CN1614512A - 光刻装置及器件制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种传送结构，用于使基底和/或掩模在光刻装置中相对于彼此移动。传送结构包括具有梁和滑座的线性电动机。梁是中空的，其凹入内表面相对于传送方向横向。滑座在相对于传送方向横向的至少两个方向上被支撑而抵靠凹入内表面。优选地，电动机或电磁铁的传送部分位于在梁的内部空间外面的滑座上，且位于基底或掩模的支撑区域之间。这使得减小因电动机加速度引起的转矩成为可能。另外，电动机可用于为梁和滑座之间的气体轴承提供预张力。

Description

光刻装置及器件制造方法

技术领域

本发明一般涉及一种光刻装置，一种线性电动机及一种器件制造方法。

背景技术

光刻装置是一种将所需图案应用于基底的目标部分上的装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，构图部件，如掩模或中间掩模版，可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的目标部分上(例如包括部分，一个或者多个管芯)。一般地，单个基底将包含依次曝光的相邻目标部分的网格。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将全部图案一次曝光在目标部分上而辐射每一目标部分，还包括所谓的扫描器，其中通过投射光束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一目标部分。

PCT专利申请WO 99/34257公开了一种用于相对于装置的其他部件在水平(XY)面内传送基底的传送机构。该传送机构包括三个电动机，两个用于沿第一方向(Y方向)传送，一个用于沿第二方向(X-方向)传送。每个电动机包括一个梁和一个滑座。梁起线性电动机的定子部分的作用。滑座在梁的每一侧附着于线性电动机的传送器部分。也就是说，滑座至少部分地环绕梁。滑座由气体轴承支撑，允许其沿梁的长度方向移动。

这种传送机构的高刚度和小尺寸是供光刻装置中使用的重要参数。尺寸受装置中可用空间的限制。考虑到变形和共振，刚度决定能够被使用的最大加速度，由此决定装置的生产量。为了得到高生产量，尽可能高的刚度是所希望的。所述刚度取决于梁的刚度，反过来又取决于梁的弹性及其惯性矩。梁通常由几乎非弹性的陶瓷材料制成以实现高刚度。利用陶瓷材料使传送结构非常昂贵。此外，即使当使用几乎非弹性的材料时，也总是有实现更高刚度的需求。

利用这种类型的传送机构的另一个问题是该机构必须制造为具有非常大的公差。变形会导致滑座卡在梁上。

发明内容

其中，本发明的一个目的是使得占有给定空间特别是在光刻装置内的空间传送机构的梁的刚度增大成为可能。

其中，本发明的一个目的是使得减小给定刚度的传送机构的重量成为可能。

其中，本发明的一个目的是使得占有给定空间特别是在光刻装置内的空间传送机构所承载的负载增加成为可能。

其中，本发明的一个目的是使得减小滑座的支架中必须满足的公差成为可能。

根据本发明的一个方面，提供一种根据权利要求1的光刻装置和一种根据权利要求11的线性电动机。根据本发明，至少部分地支撑滑座使其抵靠梁的内表面，从而使滑座的被支撑部分位于梁的内部空间中。因此，在占有给定空间的传送机构中，与如果滑座环绕梁相比，梁具有更大的空间范围(spatial extent)。这增大了给定质量的梁的惯性矩。此外，更大质量的材料可以用在梁中，这也增大了惯性矩。在一个实施方式中，除了用于滑座的延伸部分的狭槽，梁完全地包围其支撑的部分滑座，该延伸部分支撑基底(或掩模)。按照这种方式，惯性矩达到最大。通常滑座和梁构成具有相互作用的定子和传送器部分的线性电动机的一部分，用于使滑座相对于梁移动。滑座包括线性电动机的相互作用部分之一，梁包括另一个相互作用部分。连接到滑座的电动机的相互作用部分不需要设置在梁的内部。

在一个实施方式中，连接到滑座的电动机的相互作用部分放置在梁外面的滑座上，位于用于基底或构图部件的支撑区域和梁之间。当滑座的质心在梁的外面，且在基底或构图部件附近时，减小了滑座上的转矩和导致的变形。

通常，电动机包括与滑座上的磁铁(通常是电磁铁)相互作用的部分，与梁相互作用从而以已知的方式驱动梁。优选地，磁铁这样放置，使电动机为气体轴承提供预张力，所述气体轴承在梁的内部支撑滑座使其抵靠梁。由于不需要额外的元件用于提供预张力，因此滑座的体积可达到最小，为梁留出更大的空间。这在磁铁安装在水平位置紧接梁时特别有用，从而在重力不提供预张力的方向上提供预张力。

磁铁放置在滑座的延伸部分上，该延伸部分通过梁内的狭槽延伸到梁的外面。在一个实施方式中，所述狭槽设置为保持梁的对称。在该实施方式中，磁铁在狭槽的两侧作用基本上相等的力，因此提供最大的力和最小的变形。在另一个实施方式中，梁具有侧壁，该侧壁布置为使其横截面横穿传送方向或者至少是一个平行四边形，狭槽置于第一侧壁中，基本上与第二侧壁齐平，该第二侧壁以一角度(通常基本上是90度)与第一侧壁交叉。以这种方式可以实现最大刚度的梁。

在一个实施方式中，滑座由气体轴承支撑使其抵靠梁，气体轴承通过接头与滑座连接，该接头留出运动自由度以补偿滑座相对于梁加速的影响。通常，球窝接头用作支撑滑座使其在与第二侧相对的第一侧上抵靠梁的轴承，部分电动机和基底(或掩模)位于所述第二侧上。球窝接头允许所有的旋转自由度，但是作为替换，也可以使用如允许较少旋转自由度的接头，如允许仅绕与滑座延伸的平面相垂直的轴旋转的枢接头。优选地，利用以一定运动自由度连接到滑座的气体轴承来实现滑座的所有支撑。当在梁的内部空间得到轴承时，可以实现相对较大的轴承而不会影响梁的周边。这使得用滑座承载较重的负载成为可能。

根据本发明的另一个方面，提供一种根据权利要求9的器件制造方法。

在本申请中，本发明的光刻装置具体用于制造IC，但是应该理解这里描述的光刻装置可能具有其它应用，例如，它可用于制造集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等等。本领域的技术人员将理解，在这种可替换的用途范围中，这里任何术语“晶片”或者“管芯(die)”的使用可以认为分别与更普通的术语“基底”或者“目标部分”同义。在曝光之前或之后，可以利用例如轨道(一种通常将抗蚀剂层作用于基底并将已曝光的抗蚀剂显影的工具)或者计量工具或检验工具对这里提到的基底进行处理。在可应用的地方，这里公开的内容可应用于这种和其他基底处理工具。另外，例如为了形成多层IC，可以对基底进行多次处理，因此这里所用的术语基底也可以指的是已经包含多个已处理层的基底。

这里使用的术语“辐射”和“光束”包含所有类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有365，248，193，157或者126nm的波长)和远紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm的波长)，以及粒子束，如离子束或者电子束。

这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给投射光束赋予带图案的截面的装置，以便在基底的目标部分上形成图案。应该注意，赋予投射光束的图案可以不与在基底的目标部分上的所需图案完全一致。一般地，赋予投射光束的图案与在目标部分中形成的器件如集成电路的特殊功能层相对应。

构图部件可以是透射的或是反射的。构图部件的示例包括掩模，可编程反射镜阵列和可编程LCD控制板。掩模在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。可编程反射镜阵列的一个例子是利用微小反射镜的矩阵排列，每个反射镜能够独立地倾斜，从而沿不同方向反射入射的辐射光束；按照这种方式，对反射光束进行构图。在构图部件的每个实施例中，支撑结构可以是一个框架或工作台，例如，所述结构根据需要可以是固定的或者是可移动的，并且可以确保构图部件位于例如相对于投影系统的所需位置处。这里的任何术语“中间掩模版”或者“掩模”的使用可认为与更普通的术语“构图部件”同义。

这里使用的术语“投影系统”应广义地解释为包含各种类型的投影系统，包括折射光学系统，反射光学系统，和反折射光学系统，如适合于所用的曝光辐射，或者适合于其他方面，如使用浸液或使用真空。这里任何术语“镜头”的使用可以认为与更普通的术语“投影系统”同义。

照射系统还可以包括各种类型的光学部件，包括用于引导、整形或者控制辐射投射光束的折射，反射和反折射光学部件，这些部件在下文还可共同地或者单独地称作“镜头”。

光刻装置可以具有两个(二级)或者多个基底台(和/或两个或多个掩模台)。在这种“多级式”器件中，可以并行使用这些附加台，或者可以在一个或者多个台上进行准备步骤，而一个或者多个其它台用于曝光。

光刻装置也可以是这样一种类型，其中基底浸入具有相对较高折射率的液体中，如水，以填充投影系统的最后一个元件与基底之间的空间。浸液也可以应用于光刻装置中的其他空间，例如，掩模与投影系统的第一个元件之间。湿浸法在本领域是公知的，用于增大投影系统的数值孔径。

附图说明

现在仅通过举例的方式，参照附图描述本发明的各个实施方案，在图中相应的参考标记表示相应的部件，其中：

图1示出根据本发明一个实施方式的光刻装置；

图2示出传送结构；

图3示出传送机构一个实施方式的横截面；

图4示出传送机构一个实施方式的另一个横截面；

图5示出传送机构的横截面；

图6示出传送机构另一个实施方式的横截面。

具体实施方式

图1示意性地表示了根据本发明一具体实施方案的光刻装置。该装置包括：

-照射系统(照射器)IL，用于提供辐射(例如UV辐射)的投射光束PB。

-第一支撑结构(例如掩模台)MT，用于支撑构图部件(例如掩模)MA，并与用于将该构图部件相对于物体PL精确定位的第一定位装置PM连接；

-基底台(例如晶片台)WT，用于保持基底(例如涂敷抗蚀剂的晶片)W，并与用于将基底相对于物体PL精确定位的第二定位装置PW连接；

-投影系统(例如折射投影透镜)PL，用于通过构图部件MA将赋予投射光束PB的图案成像在基底W的目标部分C(例如包括一个或多个管芯(die))上。

如这里指出的，该装置属于透射型(例如采用透射掩模)。另外，该装置可以是反射于型(例如采用如上面涉及的一种类型的可编程反射镜阵列)。

照射器IL接收来自辐射源SO的辐射光束。辐射源和光刻装置可以是分开的机构，例如当辐射源是受激准分子激光器时。在这种情况下，不认为辐射源是构成光刻装置的一部分，辐射光束借助于例如包括适当的导向镜和/或扩束器的光束输送系统BD从源SO传送到照射器IL。在其他情况下，辐射源可以是装置的组成部分，例如当辐射源是汞灯时。源SO和照射器IL如果需要连同光束输送系统一起可称作辐射系统。

照射器IL可以包括用于调节光束的角的强度分布的调节装置AM。一般地，至少可以调节照射器光瞳平面内强度分布的外和/或内径向量(通常分别称为σ-外和σ-内)。此外，照射器IL一般包括各种其它部件，如积分器IN和聚光器CO。照射器提供辐射的调节光束，称作投射光束PB，在该光束的横截面具有所需的均匀度和强度分布。

投射光束PB入射到保持在掩模台MT上的掩模MA上。横向穿过掩模MA后，投射光束PB通过镜头PL，该镜头将光束聚焦在基底W的目标部分C上。在第二定位装置PW和位置传感器IF(例如干涉测量装置)的辅助下，基底台WT可以精确地移动，例如在光束PB的光路中定位不同的目标部分C。类似地，例如在从掩模库中机械取出掩模MA后或在扫描期间，可以使用第一定位装置PM和另一个位置传感器将掩模MA相对光束PB的光路进行精确定位。一般地，借助于长冲程模块(粗略定位)和短冲程模块(精确定位)来实现目标台MT和WT的移动，所述目标台MT和WT构成定位装置PM和PW的一部分。可是，在步进器的情况下(与扫描装置相对)，掩模台MT可以只与短冲程致动装置连接，或者固定。掩模MA与基底W可以利用掩模对准标记M1，M2和基底对准标记P1，P2进行对准。

所示的装置可以按照下面优选的模式使用：

1.在步进模式中，掩模台MT和基底台WT基本保持不动，赋予投射光束的整个图案被一次投射到目标部分C上(即单次静态曝光)。然后基底台WT沿X和/或Y方向移动，以便能够曝光不同的目标部分C。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制在单次静态曝光中成像的目标部分C的尺寸。

2.在扫描模式中，同时扫描掩模台MT和基底台WT，并将赋予投射光束的图案役射到目标部分C上(即，单次动态曝光)。基底台WT相对于掩模台MT的速度和方向由投影系统PL的放大(缩小)和图像反转特性来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制单次动态曝光中目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而扫描移动的长度确定目标部分的高度(沿扫描方向)。

3.在其他模式中，掩模台MT基本上保持静止，并保持可编程构图部件，并且在将赋予投射光束的图案投射到目标部分C上时移动或扫描基底台WT。在这种模式中，一般采用脉冲辐射源，并且在基底台WT的每次移动之后或者在扫描期间连续的两次辐射脉冲之间，根据需要修改可编程的构图部件。这种操作方式可以很容易地应用于无掩模光刻中，所述无掩模光刻利用如上面提到的一种类型的可编程反射镜阵列等可编程构图部件。

还可以采用在上述所用模式基础上的组合和/或变化，或者采用与所用的完全不同的模式。

图2示出传送结构的顶视图，该传送结构可用作定位基底的定位装置(类似的定位装置可用于掩模)。传送结构包括具有梁20，22a，b的三个线性电动机，具有梁20的一个线性电动机用于沿第一(X-)方向传送，具有梁22a，b的两个线性电动机用于沿第二(Y-)方向传送。在用于沿Y-方向传送的梁22a，b上，示出了常规的滑座24a，b，所述滑座在对梁22a，b和对滑座24a，b的(电)磁铁的影响下沿梁22a，b移动。用于沿X-方向传送的梁20是中空的。提供一滑座26，该滑座包含(由虚线示出的)一部件，该部件将滑座26支撑在梁20上，并且几乎完全地封入梁20的内部中。

图3示出在Y-Z平面(Z-方向垂直于图2的图面)中，即在垂直于运动方向的平面中，梁20和滑座26的横截面。包含在梁20内部的滑座26的部分包括支撑滑座26抵靠梁20的垂直内壁31(壁31的表面沿Y和Z方向延伸)的第一气体轴承30(示出一个)，和支撑滑座26抵靠梁20的水平内壁33(壁33的表面沿X和Y方向延伸)的第二气体轴承32。第一气体轴承30的每一个都通过第一球窝接头35(只示出一个)连接到滑座26的主体部分(body part)34。类似地，第二气体轴承32通过球窝接头36连接到主体部分34。滑座26的延伸部分37从主体部分34延伸通过梁20垂直侧壁中的狭槽38。用于使滑座26沿梁移动的电动机的传送器部分39连接到延伸部分37，该延伸部分还包括用于基底W的支撑表面370。

图4示出在X-Y平面内梁20和滑座26的横截面。如可看到的，提供两个气体轴承30抵靠壁31。图中没有示出用于向电动机提供电流，或者为气体轴承30，32提供连接的电缆，这些电缆可以布置在梁20的里面或外面。优选地，这些元件位于梁20的内部空间中，从而使梁20充当用于屏蔽来自这些元件的辐射的辐射屏蔽层。

在操作中，通常通过面向梁20内壁31，33的气体轴承30，32表面中的开口(未示出)，将气体供应到气体轴承30，32与壁31，33之间的空间中。通过这些空间中气体的压力来可滑动地支撑滑座26抵靠梁20的内部。只有当气体轴承30，32表面与壁的相对表面31，33之间的距离在预定范围内时，通常在5-30微米的范围内时，气体轴承30，32通常可以令人满意地工作。如果距离太小则出现附着，如果距离太大则会有太多气体泄漏。

传送器部分39按已知的方式操作，使滑座26沿着梁20移动。为此目的，传送器部分39产生与梁20相互作用的磁场。优选地，在面向传送器部分39的表面上提供一排附着于梁20的永磁铁49(没有按比例绘出)。另外，磁铁可以结合在上述表面中。在一个实施方式中，将成排的磁铁设置在位于狭槽38两侧的梁20上。优选地，永磁铁所附着(或者结合在其中)的梁20或梁的至少一部分由可磁化的材料如铁构成，以引导被附着的永磁铁之间的磁通量。

除了使滑座26沿梁20移动之外，由传送器部分39产生的这些磁场还产生作用于传送器39的牵引力，用于朝向梁20牵引传送器39。该牵引力强迫第一气体轴承30朝向壁31的方向，同时提供保持第一气体轴承30和壁31之间的距离在气体轴承30的功能性工作范围内的预张力。也可以实现通过其他装置提供这种预张力，即使传送器39放置在梁20内，例如通过提供附加的气体轴承以支撑滑座26抵靠面向垂直壁的梁20的内壁。但是，使用传送器39来实现预张力具有包括不太严格的制造公差的优点。

这种结构的主要优点在于更进一步与将滑座26支撑在梁20外部的结构相比，梁20的外形扩大了可用于传送结构的空间的限制。这使得实现具有高刚度的梁，反过来又允许使用大的加速度成为可能。优选地，可以几乎完全地包围支撑抵靠在梁20上的滑座26的主体部分34，除了对延伸部分37所必需的狭缝38之外。但是，在不脱离本发明的情况下，梁20可以在更大程度上是开口的，只要凹入部分与可支撑滑座26抵靠的壁31，33一起存在。为了实现最佳刚度，梁20可以由陶瓷材料构成，但是由于其较大的长度，其他刚度较小的材料如钢也已经提供了一种良好的解决方案。滑座26的较小长度也减小了滑座的质量，这对于在滑座加速时产生较小的力是有利的。

注意大量附加的优点。在滑座26的加速过程中，由于电动机的作用点(在传送器39处)与滑座26的质心不重合，通常位于支撑基底W的位置附近，因此会对滑座26施加一转矩。该转矩可导致梁20和滑座26的变形，可能导致不需要的共振，甚至是滑座26对梁20的阻塞。通过将传送器39放置在梁20的外面，且位于朝质心方向离开梁一段距离处，可减小转矩和变形。

使用用于气体轴承30，32的球窝接头35，36是任选的。原则上，可以使用导向气体轴承，其中在壁31，33与刚性连接到主体部分34上的表面之间获得气体层。但是，使用接头，如允许对于该表面的旋转自由度的球窝接头35，36降低了滑座26变形引起阻塞的风险。在该实施方式中，因为滑座26在y-方向上比在其他方向上从其质心延伸更远，因此部分滑座26的相对y-位置的变形通常比相对x或z-位置的变形大。因此，优选在主体部分34和气体轴承之间，至少是对于第一气体轴承30使用接头，该气体轴承30支撑抵靠相对于y-方向是横向的壁31。优选地，球窝接头用在第一气体轴承30中，以便对变形提供最大的适应性，但是作为替代，也可以使用枢接头，这种接头允许绕Z-轴但不绕其他轴的自由旋转。这些已经防止了大部分的变形问题。当然，当其他类型的变形最显著时，至少为不同于垂直表面31的其他表面提供气体轴承是有利的。

当然，使用如球轴承的附加接头来代替主体部分34与轴承面的刚性连接与刚性连接相比提供更大的空间。但是，由于梁20在滑座26和这些接头的外部，因此在以梁20外部界限的范围并由此以其刚度为代价的情况下不能获得该空间。

图5示出在XZ平面中的梁20和滑座26的横截面。图中示出用于向电动机提供电流的电缆50。如图所示，电缆50提供在梁20的内部空间中。使到达外面的辐射(特别是热辐射，以及来自因通过电缆50的电流而产生的电磁场的辐射)减到最小。用于向气体轴承30，32供应气体的供气管可以像电缆50一样置于梁20的内部。

可以理解，本发明不限于前面图中所示出的结构。图6示出滑座26和梁20的可选择的结构的YX横截面。在该结构中，滑座26的延伸部分37通过基本上与梁20的顶壁齐平的狭槽68延伸。因此梁20具有抵抗沿Z-方向变形的更大的刚度。使用位于梁20上且在狭槽68两对边处的轴60，62也可以增加刚度。传送器部分39的磁铁在两个轴之一的轴62的壁上起作用，但是当然传送器部分39的磁铁也可以在另一轴上或者在两个轴60，62上同等地起作用。

可以注意，与图6的实施方式相比，图3的实施方式具有将狭槽38定位成使梁20关于狭槽38对称的优点。在这种构造中，传送器部分39对狭槽38的两边对称地施加力，这样减少了变形，以较大力将滑座26保持就位，并提供抵抗沿Y方向变形的较大刚度。当然，像轴60，62一样的轴同样可以包括在图3的实施方式中。

尽管已经说明仅仅为了X运动而使用部分内部的滑座(具有外部滑座的Y梁22a，b)，但是可以知道，本发明也可以用于沿Y-梁的运动。但是，本发明对于X-运动机构最有利，因为其受到最大的加速度(X和Y加速度)，从而使其对变形最关键。此外，尽管已经描述了光刻装置，其中线性电动机的刚度和限制尺寸对于实现精确高速曝光非常重要，但是可以理解，这种类型的线性电动机也可以用在其他应用中。在光刻装置中，可以提供这种线性电动机用以传送基底，而且用以传送中间掩模版或掩模。

此外，应该理解，尽管上述实施方式示出一个相对于梁移动的滑座，但是可以理解，词“滑座”和“梁”不应该排除滑座固定到框架上而梁移动的情况。并且，尽管滑座已经描述为包括线性电动机的传送器部分，但是可以理解，按照相同的方式，梁可以包括传送器部分，而滑座包括定子部分。

尽管上面已经描述了本发明的具体实施方式，但是应该理解，本发明也可以按照不同于所描述的方式实施，说明书不意味着限制本发明。

Claims (19)

1.一种光刻装置，包括：

-用于提供辐射投射光束的照射系统；

-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给投射光束的截面赋予图案；

-用于保持基底的基底台；

-用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，

-用于使基底和构图部件相对于彼此移动的传送结构，该传送结构包括梁，驱动元件和滑座，滑座由梁支撑，驱动元件设置为使滑座相对于梁沿传送方向移动，

其特征在于梁具有相对于传送方向横向的内部凹面，支撑滑座使其在相对于传送方向横向的至少两个方向上抵靠内部凹面。

2.根据权利要求1的光刻装置，其中传送结构包括与梁连接的电动机，用于使具有驱动元件的梁和滑座在相对于传送方向横向的方向上移动。

3.根据权利要求1的光刻装置，其中梁是中空的，并具有一内表面，其相对于传送方向横向的横截面除狭槽外是闭合的，所述凹面是内表面的一部分，滑座具有通过狭槽延伸到梁外面的延伸部分，基底或构图部件支撑在所述延伸部分上。

4.根据前面任一项权利要求的光刻装置，其中驱动元件包括磁铁，该磁铁附着于面对梁的壁部的滑座上，该壁部和/或附着于其上的磁铁与磁铁相互作用以驱动沿梁的运动，磁铁位于梁内部空间外面的滑座的延伸部分上，且位于在内部空间中支撑滑座的滑座主体部分与用于支撑基底或构图部件的延伸部分的表面之间。

5.根据前面任一项权利要求的光刻装置，其中滑座包括气体轴承表面，该表面用于支撑滑座使其抵靠凹面的轴承部分，梁包括壁部，滑座的被支撑主体部分位于壁部和凹面的所述轴承部分之间，驱动元件包括磁铁，该磁铁附着于面对壁部的滑座上，壁部与磁铁相互作用以驱动沿梁的运动，所述壁部位于磁铁和凹面的所述轴承部分之间。

6.根据权利要求4或5的光刻装置，其中所述壁部位于磁铁和凹面的所述轴承部分之间的水平路径上。

7.根据前面任一项权利要求的光刻装置，其中所述滑座包括

-气体轴承元件，用于支撑滑座使其抵靠内部凹面，

-接头，使气体轴承元件与滑座的主体部分连接，接头允许气体轴承元件相对于主体部分绕至少一个旋转轴旋转。

8.根据权利要求7的光刻装置，其中所述接头是允许沿各个方向旋转的球窝接头。

9.根据权利要求7或8的光刻装置，其中滑座具有延伸部分，该延伸部分在水平方向上延伸到梁的外部，所述气体轴承利用沿所述水平方向上的力支撑滑座使其抵靠内部凹面。

10.根据权利要求7的光刻装置，包括气体轴承，在滑座被支撑抵靠在梁上的所有地方都存在该气体轴承；以及使这些气体轴承的每一个与主体部分可旋转地连接的接头。

11.根据前面任一项权利要求的光刻装置，包括用于供应电流以激励驱动元件的电缆，至少一部分电缆沿梁的长度延伸到滑座，并位于梁的内部空间中。

12.一种线性电动机，包括

-梁，沿电动机的传送方向延伸，并具有相对于传送方向横向的内部凹面；

-滑座，具有在相对于传送方向横向的至少两个方向上被支撑而抵靠内部凹面的主体部分，和延伸到梁内部空间外面、用于支撑由电动机移动的有效负载的延伸部分；

-磁铁，设置为使滑座相对于梁沿传送方向移动。

13.根据权利要求11的线性电动机，其中磁铁中的第一个附着于面对梁的壁部的滑座上，壁部与磁铁相互作用以驱动沿梁的运动，磁铁位于梁的内部空间外面的延伸部分上，且位于主体部分和有效负载之间。

14.根据权利要求12或13的线性电动机，其中滑座包括气体轴承表面，该表面用于支撑滑座使其抵靠凹面的轴承部分，梁包括壁部，滑座的被支撑主体部分位于壁部和凹面的所述轴承部分之间，磁铁附着于面对壁部的滑座上，壁部和/或附着于其上的磁铁与磁铁相互作用以驱动沿梁的运动，所述壁部位于磁铁和凹面的所述轴承部分之间。

15.根据权利要求12至14中任一项的线性电动机，其中所述滑座包括

-气体轴承元件，用于支撑滑座使其抵靠内部凹面，

-接头，使气体轴承元件与滑座的主体部分连接，接头允许气体轴承元件相对于主体部分绕至少一个旋转轴线旋转。

16.根据权利要求12至15中任一项的线性电动机，包括用于供应电流以激励驱动元件的电缆，至少一部分电缆沿梁的长度延伸到滑座，并位于梁的内部。

17.一种器件制造方法，包括以下步骤：

-提供一基底；

-利用照射系统提供辐射的投射光束；

-利用构图部件给投射光束的横截面赋予图案；

-将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上，

-借助于梁，驱动元件和滑座使基底和构图部件相对于彼此移动，滑座由梁支撑，驱动元件设置为使滑座相对于梁沿传送方向移动，

其特征在于在所述移动过程中，支撑滑座使其抵靠相对于传送方向横向的梁的内部凹面，支撑滑座使其在相对于传送方向横向的至少两个方向上抵靠内部凹面。

18.根据权利要求17的器件制造方法，包括

-用气体轴承支撑滑座使其抵靠凹面的轴承部分，

-借助于位于梁和滑座之间的驱动元件所施加的磁力在所述气体轴承上提供预张力。

19.根据权利要求17至18中任一项的器件制造方法，

-利用可旋转地连接到滑座主体部分的气体轴承元件支撑滑座而使其抵靠内部凹面。

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