TWI283023B - Wafer level packaging process - Google Patents
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1283似 :wf.doc/r 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種半導體製程,且特別是有關於一 種具有較佳之切割精度的晶圓級封裝製程。 【先前技術】 、句在,電產業蓬勃發展的今日,光電元件之製程亦結合 漸赵^或的半導體製程技術,不斷朝著微型化的方向發 屉$見的光黾元件包括電荷_$(Charge-Coupled Device, CCD)晶曰片、CM0S影像感測(CM〇S lmage Sensor,卿晶 片太陽此電池(Sc)lar Cdl)及生化晶片(BiQ_chip)等,其可 level Packase)^#*>i ^ 低衣作成本並提高其生產效率。 時,合=二=之光電元件在進行晶81級之封裝製程 3在日日0上配置一透明蓋板(例如玻 其後,再對透^Λ板及每―晶片之間形成—密閉空間。 多顆獨立的晶;i封裝結構。 ㈣作,以传到
# 得;w的疋,上述之晶圓級封裝製程是分別料、# HH 1板以及晶圓進行切割。當完成第一道 +透月 明基板上形成多個切割道之後,需要再將=而在透 翻面,由另一側對晶圓進行第二道切割製:。二:與晶圓 :切=’,多是使刀具沿固定的二= 成交的移動與旋轉’以在晶圓或透明基 1283 1283
f.doc/r 里然而,由於晶圓背面上欠缺可對刀具進行定位的基準 j,因此將晶圓與透明基板翻面,以進行第二道切割製程 守必須要先在晶圓之背面切割出縱向基準線及横白 ,,線,接著再以縱向基準線及橫向基準線為基準 ^晶圓之背面下刀來切割晶圓,而分別形成多條縱向 =釗線及多條橫向切割線,藉以分開連在一起的晶 &,亦即在切割晶圓時,正要切割的縱向切割線係: 為基準’然而刀具在移動時會有傾 上存在,往往容易造成晶圓與刀具之間對位 率心:=—來,刀具在切割晶圓時,便有很大的機 二元件,或是晶圓與透明基板上的切割道 塊件的=:而影響單酬一一彳_成之晶片 【發明内容】 程,二^二!日,發明之目的是提供—種晶圓級封H製 程良率解决切叫刀具無法準確對位的問題,進而提高ί 製程的提種晶圓級封裝 於晶圓上,1 ·棱i、一日日圓;接合一透明蓋 之部分邊緣凸出二蓋==置’使得透明蓋板 透明蓋板上形成多個=:=心板進行切割,以在 由凸出於晶圓外之透:、::L明盖板與晶圓翻面,·韁 晶圓進行切割;以二反的切割道作為參考線,以哿 及,對晶圓與透明蓋板進行-單體化步 mmi,〇c/r 驟,以形成多個晶片封裝件。 在本發明之一實施例中, 包括預先將晶圓配置於一切;^切,明蓋板時,更 如是uv膠膜。 人其中此切割軟墊例 在本發明之-實施例中,上述切 方法包括機械切割或雷射切割。 月風板或晶圓的 在本發明之一實施例中, 括:沿-切割方向在透明蓋板上月蓋板的步驟包 使晶圓與透明蓋板旋轉 。方向在透明蓋板上形成多個相互及,沿切 :,切割晶圓的步驟包括:以凸圓 成多個相互平行的第三例、首曰切打向在晶圓上形 定角度;以及,沿切割方蓋板旋轉特 第四切割道。另外,上述之互平行的 基:上述’本發明使晶圓與透明蓋板接合時錯位配 以在晶圓與透明蓋板翻面以後,可以藉由觀察先前所 〔成的切割這來作為後續切割製程中,刀具的對位 製程本發明有助於改善切割時的精石1度,進而提昇 為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 明女重下下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說 【實施方式】 I283(^a,oc/r f明蓋板120上形成多個相互平行的第—切割道122a。其 ,^具170例如是沿一直線方向進行縱向切割,而載台 50是以步進的方式帶動晶圓110與透明蓋板12〇沿方: ^移動’以使刀具m在透日賤板12G上依序形成平 仃的弟一切割道122a。 請再參考圖3A與3B,在形成第一切割道心之後, :15〇會帶動晶圓11〇與透明蓋板12〇旋轉一特定角 令1如'9G度之直角’並且再度重複上述的切割步驟, I明蓋板12G上形成多個相互平行的第二切判道 ^其中第二切割道mb例如是與第一切割道η 互垂直。 ηο’如圖从與4B所示,將透明蓋板120與晶圓 以在曰p/亚且重複進行如圖3A與3B所述的切割步驟, 110上形成多個切割道112。值得注意的是,由 接合透明基板120與晶圓110時,是使透明基 〔、曰曰圓110錯位配置,而透明蓋板12〇可以透光,
大 將透明蓋板120與晶圓no翻面之後,前一、#J :來,的透明蓋板120而被觀察到。如此 —、,刀軎彳晶圓110之前,便可以藉由透明蓋 的切軎;1道122作A+ 皿反120上 升切割時獅=切,伽具17G蝴位,以提 白^提^^本發明⑽謂晶®! no與透明蓋板 /去除了可以是以刀具170所進行的機械切割之 9
Claims (1)
- mmi,d0C/T 十、申請專利範圍: 1. 一種晶圓級封裝製程,包括: ^ 提供一晶圓; ^ 接合一透明蓋板於該晶圓上,其中該透明蓋板與該晶 圓錯位配置,使得該透明蓋板之部分邊緣凸出於該晶圓之 外; 對該透明蓋板進行切割,以在該透明蓋板上形成多個 切割道; 將該透明盡板與€亥晶圓翻面, 藉由凸出於該晶圓外之該透明蓋板上的該些切割道 作為爹考線’以對该晶圓進彳亍切割,以及 對該晶圓與該透明蓋板進行一單體化步驟,以形成多 個晶片封裝件。 2. 如申請專利範圍第1項所述之晶圓級封裝製程,其 中在切割該透明蓋板時,更包括預先將該晶圓配置於一切 割軟墊上。 φ 3.如申請專利範圍第2項所述之晶圓級封裝製程,其 中該切割軟墊包括UV膠膜。 4. 如申請專利範圍第1項所述之晶圓級封裝製程,其 中切割該透明蓋板的方法包括機械切割或雷射切割。 5. 如申請專利範圍第1項所述之晶圓級封裝製程,其 中切割該晶圓的方法包括機械切割或雷射切割。 6. 如申請專利範圍第1項所述之晶圓級封裝製程,其 中切割該透明蓋板的步驟包括: 12 1283腿_ 沿一切割方向在該透明蓋板上形成多個相互平行的 第一切割道; 使該晶圓與該透明蓋板旋轉一特定角度;以及 沿該切割方向在該透明蓋板上形成多個相互平行的 第二切割道。 7. 如申請專利範圍第6項所述之晶圓級封裝製程,其 中對該晶圓進行切割的步驟包括: 以凸出於該晶圓外之該透明蓋板上的該些切割道作 為切割時的參考線,而沿該切割方向在該晶圓上形成多個 相互平行的第三切割道; 使該晶圓與該透明蓋板旋轉該特定角度;以及 沿該切割方向在該晶圓上形成多個相互平行的第四 切割道。 8. 如申請專利範圍第7項所述之晶圓級封裝製程,其 中該特定角度為直角。13
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ID=38828976
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TW94146077A TWI283023B (en) | 2005-12-23 | 2005-12-23 | Wafer level packaging process |
Country Status (1)
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TW (1) | TWI283023B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI484543B (zh) * | 2008-05-27 | 2015-05-11 | Disco Corp | Segmentation of wafers (1) |
CN110473831A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-11-19 | 株式会社迪思科 | 芯片的制造方法 |
CN110690172A (zh) * | 2018-06-20 | 2020-01-14 | 株式会社迪思科 | 芯片的制造方法 |
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2005
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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