TWI288306B - Lithographic apparatus and method for manufacturing a lithographic device - Google Patents

Description

1288306 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置、一種線性馬達及一種元件 製造方法。 【先前技術】 被衫裝置為一將所要之圖案應用於一基板之一目標部分 上的機器。微影裝置可用於（例如）製造積體電路（IC)。在彼 情況下，諸如光罩之圖案化構件可用於產生一對應於1(：之 一個別層的電路圖案，且此圖案可成像於一具有一輻射敏 感材料（抗餘劑）層之基板（例如矽晶圓）上的一目標部分（例 如，包含部分、一或多個晶粒）上。一般而言，單一基板將 含有被相繼曝光的相鄰目標部分之一網路。已知之微影裝 置包括··所謂的步進器，其中藉由將整個圖案一次曝光於 目標部分上來照射每一目標部分；及所謂的掃描器，其中 藉由在一給定方向（”掃描方向，，）上將該圖案掃描穿過投影 光束同％平行或反平行於此方向同步掃描基板來照射每一 目標部分。 pct專利申請案第W099/34257號揭示了一種用於在一水 平（XY)平面中相對於該裝置之其它部分來傳送基板的傳送 機構。該傳送機構包含三個馬達，其中兩個用於在第一方 向（Y方向）上進行傳送且_個用於在第二方向（X方向）上進 订傳运°母-馬達均包含_橫桿及_滑桿。該橫桿充當線 馬達之疋子部分。在該橫桿之任一側上，滑桿已被附著 至線r生馬達之傳迗機部分。意即，滑桿至少部分地包圍橫 96750.doc 1288306 例包括光罩、可程式化鏡面陣列及可程式化LCD面板。光 罩已在微影領域中為吾人所熟知，且其包括諸如二進位 型、交互相移型及衰減相移型的光罩類型，以及各種混合 的光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之一 矩陣配置，每一小鏡面可單獨傾斜以便在不同方向上反射 入射光束，以此方式，可圖案化反射光束。在圖案化構件 之每一實例中，支撐結構可為一框架或台，舉例而言，其 可視需要固定或可移動且其可確保該圖案化構件（例如）相 對於該投影系統處於一所要位置處。本文對術語"主光罩" 或π光罩π的任何使用應被認為與更為一般之術語”圖案化 構件"同義。 本文所用之術語”投影系統"應廣泛地解釋為涵蓋各種類 型之投景^系統，包括如適合（例如）用於所用之曝光輻射或用 於諸如使用浸沒流體或使用真空之其它因素的折射光學系 統、反射光學系統、及反射折射混合光學系統。本文對術 語"透鏡’’的任何使用可被認為與更加一般之術語"投影系 統”同義。 該照明系統亦可涵蓋各種類型之光學組件，包括用於引 導、成形或控制輻射之投影光束的折射、反射及折射反射 混合光學組件，且下文中亦可將此等組件共同或個別地稱 為”透鏡"。 該微影裝置可為具有兩個（雙平臺）或兩個以上基板台（及 /或兩個或兩個以上光罩台）之類型。在此等，，多平臺，，機器 中，額外平臺可並行使用，或可在—或多㈣臺上執行準備 96750.doc -10- 1288306 步驟’而將一或多個其它台用於曝光。 該微影裝置亦可為以下類型：其中基板被浸沒於一具有 相對較高折射率之液體中（例如，水）以便填充該投影系統之 最終零件與基板之間的空間。浸沒液體亦可應用於投影裝 置中的其它空間，例如，應用於光罩與投影系統之第一零 件之間。在此浸沒技術在增加投影系統之數值孔徑的技術 中已為吾人所熟知。 【實施方式】 圖1示意性地描繪了根據本發明之一特定實施例的微影 裝置。該裝置包含： -一用以提供輻射（如UV輻射）之一投影光束PB的照明系 統（照明器）IL ; -第一支撐結構（如光罩台）MT，其用於支撐圖案化構件 (如光罩）MA並連接至可相對於物件PL精確定位該圖案化 構件的第一定位構件PM ; -一基板台（如晶圓臺）WT，其用於固持一基板（如塗覆有 抗蝕劑之晶圓）W並連接至可相對於物件PL精確定位該基 板的第二定位構件PW;及 -一投影系統（如折射投影透鏡）PL，其用於將由圖案化構 件MA賦予投影光束PB的圖案成像至基板w之目標部分 C(如包含一或多個晶粒）上。 如本文所描繪，該裝置為透射型（如使用一透射型光罩）。 或者，該裝置可為反射型（例如使用如上文所提及之類型的 可程式化鏡面陣列）。 96750.doc 11 1288306 該照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。該韓射源與該微 影裝置可為分離之實體，例如當該輻射源為一準分子雷射 器時。在該等情況下，認為該輻射源並不形成微影裝置之 一部分且該輻射光束借助於一包含（例如）適當導引鏡面及/ 或射束放大益之光束傳遞糸統B D自輕射源§ 〇傳遞至照明 器IL。在其它情況下，該輻射源可為裝置的完整部分，例 如當該輻射源為一汞燈時。輻射源SO及照明器化連同光束 傳遞系統BD(若需要）可被稱為輻射系統。 照明器IL可包含用以调整光束之角強度分佈的調整構件 AM。通常，可對該照明器瞳孔平面内的強度分佈之至少外 部及/或内部徑向範圍（一般分別稱為CJ·外部及σ_内部）進行 調整。此外，該照明器IL通常包含各種其它組件，諸如積 光器IN及聚光器C0。該照明器提供輻射之調節光束，稱其 為投影光束PB ’在其檢截面中具有所要之均勻度及強度分 佈。 該投影光束PB入射於被固持在光罩台Μτ上的光罩MA。 在與光罩MA相交後，該投影光束PB穿過透鏡Pl，該透鏡 PL·將光束^^焦至基板W之目標部分c上。借助於第二定位構 件PW及位置感應器IF(如干涉量測元件），可精確移動基板 台WT，（例如）以便在光束PB之路徑中定位不同目標部分 C。類似地，例如，在自一光罩庫中機械地擷取光罩後，或 在掃描期間可使用第一定位構件PM及另一位置感應器（其 在圖1中未明確描述）以相對於光束PB之路徑來精確定位光 罩MA。大體而言，將借助於一長衝程模組（粗定位）及一短 96750.doc -12· 1288306 衝程杈組（精細定位）來實現目標台MT及WT之移動，該等模 組形成了定位構件PM及PW之一部分。然而，在一步進器（與 掃描器相對）之情形中，可將光罩台MT僅連接至一短衝程 致動器，或將其固定。可使用光罩對準標記Ml、M2及基板 對準標記PI、p2來對準光罩MA及基板W。 可在以下較佳模式中使用所描繪之裝置： 1·在步進模式中，光罩台“丁及基板台WT保持基本上固 疋同時將賦予投影光束之整個圖案一次性（即單一靜態曝 光）投影至一目標部分C上。隨後在X轴及/或Y轴方向上移位 基板台WT使得可曝光不同目標部分c。在步進模式中，曝 光場之最大尺寸限定了單一靜態曝光所成像的目標部分C 之尺寸。 2·在掃描模式中，同步掃描光罩台MT及基板台WT，同時 將賦予投影光束之圖案投影至目標部分c(即單一動態曝 光）上。基板台WT相對於光罩台Μτ之速度及方向由該投影 系統PL的放大率（縮小率）及影像倒轉特徵決定。在掃描模 式中，曝光場之最大尺寸限定了單一動態曝光的目標部分 之寬度（在非掃描方向上），而掃描動作之長度則決定了目標 部分之高度（在掃描方向上）。 3·在另一模式中，固持一可程式化圖案化構件的光罩台 MT保持基本上固定，且當將賦予投影光束之圖案投影至一 目標部分c上時移動或掃描基板台WT。在此模式中，通常 使用一脈衝輻射源並在基板台WT每次移動之後或在掃描 期間的連續輻射脈衝之間根據需要更新該可程式化圖案化 96750.doc -13 - 1288306 構件。此運行模式可不難應用於無光罩微影中，該微影使 用可程式化圖案化構件’諸如上文所提及之類型的可程式 化鏡面陣列。 亦可使用上文所描述之有用模式的組合及/或變更或使 用有用之完全不同的模式。 圖2展示了一傳送結構之一實例的俯視圖，該傳送結構可 用作用以定位基板（類似之定位構件可用於光罩）之定位構 件17亥傳送結構包含具有橫桿20、22a、22b的三個線性馬 達其中一個具有橫桿20之線性馬達係用於在第一（X-)方 向上進行傳送，且兩個具有橫桿22a、221)之線性馬達係用 於在第二（γ-)方向上進行傳送。圖中在用於在Y-方向上進行 傳送的橫桿22a、22b上繪示了習知滑桿24a、24b ,其在橫 桿22a、22b及滑桿24a、24b上之（電）磁體影響下沿橫桿22a、 22b移動。用於在χ·方向上進行傳送之橫桿⑼為中空結構。 提供了滑桿26，其包含可將滑桿26支撑於橫桿2〇上並幾乎 完全被包含於橫桿2G之内部部分中的—部分（以虛線表示）。 圖3展示了橫桿20及滑桿26在“平面仏方㈣直於繪 製圖2之平面)即與移動方向垂直之平面中的橫截面。滑桿 26包含於橫桿20之内部部分中的部分包括··用於支樓滑桿 26以使其靠著橫桿2G之垂直内壁31(内壁3ι之表平面在γ及 Z方向上延伸）的若干個第一氣動軸承3〇(展示了一個）；及用 以支撐滑桿26以使其靠著橫桿2〇之水平内壁叫内壁33之 表平面在X及γ方向上延伸）的若 产 T 右干個第一氣動轴承32。該等 第-氣動軸承30中的每一個藉由若干個第一球接合細 96750.doc -14- 1288306 展示了 一個）而被附著至滑桿26之本體部分34。類似地，第 一氣動軸承32藉由球接合件36而被附著至本體部分34。滑 桿26之延長部分37自本體部分34延伸穿過橫桿2〇之垂直側 壁中的狹槽38。將用於沿橫桿移動滑桿26之馬達的轉譯器 部分39附著至延長部分37，該延長部分37亦包含用於基板 W之支撐表面370。 圖4展示了橫桿20及滑桿26在又彳平面中的橫截面。如所 見，提供了兩個氣動軸承30使其靠著壁31。向馬達供應電 流或供應用於氣動軸承30、32之連接的電纜未在圖中展 示，可將其安置於橫桿20之内部或外部。較佳地，將此等 零件設置於橫桿20之内部空間中，使得橫桿2〇充當一輻射 防護罩以屏蔽來自此等零件的輻射。 在運作中，一般藉由氣動軸承30、32之表面中面向橫桿 20之内壁31、33的開口（未圖示）將氣體供應至氣動軸承3〇、 32與壁31、33之間的空間中。藉由此等μ中氣體之壓力 來可滑動地支撐滑桿26以使其靠著橫桿2〇的内部。僅當氣 動軸承30、32的表面與該壁之相對表面31、33之間的距離 在一預定乾圍内（一般在5-30微米範圍内）時，氣動軸承3〇、 32才能工作良好。若該距離過小則會發生黏著，若該距離 過大則會有過多氣動溢出。 轉譯器部分39以一熟知方式運作以沿橫桿2〇移動滑桿 26。為此目的，轉譯器部分39產生可與橫桿2〇相互作用之 磁場。較佳地，在面向轉譯器部分39之表面上提供了附著 至橫桿20的一列永恆磁體49(未按比例繪製）。或者，可將該 96750.doc •15- 1288306 等磁體整合於該表面中。在一實施例中，在狹槽38任一側 上的松桿20上提供若干列磁體。較佳地，橫桿2〇或至少橫 桿之附著有永恆磁體（或其中整合有永恆磁體）之部分為可 磁化材料（諸如鐵）以引導被附著之永恆磁體之間的磁通量。 除了沿橫桿20移動滑桿26之外，由轉譯器部分39產生之 磁場亦導致作用於轉譯器39上的拉力，其將轉譯器39拉向 橫桿20。此力迫使第一氣動軸承3〇朝向壁31，從而提供一 預張力，其可在氣動軸承30的功能運作範圍内保持第一氣 動軸承30與壁3 1之間的距離。應認識到：即使將轉譯器39 置於橫桿20内，仍可藉由其它構件來提供此預張力，例如 藉由提供額外氣動軸承來支撐滑桿26以使其靠著面向垂直 壁的橫桿20之内壁。然而，使用轉譯器39來實現該預張力 具有涉及不大嚴重的製造公差之優點。 此構造之一重要優勢在於··橫桿2〇之輪廓延伸至該傳送 結構可用空間之界限，與滑桿26被支撐於橫桿2〇外部上的 構造相比要遠得多。此使得有可能實現一具有高硬度之橫 桿，而此又允許使用高加速度。除了延長部分37所需之狹 槽38外，較佳地，支撐地靠著橫桿2〇的滑桿％之本體部分 34可幾乎被完全包圍。然而，在未偏離本發明情況下，橫 桿20可更加敞開，只要具有滑桿26可支撐地靠著其的壁 3 1、33的内凹部分出現。為實現一最佳硬度，橫桿2〇可由 陶曼材料構造而成，但由於其較大之延伸，其它硬度較小 的材料（諸如鋼）已經提供了一良好解決方案。滑桿26較小之 延伸亦減少了該滑桿的質量，此係有利的，因為在滑桿26 96750.doc -16- 1288306 加速時將出現較小的力。 吾人可注意到諸多額外有利之處。在滑桿26加速期間將 對滑桿26施加一扭矩，因為馬達（在轉譯器39處）之作用點並 非與滑桿26之質量中心相重合，該質量中心一般位於基板 w支撐位置附近。此扭矩可致使橫桿2〇及滑桿％發生畸 變，該畸變可導致非吾人所樂見之共振及甚至滑桿26對橫 桿20之堵塞。藉由在自橫桿朝向質量中心的方向上將轉譯 器39置於橫桿20外部，可減少扭矩及畸變。 可任選用於氣動軸承3〇、32的球接合件35、26。原則上， 可使用直接氣動軸承，其中在壁31、33與一緊密附著至本 體部分34的表面之間實現該氣體層。然而，使用接合件（諸 如允許此表面之旋轉自由度的球接合件35、36)可減少滑桿 26之變形導致堵塞的風險。在本實施例中，滑桿％之部分 的相對y位置的畸變通常大於相對χ*ζ位置的畸變，因為滑 桿26在y方向上自其質量中心的延伸比在其它方向上自其 貝里中心的延伸遠得多。因此，較佳在本體部分34與氣動 軸承（至少為可支撐地靠著與y方向橫向的壁31的第一氣動 軸承30)之間使用接合件。較佳地，在第一氣動軸承％中使 用球接合件以便提供對畸變的最大適應性，但實情為可使 用允許圍繞Z軸而不是圍繞其它軸自由旋轉的銷接合件。此 等已經防正了畸變所帶來的大多數問豸。當然，當其它類 型之畸變最為㈣時，至少為其它表面而麵直表面叫 供氣動轴承將是有利的。 當然，使用諸如球軸承35、36之額外接合件來替代將本 96750.doc -17- l2883〇6 體部分34剛性耦接至承載表面將比剛性耦接佔用更多空 間。然而，因為橫桿20在滑桿26及此等接合件之外部，所 以此空間並非在損害橫桿20之外部界限的範圍的情況下而 獲得，而是因此在損害其硬度的情況下獲得。 圖5展示了橫桿20及滑桿26在XZ平面中之橫截面。展示 了一用以向馬達提供電流之電纜50。如所示，電纜5〇提供 於橫桿20中之内部空間中。此使至外部的輻射（詳言之為熱 輕射’但亦有來自因流經電纜5〇之電流而產生的電磁場之 輻射）達到最小化。一用於向氣動軸承3〇、32供應氣動之氣 體供應導管可如電纜允那樣安裝於橫桿2〇内部。 應瞭解：本發明並不限於前述諸圖所展示之結構。圖6 展示了滑桿26及橫桿20的替代構造之γχ橫截面。在此構造 中’滑桿26之延長部分37延伸穿過位於大體上與橫桿2〇之 上壁齊平位置的狹槽68。結果，橫桿20對Z方向上之變形具 有更大硬度。在狹槽68之相對側面上的橫桿2〇上使用軸 6〇、62亦可增加硬度。轉譯器部分39的磁體作用於其中一 個軸62的壁上，但轉譯器部分39的磁體當然亦可能作用於 另一軸或同等作用於兩個軸6〇、62上。 需〉主意：與圖6之實施例相比，圖3之實施例所具有的優 勢在於狹槽38處於可使橫桿30對稱地圍繞其的位置。在此 、、且^中’轉譯器部分39對狹槽38兩側對稱施力，此減少了 變形、以更大的力保持了滑桿26在適當位置且對γ方向上的 、交形提供了更大硬度。當然，圖3之實施例同樣可包含如軸 60、62之軸。 96750.doc -18- 1288306 儘管圖中展示了僅為χ移動（Y橫桿22a、b具有外部滑桿） 使用部分内部滑桿，但需認識到··本發明亦可應用於沿γ ， 橫桿之移動。然而，本發明對X移動機構最為有利，因為其、 經文最大加速（X及γ加速兩者），使得其對畸變而言最為關 · 鍵。此外，儘管已描述了一種光微影裝置，其中線性馬達 之硬度及有限尺寸對於實現精確高速曝光很重要，但仍需 瞭解：此類型之線性馬達亦可用於其它應用中。在一光微 影裝置十，可提供該等線性馬達以用於傳送基板，但亦可 用於傳送主光罩或光罩。. ® 此外’應瞭解，儘管該等實施例展示了相對於橫桿移動 之滑桿，但需瞭解：不應將詞語”滑桿"及"橫桿"理解為排除 了將滑桿固定至框架且移動橫桿。同樣，儘管該滑桿被描 述成包含一線性馬達之轉譯器部分，但需瞭解··同樣地橫 桿可包含轉譯器部分且滑桿包含定子部分。 雖然上文已描述了本發明之特定實施例，但需理解：本 發明可以除如本文所描述以外的其它方式實施。該描述内籲 容並不意欲限制本發明。 【圖式簡單說明】 圖1描繪了根據本發明之一實施例的微影裝置； 圖2展示了 一傳送機構； 圖3展不了 一傳送機構之一實施例的橫截面； 圖4展示了一傳送機構之一實施例的另一橫截面； 圖5展示了一傳送機構之橫截面； · 圖6展示了一傳送機構之另一實施例的橫截面。 96750.doc 19- 1288306 【主要元件符號說明】 20、22a、b 橫桿 24a、b 習知滑桿 26 本發明之滑桿 ‘ 30 氣動轴成 31、32 氣動軸承 34 本體部分 35、36 接合件 37 延長部分 38 狹槽 39 轉譯器部分 49 磁體 50 電纜 370 支撐表面 BD 光束傳遞系統 CO 聚光器 IF 位置感應器 IL 照明系統 IN 積光器 Ml > M2 光罩對準標記 MA 圖案化構件（光罩） MT 光罩台 PI、P2 基板對準標記 PM 第一定位構件 96750.doc -20- 1288306 PW 第二定位構件 so 輻射源 WT 基板台 w 基板 96750.doc -21 -

Claims (1)

1. 卞文肀鸽專利範圍^換本(95年7月） 十、申請專利範圍： 1 · 一種微影裝置，其包含·· 一用以提供輻射之一投影光束之照明系統； 一用以支撐圖案化構件之支撐結構，該圖案化構件用 以賦予該投影光束在其橫截面中一圖案； 一用以固持一基板之基板台；及 用以將遠經圖案化之光束投影至該基板之一目標部 分的投影系統， ϋ 一用以將該基板及該圖案化構件相對於彼此移動之傳 迈、…構"亥傳送結構包含一橫桿、一驅動零件及一滑桿， 該滑桿由該橫桿支撐且該驅動零件經安置以在一傳送方 向上相對於該橫桿移動該滑桿， 其特徵在於，該橫桿具有 表面，該滑桿在與該傳送方 支撐地靠著該凹内表面，該 一凹陷截面。 一與έ亥傳送方向橫向的凹内 向橫向的至少兩個方向上被 凹内表面含有具實體平面之 2·:!求項1之微影裝置’其中該傳送結構包含-輕接至該 櫝杯之馬達，其用以藉由該駆動零件及該滑桿在一盘^ 傳送方向橫向之方向上移動該橫桿。 3· Γ求項1之微影裝置，其中該橫桿為具有—内表面之中 工結構，該内表面之盘 /、μ傳I方向橫向的橫截面除了一 狹槽之外皆被封閉，該 、、典 u衣面為该内表面之一部分，該 ，月杯具有一延伸穿過該狹槽 在該延長部分上支料㈣長部分， 牙4基板或該圖案化構件。 96750-950714.doc 1288306 :长員1、2或3之微影裝置，其中該驅動零件包含一被 7者至面向該橫桿之一壁區段之該滑桿的磁體，該壁區 或附著至其的磁體與該磁體相互作用以驅動沿該橫 杯之運動，該磁體被設置於位於該橫桿之一内部空間外 ^的°亥滑桿之延長部分上，位於可支撐該内部空間内部 的該滑桿的該滑桿之—本體部分與用以支撐該基板或^ 圖案化構件的該延長部分之一表面之間。 5·如明求項1、2或3之微影裝置，其中該滑桿包含一用以支 撐“桿使其靠著該凹表面之—承載部分的氣動輛承表 ^該橫桿包含—壁區段，該滑桿之-受支撐的本體部 '位於該壁區段與該凹表面之該承載部分之間， 附著至面向該壁區段之該滑桿的磁體，該壁 磁體相互作用以驅動沿該橫桿之運動，該壁區 段位於該磁體與該凹表面之該承載部分之間。 土 6· ^求項4之微影裝置’其中該壁區段位於該磁體與該凹 表面之该承載部分之間的一水平路徑中。 7. 如請求項！、2或3之微影裝置，其中該滑桿包含· 件^用以支撐該滑桿使其靠著該内凹表面的氣動軸承零 ㈣=將該氣動軸承零㈣接至該滑桿之—本體部分 p，⑧接合件允許該氣動軸承零件圍繞至少 轉軸線而相對於該本體部分旋轉。 疋 8. 如請求項7之微影裝置，其中該接 向上進行旋轉之球接合件。 允弄在所有方 96750-950714.doc !2883〇6 月求項7之微影裝置，其中該滑桿具有—在 上延伸至兮户p 火千方向 / 卜部的延長料，該氣_承零件 精由该水平方向上的_ ^ 面。 力支撐5亥滑柃使其罪著該内凹表 月求項7之微影裝置，其在該滑桿被支樓地靠著 =位置包含氣動轴承零件及用以將此等氣動： U 母個可彡疋轉地耦接至該本體部分的接合件。 月求項1、2或3之微影裝置，其包含-可供應電流以白 该驅動零件供應動力之電繞，該電窥之沿該橫桿 2延伸至該滑桿的至少—部分被設置於該 部空間中。 Μ 12· 一種線性馬達，其包含·· ―一橫桿，其在該馬達之—傳送方向上延伸且具有一與 一傳送方向橫向之凹内表面； 月杯其具有一在與該傳送方向橫向的至少兩個方 向上被支撐地罪著該凹内表面的本體部分及一延伸至该 橫桿之—内部空間之外以支撐_藉由該馬達而移動之有〆 效負載的的延長部分； 經設置以在該傳送方向上相對於該橫桿移動該滑桿之 若干磁體。 13.如請求項12之線性馬達，其中該等磁體中的—第—個磁 體被附著至面向該橫桿之—壁區段的該滑桿，該壁區段 與該磁體相互作用以驅動沿該橫桿之運動，該磁體被設 置於該橫桿之該内部空間外部的該延長部分上，位於該 96750-950714.doc 1288306 本體部分與該有效負載之間。 14.如請求項12或13之線性馬達，其中該滑桿包含-用以支 掉該滑桿使其靠著該凹表面之—承載部分的氣動轴承表 面，該橫桿包含—龍段，㈣H切的本體部 分位於該壁區段與該凹表面之該承载部分之間，該磁體 被附著至面向該壁區段的該滑桿，該壁區段及/或附著至 其的磁體與該磁體相互作用以驅動沿該橫桿的運動，兮 壁區段位於該磁體與該凹表面之該轴承部分之間。Μ 15.如請求項12或13之線性馬達，其中該滑桿包含; 一用以支揮該滑桿使其靠著該内凹表面的氣動轴承零 件， 7 -用以將該氣動軸承零件耦接至該滑桿之一本體部分 之接合件’ Θ接合件允許該氣動轴承零件圍繞至少一旋 轉軸線而相對於該本體部分旋轉。 •如請求項12或13之線性馬達’其包含—用以向該驅動交 件供應電流之電镜，該電镜之沿該橫桿之—長度延伸i 該滑桿的至少一部分被設置於該橫桿内部。 17 一種製造微影器件之方法，其包括以下步驟： 提供一基板； 使用一照明系統來提供輻射之一投影光束； 使用圖案化構件以賦予該投影光束在其橫截面中 案；及 將該經圖案化之輕射光束投影至該基板之一目標部分 96750-950714.doc 12883〇6 稭由—撗桿、一驅動零件及 # 4曰 化構株士 1千及一滑桿使該基板及該圖案 件相對於彼此移動，該 零件經設置以在一傳、、,古 "横桿支撐且該驅動 捍， 在傳达方向上相對於該橫桿移動該滑 椹:、u在於’在6亥移動期間’該滑桿在與該傳送方向 二之方向上被支撐地靠著該橫桿的一凹内表面，該滑 =與該傳送方向橫向的至少兩個方向上被支撐地靠著 该凹内表面。 汝明求項1 7之製造微影器件之方法，其包含： 猎由一氣動軸承支撐該滑桿使其靠著該凹表面之一承 載部分， 藉由由位於該橫桿與該滑桿之間的該驅動零件所施加 的一磁力而在該氣動軸承上提供一預張力。 19·如請求項17或18之製造微影器件之方法， 藉由一可旋轉地耦接至該滑桿之一本體部分的氣動軸 承零件來支撐該滑桿使其靠著該内凹表面。 96750-950714.doc