JP5900110B2 - 有機半導体層の形成方法および形成装置 - Google Patents
有機半導体層の形成方法および形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5900110B2 JP5900110B2 JP2012079983A JP2012079983A JP5900110B2 JP 5900110 B2 JP5900110 B2 JP 5900110B2 JP 2012079983 A JP2012079983 A JP 2012079983A JP 2012079983 A JP2012079983 A JP 2012079983A JP 5900110 B2 JP5900110 B2 JP 5900110B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- organic semiconductor
- semiconductor layer
- mask sheet
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
形成装置10は、有機半導体素子の構成要素の少なくとも一部、例えば有機半導体材料を含む有機半導体層をロールツーロール方式で基材22上に形成するよう構成されている。例えば図1においては、ロール状に巻かれた基材22が巻き出され、次に、基材22上に有機半導体層25が形成され、その後、有機半導体層25が形成された基材22が再度ロール状に巻き取られる例が示されている。
このうち基材供給機構11は、開口部23aを含むマスクシート23が密着された状態の基材22を供給するよう構成されている。具体的には、基材供給機構11は、基材22を巻き出す基材巻出装置12と、マスクシート23を巻き出すマスクシート巻出装置13と、基材22とマスクシート23とを密着させる積層装置14と、を有している。このうち基材巻出装置12は、基材22がロール状に巻きつけられた巻出軸12aを含んでおり、巻出軸12aは、図示しない駆動機構によって回転駆動される。またマスクシート巻出装置13は、マスクシート23がロール状に巻きつけられた巻出軸13aを含んでおり、巻出軸13aは、図示しない駆動機構によって回転駆動される。積層装置14は、マスクシート23に接するよう設けられた積層ローラー14aを含んでいる。この積層ローラー14aがマスクシート23を基材22に向けて押し付けることにより、マスクシート23が基材22に密着される。この際、基材22およびマスクシート23に予め静電気を発生させ、これによって、基材22とマスクシート23とがより強固に密着されるようにしてもよい。また図示はしないが、積層ローラー14aと対向するよう配置され、積層ローラー14aとの間で基材22およびマスクシート23を挟圧するプラテンローラーが設けられていてもよい。これによって、基材22とマスクシート23とをより強固に密着することもできる。
図1に示すように、塗布装置15は、マスクシート23の開口部23aの中に塗布液24を供給するよう構成されている。また塗布装置15は、後に詳細に説明するように、マスクシート23の開口部23aの外縁を跨ぐよう塗布液24を供給する。「開口部23aの外縁を跨ぐ」の意味については後述する。
乾燥装置16としては、塗布液24に含まれる溶媒を適切に蒸発させ、これによって有機半導体層25を得ることができる限りにおいて、様々な方式の乾燥装置を適宜採用することができる。例えば、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥または赤外線乾燥などによって溶媒を蒸発させる乾燥装置を用いることができる。本実施の形態では、乾燥装置16が、塗布液24に赤外線を照射することにより塗布液24中の溶媒を蒸発させる例について説明する。
剥離装置17の下流側に配置されたマスクシート巻取装置18は、マスクシート23を巻き取る巻出軸18aを含んでおり、巻出軸18aは、図示しない駆動機構によって回転駆動される。また剥離装置17は、マスクシート23に接するよう設けられた剥離ローラー17aを含んでいる。この場合、巻出軸18aがマスクシート23を引っ張る力に起因して、剥離ローラー17aを起点として、マスクシート23が基材22から剥離される。
基材巻取装置19は、有機半導体層25が形成された基材22をロール状に巻き取る巻出軸19aを含んでおり、巻出軸19aは、図示しない駆動機構によって回転駆動される。なお図1においては、基材22のうち有機半導体層25が形成された面が内側を向くよう基材22が巻取軸19aに巻き付けられる例を示しているが、これに限られることはない。基材22のうち有機半導体層25が形成された面が外側を向くよう基材22が巻取軸19aに巻き付けられてもよい。
次に、本実施の形態による形成装置10において用いられる塗布液24について説明する。塗布液24は、有機半導体材料と、有機半導体材料を溶解させる溶媒と、を含んでいる。また塗布液24の粘度は、一般的な印刷法において用いられるインキなどの塗布液の粘度に比べて小さくなっている。例えば、せん断速度100/秒、温度23℃という条件下での塗布液24の粘度は、0.1cP〜8.0cPの範囲内となっている。このように粘度が低いため、基材22上に塗布された塗布液24は所定の流動性を有している。このため、一般的な粘度を有する塗布液が用いられる場合に比べ、所定の範囲外にも塗布液24が広がりやすい。従って、基材22上に塗布された塗布液24、および、塗布液24の溶媒を蒸発させることによって得られる有機半導体層25の位置や形状が定まりにくい。また、有機半導体層25の端部の厚みが薄くなってしまう。
次に、上述の形成装置10を用いて基材22上に有機半導体層25を形成する方法について、図3乃至図5を参照して説明する。
はじめに、基材供給機構11を用いて、開口部23aを含むマスクシート23が密着された状態の基材22を塗布装置15に向けて供給する基材供給工程を実施する。具体的には、はじめに、巻出軸12aに巻き付けられている基材22を積層ローラー14aに向けて巻き出す基材巻出工程を実施する。また、巻出軸13aに巻き付けられているマスクシート23を積層ローラー14aに向けて巻き出すマスクシート巻出工程を実施する。その後、積層ローラー14aがマスクシート23を基材22に向けて押圧し、これによって基材22とマスクシート23とを密着させる積層工程を実施する。
次に、基材供給機構11から供給された基材22上に、有機半導体材料と溶媒とを含む塗布液24を間欠的に供給する塗布工程を実施する。図3(a)は、ダイコート式の塗布装置15を用いて基材22上に塗布液24を塗布する様子を示す平面図であり、図3(b)は、基材22を図3(a)の線IIIb−IIIbに沿って見た場合を示す断面図である。図3(a)において、基材22上に間欠的に塗布された塗布液24が存在する領域の各々が、塗布領域24cとして示されている。また図3(a)において、開口部23aの外縁が点線で符号23dによって示されている。また図3(a)(b)において、基材22に対する塗布装置15の相対的な移動方向が矢印D2で示されている。
その後、基材22上に供給された24の溶媒を蒸発させる乾燥工程を実施する。例えば図4に示すように、乾燥装置16を用いて塗布液24に赤外線Lを照射することにより、塗布液24に含まれる溶媒を蒸発させる。これによって図4に示すように、有機半導体材料から構成された有機半導体層25を得ることができる。有機半導体層25の厚みt3は、例えば5nm〜1μmの範囲内となっている。
次に図5に示すように、乾燥工程の後、基材22からマスクシート23を剥離する剥離工程を実施する。これによって、有機半導体層25が形成された基材22を得ることができる。なお上述のように、マスクシート23の遮蔽部23bの断面形状が逆テーパ形状となっている場合、マスクシート23が基材22から剥離される際に生じる有機半導体層25と遮蔽部23bとの間の干渉を抑制することができる。このため、基材22からマスクシート23を容易に剥離することができる。
その後、有機半導体層25が形成され、かつ、マスクシート23が剥離された基材22を巻き取る巻取工程を実施する。これによって、巻取軸19aにロール状に巻きつけられた基材22からなるロール体を得ることができる。ロール体は、基材22上にさらなる層を形成するための工程に供給されてもよい。若しくは、有機半導体層25を有する有機半導体素子が既に基材22上に得られている場合、ロール体は、所定の製品区画で基材22を切断する工程に供給されてもよい。また、剥離装置17によって基材22から剥離された後のマスクシート23を巻取軸18aによって巻き取る。なお、マスクシート23が巻取軸18aに巻き取られる前に、遮蔽部23b上に形成されている有機半導体層25が除去されてもよい。
次に、本実施の形態の効果を比較の形態と比較して説明する。図6A(a)は、比較の形態における塗布工程を示す断面図であり、図6A(b)は、比較の形態によって形成された有機半導体層を示す断面図である。図6Bは、比較の形態において、有機半導体層25の端部25c近傍の厚みが中心部の厚みよりも大きくなっている例を示す断面図である。
なお本実施の形態による形成装置10において、基材22からマスクシート23を剥離させる剥離装置17が設けられている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図7Aに示すように、形成装置10に剥離装置17が設けられていなくてもよい。この場合、巻取工程において、マスクシート23が密着された基材22が巻取軸19aによって巻き取られる。従って、巻取軸19aは、基材22だけでなくマスクシート23をも巻き取る巻取装置19Aとして機能する。
また本実施の形態において、積層装置14が、積層ローラー14aからの押圧力や、基材22およびマスクシート23における静電気力を利用してマスクシート23を基材22に密着させるよう構成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、様々な方法でマスクシート23を基材22に密着させることができる。例えば積層装置14は、基材22とマスクシート23とが磁力によって密着されるよう構成されていてもよい。この場合、例えば図9(a)に示すように、マスクシート23のうち基材22に接する側の面は、磁性材料を含む磁性層26aによって構成されている。また、積層装置14は、磁力によってマスクシート23を基材22側に引き寄せる磁性体14bを含んでいる。図9(a)においては、磁性体14bが、積層ローラー14aとの間で基材22およびマスクシート23を挟圧するプラテンローラーとして構成される例が示されている。このように磁力を利用することにより、積層装置14によってマスクシート23をより強固に基材22に密着させることができる。なおマスクシート23自体が磁性材料を含む場合、例えば遮蔽部23bが磁性材料から構成されている場合、上述のような磁性層26aが設けられていない場合であっても、磁性体14bによってマスクシート23を基材22側へ引き寄せることができる。
また本実施の形態による形成装置10において、1つの有機半導体層25が基材22上に形成される例を示した。しかしながら、形成装置10は、複数の有機半導体層25を基材22上に積層するようよう構成されていてもよい。例えば図10に示すように、形成装置10は、基材22の搬送方向D1に沿って順に並べられた複数の塗布装置15および乾燥装置16の組合せを備えていてもよい。この場合、はじめに、塗布装置15および乾燥装置16の第1の組合せによって、マスクシート23の開口部23a内に第1の有機半導体層25を形成する。次に、第1の組合せの下流側に配置された、塗布装置15および乾燥装置16の第2の組合せによって、マスクシート23の開口部23a内の第1の有機半導体層25上に第2の有機半導体層25を形成する。その後、第2の組合せの下流側に配置された、塗布装置15および乾燥装置16の第3の組合せによって、マスクシート23の開口部23a内の第2の有機半導体層25上に第3の有機半導体層25を形成する。このように本変形例によれば、一の形成装置10によって複数の有機半導体層25を効率的に基材22上に積層させることができる。また本変形例によれば、マスクシート23の開口部23a内に供給された塗布液24によって有機半導体層25が形成されるので、形成される各有機半導体層25の厚みを均一にし、かつ、各有機半導体層25の端部25cの位置や形状を精密に定めることができる。
また本実施の形態において、塗布装置15が、間欠ダイコート法によって塗布液24を基材22に供給するよう構成されている例を示した。しかしながら、形成装置10において用いられ得る塗布装置15の方式が間欠ダイコート法に限られることはなく、様々な方式が用いられ得る。ここでは例として、図11(a)(b)を参照して、塗布装置15が、基材22に向けて吐出口15aから塗布液24の液滴24dを吐出するよう構成される場合について説明する。このような方式の塗布装置15としては、例えば、インクジェット法やスプレイ法などを用いた塗布装置が考えられる。
また本実施の形態および変形例において、基材22にマスクシート23が直接的に接するようマスクシート23が基材22に密着される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、基材22にマスクシート23が間接的に接するようマスクシート23が基材22に密着されてもよい。例えば、基材22上に予め何らかの層が形成されており、マスクシート23は、基材22ではなく基材22上の層に直接的に接していてもよい。この場合であっても、上述の形成装置10を用いることにより、基材22上に予め形成された層上に、均一な厚みを有するとともに、端部25cの位置や形状が精密に定められた有機半導体層25を形成することができる。
次に、上述の形成装置10を備えた製造装置を用いて、有機半導体層を有する有機EL素子を製造する例について、図12および図13(a)〜(i)を参照して説明する。図12は、有機EL素子30の層構成の一例を示す縦断面図である。
陽極層31を構成する材料は、導電性を有する限り特には限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができる。なお発光層35から生じる光が陽極層31および基材22を通って外部に取り出される場合、陽極層31の材料として、透光性を有する導電性材料が用いられる。透光性を有する導電性材料としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化第二錫などの酸化物導電性材料または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入され易いように、仕事関数の大きい(4eV以上)透明、または半透明材料であるITO、IZOが好ましい。透明電極層は、シート抵抗が数百Ω/□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層の厚みは、例えば、50nm〜500nm程度とすることができる。なお図12においては、陽極層31がその他の層32,33,35などと同一の幅を有する例が示されているが、これに限られることはなく、陽極層31がその他の層32,33,35などとは異なる幅を有していてもよい。
正孔注入層32を構成する材料としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン等の酸化物、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を用いることができる。
正孔輸送層33を構成する材料としては、例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等の材料を用いることができる。
発光層35を構成する材料としては、例えば、色素系、金属錯体系、高分子系の発光材料を用いることができる。また、発光波長を調整し、または発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
電子注入層38を構成する材料としては、例えば、カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属や、フッ化リチウム、フッ化ナトリウムなどのフッ化物等を用いることができる。
陰極層39を構成する材料は、陽極層31の場合と同様に、導電性を有する限り特には限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができる。例えば、発光層35から生じる光が陽極層31および基材22を通って外部に取り出される場合、陽極層31の材料として、アルミニウムを用いることができる。
次に、形成装置10を備えた製造装置を用いて、上述の有機EL素子30を製造する方法について説明する。ここでは特に、図13(a)〜(i)を参照して、有機EL素子30のうち正孔注入層32,正孔輸送層33および発光層35を、上述の形成装置10を用いて形成する例について詳細に説明する。
なお有機EL素子30の層構成が特に限られることはなく、求められる特性に応じて様々な層を追加することができる。例えば図14に示すように、有機EL素子30の発光層35の構造が、第1発光層35Aおよび第2発光層35Bを含む二層構造となっていてもよい。この場合、第1発光層35Aと第2発光層35Bとの間に電荷発生層34が介在されていてもよい。このうち第1発光層35Aおよび第2発光層35Bは、上述の発光層35と略同一の層であるので、詳細な説明を省略する。電荷発生層34は、例えば特開2003−272860号公報に記載されているように、1.0×102Ω・cm以上、好ましくは1.0×105Ω・cm以上の比抵抗を有する電気絶縁性の層であって、電圧印加時において有機EL素子30の陰極方向にホールを注入し、陽極方向に電子を注入する役割を果たす層となっている。
次に、上述の形成装置10を備えた製造装置を用いて製造される、有機半導体層を有する有機半導体素子の一例として、有機トランジスタ素子について説明する。図15は、有機トランジスタ素子40の層構成の一例を示す縦断面図である。
有機半導体層45を構成する有機半導体材料としては、低分子系の有機半導体材料や高分子系の有機半導体材料を用いることができる。例えば有機半導体材料として、特開2009−87996号公報に記載のものを用いることができる。
次に、上述の形成装置10を備えた製造装置を用いて製造される、有機半導体層を有する有機半導体素子の一例として、有機太陽電池素子について説明する。図16は、有機太陽電池素子50の層構成の一例を示す縦断面図である。
光電変換層52は、電子受容性および電子供与性の両機能を有する単一の層であってもよい。若しくは、光電変換層52は、電子受容性材料を含み、電子受容性の機能を有する電子受容性層と、電子供与性材料を含み、電子供与性の機能を有する電子供与性層とが積層されたものであってもよい。光電変換層52の具体的な構成や材料が特に限られることはない。例えば光電変換層52として、特開2011−151195号公報に記載のものを用いることができる。
11 基材供給機構
12 基材巻出装置
13 マスクシート巻出装置
14 積層装置
14a 積層ローラー
14b 磁性体
15 塗布装置
15a 吐出口
16 乾燥装置
17 剥離装置
18 マスクシート巻取装置
19 基材巻取装置
22 基材
23 マスクシート
23a 開口部
23b 遮蔽部
24 塗布液
25 有機半導体層
26a 磁性層
26b 接着層
30 有機EL素子
32 正孔注入層
33 正孔輸送層
35 発光層
40 有機トランジスタ素子
45 有機半導体層
50 有機太陽電池素子
52 光電変換層
Claims (12)
- 有機半導体材料を含む有機半導体層を基材上に形成する有機半導体層の形成方法において、
基材を供給する基材供給工程と、
供給された前記基材上に、有機半導体材料と溶媒とを含む塗布液を供給する塗布工程と、
前記基材上に供給された前記塗布液の溶媒を蒸発させ、有機半導体材料を含む有機半導体層を形成する乾燥工程と、
前記有機半導体層が形成された前記基材を巻き取る巻取工程と、を備え、
前記基材供給工程は、前記基材を巻き出す基材巻出工程と、開口部が形成されたマスクシートを巻き出すマスクシート巻出工程と、積層ロールを用いて前記基材と前記マスクシートとを密着させる積層工程と、を有し、
前記塗布工程において、前記塗布液は、前記マスクシートの前記開口部の中に供給される、有機半導体層の形成方法。 - 前記塗布工程において、前記塗布液が、前記基材からの距離が5mm以下となるよう配置された吐出口から吐出される、請求項1に記載の有機半導体層の形成方法。
- 前記塗布液が前記吐出口から吐出される際に前記吐出口が前記基材に対して相対的に移動する移動方向に直交する方向において、前記吐出口の幅は、前記マスクシートの前記開口部の幅以上の大きさになっている、請求項2に記載の有機半導体層の形成方法。
- 前記積層工程において、前記基材と前記マスクシートとが、磁力、静電気力または粘着力によって密着される、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成方法。
- 前記乾燥工程の後、前記基材から前記マスクシートを剥離する剥離工程をさらに備え、 前記巻取工程において、前記マスクシートが剥離された前記基材が巻き取られる、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成方法。
- 前記巻取工程において、前記マスクシートが密着された前記基材が巻き取られ、
前記有機半導体層の厚みは、前記マスクシートの厚みよりも小さくなっている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成方法。 - 有機半導体材料を含む有機半導体層を基材上に形成する有機半導体層の形成装置において、
基材を供給する基材供給機構と、
前記基材供給機構から供給された基材上に、有機半導体材料と溶媒とを含む塗布液を供給する塗布装置と、
前記基材上に供給された前記塗布液の溶媒を蒸発させ、有機半導体材料を含む有機半導体層を形成する乾燥装置と、
前記有機半導体層が形成された前記基材を巻き取る巻取装置と、を備え、
前記基材供給機構は、前記基材を巻き出す基材巻出装置と、開口部が形成されたマスクシートを巻き出すマスクシート巻出装置と、積層ロールを用いて前記基材と前記マスクシートとを密着させる積層装置と、を有し、
前記塗布装置は、前記マスクシートの前記開口部の中に前記塗布液を供給する、有機半導体層の形成装置。 - 前記塗布装置は、前記塗布液を吐出する吐出口を有し、
前記吐出口から前記基材までの距離が5mm以下となっている、請求項7に記載の有機半導体層の形成装置。 - 前記塗布液が前記吐出口から吐出される際に前記吐出口が前記基材に対して相対的に移動する移動方向に直交する方向において、前記塗布装置の前記吐出口の幅は、前記マスクシートの前記開口部の幅以上の大きさになっている、請求項8に記載の有機半導体層の形成装置。
- 前記マスクシートは、磁性材料を含んでおり、
前記積層装置は、磁力によって前記マスクシートを前記基材側に引き寄せる磁性体を含む、請求項7乃至9のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成装置。 - 前記乾燥装置の下流側に配置され、前記基材から前記マスクシートを剥離する剥離装置と、
前記基材から剥離された前記マスクシートを巻き取るマスクシート巻取装置と、をさらに備え、
前記巻取装置は、前記マスクシートが剥離された前記基材を巻き取る、請求項7乃至10のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成装置。 - 前記巻取装置は、前記マスクシートが密着された前記基材を巻き取るよう構成されており、
前記有機半導体層の厚みは、前記マスクシートの厚みよりも小さくなっている、請求項7乃至10のいずれか一項に記載の有機半導体層の形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012079983A JP5900110B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | 有機半導体層の形成方法および形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012079983A JP5900110B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | 有機半導体層の形成方法および形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013211383A JP2013211383A (ja) | 2013-10-10 |
JP5900110B2 true JP5900110B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=49528980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012079983A Expired - Fee Related JP5900110B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | 有機半導体層の形成方法および形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5900110B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5910357B2 (ja) * | 2012-07-02 | 2016-04-27 | 株式会社デンソー | 機能膜を有する構造体の製造方法 |
JP6208500B2 (ja) * | 2013-09-06 | 2017-10-04 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布装置および塗布方法 |
JP6208515B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-10-04 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布装置および塗布方法 |
CN105098100B (zh) * | 2015-06-24 | 2017-04-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置 |
WO2023036314A1 (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-16 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种太阳能电池掩膜的脱膜方法及太阳能电池的制备方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002367774A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-20 | Sony Corp | 薄膜パターン形成方法および薄膜パターン形成装置 |
JP4461734B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | 電極の製造方法 |
JP2005191416A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Ricoh Co Ltd | 電子素子の製造方法 |
JP2006005041A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Toshiba Corp | 有機半導体素子とその製造方法 |
JP2009056402A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Sharp Corp | パターン膜の製造方法、パターン膜、有機薄膜トランジスタ、有機発光デバイス、溶液滴下装置、パターン膜製造用マスク |
JP2009135012A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布装置 |
JP2009182090A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Konica Minolta Holdings Inc | 塗布装置、および薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2010199112A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出方法 |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012079983A patent/JP5900110B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013211383A (ja) | 2013-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5900110B2 (ja) | 有機半導体層の形成方法および形成装置 | |
JP5494648B2 (ja) | 有機エレクトロニクス素子及びその製造方法 | |
JP2013073759A (ja) | 有機発光表示装置及びその製造方法 | |
CN109315044B (zh) | 有机电子元件的制造方法及功能层的制造方法 | |
CN105917736B (zh) | 发光装置及发光装置的制造方法 | |
JP6179068B2 (ja) | 有機半導体層の形成方法および基材上に配置された有機半導体層を含む支持部材付き基材 | |
WO2020262110A1 (ja) | 有機電子デバイスの製造方法 | |
KR20150016936A (ko) | 유기전계 발광장치 및 그 제조 방법 및 전자 기기 | |
US11121350B2 (en) | Electrode-attached substrate, laminated substrate, and organic device manufacturing method | |
JP6051563B2 (ja) | 有機半導体層の形成方法および形成装置 | |
JP5862439B2 (ja) | 有機半導体素子及びその製造方法 | |
JP2017130408A (ja) | 発光装置 | |
WO2015025474A1 (ja) | 透明電極の製造方法、透明電極、及びそれを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
US20200388793A1 (en) | Organic electronic device manufacturing method | |
JP2008117689A (ja) | 機能性積層膜の形成方法、積層薄膜デバイス、有機エレクトロルミネッセンス表示装置 | |
JP6064619B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2014165261A (ja) | 有機発光表示装置およびその製造方法 | |
JP6387602B2 (ja) | 透明電極、透明電極の製造方法、透明電極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2022050218A (ja) | 有機電子デバイスの製造方法 | |
JP6781568B2 (ja) | 有機電子デバイスの製造方法 | |
JP2017212143A (ja) | 有機電子デバイスの製造方法 | |
WO2017073104A1 (ja) | パターンの製造方法 | |
WO2018230602A1 (ja) | 有機電子デバイスの製造方法 | |
WO2019093366A1 (ja) | 有機デバイスの製造方法 | |
JP2014072322A (ja) | 有機発光表示装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5900110 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |