種類而適當 決定。此外,該反應溫度亦包含吡唑系化合物(I )及/或 含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II )以滴下等方 式添加時的反應溫度。 -15- (12) 1308562 反應通常係將吡唑系化合物(I )或含有乙烯性不飽 和基之異氰酸酯化合物(Π )進行到幾乎消耗完爲止。因 此’其反應時間並無特別的限制,通常在3 0分〜8小時左 - 右。吡唑系化合物(I )的消失可由例如以高速液體層析 • 術分析之結果’以該化合物(I )是否在檢測界限以下來 進行確認。另一方面,含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化 合物(Π )的消失’例如IR測定的結果,以根據N C Ο基 Φ 的吸收是否在檢測界線以下來進行確認。此外,該反應時 間亦包含,吡唑系化合物(I )及/或含有乙烯性不飽和基 之異氰酸酯化合物(Π)之滴下等之添加時間。 本發明的製造方法中’相對於含有乙烯性不飽和基之 異氰酸酯化合物(11 ),吡唑系化合物(I )爲0.5〜2.0 倍莫耳,較佳爲0.8〜1.5倍莫耳,更佳爲以使用ίο〜ι2 倍莫耳的量較理想。該等化合物的反應比率理論上爲1 : J (莫耳比),可以藉由添加如上述範圍的莫耳比,讓反應 圓滑地進行。本發明的封端基異氰酸酯化合物的製造方法 ’因爲在上述範圍的溫度下進行反應,原料毗唑系化合物 ' (Π難以產生昇華’沒有必要如習知使用太多的原料。 ' 因此’可以獲得效率佳的封端基異氰酸酯化合物,未 反應的原料化合物(I )、( II )幾乎不殘留。 又,反應系亦最好添加聚合抑制劑。聚合抑制劑係在 自由基聚合反應中因爲與來自單體所產生的自由基迅速反 應’爲了不讓因自由基而產生的聚合反應進行,可以使其 安定化。 -16- (13) 1308562 ** 聚合抑制劑方面,可以使用啡噻哄,對甲氧基苯酚, 2,6-二-三級丁基-4-甲基苯酚(BHT )等一般被使用之物。 聚合抑制劑的投入方法並無特別的限制,可以例舉如,與 . 吡唑系化合物(I )同時投入反應器內的方法,在含有乙 .' 烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II)中溶解,投入反應 器內的方法,添加吡唑系化合物(I)及含有乙烯性不飽 和基之異氰酸酯化合物(π)的兩者,各自投入反應器內 Φ 的方法,進而在反應完成後,投入產生的封端基異氰酸酯 化合物(III)的方法等。爲了讓含有乙烯性不飽和基之異 氰酸酯化合物(Π)彼此之間不聚合而製造封端基異氰酸 酯化合物(III ),在聚合抑制劑的存在下,讓吡唑系化合 物(I)與含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II)反 應爲佳。 聚合抑制劑的使用量依照吡唑系化合物(I)及含有 乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(Π)的種類而不同, 相對於藉由該化合物(I)與化合物(Π )的反應所得之封 端基異氰酸酯化合物(III),通常爲〗〇〜2 0000PPm,較 ' 佳爲50〜lOOOOppm,更佳爲以使用如100〜5000 ppm的量 - 較理想。此外,若聚合抑制劑使用不足1 Ορρηι的量時,於 製造封端基異氰酸酯化合物(III)之際,恐怕會有含有乙 烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II)的乙烯性不飽和基 之聚合的問題。又,若聚合抑制劑使用超過20000PPm的 量時,具有封端基異氰酸酯化合物(III)之,來自含有乙 烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(Π )的乙烯性不飽和基 -17- (14) 1308562 的反應性會有變差之傾向。 • 本發明的一般式(111)所示之封端基異氰酸酯化合物 (π I )可以以上述方式製造,使用該封端基異氰酸酯化合 ' 物(111)作爲溶劑或分散媒’進而以該介質調製封端基異 - 氰酸醋化合物(111 )亦較佳^ 使用封端基異氰酸酯化合物(III )作爲溶劑或分散媒 ’攪拌效率變佳’化合物(I)與化合物(n)的反應可以 Φ 圓滑地進行。進而反應溫度因爲變得較低,原料吡唑系化 合物(I )難以昇華’不必使用太多的原料也可讓反應完 成’所得爲效率佳的封端基異氰酸酯化合物。又,因爲幾 乎不會產生副產物,可以獲得高純度的封端基異氰酸酯化 合物。進而’沒有必要使用如習知的甲苯或二甲苯等的惰 性溶劑’對人體或環境的安全性優異,同時製造步驟或製 造設備爲簡易。 使用封端基異氰酸酯化合物(III )作爲溶劑或分散媒 ’該化合物(III)㈤製造方法方面,例如藉由 (1 )將封端基異氰酸醋化合物(π I )與卩比哩系化合 , 物(1)放入反應器內’分散或溶解該吡唑系化合物(I) - ’接著’於反應器內添加含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯 化合物(π),讓化合物(I )及(11 )反應的方法, (2 )將吡唑系化合物(I)放入反應器內’接著,在 反應器內添加於封端基異氰酸酯化合物(111 )中溶解或分 散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(11),讓化 合物(I)及(Π)反應的方法, -18- (15) 1308562 (3 )將封端基異氰酸酯化合物(i〗i ),與吡唑系化 合物(I)放入反應器內’讓該吡唑系化合物(I)溶解或 分散’接著,在反應器內添加於封端基異氰酸酯化合物( Π I )中溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合 物(II ),讓化合物(I )及(II )反應的方法,
(4 )將封端基異氰酸醋化合物(III ),與含有乙稀 性不飽和基之異氰酸酯化合物(11 )放入反應器內,溶解 或分散含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II ),接 著’在反應器內添加吡唑系化合物(I),讓化合物(I) 及(II)反應的方法, (5 )將含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(J J ) 放入反應器內’接著’在反應器內添加於封端基異氰酸酯 化合物(III )溶解或分散的吡唑系化合物(I),讓化合 物(I )及(π)反應的方法, (6)將封端基異氰酸酯化合物(111),與含有乙烯 性不飽和基之異氰酸酯化合物(π)放入反應器內,分散 或溶解該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(H), 接著’在反應器內添加於封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ)溶 解或分散的吡唑系化合物(I ),讓化合物(I )及(U ) 反應的方法, (7)將溶解或分散在封端基異氰酸酯化合物(Ιη) 中的該吡唑系化合物(I ),與分散或溶解在封端基異氰 酸酯化合物(III )中的含有乙烯性不飽和基之異氰酸醋化 合物(II )同時添加至反應器內,讓化合物(I)及(π ) -19- (16) 1308562 反應的方法等可以製造封端基異氰酸酯化合物(m)。 ' 藉由以此(1 )〜(7 )的方法製造,原料的流動性變 佳’即使在實際的生產規模也可以讓原料容易地運送,可 • 以使反應圓滑地進行。 • 該等中’以上述(])、(6 ) 、 ( 7 )記載的方法爲 特佳。 此外’使用封端基異氰酸酯化合物(In )作爲溶劑或 分散媒時’以使用與調製該化合物(III )時所使用者同樣 的吡唑系化合物(I )與含有乙烯性不飽和基之異氰酸醋 化合物(II)爲佳。 使用封端基異氰酸酯化合物(111 )作爲溶劑或分散媒 時’該化合物(111 )的使用量並無特別的限制,相對於啦 唑系化合物(I)爲0.01〜50倍莫耳,較佳爲0·01〜倍 莫耳’再更佳爲以使用0·01〜5倍莫耳的量較理想。使用 量若不足0.01倍莫耳,反應時不會有任何問題,但是無 法期待作爲溶劑或分散媒的效果,例如會考慮到反應速度 變慢。另一方面,若使用量超過50倍莫耳時,反應時不 ' 會有任何問題,但是有生產性降低的問題。 • 又’即使使用封端基異氰酸酯化合物(III )作爲溶劑 或分散媒的情形中,除了使用該化合物(III)作爲溶劑或 分散媒以外’與上述的製造方法在同一條件下進行反應。 藉由如上述本發明的製造方法,以本發明的一般式( -20- III) 1308562 (17) 【化7】
• · · (III) (式中,R】、R2、Q1 ' q2,與上述式相同。)所表示 的封端基異氰酸酯化合物(111 )爲其所得。
此外’本發明的封端基異氰酸酯化合物(III )中’可 含有少量未反應的原料等的不純物,亦可殘留後述的聚合 抑制劑。又’可以使用一般的方法將該等除去後再精製。 本發明封端基異氰酸酯化合物(III )的製造方法中’ 因爲在上述的溫度下進行反應,吡唑系化合物(I)幾乎 不昇華,反應可以圓滑地進行。因此,根據本發明,以不 含未反應的該吡唑系化合物(I )或3重量%以下的量或以 未反應的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II), 其含有量不超過lOOOppm以下,可以獲得高純度的封端基 異氰酸酯化合物(111 )。 • 又’本發明的封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ),因爲其 製造方法中不使用甲苯或二甲苯等的惰性溶劑,所以不會 有溶劑殘留。因此,封端基異氰酸酯化合物(Ιπ)可恰當 使用於作爲各種塗覆劑、黏接劑、成形材料的原料單體等 【實施方式】 -21 - (18) 1308562 [實施例] 以下例舉實施例及比較例,更詳細地說明本發明,本 發明並不限於該等的記載。此外,實施例所進行的測定方 法如下。 〈測定方法〉 •紅外線吸收光譜測定(以下爲IR光譜測定)
機器:日本分光公司製紅外分光光度計F T /1 R _ 8 0 0 0 分析方法:透過法(使用KBr板)
.高速液體層析術分析(1 )(以下爲L C分析(1 )) 柱:Shodex 二氧化矽 C18M 4E 檢測器:日本分光公司製875-UV UV220nm 溶離液:水/乙腈=65/35 幫浦:Shodex DS-4 流速:1 m 1 / m i η
積分器(integrate!·):島津公司製 C-R8A 爐:Shodex AO-5 0 4 5 °C 樣本調製:在1 量瓶取樣樣本約〇 . ;! g,在溶離 液計上(measuring up ) .高速液體層析術分析(2 )(以下爲lC分析(2 )) 柱:Shodex 二氧化砍 SIL 10B 檢測器:Shodex UV-4 1 UV254nm 溶離液:正己烷/乙酸乙酯= 7/3 幫浦:Shodex DS-4 -22- (19) 1308562 流速:〇 . 6 m 1 / m i η
積分器:島津公司製 C-R7Aplus 爐:Shodex AO-50 4 0 °C 樣本調製:在〗〇 m 1量瓶取樣樣本約0.1 g,在溶離 液計上 •氣體層析術分析(以下爲GC分析) 分析機器:HP公司製HP 6 8 5 0
柱:J & W 公司製 D B - 1 3 0 m X 0.3 2 m m X 1 μ m 柱溫度:70°C l.〇°C/min加溫至25(TC止保持18 分鐘 積分器:HP 3 3 9 6 射入(injection)溫度:2 5 0°C 偵測器(detector)溫度:3 00°C FID 檢測器:FID Η 2 4 0ml/min Air 400ml/min 攜帶氣體:He 30ml/min •核磁共振光譜測定(以下爲NMR測定) 機器:日本電子公司製JNM-400 溶劑:CDC13 (實施例1 ) 在備有攪拌機,溫度計,滴下漏斗,回流冷卻器之 1 0 0ml容量的四口燒瓶,在氮氛圍下,放入3,5-二甲基吡 口坐(日本hydrazine工業公司製,純度 99%,以下同) 19.81g(0.204莫耳),與BHT (東京化成工業公司製純 -23- 1308562 第94137933號專利申請案中文說明書替換頁 民國97年8月11日修正 (20) Ι97ΓΒ7Τ1 ~~' ; 年月日修正替換頁 度99°/〇’以下同)〇.2g(〇.84毫莫耳),一面攪拌,一面 以15 °C的水浴冷卻。接著,自滴下漏斗,將2_異氰酸根合 乙基甲基丙稀酸醋(昭和電工公司公司製,Karenz MOI,
以下同)31.03g(0.2莫耳)以90分鐘的時間滴下。藉由 滴下使內部溫度由1 5 °C變化至4 0 °C。滴下結束後,一面以 水浴進行溫度控制,一面在內部溫度3 0 °C到4 0 °C的溫度範 圍內持續攪拌1小時。自反應系內採取少量的樣本,進行 IR光譜測定的結果,根據NCO基2270(:111-1附近的吸收在 檢測界限以下,根據C = Ο基觀察到1 7 2 0〜1 7 5 0 c m ·1的吸 收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明液體產物 51 .lg。以1H-NMR測定,可以確認產生下式所示的封端基 異氰酸酯化合物。1H-NMR光譜如第1圖所示。LC分析( 1 )的結果,3,5-二甲基吡哇的含量爲0.76重量%。又,
GC分析的結果,BHT的含量爲4400ppm。 【化8】
在備有攪拌機,溫度計,滴下漏斗,回流冷卻器的 100ml容量的四口燒瓶內,放入以實施例1的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物17.〇9g(〇.〇68莫耳),與3,5-二 甲基吡唑I9.81g( 0.204莫耳),與BHT0.2g(0.84毫莫 -24- (21) 1308562 耳),在室溫下攪拌1小時。接著,以9 0分鐘的時間自 *' 漏斗滴下2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯3丨.03g ( 0.2莫 耳)。藉由滴下內部的溫度由2 5 °C變化至4 (TC。滴下完成 - 後’一面以水浴進行溫度控制,一面在內部溫度30°C至 的溫度範圍持續攪拌]小時。自反應系內採取少量的 樣本,進行IR光譜測定的結果,根據NCO基22 70cm·1附 近的吸收在檢測界限以下,根據C = 0基觀察到1 720〜 % 1 7 5 0(^1」的吸收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色 透明的液體產物67.9g。以】H-NMR測定,可以確認生成 與實施例]一樣的封端基異氰酸酯化合物。LC分析(]) 的結果’ 3,5-二甲基吡唑的含量爲0.76重量%。又,GC 分析的結果BHT的含量爲4400ppm。 (實施例3 ) 在1 00ml容量的燒瓶內,放入以實施例1的方法合成 9Φ 的封端基異氰酸酯化合物17.09g( 0.068莫耳),與2 -異 氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯31.03g(0.2莫耳),在室溫 - 下攪拌1小時調製溶液A。在備有攪拌器,溫度計,滴下 - 漏斗,回流冷卻器的l〇〇ml容量的四口燒瓶內,放入3,5_ 24 二甲基吡唑 19.81g ( 0.204 莫耳)及 BHT0.2g ( 0.84 毫 莫耳)’攪拌下’在室溫以90分鐘的時間自漏斗滴下溶 液A。藉由滴下觀察內部溫度的上昇。內部溫度由2 5。(:變 化至4 0 °C。滴下完成後’以水浴進行溫度控制,內部溫度 在3 0 °C到4 〇 °C的溫度範圍內持續攪拌1小時。自反應系內 -25- (22) 1308562 採取少量的樣本,進行1R光譜測定。
測定的結果,根據N C 0基2 2 7 0 c ηΓ 1附近的吸收在檢 測界限以下,根據C = 0基觀察到1 72 0〜1 75 0cm·1的吸收 而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物 6 8.0g。以1H-N MR測定,可以確認產生與實施例1 一樣的 封端基異氰酸酯化合物。LC分析(1 )的結果’ 3,5-二甲 基吡唑的含量爲〇 · 7 6重量%。又,G C分析的結果Β Η T的 含量爲4400ppm。 (實施例4 ) 在1 L容量的燒瓶內,放入以實施例】的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物768.97g ( 3.06莫耳),與2-異氰 酸根合乙基甲基丙烯酸酯31.03g(0.2莫耳),在室溫下 攪拌1小時調製溶液A。在備有攪拌器,溫度計,滴下漏 斗’回流冷卻器的2000ml的四口燒瓶內,放入以實施例 1的方法合成的封端基異氰酸酯化合物768.97g(3.06莫 耳),與 3,5 -二甲基吡唑 19.81g( 0.204 莫耳),與 - BHTO.2g(0.84毫莫耳),在室溫下攪拌1小時。接著, - 以3小時的時間自漏斗滴下溶液A。內部溫度由2 5。(:變化 至4 01。滴下完成後,以水浴進行溫度控制,內部溫度在 3 〇°C到40°C的溫度範圍內持續攪拌1小時。自反應系內採 取少量的樣本’進行IR光譜測定。測定的結果,根據 NCO基22 70cm·1附近的吸收在檢測界限以下,根據c = 〇 基觀察到1720〜1750cm·1的吸收而完成反應。冷卻至室 -26- (23) 1308562 溫止,獲得淡黃色透明的液體產物1588.5g。以1H-NMR 測定,可以確認產生與實施例1 一樣的封端基異氰酸酯化 合物。LC分析(1 )的結果,3,5-二甲基吡唑的含量爲 0.76重量%。又,GC分析的結果BHT的含量爲4400ppm (實施例5) 在備有攪拌器、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 ]00ml容量的四口燒瓶內,放入以實施例1的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物17.〇9g(0.068莫耳),與2 -異氰 酸根合乙基甲基丙烯酸酯 31.03g(0.2莫耳),與 BHT0.2g(0.84毫莫耳),在室溫下攪拌1小時。接著, 將3,5 -二甲基吡唑1 9.8 1 g ( 0 · 2 0 4莫耳)以9 0分鐘的時間 逐次少量的投入燒瓶內。由3,5-二甲基啦唑的投入觀察到 內部溫度的上昇。內部溫度由25 °C變化至40Ϊ。滴下完成 後’以水浴進行溫度控制,內部溫度在3 0 °C到4 0 t:的溫度 範圍內持續攪拌1小時。自反應系內採取少量的樣本,進 • 行IR光譜測定。測定的結果,根據NCO基227〇Cm_]附近 ' 的吸收在檢測界限以下,根據C = 0基觀察到1 7 2 0〜 1 75 0cm」的吸收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色 透明的液體產物6 7.9 g 。以1 Η - N M R測定,可以確認產生 與實施例1 一樣的封端基異氰酸酯化合物。LC分析(1 ) 的結果’ 3,5-二甲基吡唑的含量爲0.76重量%。又,GC 分析的結果ΒΗΤ的含量爲4400ppm。 -27- (24) 1308562 (實施例6)
在備有攪拌機、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 100 ml容量四口燒瓶內,放入2_異氰酸根合乙基甲基丙稀 酸酯3 1 · 〇 3 g ( 0 · 2莫耳)及B H TO . 3 g ’ 一面以5 0 的水浴 加溫,一面攪拌〗小時。接著,以別的容器’將以實施例 1的方法合成的封端基異氰酸酯化合物2 5 6.3 2 g ( 1 .02莫 耳),與3,5 -二甲基吡唑1 9.8 1 g ( 〇 · 2 0 4莫耳)在室溫下 攪拌1小時調製漿液,將該漿液使用柱塞幫浦(P丨unser Pump )以〗20分鐘的時間投入燒瓶內。藉由投入內部的溫 度從5 0 t變化到6 (TC。投入完成後,一面以水浴進行溫度 控制,一面在內部溫度50T:到55t的溫度範圍內繼續攪拌 1小時。自反應系內採取少量的樣本,進行IR光譜測定的 結果,根據NCO基2270cm·1附近的吸收在檢測界限以下 ’根據C = 0基觀察到1 720〜1 750cm·1的吸收而完成反應 。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物3 07.3 g 。 以1 H-NMR測定,可以確認產生與實施例1 一樣的封端基 異氰酸酯化合物。LC分析(1)的結果,3,5 -二甲基卩比口坐 的含量爲0.76重量%。又,GC分析的結果BHT的含量爲 4 4 0 0 p p m 〇 (實施例7) 在1 L容量的燒瓶內,將以實施例1的方法合成自勺& 端基異氰酸酯化合物768.97g(3.06莫耳),與3,5_二甲 -28- (25) 1308562 « - 基吡唑〗9.81§ ( 0.204莫耳),在室溫下攪拌]小時,調 • 製漿液溶液A。在備有攪拌器,溫度計,滴下漏斗,回流 冷卻器的2000ml的四口燒瓶內,放入以實施例}的方法 • 合成的封端基異氰酸酯化合物7 6 8 · 9 7 g ( 3.0 6莫耳),與 • 2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯3] .03g ( 0.2莫耳),與 BHT 0.2g ( 0.84毫莫耳),在室溫下攪拌1小時。接著, 將使用柱塞幫浦的漿液溶液A以3小時的時間投入四口燒 ^ 瓶內。內部溫度由25&C變化至40t。滴下完成後,以水浴 進行溫度控制,在內部溫度3 0 °C到4 0 °C的溫度範圍內繼續 1小時的攪拌。自反應系內採取少量的樣本,進行IR光譜 測定。測定的結果,根據NCO基2270CHT1附近的吸收在 檢測界限以下,根據C = Ο基觀察到1 7 2 0〜1 7 5 0 c ηΓ 1的吸 收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產 物1 5 88.5 g 。以1H-NMR測定,可以確認產生與實施例1 一樣的封端基異氰酸酯化合物。LC分析(1 )的結果, 3,5_二甲基吡唑的含量爲0.76重量%。又,GC分析的結 果BHT的含量爲4400ppm。 ' (實施例8 ) 在1L容量的燒瓶內,放入以實施例1的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物768.97g(3.06莫耳)’與3,5-二 甲基吡唑19.81g ( 0.204莫耳),在室溫下攪拌1小時, 調製獎液液A。在其他1 L容量的燒瓶內’放入以實施例1 的方法合成的封端基異氰酸酯化合物76 8.94g ( 3.06莫耳 -29- (26) 1308562 - )’與2·異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯31 _03g ( 0.2莫耳 ),在室溫下攪拌1小時,調製溶液B。在備有攪拌機, 溫度計’滴下漏斗,回流冷卻器的2〇〇〇ΙΏ1容量的四口燒 瓶內’放入BHT 0.2g(0.84耄莫耳)。擅泮下,在室溫 將駿液溶液A與溶液B以3小時的時間同時滴下四口燒瓶 內。藉由滴下內部的溫度由2 5 t變化至3 0 ΐ。滴入完成後 ’一面以水浴進行溫度控制’—面在內部溫度3 〇 t到4 〇乞 ^ 的溫度範圍內繼續1小時的攪拌。自反應系內採取少量的 樣本’進行IR光譜測定的結果,根據N C Ο基2 2 7 0 c ηΓ 1附 近的吸收在檢測界限以下,根據C = Ο基觀察到1 7 2 0〜 】7 5 0 c m」的吸收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色 透明的液體產物1 5 8 8 _ 5 g 。以1 Η -N M R測定,可以確認產 生與實施例1 一樣的封端基異氰酸酯化合物。LC分析(1 )的結果,3,5 -二甲基吡唑的含量爲0.76重量%。又,GC 分析的結果ΒΗΤ的含量爲4400ppm。
(實施例9) 在備有攪拌機、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 100ml容量的四口燒瓶內,在氮氛圍下,放入3,5_二甲基 吡唑 29.13g(0.300 莫耳)及 BHT 0_6g(2.54 毫莫耳), 一面攪拌一面以1 5 °C的水浴冷卻。接著,以9 0分鐘的時 間自滴下漏斗將2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯3 1 .03 g ( 0.2莫耳)滴下。藉由滴下內部的溫度由15t變化至40 °C 。滴下完成後,一面以水浴進行溫度控制,一面在內部溫 -30- (27) !3〇8562 度30 t到40°C的溫度範圍內繼續1小時的攪拌。自反應系 內採取少量的樣本’進行IR光譜測定的結果’根據N C Ο 基2 2 7 0 c ιτΓ 1附近的吸收在檢測界限以下’根據C = 〇基觀 齊到1 7 2 0〜1 7 5 〇 c ηΤ 1的吸收而完成反應。冷卻至室溫止 ,獲得淡黃色透明的液體產物5 1 · 1 g。以1 Η - N M R測定, 句·以確認產生與實施例〗一樣的封端基異氰酸醋化合物。
L C分析(1 )的結果’ 3 , 5 ·二甲基吡哩的含量爲1 5 . 8重量 〇/。。又,G C分析的結果Β Η Τ的含量爲1 0 3 5 0 p p m。 (實施例I 〇 ) 在備有攪拌機、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 1 000ml容量四口燒瓶內,放入以實施例1的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物753.848(3.00莫耳),與3,5-二 甲基吡唑29.13g(0.300莫耳),與BHT 〇.6g(2.54毫莫 耳),一面以水浴調整內部溫度使成爲8 0 °C,一面攪拌1 __ 小時。接著,以90分鐘的時間自滴入漏斗將2-異氰酸根 合乙基甲基丙烯酸酯31.03g(0.2莫耳)滴下。藉由滴入 - 內部的溫度由8 0 °C變化至8 3 °C。滴下完成後,一面以水浴 . 進行溫度控制,一面在內部溫度3(TC到40°C的溫度範圍內 繼續攪拌1小時。自反應系內採取少量的樣本,進行IR 光譜測定的結果,根據NCO基2270cm·1附近的吸收在檢 測界限以下,根據C = 0基觀察到1 720〜1 7 5 0cm_I的吸收 而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物 814.6g 。以1H-NMR測定,可以確認產生與實施例1 一 -31 - (28) (28)
1308562 樣的封端基異氰酸酯化合物。L C分析(I )的結果,3 , 5 -二甲基卩比B坐的含量爲1 5 · 8重量%。又,g C分析的結果 BHT的含量爲]〇350ppm。 (實施例1 1 ) 在備有攪拌機、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 100m丨容量的四口燒瓶內’在氮氛圍下,放入3,5_二甲基 啦〇坐19.8]g(〇.2〇4莫耳)及對·甲氧基苯酚〇 〇〇5g(〇 〇4 毫莫耳)5 —面攪拌一面以丨5 °c的水浴冷卻。接著,以 90为鐘的時間自滴下漏斗將2_異氰酸根合乙基丙烯酸酯 28’23g(0.2莫耳)滴下。藉由滴入內部的溫度由 ^它變 化至40°C。滴下完成後’—面以水浴進行溫度控制,一面 在內部溫度3 0 t:到4 01的溫度範圍內繼續攪拌1小時。自 反應系內採取少量的樣本,進行】R光譜測定的結果,根 據NCO基2270cm_i附近的吸收在檢測界限以下,根據 C = 〇基觀察到〗72〇〜175〇cnri的吸收而完成反應。冷卻 至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物4 8 · 0 g 。以1 Η -NMR測定,可以確認產生如下式所示的封端基異氰酸酯化 合物。L C分析(1 )的結果,3,5 _二甲基吡唑的含量爲 0.78重量%。又,GC分析的結果對甲氧基苯酚的含量爲 1 0 0 p p m。 -32- 1308562
(實施例1 2 )
在備有攪拌機、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 100ml容量的四口燒瓶內’在氮氛圍下’放入以實施例11 合成的封端基異氰酸酯化合物l6.13g ’與3,5·二甲基吡唑 19.81g(〇.2 04莫耳),與對-甲氧基苯酚〇.〇〇5g(0.04毫 莫耳),一面擾拌一面以1 5 °C的水浴冷卻。
預先調製2 -異氰酸根合乙基丙烯酸酯28_23g(0.2莫 耳),與對甲氧基苯酚〇.〇〇5g(0_04毫莫耳)混合的溶液 ,將該溶液以9 0分鐘的時間自滴下漏斗滴下。藉由滴下 內部的溫度由1 5°C變化至40 °C。滴下完成後,一面以水浴 進行溫度控制,一面在內部溫度3 0 °C到4 0°C的溫度範圍內 繼續攪拌1小時拌。自反應系內採取少量的樣本,進行 光譜測定的結果,根據NCO基2270cm·1附近的吸收在檢 測界限以下,根據C = 0基因觀察到172〇〜1 75 0cm·1的吸 收而完成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產 物6 1.1 g 。以1H-NMR測定,可以確認產生與實施例1 1 一樣的封端基異氰酸酯化合物、LC分析(1 )的結果’ 3,5 -二甲基吡唑的含量爲0.79重量%。又,GC分析的結 果4 -甲氧基苯酣的含量爲l〇〇〇ppm。 -33- (30) 1308562 - (實施例1 3 ) 除了使用甲基丙烯醯基異氰酸酯22.22g ( 0.2莫耳) 取代2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯之外,其他與實施例 1同樣反應,根據NCO基2270CITT1附近的吸收在檢測界 限以下,根據C = 0基觀察到]720〜1 750cm·1的吸收而完 成反應。冷卻至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物 4 2.0g。以1H-NMR測定,可以確認產生如下式所示的封端 基異氰酸酯化合物。L C分析(1 )的結果,3,5 -二甲基吡 唑的含量爲0.92重量%。又,GC分析的結果,BHT的含 量爲 5000ppm〇
(實施例1 4 ) 除了使用吡唑-3,5-二羧酸二乙酯43.3g ( 0.202莫耳) 以取代3,5-二甲基吡唑之外’其他與實施例1同樣反應, 根據NCO基2 2 70cm.1附近的吸收在檢測界限以下,根據 c = 0基觀察到1 7 2 0〜1 7 5 0 c m ·1的吸收而完成反應。冷卻 至室溫止,獲得淡黃色透明的液體產物7 4.3 g 。以1 Η . NMR測定’可以確認產生如下式所示的封端基異氰酸醋化 合物。LC分析(1 )的結果, -34-
1308562 吡唑-3,5-二羧酸二乙酯的含量爲〇· 57重量%。又, GC分析的結果BHT的含量1 300〇ppm。 【化1 1】
(實施例1 5 ) 在備有攪拌器、溫度計、滴下漏斗、回流冷卻器的 100ml容量的四口燒瓶內,放入以實施例1的方法合成的 封端基異氰酸酯化合物16.75g(0.067莫耳),與3,5_二 甲基吡唑19.42g(0.200莫耳),與BHT 0.2g(0.84毫莫 耳)’在室溫下1攪拌小時。接著,自滴下漏斗以9 0分 鐘的時間將2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯31.03g(0.2 | 莫耳)滴下燒瓶內。藉由滴下觀察到內部溫度的上昇。內 部溫度由25C變化至40C。滴入完成後,以水浴進行溫度 控制,在內部溫度爲3 0 °C到4 0 °C的溫度範圍內,繼續攪拌 1小時。自反應系內採取少量的樣本,進行LC分析(1 ) 。分析的結果,因3,5-二甲基吡唑在檢測界線以下之故, 完成了反應’冷卻至室溫止。又,進行IR光譜測定的結 果’根據NCO基2270cm·1附近的吸收被些微檢測到,根 據C = 0基1720〜1750 cm·1的吸收被觀察到。在室溫下獲 得淡黃色透明的液體產物6 7.9 g。以1 Η - N M R測定,可以
確認產生與實施例1 一樣的封端基異氰酸酯化合物。L C -35- (32) (32)1308562
分析(2 )的結果,2-異氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯的含 量爲900ppm。又,GC分析的結果BHT的含量4440ppm。 【圖式簡單說明】 [第1圖]第1圖表示,以實施例1所得封端基異氰酸 酯化合物的1H-NMR光譜。 -36-

Claims (1)

  1. 曰修正本 十、申請專利範圍 第94137933號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國98年1月7日修正 1 ·—種一般式(III
    .(III) (式中,R1、R2、Q1、Q2與下述式相同) 所示封端基異氰酸酯化合物的製造方法,其特徵爲 將一般式(I )
    Η” Q2 • . · (I) 〔式中’Q1及Q2爲各自獨立’表示氫原子、碳數1 〜6的烷基、RCONH-或ROCO- ( R-爲碳數1〜6的烷基) 〕所示之吡唑系化合物(I ),與 一般式(II )
    ...(II) 〔式中’ R1爲氫原子或甲基’ R2爲- CO-,-CO〇R3-( R3爲碳數2〜6的烷撐基)〕所示含乙烯性不飽和基異氰 酸酯化合物(II ),使用一般式(111 )所示之封端基異氰 1308562 酸醋化合物(111 )作爲溶劑或分散媒者’在〇 〜9 0 °C的 溫度範圍內反應者。 2.如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在該 封端基異氰酸酯化合物(III)中溶解或分散的該吡π坐系化 合物(I)中添加’該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化 合物(11 )者。 3 .如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在 該吡唑系化合物(I )中添加,於該封端基異氰酸酯化合 物(111 )中溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯 化合物(Π)者。 4.如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在該 封端基異氰酸酯化合物(III )中溶解或分散的該吡唑系化 合物(I )中添加,於該封端基異氰酸酯化合物(111 )中 溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II )者。 5 .如申請專利範圍第1項記載製造方法,其爲在該封 端基異氰酸酯化合物(ΙΠ )中溶解或分散的含有乙烯性不 飽和基之異氰酸酯化合物(II )中添加’該吡唑系化合物 (I )者。 6. 如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在該 含有乙烯性不飽和基之異氰酸醋化合物(11 )中添加,於 該封端基異氰酸酯化合物(111 )中 '溶Μ或分散的該吡唑系 化合物(I )者。 7. 如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在 -2- 1308562 該封端基異氰酸酯化合物(III)中溶解或分散的含有乙烯 性不飽和基之異氰酸酯化合物(11)中添加’於該封端基 異氰酸酯化合物(111 )中溶解或分散的該吡唑系化合物( η者。 8.如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲將 在該封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ)中溶解或分散的該吡唑 系化合物(I ),與在該封端基異氰酸酯化合物(ΙΠ )中 溶解或分散的含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II ),同時加入反應器內者。 9 ·如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其中Q 1 及Q2爲碳數1〜5的烷基。 1 〇 ·如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其中R2 爲-COOR3-(R3爲碳數2〜6的烷撐基)。 1 1 _如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其爲在 聚合抑制劑的存在下,使該吡唑系化合物(I )與該含有 乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(II )反應者。 1 2.如申請專利範圍第1 1項記載的製造方法,其爲使 用該聚合抑制劑’相對於封端基異氰酸酯化合物(m)爲 10〜20000ppm的量者。 1 3 ·如申請專利範圍第1項記載的製造方法,其中相 對於該含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物(π ),該 口比哩系化合物(Ϊ)爲以0_5〜2.0倍莫耳的量反應者。
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