TWI282375B - Power coupling for high-power sputtering - Google Patents

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TWI282375B
TWI282375B TW093135398A TW93135398A TWI282375B TW I282375 B TWI282375 B TW I282375B TW 093135398 A TW093135398 A TW 093135398A TW 93135398 A TW93135398 A TW 93135398A TW I282375 B TWI282375 B TW I282375B
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Richard Newcomb
Michael Geisler
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Description

^82375 九、發明說明: 本專利文件的一部份含右 + 利揭示内容出現於專利二,者作權保護的資料。當專 所有者不反對專利揭示的# 綸如v 7人锻製’但在其他情況下不 _如何都保留所有的著作權。 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於用於塗佈物質 (但祐# h ,初貝的糸統和方法,更特別地 鍍材料於本發明關於利用—旋轉磁控系統用來濺 【先前技術】 ㈣:廣泛的應用中’如窗玻璃、汽車玻璃、顯示器" =Γ視器映像管,玻璃為無法取代的。玻璃具有一 :殊=性組合:玻璃係可透光的,其尺寸和化性係_ 的、南度地抗刮性、非污染與對環保有幫助的。不過玻璃 可以改善,特別是破璃的光學和熱特性。 •真空塗佈為用來適應玻璃表面和其它表面以適合特別 的而要或而求的應用之選擇技術。真空塗佈能夠於大面積 基板上沉積非常薄、均句的薄膜,真空塗佈技術也為現今 塗佈技術中最少5兮5九M ^ 、 可木的。值仔注思的疋,真空塗佈也可用 作塗佈其它非破璃的材料,包括塑膠和金屬。 曰通真空塗佈系統從旋轉磁控濺鍍傳導或介電材料於 -基板上方,諸如玻璃、塑膠或金屬。旋轉磁控藉由直流 .1282375 電流(DC)來驅動係已知好幾年了,且 止砰木已經引用藉由言 電壓交流電流(AC)來驅動之磁控,雖妙 ^ 机 、匕些父流系統有優 ,但亦已被高功率交流系統特殊特性 主 竹丨王所仏成可靠性與昂 貝的問題所困擾。 舉例來說,高功率交流系統經由稱為感應加熱的製程 產生熱,此熱通常造成真空塗佈系統中的轴承和密封失饮 當一交流電流流經如金屬的傳導材料,便造成感應加 熱。電流係以兩種方式產生影響附近和鄰近材料的一電磁 場。第-,磁性材料對變動的電磁場建立一磁阻,此:阻 造成材料發熱;第二,電磁場造成電子於傳導材料之" 動(電流),内部電阻對此些電流流動產生熱。因為非傳導: 料不具自由電子來形成電流流動,非傳導材料不生熱。 德國專利第D E1 〇 2 1 3 〇 4 9 A 1缺姐-+、人 ^ U49A1唬揭不用來塗佈一基板的 一糸統,該系統包含一直六宕、吉介—〜a 、 ^具工至、真空室内部的一旋轉管、 連接至旋轉管的一軸,站立U八丄 釉邛伤地位於真空室外部。此系統 也包含置放於真空室外部沾 击丄? , 、 卜°卩的一軸承,軸承係用來以可旋轉 之方式接合軸。此外提供放置於軸承和真空室間的一穷 封,電流必須通過密封和軸承。 山 美國專利第US2002/0189939A1號揭示一真空室中的一 交流旋轉濺鍍陰極,其提供一或一個以上的濺鍍陰極,其 中至少该陰極的一部份署 置放於该氣鑛至之中,且該陰極的 部份係置放於外殼的内部。一 異工始、封可彳呆作地置放於續 陰極和該外殼間,且接徂田十 、 、 提ί、用來供給一電流至濺鍍室内部旋 轉濺鑛陰極的機構, #因而可避免真空密封的感應加熱。 ^ 1282375 本务明的一個目的在於配置一電源耦合,使得沒有電 流經過軸承。 該目的係藉由申請專利範圍第1項、第12項、第14 項或第1 7項來完成。 、工私師已發展幾種設計來使在高功率交流塗佈系統中 感應加熱的衝擊降至最低之程度,然而此些設計已証明維 你困難且黑施昂貴,因此需要一系統和方法來解決現有技 術的這種和其它缺點且提供其它新和創新的特性。 【發明内容】 顯示於圖式中之本發明範例性的實施例係摘要於下。 坆些和其匕實施例更完全地說明於實施方式中。可以了解 的疋並不在於限制本發明於此發明内容所說明的形式或 實施方式所說明的形式。熟悉該項技術者可認知,可進行 許多改進、均等物和替代構造,其係落入本發明的範•和 精神之中,如申請專利範圍中所表示。 本發明可以提供一系統和方法來塗佈一基板。一實施 例包括:高功率濺鍍系統,#中一電源耦合器係用來輸送 功率至旋轉1^。電源叙合器係配置成用於使抽承、密封及/ 或旋轉水接管之感應加熱的產生降至最小之程度。其它實 施例包括有液態金屬電連接器、乾式軸承及/或旋轉接管, 該乾式轴承剌於防止和高功率電系統有關之感應加熱。 如先前所述,前面說明的實施例和實施方式只作為說 明的用途’熟悉本項技術人士可從詳細說明内容和申請專 !282375 A圍輕易地認知本發明許多复 細節。 /、 它的實施例 實例方式和 【實施方式】 以相同的::圖式’其中圖式中’相似的或類似的元件係 動系统um 喊轉磁控系統100包括由驅 真空1疋轉的雙旋轉圓柱形管105,圓柱形管1〇5利用 鍍的:材内部所產生的電浆所濺鑛的靶材料來塗佈,濺 的耙材枓係沉積於基板120上。 在特疋貫施例中,圓柱形管實際上係由靶材料所構 、θ亚非以靶材料塗佈。舉例來說,該管可由鈦構成,鈦 也是革巴材料。因此用詞” f,,可表示⑽材料覆蓋的管或部份 地或完全地由靶材料構成的管。 藉激勵一氣體來形成電漿,該氣體係於入口 125引入 真空室115而經出口 13〇所排出。利用安裝於旋轉管内的 一靜磁系統135聚焦濺鍍效應。旭硝子(Asahi Glass)所申 請名稱為高效率交流磁控濺鍍裝置(High_efficienq alternating· current magnetr〇n SpUttering device)的日本第 6-17247號早期公開專利申請案(“haranO”等所發明)中說 明一範例性的系統,該公開内容應併入於本說明書中。 現在參照第2圖,第2圖為習知雙支撐的旋轉磁控系 統14〇的圖式,此系統包括一真空室U5、一氣體入口 125、 一氣體出口 1 30、一驅動系統1 1 〇、一電源系統(未顯示)和 1282375 覆蓋-耙材料的兩個旋轉管1〇5。此靶材料 驅動馬達H5移動通過真空室的基板㈣上。猎由基板 Μ :在^恥第3圖’第3圖為習知旋轉磁控系統150的 區塊圖,此系統包括連接於—車由⑽的一 =係連接至一轴承和密封組件165、一電_合: ^驅動Π5。車由160也叙合至一給水設備18〇,使得 以加壓通過軸160且用來以傳導方式冷卻 袷封18 7,在高功率备& 士,、 羊系、,先中郃不一定,在這些高功專系统 中,軸承⑻會有過熱、失去濁滑和停止轉動的傾向。 μΓΓ7使用來維持外部世界和真空冑115内部間的 ,此些密封係為昂貴的且難以維持的鐵電 =體(_·η議)密封。尤其是在密封中的鐵電 ,父流系統中容易受到感應加熱之影響。為防止密封失力 ::密封通常地需要水冷和高溫鐵電流體,水冷和高溫鐵 電流體都使密封增加顯著的複雜度和花費。 第4圖為根據本發明實施例所構成的雙支撐的旋轉磁 ^ = 90的區塊0:此^19()包括於兩端同等支樓的 ^ ^ 195 °方疋轉官195係連接於一軸200,該軸200係 :轴承和密封組件一電源相合η。、一旋轉驅 5#軸承(以支擇臂奶表示)所切。管i95係以水平 =表示’但也可以垂直地來放置。電_合2H)為從--由軸或直接地|馬合電功率至管的任何機構(例如電 1282375 刷)。因而電流從一電源耦合經由軸或直接地流至旋轉管。 電流實質上表示交流電,因為只有交流電會造成渦流電流 (eddy Current)。非理想直流電可包含疊加的交流電。 軸承和密封組件205中的軸承23〇易受高功率交流系 統中感應加熱效應的影響。為防止過熱和失效,軸承 可以由如陶瓷的一非金屬材料所製造,然而陶瓷軸承一般 係叩貝的且需要大量前置時間(leadtime)來取得。為限制成 本,可以使用具金屬座圈(races)和陶瓷滾珠(balls)的軸承, 此些混合軸承一般需要冷卻座圈。在本發明中,係藉由給 水系統2 2 0來達到冷卻之目的。 在—替代的實施例中,乾燥的高溫金屬軸承可用來取 代陶兗軸承,此些金屬軸承如一般軸承變熱,但在高溫下 不會失去潤滑。一個這種軸承由稱為Mp35N且由加州 Impact bear— of Cap〇 Beach所販賣的鉛合金所構成。此 軸承目前之等級係力52〇〇c之溫度操作且比陶究轴承便宜 許多。可於本發明中使用的另—金屬轴承係—標準鋼轴 承’其可能係以二硫化相式翁外m 化鉬或虱化鈦塗佈,此些軸承目前之 等級係於300CC之溫度操作。 ’ 現在再參照第4圖,功率經由電源麵合21〇輸送至轴 2〇〇和旋轉管195。電源_合—錢由因正常磨損和破片而 隨時間變差的旋轉電刷製成。傳統旋轉電刷也會將不想要 的電雜訊加入電信號$ φ ^ 4r ^ an 现之中。在本發明的實施例中,這些傳 統%源淨禺合係以使用諸士 > 、 便用°者如水銀的液態金屬和接點連結而形 成電氣連接的液態金屬遠技哭敌> 萄運接為取代。一範例性的液態金屬 1282375 連接器由位於加州Carlsbad的Mercotac所生產。 現在參照第5圖,第5圖為本發明的替代實施例235, 此貫施例除旋轉驅動21 5已移至管19 5的另一端外,和第4 圖所顯示的實施例相似,旋轉驅動2 1 5和一支撐軸承(未顯 示)位於真空室1 1 5外的空腔中。 第6圖為本發明另一實施例240,此實施例包括位於真 空室115外的空腔中之一電源耦合210。支撐軸承(未顯示) 可能容易感應加熱,其可以以一非金屬物質或可以抗拒加 熱的一材料所製成。 第7圖為替代性旋轉磁控系統245的區塊圖,其中一 電源耦合210係通過真空室丨15底部,此系統中的電源輕 合2 1 0係位於真空室1丨5内部。電源耦合2丨〇可以包括一 典型滑環或一液態金屬旋轉連接器。 第8圖和第9圖為本發明的替代實施例。第8圖為旋 轉磁控系統250的區塊圖,其中一旋轉驅動2丨5係通過真 空室壁。第9圖為旋轉磁控系統255的區塊圖,其中一電 源輕合2 1 0係通過真空室壁。 第1 0圖為具一前部電源耦合21 0之旋轉磁控系統26〇 的區塊圖。在此實施例中,電源耦合2丨〇係位於軸承23〇 之鈾但位於密封232之後。當電流被引入此電源耦合2 ^ 〇 内,電流流過旋轉管且並沒有完全地流過軸承23〇。因為轴 承230不容易受到電流所造成的完全感應加熱,因此轴承 230可為金屬。在特定情況中,軸承23〇可能容易受到副加 熱且轴承可能須為高溫軸承。 11 ' 1282375 此灵施例令的密封可能容易受 要將傳導元株味丨、固此有需 i _ 4 ^到最少程度或將之移除。其後討論的第 u圖顯不一可垃為 ^ J接叉的密封設計。 弟1 1圖為旋轉磁控系統265的區塊圖,A中一帝 合21〇係位於直介〜11c 包,原耦 、一玉至1 5内部。當電流加入此電源耦合2 i 〇 内,咖過旋轉管且並沒有流過軸承230或密封232,因 :兩個元件都可以以平常材料製成,目此減少複雜度和成 第12圖為真空密封組件268的區塊圖,在此實施例籲 ^兩對V負荷密封270和275係抵住軸200。一彈筈負荷 2可用來取代帶密封。密封27〇和275的開口端指向真 工在封組件268的高壓側,帶密封270和275包括如viton、 、na橡膠或鐵氟龍(telf〇n)的密封元件。支撐係藉由如金屬 的負载結構增加於密封零件。為限制感應加熱,負載結構 可以不銹鋼製成。 見在參妝第13圖,第13圖為可用來從給水設備22〇 提供水至軸200和旋轉管195(第4圖中所顯示)的旋轉接管 _ 之示意圖。此實施例包括可連接至給水設備22〇的一水入 口 290,水流經入口 29〇且進入在外軸2〇〇内的一内軸(未 ”肩示),然後水流至外軸2 0 0的端點或旋轉管1 9 5且然後沿 著方疋轉管1 95和軸200的内表面返回且離開出水返回口 320。 水入口 290經由接頭305來耦接内軸,該接頭3〇5之 輪廓可做成來防止接頭305和外軸200旋轉。接頭3〇5也 12 1282375 可包括用於0形壤3 i 0的-溝槽和用於一鍵或設定螺絲的 一漕溝3 1 5。 外軸200藉由—快速_接器、螺栓或其它的接頭來連 接凸緣組件33G。舉例來說,當快速搞接器已脫離,旋轉接 管285可從外軸200和内軸(未顯示)脫離,使得旋轉管195 可以快速地調換。 因為外軸200旋轉,凸緣組件33〇係配置成於軸承335 上旋轉。且為防止水從凸緣組件33〇漏出,一面密封以〇 係用來形成一水密連結。面密封34〇可以以碳化矽形成。 一範例性的面密封由位於紐約Palmyra的Garl〇ck SeaHng Technologies 所生產。 在一特定的實施例中,一唇形密封可用來取代一面密 封。然而唇形密封非常易受微粒和碎片影響,假如一微粒 陷進唇形密封(橡膠)和軸間,微粒不但會磨損軸且將會破壞 橡膠唇形密封,造成洩漏和軸過早更換。為防止這類的損 壞,唇形密封通常合併下至五十微米的水過濾系統。此過 濾相當地昂貴,包括每月維護來清理或更換濾器。 軸承335、洽封340、入口 290和水返回口 320可容納 於一不銹鋼外殼345内部。該不銹鋼外殼可以以其它材料 做成,該不銹鋼外殼345係被裝入例如由Delrin、鐵氟龍及 /或塑膠製成的一電氣及/或熱絕緣箱35〇内。此箱防止冷凝 現象,因此可明顯地減少直接電震或短路的風險。冷凝和 茂漏現象係為習知旋轉接管設計的一問題。一些生產龜商 係排去任何多餘的水,而其它的生產廠商則提供漏水偵測 13 ^ 1282375 硬體來處理此問題。 第14圖為一電連接器21 〇之一實施例的剖面視圖,該 電連接器210係為一滑環型連接器,其可在真空室115内 部操作,即使真空室中不含用來潤滑之溼氣時亦然。 该連接裔2 10包括複數個電刷3 5 5,其位於以一非傳導 材料360所塗佈或覆蓋之外殼360内部。該電刷355可以 以諸如銀石墨的低電阻材料所形成。範例性的電刷係由位 於加州 Hayward 的 Advance Carbon Products 所生產。電刷 355接合旋轉軸200,且從外殼360傳遞功率至軸2〇〇。功 率經過入水口 370及/或水返回口 375而輸送至外殼36〇, 其一般係由銅所形成的。 入水口 370和水返回口 375經過外殼(〇uterh〇using)36〇 循環水。水冷卻外殼360和電刷355。藉由保持電刷355冷 卻,連接器2 1 0的壽命係可延長。 在一實施例中,外殼360藉由一絕緣支撐結構38〇來 支撐。支撐結構380以一非傳導材料所塗佈來防止電弧。 可替換地,支撐結才籌380可以以一非傳導材料所形成。支· 撐結構380和外殼36G係經由—密封組件奶而連接。 弟15圖為第14圖中所顯示之滑環組件的側視圖,此 視圖說明額外的細節。舉例來說,此實施例說明電刷彈簧 3 90,其可加以§周整來控制電刷奶和軸·間接合愿力。 ,實施例也包括-接觸組件彻,以提供電刷奶上的橫向 壓力,因此增加冷卻能力和傳導特性。 總而言之 本發明提供一種用來建構和操作磁控系統 14 1282375 的糸y。熟習本項技術者可以充分地認知 係可實質地完成藉由所說明的^和替換的㈣和配置 月的貝施例所達到的相 因此並不在於限制本發明於所 、,Ό果 万、所揭不的範例性形式 化、修改和替代構造係落 夕,夂 ^ “击 所揭不發明的範疇和精神之 中,如申凊專利範圍中所表示。 种之 【圖式簡單說明】 當配合圖式,便能蕻由夂去… 1更此糟由麥考砰細說明及申請專利 而更清楚及充分地明瞭本發明的畔多 日」〇干夕目的和優點, 發明有更完全之了解 儿對本 第1圖為習知懸臂式旋轉磁控系統的圖式。 第2圖為習知雙支撐的旋轉磁控系統的圖式。 第3圖為習知旋轉磁控系統的區塊圖。 第4圖為雙支撐的旋轉磁控系統的區塊圖。 第5圖為旋轉磁控系統的區塊圖,其中一旋轉驅動係 通過真空室底部。 第6圖為旋轉磁控系統的區塊圖,其中一電源饋入係 通過真空室底部。 第7圖為替換性旋轉磁控系統的區塊圖,其中一電源 饋入係通過真空室底部。 第8圖為旋轉磁控系統的區塊圖,其中一旋轉驅動係 通過真空室壁。 第9圖為旋轉磁控系統的區塊圖,其中一電源饋入係 15 1282375 通過真空室壁。 第1 〇圖為具有一前部饋入之旋轉磁控系統的區塊圖。 第11圖為旋轉磁控系統的區塊圖,其中一電源饋入係 位於真空室内部。 第12圖為真空密封組件的區塊圖。 第1 3圖為旋轉水接管之示意圖。 第14圖為依據本發明一實施例所設計之滑環的剖面 圖。 第1 5圖為依據本發明一實施例所設計之滑環的側視 圖。 【主要元件符號說明】 100 旋轉磁控系統 105 圓柱形管 110 驅動系統 115 真空室 120 基板 125 入口 130 出口 135 靜磁糸統 140 旋轉磁控系統 145 基板驅動馬達 150 旋轉磁控系統 155 旋轉管 16 •1282375 160 軸 165 密封組件 170 電源搞合 175 旋轉驅動 180 給水設備 185 軸承 187 密封 190 旋轉磁控系統 195 旋轉管 200 軸 205 密封組件 210 電源耦合 215 旋轉驅動 220 給水設備 225 支撐臂 230 轴承 232 密封 235 替代實施例 240 其它實施例 245 旋轉磁控系統 250 旋轉磁控系統 255 旋轉磁控系統 260 旋轉磁控系統 265 旋轉磁控系統
17 ,1282375 268 真空密封組件 270 密封 275 密封 285 旋轉接管 290 入口 305 接頭 310 0形環 315 漕溝 320 水返回口 330 凸緣組件 335 轴承 340 面密封 345 不銹鋼外殼 350 絕緣箱 355 電刷 360 外殼 365 非傳導材料 370 入水口 375 水返回口 380 支撐結構 385 密封組件 390 電刷彈簧 400 接觸組件
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Claims (1)

  1. ΤΊ ·:·,_ I Π ί2823_· L::、、 it ^ ^ 統,該系統士一 十、申請專利範圍: 1 · 一種用於塗佈基板的系 一真空室; 室内部; 亥輛邛份地在該真空室外部; 一可旋轉管,置放於該真 一轴’連接該可旋轉管, 於該直空& AJL A ^ 外邛,該軸承係 以可旋轉之 一軸承,置放 方式接合該軸; 一密封,置放於該軸承和該直 提供該真空室和該軸間的密封;及工至間’“封係用來 一電源耦合器,用於耠w 耗合器置放於該轴承和該率至該可旋轉管,該電源 電流。 *封間,因此限制流經該軸承的 2.如申請專利範圍第丨 , 哭你要L 、斤述之糸統’其中該電、、盾主 ⑻係置放於該真空室内部。 甩源耦合 統,其中該可 3·如申請專利範圍第i項所 和该軸係整合為一體。 包含 4·如申請專利範圍第1 驅 % ^ ^ 負所述之系統,進一步 勒糸統,用於旋轉該軸。 5·如申請專利範圍第1 ^ 承包含 陶免滚珠。 之糸統’其中該輛 6.如申請專利範圍第 陶瓷針。 乐,'死/、T °亥輛承包含 人如申請專利範圍第卜 Mp35N。 乐、、无,、亥輛承包含 19 ,1282375 8. 如申請專利範圍第丨項所述之系統,^ 器係置放於該真空室外部。 “中該電源耦合 9. 如申請專利範圍帛1項所述之系統, 器包含-水冷滑環(slip nng)連接器。〃中該電源耦合 I 〇·如申請專利範圍第1項所述之系統 合器包含一液態金屬連接器。 其中該電源耦 II ·如申請專利範圍第丨項所述之系 支撐,置放於該真空室内部,其中該可旋轉:―步包含-支撐所支撐。 疋轉官不斷地由該
    12·—種用於塗佈基板的系統,包含 一可旋轉的磁控管; 4々疋付日3石兹控管· 一軸承,用於以可旋轉之方式接合唁, 一密封,置放於該軸承$ 疋轉的磁控管 釉承和该真空室間;及 一電源耦合器,用於輪送功 其中該電猶器係置放於該軸承和:密二^
    13.如申請專利範圍第12項所述之系統, 合器係置放於該真空室内部。 電’原* 14. 一種用於塗佈基板 一真空室; 的系統,該系統包含·· 一可旋轉管,置放於哕言办— 成真空室内部; 一轴’連接該可旋轉普 5亥轴部份地在該真空室外部. 一轴承,置放於該直办— ’ ”工至外部,該軸承用於以可旋 之方式接合該軸;及 轉 20 一接合該軸的液態 可旋轉管。 金屬電連接器 用來輸送功率至該 U項所述之系統,其中該軸承為 Μ·如申請專利範圍第 非金屬轴承。 丄6.如申請專利範圍第 、、 屬電連接器係置放於該軸項所述之系統,其中該液態金 承和该可旋轉管間。 17·-種用於塗佈基板的系統,該系統包含: 一可旋轉的靶; 軸K用於以可旋轉之方式接合該可旋轉的革巴;及 一液態金屬電連接器’用於輸送功率至該可旋轉的乾。 18·如申請專利範圍$ 17工頁所述之系、统,其中該液態金 屬電連接器係置放於該軸承和該可旋轉㈣來限制流過該 軸承的電流。 X 19·如申請專利範圍第^、第12項、第14項及第η 項中任j員所述之系統,其中該電源糕合器或電連接 耦合至一交流電源。 μ 2〇·如申請專利範圍第19項所述之系統,其中該交流電 源具1至10kHz間的一頻率。 十一、圖式: 如次頁 21
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