TWI270224B - Organic semiconductor device and method for manufacturing the same - Google Patents
Organic semiconductor device and method for manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- TWI270224B TWI270224B TW094119871A TW94119871A TWI270224B TW I270224 B TWI270224 B TW I270224B TW 094119871 A TW094119871 A TW 094119871A TW 94119871 A TW94119871 A TW 94119871A TW I270224 B TWI270224 B TW I270224B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- organic semiconductor
- layer
- particles
- semiconductor device
- electrode
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 270
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 97
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 118
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 3
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 3
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/464—Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/466—Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/211—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by selective transformation of an existing layer
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/231—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
1270224 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於有機半導體元件和該製造方法。 【先前技術】 近年來’利用有機半導體材料作爲活性層之有機半導 體元件的硏究正急速地進展中。就有機半導體元件而言, Φ 已知有例如在設置於樹脂基板的閘極電極上,經由閘極絕 緣膜形成有機半導體層,並在其上形成源極電極及汲極電 極的場效型有機薄膜電晶體(有機TFT )(例如參照曰本 特開2000 — 3 07 1 72號公報、日本特開2003 - 1 79234號公報 )° 有機半導體元件與使用習知之矽等無機半導體的元件 不同’有機半導體層的形成具有可適用低成本之印刷法等 的優點。再者,有機半導體元件亦具有容易大面積化的優 點。此外,除了有機半導體層本身的柔軟性外,藉由適用 印刷法,可使用樹脂基板,所以具有可製作撓性半導體元 件的特徵。 使用於有機半導體元件的有機半導體材料,五苯( pentacene )等低分子系有機半導體材料與聚噻吩(poly thiophene )、聚荀(polyfluorene )、聚苯乙炔( polyphenylene vinylene)等高分子系有機半導體材料有很 大的不同。由於聚噻吩等高分子系有機半導體材料對有機 溶媒等的溶解性良好,所以嘗試使用溶液狀高分子系有機 -5- (2) 1270224 半導體材料作爲油墨,適用噴墨法、膠版印刷(〇ffset pnnt )法、凹版印刷法等印刷法,來形成有機半導體層。 追些印刷方法中’噴墨法可直接描繪,而不用使用遮 罩等’此外,雖然對於元件構造的微細化等亦有效,但會 有有機半導體元件之製造效率較低的困難。再者,膠版印 刷或凹版印刷,對有機半導體元件的製造效率良好,反之 ,必須依據元件構造來製造版。因此,有機半導體元件的 φ 製造成本容易增加,同時,不適合製造少量多種類的有機 半導體元件。又,膠版印刷或照相凹版印刷具有無法將元 件構造充分地微細化之困難點。 另一方面,由於五苯(pentacene)等低分子系有機半 導體材料缺少溶媒溶解性,所以難以像高分子系有機半導 體材料那樣適用印刷法來製造有機半導體元件。使用低分 子系有機半導體材料的有機半導體元件,與以往的無機半 導體同樣地,嘗試適用真空成膜步驟來製造,但是,此方 II式將無法充分地發揮使用有機半導體材料之半導體元件的 特徵。低分子系有機半導體材料相較於高分子系材料,半 導體特性良好,所以需要開發可以低成本且適用樹脂基板 等的製造步驟。 【發明內容】 本發明之一型態的有機半導體元件,其特徵爲具備: 具有有機半導體粒子之熱熔接層的有機半導體層;和將電 流或電場供給至上述有機半導體層的電極。 -6- (3) 1270224 本發明之其他型態的有機半導體元件,其特徵爲具備 :具有有機半導體粒子之熱熔接層的有機半導體層;和以 在上述有機半導體層施加電場的方式,經由閘極絕緣膜而 配置的閘極電極;和 與上述有機半導體層電性連接的源極電極;和與上述 有機半導體層電性連接,且以在與上述源極電極之間介設 上述閘極電極之形成區域的方式配置的汲極電極。 本發明之一型態的有機半導體元件之製造方法,係製 造具有有機半導體層之有機半導體元件的方法,其特徵爲 :令有機半導體粒子附著於上述有機半導體層之基底層上 的步驟;和將上述有機半導體粒子加熱,使之熱熔接,藉 以形成上述有機半導體層的步驟。 【實施方式】 以下,參照圖面,說明用以實施本發明的型態。以下 Φ係依據圖面,闡述本發明的實施型態,然而這些圖面僅供 圖解用,本發明並不受限於這些圖面。 第1圖係表示根據本發明之第1實施型態之有機半導體 元件的槪略構造的剖面圖。該圖所示的有機半導體元件1 具有由例如絕緣性樹脂所構成的基板2。尤其,絕緣性樹 脂薄膜等撓性基板,在活化有機半導體元件1的特性上是 有效的,更且,從有機半導體元件1之製造成本的降低或 利用領域的擴大等方面來看,更爲理想。然而,基板2的 構成材料並不限定於絕緣性樹脂,亦可使用由各種絕緣材 (4) 1270224 料構成的基板。 基板2上形成有閘極電極3。閘極電極3係由例如電鍍 基底層4和形成於其表面的金屬電鍍層5所構成。但是,閘 極電極3並不限定於此,亦可利用例如印刷法、蒸鍍法、 濺鍍法等來形成。在閘極電極3上形成有閘極絕緣膜6。即 ,基板2的表面包含閘極電極3上均被閘極絕緣膜6覆蓋。 閘極絕緣膜6係藉由例如聚乙嫌苯酚(ρ ο 1 y v i n y 1 p h e η ο 1 ) φ 、聚醯亞胺(polyimide )、氟系樹脂等絕緣性樹脂、或 Si02或Si03N4等的無機絕緣物形成。 在閘極絕緣膜6上,源極電極7與汲極電極8係保持預 定距離而配置。即,源極電極7與汲極電極8係以在彼此間 介設閘極電極3之形成區域的方式配置。此等電極7、8係 與閘極電極3同樣,分別由電鍍基底層9和形成於其表面的 金屬電鑛層10構成。源極電極7及汲極電極8亦與鬧極電極 3同樣不限定於此種構成。具有各電極3、7、8及閘極絕緣 φ膜6的基板2,係如後所述可藉由使用電子照相方式的畫像 形成裝置來製作。然而,此種基板2亦可適用印刷法或層 壓法(laminate)來製作。 在源極電極7及汲極電極8上,以覆蓋兩者的表面和閘 極絕緣膜6整體的方式,形成有機半導體層1 1作爲活性層 。有機半導體層1 1的構成材料,可適用例如聚噻吩(p〇ly thiophene )、聚芴(polyfluorene )、聚苯乙炔( polyphenylene vinylene)等高分子系有機半導體材料、再 者五苯(pentacene )等低分子系有機半導體材料。有機半 -8- (5) 1270224 導體層11係令此種有機半導體材料的粒子(有機半導體粒 子)熱熔接而形成層狀。 有機半導體層π係藉由令有機半導體粒子附著於具有 作爲基底之源極電極7及汲極電極8的閘極絕緣膜6上,且 在該有機半導體粒子的附著層實施加熱處理,使有機半導 體粒子間熱熔接而形成者。有機半導體粒子對於閘極絕緣 膜6的附著步驟係以適用電子照相方式爲佳。以此方式, φ 可提升元件製造效率或微細圖案的再現性等。 此外,有機半導體粒子的附著步驟並不侷限於電子照 相方式,亦可藉由塗佈例如令有機半導體粒子分散於分散 媒中而形成的液狀物,加以乾躁的方式來實施。無論是哪 一種,重要的是令有機半導體材料以粒子形態附著於基底 層上,藉此方式,可一邊維持有機半導體材料的特性,一 邊形成有機半導體層1 1。又,即使使用缺乏溶媒溶解性等 的低分子系有機半導體材料時,也可形成有機半導體層11 •,而不用使用真空成膜步驟等。 適用電子照相方式形成有機半導體層1 1時,可使用例 如第2圖或第3圖所示的電子照相式畫像形成裝置。第2圖 係表示使用電子照相方式之乾式顯影型畫像形成裝置1 00 的一構成例。畫像形成裝置100主要是由感光鼓(drum) 101、帶電器102、曝光部1〇3、乾式顯影機104、轉印部 105、及固著器106所構成。乾式顯影機104儲存由有機半 導體粒子構成的色彩碳粉粒子。構成色彩碳粉粒子之有機 導體粒子的粒徑係以平均粒徑爲0.5至20μιη的範圍爲佳。 (6) 1270224 使用乾式顯影機1 04時,有機半導體粒子的平均粒徑係以3 至2 0 μ m的範圍爲佳。 第3圖是表示適用電子照相方式之濕式顯影型畫像形 成裝置200的一構成例。畫像形成裝置200主要是由感光鼓 (drum) 201、帶電器202、曝光部203、濕式顯影機204、 及具有中間轉印滾筒205和加壓·加熱滾筒206的轉印·固 著器207構成。濕式顯影機204中儲存液體顯像劑,而該液 φ 體顯像劑係令有機半導體粒子所構成的色彩碳粉粒子懸浮 於介電性液體中而形成者。使用濕式顯影機204時,構成 色彩碳粉粒子之有機半導體粒子的平均粒徑係以0.1至3 μιη 的範圍,尤其以0.1至0.5 μηι的範圍爲佳。 參照第4圖說明使用此種畫像形成裝置之有機半導體 層1 1的形成步驟。首先,就使用第2圖所示之乾式顯影型 畫像形成裝置100的例子,加以闡述。一邊令感光鼓101朝 箭號方向旋轉,一邊藉由帶電器102使感光鼓101的表面電 鲁位帶有一定電位(例如負電荷)。具體的帶電方法,具有 電腦電壓帶電法、滾筒(roller )帶電法、刷子(blush ) 帶電法等。繼之,在適用例如雷射產生·掃描裝置的曝光 部1 03中,依據畫像信號,將雷射光照射在感光鼓1 〇 1,而 去除照射部分的負電荷。以此方式,在感光鼓1 0 1的表面 ,形成依據預定元件圖案的電荷像(靜電潛像)1 07。 然後,從乾式顯影機1 04供給色彩碳粉粒子,即帶電 的有機半導體粒子,使之附著於感光鼓1 0 1上的靜電潛像 1 〇 7,而形成可視像1 0 8。此時,可使用正顯影法或反轉顯 -10- (7) 1270224 影法。又,乾式顯影機1 04可適用眾所周知之電子照像式 複寫系統的乾式色彩碳粉轉印技術。接著,將有機半導體 粒子(色彩碳粉粒子)所形成的可視像1 08,透過轉印部 105從感光鼓101轉印在基材109上。轉印方式已知有靜電 轉印法、黏著轉印法、壓力轉印法等,亦可使用任一者。 即,如第4A圖所示,將作爲色彩碳粉粒子使用的有機 半導體粒子12,依據有機半導體層11的形成圖案,轉印而 φ 附著在具有作爲基材109之閘極絕緣膜6的基板上。接著, 將轉印在閘極絕緣膜6上的有機半導體粒子1 2,透過固著 器106加熱,使之固著。在該加熱固著時,將有機半導體 粒子1 2的至少表面部熔化或軟化,以使相鄰接之有機半導 體粒子12彼此熱熔接。以此方式,如第4B圖所示,形成由 有機半導體粒子12之熱熔接層所構成的有機半導體層11。 此外,有機半導體粒子1 2的轉印步驟及加熱固著步驟亦可 依據有機半導體層11的厚度等反覆實施複數次。 Φ 使用第3圖所示之濕式顯影型畫像形成裝置200時,係 與乾式顯影型畫像形成裝置100同樣地,一邊令感光鼓201 朝箭號方向旋轉,一邊進行帶電器202所致之帶電、曝光 部203所致之靜電潛像208的形成。繼之,從濕式顯影機 2 04供給液體顯像劑,而該液體顯影劑係使有機半導體粒 子作爲色彩碳粉粒子懸浮於介電性液體中而形成者,並且 令該液體顯像劑附著於感光鼓2 0 1上的靜電潛像2 0 8。藉由 內設於濕式顯像機204的濟壓部(Squeeze) 209,去除多餘 的液體,而在感光鼓2 0 1的表面形成可視像2 1 0。 -11 - (8) 1270224 接著,將有機半導體粒子(色彩碳粉粒子)所形成的 可視像208,藉由中間轉印滾筒205暫時印取。然後,將印 取於中間轉印滾筒205的可視像2 1 0,從基材2 1 1的背側, 透過加壓·加熱滾筒206,一邊施加壓力和溫度,一邊轉 印在基材211上。此時,有機半導體粒子所形成的可視像 208,與對於基材2 1 1上的轉印同時加熱而固著。以此方式 ,如第4A圖及第4B圖所示,實施令有機半導體粒子12附著 φ 的步驟、及有機半導體粒子12之熱熔接層(有機半導體層 1 1 )的形成步驟。 在上述有機半導體元件1中,源極電極7與汲極電極8 之間係藉由有機半導體層1 1電性連接。從源極電極7供給 至有機半導體層1 1的電流會從汲極電極8排出。閘極電極3 係經由閘極絕緣膜6配置,俾可在連接源極電極7與汲極電 極8之間的有機半導體層11施加電場。有機半導體元件1係 依據對閘極電極3之電壓的導通·截斷,而具有用以控制 φ源極電極7和汲極電極8間之電流之場效型電晶體(FET ) 的功能。亦即,有機半導體元件1係構成具有開關元件等 功能的有機TFT。 此外,有機半導體元件1亦可適用例如第5圖或第6圖 所示的元件構造。第5圖所示的有機半導體元件1具有在基 板2上形成源極電極7及汲極電極8,且在其上依序設置有 機半導體層1 1、閘極絕緣膜6及閘極電極3的元件構造。第 6圖所示的有機半導體元件1具有在閘極絕緣膜6上形成有 機半導體層11,且在其上形成源極電極7及汲極電極8的元 -12- (9) 1270224 件構造。此時,源極電極7及汲極電極8亦可藉由印刷法等 形成。 在這些構造中,有機半導體元件1以適用第1圖或第5 圖所示的元件構造爲佳。第1圖所示的有機半導體元件1中 ,有機半導體層1 1的形成步驟爲最後步驟。所以,在電極 3、7、8的形成步驟適用電鍍法時,可抑制有機半導體層 1 1的特性劣化。第5圖所示的有機半導體元件1中,在有機 φ 半導體層1 1上形成電極3時,閘極絕緣膜6具有有機半導體 層11之保護層的功能。因此,可抑制有機半導體層11的特 性劣化。 上述第1實施型態中,由於係在有機半導體層適用有 機半導體粒子的熱熔接層,所以可將各種有機半導體材料 所構成的有機半導體層11,一邊維持其半導體特性,一邊 形成。再者,可實現有機半導體元件1之製作成本的降低 、製造效率的提升等。例如,並不限定於高分子系有機半 #導體材料,在使用缺乏溶媒溶解性等低分子系有機半導體 材料時,亦可一邊維持有機半導體粒子本來具有的半導體 特性,一邊以良好再現性且以低成本來製作微細的有機半 導體層1 1。 藉由在有機半導體粒子的附著步驟適用電子照相方式 ’可提升有機半導體元件1的製造效率,而不會損及微細 圖案的形成性或直接描繪所致之低成本性等。亦即,根據 電子照相方式,不需使用遮罩或版等,可依據有機半導體 層11的形成圖案,直接令有機半導體粒子附著於基材(基 -13- 1270224 do) 底)上。藉由令此種有機半導體粒子的附著層加熱固著, 可以良好再現性獲得微細的有機半導體層1 1。因此,不會 損及微細圖案的形成性或直接描繪所致之低成本性等,而 可提高有機半導體元件1的製造效率。 該實施型態的有機半導體元件1可適用各種電氣·電 子裝置。例如,作爲有機半導體元件1作爲液晶顯示器或 有機電激發光顯示器等的顯示裝置、光感應器或感壓感應 φ 器等的薄片(Sheet )型感應器裝置、太陽能電池等發電裝 置、無線電標籤(RF tag)等數據載體(data carrier)零 件的開關元件或電路元件等來使用。有機半導體元件之熱 熔接層所構成的有機半導體層1 1並不侷限於FET,亦可使 用於雙載子電晶體(bipolar transistor)等其他三端子構 造的半導體元件。 再者,有機半導體層11亦可適用於有機二極體或有機 半導體開關元件(thyristor)等兩端子構造的半導體元件 φ 。在有機二極體或有機半導體開關元件中,以有機半導體 粒子的熱熔接層,形成P型有機半導體層和η型有機半導體 層的積層膜。藉由在此種積層膜(有機半導體層)附設陽 極與陰極,可構成兩端子構造的有機半導體元件。有機二 極體可作爲例如光感應益或於太陽能電池所使用的受光元 件、有機電激發光顯示器所使用的發光元件等使用。 上述有機半導體層11的形成步驟,即適用電子照相方 式之有機半導體層11的形成步驟,亦可應用於電極3、7、 8的形成步驟(具體而言’電鍍基底層的形成步驟)或閘 -14- (11) 1270224 極絕緣0吴6的形成步驟。也就是說,有機半導體元件1整體 的製作步驟’可適用電子照相方式。參照第7圖,就關於 使用此種電子照相方式之有機半導體元件i的製作步驟加 以闡述。 首先,如第7A圖所示,在基板2上適用電子照相方式 形成閘極電極3的電鍍基底層(電鍍薄片層)5。適用電子 照相方式形成電鍍基底層5時,係使用含金屬微粒子的絕 φ 緣性樹脂粒子(含金屬的樹脂粒子)作爲色彩碳粉。含金 屬的樹脂粒子,可使用在例如B級(stage )的環氧樹脂等 熱硬化性樹脂中,含Pt、Pd、Cu、Au、Ni、Ag等金屬微 粒子的粒子。樹脂粒子中的金屬微粒子係爲無電解電鍍的 核。含金屬的樹脂粒子係與有機半導體粒子同樣地,可使 用第2圖或第3圖所示之電子照相式畫像形成裝置來形成。 例如第2圖所示的畫像形成裝置100中,係在帶有一定 電位的感光鼓1 〇 1,藉由曝光部1 〇3形成預定圖案的靜電潛 φ像108。靜電潛像107係與閘極電極3的形成圖案對應而形 成。從顯影機1 〇4供給含金屬樹脂粒子所構成的色彩碳粉 ,使之附著於感光鼓1 〇 1上的靜電潛像1 0 7。繼之’用轉印 部1 〇 5將形成於感光鼓1 〇 1表面的可視像1 0 8轉印於基材1 0 9 上。然後,將轉印於基材1 〇 9上之含金屬樹脂子所構成 的色彩碳粉,透過固著器1 0 6加熱而固著。B級的熱硬化性 樹脂係藉由加熱而硬化。 如上所述,在基板2上形成有含金屬微粒子之絕緣性 樹脂層所構成的電鍍基底層4。使用第3圖所示之畫像形成 -15- (12) 1270224 裝置200的情形也是同樣。然後,如第7B圖所示,藉由對 電鍍基底層4實施無電解電鍍處理,得以形成作爲電極層 的金屬電鍍層5。第2圖中雖省略圖示,然而係連接固著器 106,設有無電解電鍍槽。具有電鍍基底層4的基板2係浸 漬於Cu等無電解電鍍槽,且將突出於電鍍基底層4之表面 的金屬微粒子作爲核,選擇性地令Cu等金屬析出。藉由此 種無電解電鍍步驟,形成具有金屬電鍍層5的閘極電極3。 | 接著,如第7C圖所示,在閘極電極3上適用電子照相 方式,形成閘極絕緣膜6。適用電子照相方式形成閘極絕 緣膜6時,可使用例如聚乙嫌苯酌(polyvinyl phenol)、 聚醯亞胺(polyimide )、氟系樹脂等絕緣性樹脂粒子作爲 色彩碳粉。使用此種絕緣性樹脂粒子所構成的色彩碳粉, 係與形成電鍍基底層4的情形同樣地,得以實施藉由色彩 碳粉所形成之靜電潛像的現象、藉由色彩碳粉所形成之可 視像的轉印、轉印像的加熱固著。因此,在閘極電極3上 φ形成絕緣性樹脂層所構成的閘極絕緣膜6。此外,在轉印 像的加熱固著中,係藉由使熱硬化性樹脂所構成的色彩碳 粉加熱硬化而固著。使用熱可塑性樹脂所構成的色彩碳粉 時,例如使之熱熔接而固著。 然後,如第7圖所示,在閘極絕緣膜6上形成源極電極 7及汲極電極8。源極電極7及汲極電極8的形成步驟,係以 相同於閘極電極3之形成步驟的方式來實施。亦即,在閘 極絕緣膜6上,形成源極電極7及汲極電極8的電鍍基底層9 ’並以突出於這些電鍍基底層9表面的金屬微粒子作爲核 -16- (13) 1270224 心,使Cu等金屬藉由無電解電鍍選擇性地吸出。以此方式 ,形成具有金屬電鍍層10的源極電極7及汲極電極8。然後 ,在閘極絕緣膜6上適用電子照相方式,形成有機半導體 層11。有機半導體層11的形成步驟係如上所述。 此外,第5圖所示之有機半導體元件1,係在設有源極 電極7及汲極電極8的基板2上,適用電子照相方式形成有 機半導體層11。此時之有機半導體層11的形成步驟的相異 φ 點,僅在於基底層係設有源極電極7及汲極電極8的基板2 ,此外,均以相同於第4圖的方式來實施。第6圖所示的有 機半導體元件1中,源極電極7及汲極電極8的形成,適用 電子照相方式時,以使用含金屬微粒子的有機半導體粒子 作爲色彩碳粉,來形成電鍍基底層1〇爲佳。因此,可良好 地確保源極電極7及汲極電極8與有機半導體層1 1的電性連 接。 上述有機半導體元件1的製造步驟中,閘極電極3的形 φ成步驟、閘極絕緣膜6的形成步驟、源極電極7與汲極電極 8的形成步驟及有機半導體層11的形成步驟’任一者均可 適用電子照相方式來實施。因此’可以低成本且良好效率 製作有機半導體元件1整體。又,可將有機半導體元件1的 元件構造整體微細化。藉此方式’可實現有機半導體元件 1的小型·高密度化、高功能化、低成本化等。 本實施型態之有機半導體元件的製造步驟並不侷限於 FET,亦可適用於其他三端子構造的半導體元件、或有機 二極體等兩端子構造的半導體元件。電子照相方式可適用 -17- (14) 1270224 於各種構造之有機半導體元件的製作步驟’任一者均可將 元件整體以低成本且良好效率來製作。亦即,根據本實施 型態的製造步驟,可實現各種構造之有機半導體元件的小 型·高密度化、高功能化、低成本化等。 繼之,參照第8圖,說明本發明之第2實施型態的有機 半導體元件。此外,在與上述第1實施型態相同的部分附 註相同的符號,以省略部分的說明。第8圖所示的有機半 φ 導體元件20中,係在基板2上分別形成具有電鍍基底層9與 金屬電鍍層1〇的源極電極7及汲極電極8。這些電極7、8係 與上述第1實施型態同樣地,藉由電子照相方式來形成。 在源極電極7及汲極電極8上,形成有機半導體層1 1作 爲活性層。與第1實施型態同樣,有機半導體層1 1的構成 材料,可適用例如例如聚噻吩(poly thiophene )、聚芴 (poly fluorene)、聚苯乙炔(polyphenylene vinylene) 等高分子系有機半導體材料、五苯(pentacene)等低分子 鲁系有機半導體材料。有機半導體層11係令此種有機半導體 材料的粒子(有機半導體粒子)熱熔接。亦即,有機半導 體層U係令有機半導體粒子附著於具有源極電極7及汲極 電極8的基板2上,且在該有機半導體粒子的附著層實施加 熱處理’藉由使有機半導體粒子間熱熔接,而形成層狀。 具體的形成步驟係與第1實施型態相同。 在有機半導體粒子之熱熔接層所構成的有機半導體層 11上’形成有閘極電極3的電鍍基底層4。在電鍍基底層4 上形成具備閘極電極3功能的金屬電鍍層5。電鍍基底層4 -18- (15) 1270224 係與上述第1實施型態同樣地,可藉由電子照相方式形成 。在此,電鍍基底層4係藉由含有金屬微粒子的絕緣性樹 脂層構成,層整體具有絕緣層的功能。亦即,在電鍍基底 層4中,由於作爲電鍍核的金屬微粒子係分散於絕緣性樹 脂層中,所以電鍍基底層4本身得以維持絕緣層的功能。 第2實施型態的有機半導體元件20,係利用具有絕緣 層功能的電鍍基底層4作爲閘極絕緣膜6。亦即,具有閘極 φ 電極3功能的金屬電鍍層5,係經由電鍍基底層4所構成的 閘極絕緣膜6,形成於有機半導體層1 1上。換言之,在用 以連接源極電極7與汲極電極8之間的有機半導體層1 1上, 經由電鍍基底層4所構成的閘極絕緣膜6配置閘極電極3, 並從該閘極電極3施加電場而構成。有機半導體元件20係 與第1實施型態同樣地,具有場效電晶體的功能。 在上述第2實施型態的有機半導體元件20中,藉由利 用電鍍機體層4作爲閘極絕緣膜6,可使構成元件的層數減 φ少。因此,可進一步削減有機半導體元件20的製造成本。 此外,與第1實施型態同樣地,因爲適用有機半導體粒子 之熱熔接層所構成的有機半導體層1 1,所以可將各種有機 半導體材料所構成的層1 1,一邊維持其半導體特性,一邊 以低成本來製作。再者,藉由在有機半導體粒子的附著步 驟適用電子照相方式,不會損及微細圖案的形成性或直接 描繪所致之低成本性等,而可提高有機半導體元件20的製 造效率。 此外,本發明並不限定於上述實施型態,只要是利用 -19- (16) 1270224 有機半導體層作爲活性層的有機半導體元件及其製造方法 ,均包含於本發明。又,本發明的實施型態在本發明的技 術思想範圍內均可加以擴張或變更,而該擴張或變更的實 施型態亦包含於本發明的技術範圍。 【圖式簡單說明】 本發明係參照圖面來加以描述,然而,這些圖面僅供 φ 圖解用,並非用以限定發明。 第1圖係模式地表示本發明之第1實施型態之有機半導 .體元件之槪略構造的剖面圖。 第2圖係表示適用於本發明之第1實施型態之有機半導 體元件的製造步驟之乾式顯影型畫像形成裝置的一構成例 之圖。 第3圖係表不適用於本發明之第1實施型態之有機半導 體元件的製造步驟之濕式顯影型畫像形成裝置的一構成例 φ之圖。 第4A圖及第4B圖係模式地表示第1圖所示之有機半導 體元件之有機半導體層的製造步驟之剖面圖。 第5圖係模式地表示本發明之第1實施型態之有機半導 體元件之一變形例的槪略構造之剖面圖。 第6圖係模式地表示本發明之第1實施型態之有機半導 體元件之其他變形例的槪略構造之剖面圖。 第7A圖、第7B圖、第7C圖、第7D圖及第7E圖係模式 地表示本發明之第1實施型態之有機半導體元件的製造步 -20- (17) (17)1270224 驟之剖面圖。 第8圖係模式地表示本發明之第2實施型態之有機半導 體元件的槪略構造之剖面圖。 【主要元件符號說明】 1、20 有機半導體元件 2 基板 3 閘極電極 4、9 電鍍基底層 5、10 金屬電鍍層 6 閘極絕緣膜 7 源極電極 8 汲極電極 11 有機半導體層 100 乾式顯像型畫像形成裝置 101 、 201 感光鼓 102 、 202 帶電器 103 、 203 曝光部 104 乾式顯影機 105 轉印部 106 固著器 107 靜電潛像 108 、 208 可視像 109 、 211 基材 -21 - 1270224 (18) 204 濕式顯影機 205 中間轉印滾筒 206 加壓·加熱滾筒 207 轉印·固著部
-22-
Claims (1)
- (1) 1270224 十、申請專利範圍 1·一種有機半導體元件,其特徵爲具備: 具有有機半導體粒子之熱熔接層的有機半導體層;和 將電流或電場供給至上述有機半導體層的電極。 2·如申請專利範圍第1項之有機半導體元件,其中, 上述有機半導體粒子具有0.5至20 μηι範圍的平均粒徑。 3 ·如申請專利範圍第1項之有機半導體元件,其中, φ 上述有機半導體層係直接或經由其他層形成於絕緣性樹脂 基板上。 4 .如申請專利範圍第1項之有機半導體元件,其中, 上述電極具備:由含有金屬微粒子之絕緣性樹脂層或有機 半導體層所構成的電鍍基底層;和形成於上述電鍍基底層 上的金屬電鍍層。 5. —種有機半導體元件,其特徵爲具備: 具有有機半導體粒子之熱熔接層的有機半導體層;和 φ 以在上述有機半導體層施加電場的方式,經由閘極絕 緣膜而配置的閘極電極;和 與上述有機半導體層電性連接的源極電極;和 與上述有機半導體層電性連接,且以在與上述源極電 極之間介設上述閘極電極之形成區域的方式配置的汲極電 極。 6. 如申請專利範圍第5項之有機半導體元件,其中’ 選自上述閘極電極、上述源極電極及上述汲極電極之至少 一者具備:具有含有金屬微粒子之絕緣性樹脂層或有機半 -23- (2) 1270224 導體層的電鍍基底層;和形成於上述電鍍基底層上的金屬 電鍍層。 7·如申請專利範圍第5項之有機半導體元件,其中, 上述閘極絕緣膜具備絕緣性樹脂層。 8 ·如申請專利範圍第5項之有機半導體元件,其中, 上述閘極絕緣膜係以覆蓋具有上述閘極電極之基板表面的 方式形成,且上述有機半導體層係以覆蓋形成於上述閘極 φ 絕緣膜上之上述源極電極及上述汲極電極的方式形成。 9·如申請專利範圍第5項之有機半導體元件,其中, 上述有機半導體層係以覆蓋具有上述源極電極及上述汲極 電極之基板表面的方式形成,且上述閘極絕緣膜係形成於 上述有機半導體層上,且上述閘極電極係形成於上述閘極 絕緣膜上。 10·如申請專利範圍第9項之有機半導體元件,其中, 上述閘極絕緣膜具有含有金屬微粒子的絕緣性樹脂層,且 •上述閘極電極具有將上述閘極絕緣膜作爲電鍍基底層而形 成的金屬電鍍層。 11·一種有機半導體元件之製造方法,係製造具有有 機半導體層之有機半導體元件的方法,其特徵爲: 令有機半導體粒子附著於上述有機半導體層之基底層 上的步驟;和 將上述有機半導體粒子加熱,使之熱熔接的步驟。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項之有機半導體元件之製造 方法,其中,使用電子照相方式,令上述有機半導體粒子 -24- (3) 1270224 附著於上述基底層上。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之有機半導體元件之製造 方法,其中,上述有機半導體粒子的附著步驟具備:將感 光體依據上述有機半導體層的畫像資訊加以曝光,而在上 述感光體上形成靜電潛像的步驟;和以含有上述有機半導 體粒子的色彩碳粉(toner )粒子,將上述感光體上的上述 靜電潛像加以顯影,而在上述感光體上形成色彩碳粉像的 φ 步驟;和將上述感光體上的上述色彩碳粉像轉印於上述基 底層上的步驟。 1 4.如申請專利範圍第1 3項之有機半導體元件之製造 方法,其中,上述顯影步驟具有:以含有平均粒徑爲3至 2 0 μηι範圍之上述有機半導體粒子的上述色彩碳粉粒子,將 上述靜電潛像進行乾式顯影的步驟。 1 5 .如申請專利範圍第1 3項之有機半導體元件之製造 方法,其中,上述顯影步驟具有:藉由令平均粒徑爲0.1 φ至3μιη範圍之上述有機半導體粒子作爲上述色彩碳粉粒子 懸浮於介電性液體中而形成的液體顯像劑,將上述靜電潛 像進行濕式顯影的步驟。 1 6 .如申請專利範圍第1 1項之有機半導體元件之製造 方法,其中,又具備:形成在上述有機半導體層供給電流 或電場之電極的步驟。 17.如申請專利範圍第16項之有機半導體元件之製造 方法,其中,上述電極的形成步驟具備:使用電子照相方 式,令分散有金屬微粒子的絕緣性樹脂粒子或有機半導體 -25- (4) 1270224 粒子,附著於上述電極之基底層上的步驟;和將上述絕緣 性樹脂粒子或上述有機半導體粒子加熱而形成電鍍基底層 的步驟;和在上述電鍍基底層上實施無電解電鍍而形成金 屬電鍍層的步驟。 1 8 ·如申請專利範圍第1 1項之有機半導體元件之製造 方法,其中,又具備:形成在上述有機半導體層供給電流 之源極電極及汲極電極的步驟;和形成在上述有機半導體 φ 層施加電場之閘極電極的步驟、和在上述有機半導體層與 上述閘極電極之間,形成閘極絕緣膜的步驟。 1 9 ·如申請專利範圍第1 8項之有機半導體元件之製造 方法,其中,形成上述源極電極、上述汲極電極及上述閘 極電極之至少一者的步驟係具備:使用電子照相方式,令 分散有金屬微粒子的絕緣性樹脂粒子或有機半導體粒子, 附著於上述電極之基底層上的步驟;和將上述絕緣性樹脂 粒子或上述有機半導體粒子加熱而形成電鍍基底層的步驟 φ ;和在上述電鍍基底層實施無電解電鍍而形成金屬電鍍層 的步驟。 2 0.如申請專利範圍第18項之有機半導體元件之製造 方法,其中,上述閘極絕緣膜的形成步驟係使用電子照相 方式,令絕緣性樹脂粒子附著於上述閘極絕緣膜之基底層 上的步驟;和將上述絕緣性樹脂粒子加熱,使之熱硬化或 熱熔接的步驟。 •26-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004177880A JP2006005041A (ja) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | 有機半導体素子とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200610205A TW200610205A (en) | 2006-03-16 |
TWI270224B true TWI270224B (en) | 2007-01-01 |
Family
ID=35479697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW094119871A TWI270224B (en) | 2004-06-16 | 2005-06-15 | Organic semiconductor device and method for manufacturing the same |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050279996A1 (zh) |
JP (1) | JP2006005041A (zh) |
KR (1) | KR100681995B1 (zh) |
CN (1) | CN1713407A (zh) |
TW (1) | TWI270224B (zh) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4693725B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2011-06-01 | キヤノン株式会社 | シート搬送装置及び画像形成装置 |
WO2008087196A1 (de) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Basf Se | Verfahren zum übertragen von strukturinformationen und vorrichtung hierfür |
KR100859113B1 (ko) * | 2007-02-13 | 2008-09-18 | 홍익대학교부설과학기술연구소 | 문턱 전압의 조절이 가능한 유기 박막 트랜지스터 및 그것의 제조방법 |
JP5170627B2 (ja) * | 2007-10-12 | 2013-03-27 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 有機半導体装置の作製方法及び有機半導体装置 |
FR2923083B1 (fr) * | 2007-10-24 | 2015-04-17 | Centre Nat Rech Scient | Realisation d'une couche mince en materiau semiconducteur organique moleculaire. |
JP2010040897A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sony Corp | 有機薄膜トランジスタ、有機薄膜トランジスタの製造方法、および電子機器 |
GB2467357B (en) * | 2009-01-30 | 2011-09-21 | Cambridge Display Tech Ltd | Organic thin film transistors |
GB201011280D0 (en) * | 2010-07-05 | 2010-08-18 | Cambridge Entpr Ltd | Patterning |
RU2589338C2 (ru) * | 2011-06-10 | 2016-07-10 | Конинклейке Филипс Н.В. | Устройство вывода света и способ его изготовления |
JP5948814B2 (ja) * | 2011-11-25 | 2016-07-06 | ソニー株式会社 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
JP5900110B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-04-06 | 大日本印刷株式会社 | 有機半導体層の形成方法および形成装置 |
JP5787038B2 (ja) * | 2013-01-07 | 2015-09-30 | 富士電機株式会社 | 透明有機薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
JPWO2015076334A1 (ja) * | 2013-11-21 | 2017-03-16 | 株式会社ニコン | トランジスタの製造方法およびトランジスタ |
JP6647556B2 (ja) * | 2015-02-23 | 2020-02-14 | 国立大学法人 東京大学 | コンタクト電極およびその形成方法 |
CN105023951B (zh) * | 2015-07-10 | 2019-08-13 | 广州奥翼电子科技股份有限公司 | 半导体薄膜晶体管及其制造方法以及显示装置及其背板 |
TWI703746B (zh) * | 2015-08-28 | 2020-09-01 | 國立大學法人千葉大學 | 有機半導體裝置的製造方法及粉體 |
US11211569B2 (en) | 2016-01-29 | 2021-12-28 | Wake Forest University | Laser printable organic semiconductor compositions and applications thereof |
CN105932157B (zh) * | 2016-07-12 | 2020-02-28 | 武汉华星光电技术有限公司 | 有机薄膜晶体管制备方法及设备 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4957774A (en) * | 1988-12-14 | 1990-09-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of heat-fixing toner image |
US5063125A (en) * | 1989-12-29 | 1991-11-05 | Xerox Corporation | Electrically conductive layer for electrical devices |
US6693295B2 (en) * | 2000-12-25 | 2004-02-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Indole derivative, material for light-emitting device and light-emitting device using the same |
EP2199437B1 (en) * | 2001-08-09 | 2015-07-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Use of an organic semiconductor solution to form oriented polyacene crystals on a substrate |
US6946676B2 (en) * | 2001-11-05 | 2005-09-20 | 3M Innovative Properties Company | Organic thin film transistor with polymeric interface |
US20050160938A1 (en) * | 2002-01-08 | 2005-07-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid inks comprising stabilizing organosols |
US6677607B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-01-13 | Motorola, Inc. | Organic semiconductor device having an oxide layer |
WO2004013922A2 (en) * | 2002-08-06 | 2004-02-12 | Avecia Limited | Organic electronic devices |
DE10308515B4 (de) * | 2003-02-26 | 2007-01-25 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung organischer lichtemittierender Dioden und organische lichtemittierende Diode |
US6867081B2 (en) * | 2003-07-31 | 2005-03-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Solution-processed thin film transistor formation method |
US7019328B2 (en) * | 2004-06-08 | 2006-03-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Printed transistors |
-
2004
- 2004-06-16 JP JP2004177880A patent/JP2006005041A/ja not_active Abandoned
-
2005
- 2005-06-15 US US11/152,373 patent/US20050279996A1/en not_active Abandoned
- 2005-06-15 TW TW094119871A patent/TWI270224B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-06-15 CN CN200510077091.XA patent/CN1713407A/zh active Pending
- 2005-06-16 KR KR1020050051704A patent/KR100681995B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100681995B1 (ko) | 2007-02-15 |
KR20060046460A (ko) | 2006-05-17 |
US20050279996A1 (en) | 2005-12-22 |
TW200610205A (en) | 2006-03-16 |
CN1713407A (zh) | 2005-12-28 |
JP2006005041A (ja) | 2006-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI270224B (en) | Organic semiconductor device and method for manufacturing the same | |
TWI258175B (en) | Wiring board, method of manufacturing the same, and semiconductor device | |
JP3910907B2 (ja) | キャパシタ素子及びこの製造方法、半導体装置用基板、並びに半導体装置 | |
US7433641B2 (en) | Fixing member, fixing device, and image forming apparatus | |
US8661661B2 (en) | Process for the production of a circuit portion on a substrate | |
TWI253104B (en) | Thin film device, integrated circuit, electrooptic device, and electronic device | |
TW200537995A (en) | Flexible substrate having interlaminar junctions, and process for producing the same | |
US20070234918A1 (en) | System and method for making printed electronic circuits using electrophotography | |
TW200908827A (en) | Wiring board with built-in component and method for manufacturing the same | |
Blanchet et al. | Printing techniques for plastic electronics | |
TW201306273A (zh) | 肖特基二極體及其製備方法 | |
KR100578440B1 (ko) | 배선 기판, 배선 기판의 제조 장치 및 배선 기판의 제조방법 | |
JP2004282412A (ja) | 高周波電子回路部品 | |
JPH07263841A (ja) | 配線基板 | |
JP3697271B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
US20060250452A1 (en) | Electric component, method of forming conductive pattern, and inkjet head | |
US8366944B2 (en) | Image drum and fabricating method thereof | |
WO2014106955A1 (ja) | 組成物、積層体、積層体の製造方法、トランジスタおよびトランジスタの製造方法 | |
US8308887B2 (en) | Via hole forming method using electrophotographic printing method | |
JPH0786721A (ja) | 配線基板 | |
JP6274112B2 (ja) | 組成物、積層体、積層体の製造方法、トランジスタおよびトランジスタの製造方法 | |
JP4201075B2 (ja) | 平面コイルの構造体の製造方法 | |
JP2006114577A (ja) | 回路基板およびその製造方法 | |
TW200525590A (en) | Metal-containing resin particle, resin particle, electronic circuit substrate, and method of producing electronic circuit | |
JP2011005716A (ja) | 配線基板およびその製造方法、ならびに記録ヘッドおよび記録装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |