1254610 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種遮蔽由陰極射線管（以下’稱爲 CRT )，電漿顯示面板（以下，稱爲PDP )等的顯示器所 發生的Ε ΜI (電磁（波）障礙）的電磁波遮蔽片，更具體 地，有關於一種顯示器的顯示畫認性上優異，又在製程中 ，以較少製程可製造的電磁波遮蔽片，及其製造方法者。 在本案發明說明書中，表示調配的「比」、「部」’ 「％」等是未加以特別說明者乃表示質量基準，「/」記號 是表示一體地層積。又，「ΕΜΙ」是表示「電磁（波）障 礙」，「NIR」是表示「近紅外線」，「PET」是表示「 聚對苯二甲酸乙二醇酯」爲略語，同意語，功能性表現， 通稱，或是業果用語。 【先前技術】 近幾年來，隨著電氣電子機器的功能高度化與增加利 用，會增加電磁性的噪音妨礙，在CRT，PDP等的顯示器 也會發生電磁波。PDP是資料電極與具有螢光層的玻璃基 板及具有透明電極的玻璃基板的組合體，當開動時除了構 成畫像的可視光線以外，還會大量地發生電磁波，近紅外 線，及熱。一般爲了遮蔽電磁波，在PDP的前面設置包括 電磁波遮蔽片的前面板。由顯示器前面所發生的電磁波的 遮蔽性是需要30MHz至1GHz的30dB以上的功能。又， 由顯示器前面所發生的波長8 00至1 1 〇〇nm的近紅外線， (2) 1254610 也會誤開動其他V T R等的機器之故，因而被要求進行遮 • 蔽。 又，爲了容易視認顯示器的顯示畫像，被要求電磁波 遮蔽材的部分不容易看得到（稱爲非視認性較高），又， 整體上具有適當透明性（可視光穿透性）。 又，PDP是以大型畫面作爲特徵，電磁波遮蔽片的大 小（外形尺寸）是如37型爲621x831mm，而42型爲983 φ x583mm，也有更大型尺寸，因此在製造上被要求容易處 理的製造方法。所以，電磁波遮蔽片是被要求電磁波遮蔽 性，不顯眼的電磁波遮蔽材及適當透明性所致的優異視認 性，又，在製程上，被要求以較短工程數，生產性優異地 可生產的電磁波遮蔽片的製造方法。 習知，具有網目狀金屬層的電磁波遮蔽片的製造方法 ，是一般使用以下的三種方法。 眾知有將導電油墨或含有化學鍍觸媒感光性塗佈液全 φ 面地塗佈到透明基材，而以微影成像法將該塗佈層作成網 目狀之後，鍍金屬到該網目上的方法（例如參照專利文獻 1〜2 )。然而，透明基材面側的金屬層不能黑化之故，因 而無法防止降低日光等外光射入之際的網目的光反射所致 的畫像的視認性的缺點。又’在製程中，在導電油墨因該 導電油墨的電阻較高，因而有鍍時間較久，生產性低的缺 點問題。又，此外，也具有金屬網目在空氣中被氧化而變 質，降低增加電阻所致的電磁波遮蔽性的缺點問題。 又，眾知在PET薄膜（透明基材）上經由黏接劑層， (3) 1254610 層積形成有多數開口部與圍繞該開口部的線部所構成的網 目狀銅層’而該銅層圖案的線部表背兩面及側面均被黑化 處理者（例如，參照專利文獻3 )。然而，黑化處理是利 用化學轉換處理者’因生成.針狀結晶而容易脫落或容易變 形，又因施以高溫處理而容易產生渦動，具有降低外觀性 的缺點問題。 專利文獻1 :日本特開2 0 0 0 — 1 3 0 8 8號公報 | 專利文獻2 :日本特開2 0 0 0 — 5 9 0 7 9號公報 專利文獻3 ··日本特開2002 - 9484號公報 【發明內容】 如此，本發明是用來解決此些缺點問題而創作者。其 目的是在於提供一種具有適當透明性，高電磁波遮蔽性， 網目的非視認性，及良好的外觀，而且也不會有金屬氧化 所致的降低電磁波遮蔽性的顯示器的顯示畫像的視認性上 φ 優異的電磁波遮蔽片，以及以較少製程數就可製造的電磁 波遮蔽片的製造方法。 本發明的電磁波遮蔽片，其特徵爲具備：透明基材； 及經由黏接層設於透明基材的其中一方的一面的網目狀金 屬層；在網目狀金屬層中透明基材側的一面設置含有銅的 第一黑化層；而在與透明基材相反側的一面’設置含有由 鉻、鎳、及矽中所選擇的一種以上的第二防銹層。 本發明的電磁波遮蔽片’在第一黑化層與透明基材之 間，設置含有由絡、鎳及砂中所選擇的一種以上的第一防 -7- (4) 1254610 銹層，爲其特徵者。 •本發明的電磁波遮蔽片，設於透明基材上的第一黑化 層、金屬層、與第二防銹層的各側面、及第二防銹層的表 面是均被第二黑化層所覆蓋，爲其特徵者。 本發明的電磁波遮蔽片，設於透明基材上的第一防銹 層，第一黑化層，金屬層，與第二防銹層的各側面，及第 二防銹層的表面是均被第二黑化層所覆蓋，爲其特徵者。 g 本發明的電磁波遮蔽片，第二黑化層是由鍍所形成， 由銅、鈷、鎳、鋅、鉬、錫或鉻所選擇的至少一種金屬、 或是由此些金屬的化合物，或是由此些金屬兩種以上所成 的合金所構成，爲其特徵者。 本發明的電磁波遮蔽片的製造方法，其特徵爲具備： 準備金屬層的工程；在金屬層的透明基材側的一面依次形 成第一黑化層及第一防銹層的工程；在與金屬層的透明基 材相反側的一面形成第二防銹層的工程；將第一防銹層藉 φ 由黏接劑黏接在透明基材上而製作層積體的工程；以及蝕 刻處理該層積體而形成網目狀金屬層的工程。 本發明的電磁波遮蔽片的製造方法，第一防綉層及第 二防銹層中至少一方是在其形成時含有由鎳、鉻、及矽中 所選擇的一種以上、及鋅及/或錫，此些鋅及/或錫是在蝕 刻處理中從第一防銹層及第二防銹層被除去，爲其特徵者 〇 本發明的電磁波遮蔽片的製造方法，蝕刻處理之後， 均藉由第二黑化層覆蓋層積體的第一防銹層，第一黑化層 -8- (5) 1254610 、金屬層、與第二防銹層的各側面以及第二防銹層的表面 ，爲其特徵者。 依照本發明，提供一種適當透明性，高電磁波遮蔽性 ’網目的非視認性上優異，顯示器的顯示畫像的視認性上 優異，又不會降低金屬氧化所致的電磁波遮蔽性的電磁波 遮蔽片。 依照本發明，提供一種適當透明性，高電磁波遮蔽性 上優異，而且可更確實地防止特別是在明亮場所的網目的 光反射，網目的非視認性，顯示器的顯示畫像視認性上更 優異的電磁波遮蔽片。 依照本發明，提供一種容易形成防銹層，成爲電磁波 遮蔽片時，高耐久性的電磁波遮蔽片的製造方法。 【實施方式】 (基本的物品） 以下，參照圖式說明本發明的實施形態。如第1圖及 第2圖所示地，電磁波遮蔽片1是至少由網目部1 03，及 圍繞網目部1 0 3的接地用圖框部1 〇 1所構成。如第3 ( A )圖的斷面圖所示地，電磁波遮蔽片1是具備透明基材1 1 ，及經由透明黏接層1 3設於透明基材1 1的其中一方的一 面的網狀金屬層2 1。在網目狀金屬層2 1中的透明基材1 1 側的一面，如圖示於第3 ( A )圖等所示地設有第一黑化 層2 5 A，而在與透明基材1 1相反側的一面設有第二防銹 層2 3 B。又，如第3 ( B )圖所示地，在網目狀金屬層21 (6) 1254610 中的透明基材1 1側的一面，依次設置第一黑化層25 A與 第一防錄層2 3 A也可以。 在第1圖及第2圖中，網目部1 〇 3是形成複數開口部 1〇5的線部107所構成；該線部107是具有：金屬層21及 設於金屬層2 1的透明基材1 1側的第一黑化層25 A與視需 要所設置的第一防銹層2 3 A，及設在與金屬層2 1的透明 基材1 1相反側的第二防銹層2 5 B。又，表示於第3 ( A )
，（B)圖及第4(A) ， （B)圖的斷面圖是第2圖的A —A線斷面圖，沿著第2圖的B — B線形成有線部1 〇 7。 又，如第4 ( A )圖所示地，覆蓋網目狀地形成的「 第一黑化層25A/金屬層21/第一透明基材23A」的表面及 各側面般地，形成第二黑化層25B也可以。 如第4 ( B )圖所示地，覆蓋網目狀地形成的「第一 防銹層23A/第一黑化層25A/金屬層21/第二防銹層23B」 的表面及各側面般地，形成第二黑化層2 5 B也可以。 上述的「第一黑化層25A/金屬層21/第二防銹層23B 」，「第一防銹層23A/第一黑化層MA/金屬層21/第二防 銹層23B」，「第一黑化層25A/金屬層21/第一防銹層 23A/第二黑化層 25B」，「第一防銹層 23A/第一黑化層 25A/金屬層21/第二防銹層23B/第二黑化層25B」，是電 磁波遮蔽層，由畫像部分的網目部1 〇3，及視需要所設置 的圖框部1 〇 1所構成。 (方法） - 10- (7) 1254610 製造本發明的電磁波遮蔽片時，在形成第一防銹層 2 3 A及第二防銹層2 3 B之際，含有鉻、鎳、及矽的任何一 種以上（乃至全部）。或是又在此外還含有鋅及/或錫， 而在中間工程除去鋅及/或錫，也可作成至少含有從鉻、 鎳及矽中所選擇的任何一種以上。其他工程是公知方法就 可以。 例如，若爲構成層最多時的「透明基材1 1 /黏接層1 3 / p 第一防銹層23A/第一黑化層25A/金屬層21/第二防銹層 23B/第二黑化層25B」，則製造方法是由：（1)準備金 屬層的工程，及（2 )針對於該金屬層的其中一方的一面 形成第一黑化層，而針對於兩面形成第一防銹層與第二防 銹層的工程，及（3 )以黏接劑層積該第一防銹層面與透 明基材的工程，及（4 )將層積透明基材的第一防銹層， 第一黑化層，金屬層及第二防銹層，以微影成像法作成網 目狀圖案的工程，及（5 )黑化處理該網目狀圖案，形成 # 第二黑化層的工程所構成。 (金屬層） 作爲金屬層2 1的材料，可適用例如金、銀、銅、鐵 '鎳、鉻等具有充分地可遮蔽電磁波程度的導電性的金屬 。在此些金屬中，有助於電磁波遮蔽發現的電導率（或是 磁導率）較高，蝕刻所致的加工適性良好且較低價格上， 鐵或銅較理想。尤其是，在要求高電導率時銅較理想，除 了電導率還要求高磁導率、或是磁帶損失時鐵較理想。金 -11 - (8) 1254610 屬層並不是單體，而是合金或多層也可以；鐵時則 ~ 淨鋼或低碳鋁淨靜鋼等的低碳鋼等的低碳鋼，Ni -，恒範合金等較理想，又，作爲黑化處理而進行陰 澱積時，以容易進行電解澱積來看使用銅或銅合金 。作爲該銅箔可使用輥軋銅箔、電解銅箔，惟由厚 性，與黑化處理/或鉻酸鹽處理的密接性，及可作成 // m以下的薄膜化來看，使用電解銅箔較理想。金 φ 的厚度是約1至100//Π1，較理想爲5至2〇//m。 下的厚度，雖容易進行微影成像法所致的網目加工 增加金屬的電阻値而損及電磁波遮蔽效果，而在該 則無法得到所期望的高精細網目形狀，結果，實質 口率變低，降低光線穿透率，又也降低視解，而降 的視認性。 作爲金屬層2 1的表面粗度，Rz値約〇 · 1至1 較理想爲0 · 5至1 0 // m。在該以下，雖施以黑化處 • 外光進行鏡面反射，而使畫像的視認性劣化。在該 則在塗佈黏接劑或光阻劑等時，有無法普及整體表 發生氣泡。又，表示粗度Rz是依據ns - B0601 ( 版）經測定的1 〇點平均粗度値。 (第一黑化層） 第一黑化層2 5 A的黑化處理（以下，將形成黑 爲黑化處理），是在金屬層2 1單層的狀態下進行 該黑化處理，粗化及/或黑化金屬層表面就可以， 低碳未 Fe合金 極電解 較理想 度均勻 10 屬層21 在該以 ，惟會 以上， 上的開 低畫像 0 # m， 理也有 以上， 面，或 1 994 年 化層稱 。作爲 可適用 -12- (9) 1254610 金屬、合金、金屬氧化物、金屬硫化物的形成或各種手法 。作爲較佳黑化處理爲鍍法，依照該鍍法，針對於金屬層 2 1的幣接力優異，而對於金屬層2 1的表面可均勻且容易 地作成黑化。作爲該鍍的材料，在金屬層使用銅時，與銅 密接的觀點上含有銅所成者較理想。具體上使用銅單體， 含有銅的化合物或含有銅的合金。例如使用氧化銅、硫化 銅、或是將銅作爲必需成分，而將此由鈷、鎳、鋅、鉬、 • 錫、或鉻所選擇的至少一種所成的合金、或是化合物。藉 由將含有此種銅所成的金屬作爲第一黑化層2 5 A，得到與 金屬層2 1，特別是銅層的良好密接。在其他金屬或是化合 物’有黑化不充分、或是與金屬層2 1的密接上欠缺，例 如在鍍鎘上很顯著。 又，在銅單體的情形下，微粒子狀地附著，散射反射 光、或是局部地被吸收在微粒子間，藉由減少每一方向的 反射光量使之黑化。這時候的銅微粒子層的表面粗度是 _ R z値約0 · 1至3 // m較理想。 作爲金屬層2 1使用銅箔時的作爲較佳鍍法，有在硫 酸、硫酸銅及硫酸銅及硫酸鈷等所成的電解液中，進行陰 極電解處理，而附著陽離子性粒子的陰極電解澱積鍍。設 置該陽離子性粒子使之更粗化，同時得到黑色。作爲上述 陽離子性粒子，可適用銅粒子，銅與其他金屬的合金粒子 ，惟較理想是銅-鈷合金的粒子，該銅一鈷合金粒子的平 均粒子徑是0 · 1至1 // m較理想。 依照陰極電解澱積，可使粒子的平均粒子徑一致在 -13- (10) 1254610 " 0 . 1至1 // m而適用於附著。又，藉由以高電流密度來處理 - 銅箔表面，使得銅箔表面成爲陰極，發生還原性氫氣成爲 活性化，而可顯著提高銅箔與粒子的密接性。銅一鈷合金 粒子的平均粒子徑在該範圍外的情形，若銅-鈷合金粒子 徑超過此而增大，則降低黑色，又粒子容易脫落（也稱爲 粉末脫落）。又，欠缺密集粒子的外觀緻密性，使得外觀 及光吸收的不均勻更明顯。不足該粒子徑，也會黑化度與 φ 無法抑制外光反射之故，因而畫像的視認性。 (第一及第二防銹層） 之後，對於金屬層21的第一黑化層25A面形成第一 防銹層2 3 A，而對於另一方的一面形成第二防銹層2 3 B， 惟在金屬層21的兩面同時地形成第一及第二防銹層23 A ，23B，或一面一面地依次地形成也可以。第一防銹層 23A及第二防銹層23B是具有金屬層21及第一黑化層 φ 25A面的防銹功能，且黑化處理爲粒子，則可防止其脫落 或變形。爲了防止第一黑化層2 5 A的粒子脫客或變形，較 理想是必須設置第一防銹層2 3 A。作爲第一防銹層2 3 A及 /或第二防銹層23B，可適用公知的防銹層，惟作爲其材料 ，使用從鎳、鉻及矽中所選擇的任何一種以上。例如適用 鉻、鎳、鉻與鎳、鉻與鎳及矽、或是此些的氧化物，特別 是適用含有鉻、鎳及矽的含有物。作爲其厚度爲大約 0.0 0 1 至 1 // m，較理想是 0.0 0 1 至 〇 . 1 β m。 絡、鎳、絡與鎳、鉻與鎳及砂、或是此些的氧化物， -14 - (11) 1254610 是以公知的鍍法所形成，惟在進行該鍍法之際，在本發明 中除了從鎳、鉻及矽中所選擇的任何一種以上之外，還一 已形成含有鋅及/錫的層面較理想。 在第一及第二防銹層25 A，25B含有鎳的情形，使得 鎳成爲鈍化，卓越地提高防銹性，且可提高黑化層的防止 脫落性。 又，在第一防銹層23A及/或第二防銹層23B含有矽 的情形，則對於鍍浴混入含有矽化合物，較理想是矽烷耦 合劑等的含有砂化合物。如此地，含有砂的第一防銹層 23 A及/或第二防銹層23B是可顯著地提高耐蝕性之故， 因而在下述的微影成像後的鹼液所致的光阻劑除去工程後 也會殘留。 (透明基材） 作爲防銹層1 1的材料，若具耐於使用條件或製造的 ® 透明性、絕緣性、耐熱性、機械性強度等，則可適用各種 材料’例如有玻璃或透明樹脂。作爲玻璃可適用石英玻璃 、硼矽酸玻璃、鹼石灰玻璃等，較理想是使用熱脹係數小 ’尺寸穩定性及高溫加熱處理處理的作業性優異，又在玻 璃中未含有鹼成分的無鹼玻璃，而將該玻璃兼用作爲電極 基板也可以。 作爲透明樹脂，可適用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對 苯二甲酸丁二醇酯、聚乙烯環烷酸酯、對苯二甲酸一異苯 二甲酸一乙二醇共聚物、對苯二甲酸一環己二甲酸一乙二 -15- (12) 1254610 醇共聚物等的聚酯系樹脂、尼龍6等的聚醯胺系樹脂、聚 丙_、聚甲基戊烯等的聚烯烴系樹脂、聚甲基偏丙烯酸酯 等的丙烯系樹脂、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物等的 苯乙烯系樹脂、三乙醯纖維素等的纖維素系樹脂、醯亞胺 系樹脂、聚碳酸酯等的樹脂所成的片，薄膜、或是板等。 該透明樹脂的薄膜、板等的透明基材是由以此些樹脂 作爲主成分的共聚樹脂、或混合體（包括合金）、或是由 • 複數層所成的層積體所構成也可以。該透明基材是延伸薄 膜或是未延伸薄膜都可以，惟以提高強度作爲目的，則以 朝一軸方向或二軸方向延伸的薄膜較理想。該透明基材的 厚度’一般成爲大約12至1000//m，惟以50至700//m 較理想，而以1 00至5 00 // m最理想。玻璃時是具有大約 1〇〇〇至5 0 00 // m厚度較理想。若在該以下厚度，則在機 械性強度上不足而都會發生彎曲、鬆弛、斷裂等，而在該 以上厚度，則成爲過剩性能而在成本上也浪費。 φ 一般，聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯環烷酸酯等的 聚酯系樹脂薄膜、纖維素系樹脂、玻璃是透明性、耐熱性 上優異、成本也較低、因此最適用。其中在不容易碎，輕 量而容易成形等方面，以聚對苯二甲酸乙二醇酯最適用。 又，透明性愈高，惟較理想是在可視光線透過率成爲80% 以上。 塗佈黏接劑之前，在透明基材薄膜的塗佈面，進行電 暈放電處理、電漿處理、臭氧處理、火焰處理、啓發劑（ 也稱爲增黏塗層、黏接促進劑、容易黏接劑）塗佈處理、 -16- (13) 1254610 _ 預熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、鹼處理等的容易黏接處 理。視需要，在樹脂薄膜，添加紫外線吸收劑、塡充劑、 可塑劑、帶電防止劑等的添加劑也可以。 (層積方法） 以黏接劑1 3層積透明基材1 1，及設於上述金屬層2 1 的第一防銹層23A或第一黑化層25A來製作層積體la。 作爲該層積（也稱爲層壓）法，將黏接劑的樹脂或此些的 混合物作成膠乳、水分散液、或是有機溶媒溶液等的流動 體，而以網印、照相凹版印刷、逗點塗佈、輥塗等的公知 印刷或塗佈法、印刷或塗佈在透明基材1 1面側，第一防 銹層2 3 A或第一黑化層2 5 A面側，或是此些的兩面側， 視需要在乾燥之後，與另一方的材料重疊經加壓之後’固 化該黏接劑。該黏接層的膜是大約〇 . 1至2 0 // m (乾燥狀 態），較理想是成爲1至1 0 // m。 一般’具體的層積方法是在連續的帶狀（稱爲捲取） 狀態所進行。亦即，在從捲取輥解開捲取而伸張的狀態下 ，將黏接劑塗佈至金屬層及/或基材薄膜的一方並經乾燥 之後，重疊另一方的材料而施以加工。又，視需要在30 至80°C環境下進行數小時至數天的老化（養生、硬化）， 俾作成捲取輥狀的層積體。較理想是熟習該技術者稱爲乾 層壓法的方法。 (乾層壓法） -17- (14) 1254610 所謂乾層壓法，將分散或溶解到溶媒的黏接劑如以輕 ‘ ，反向輥塗’照相凹版塗佈等塗佈法施以塗佈，成爲乾 燥後的膜厚爲大約0.1至20 V m (乾燥狀態），較理想是 成爲1至1 0 // m，乾燥溶劑等，當形成該黏接層之後，立 即層積黏貼的基材’然後在30至8(TC溫度下以數小時至 數天期間老化使得黏接劑，就可層積兩種材料的方法。在 該乾層壓法所使用的黏接層，是可適用熱硬化型樹脂所成 ^ 的黏接層。具體上’作爲熱硬化型樹脂的黏接劑，適用藉 由甲苯異氰酸酯或環己院二異氰酸醋等多官能異氰酸酯， 及聚醚系聚醇、聚丙烯酸聚醇等的羥基含有化合物的反應 所得到的二液硬化型氨基甲酸乙酯系黏接劑、丙烯酸系黏 接劑、橡膠系黏接劑等，惟最適用二派硬化型氨基甲酸乙 酯系黏接劑。 或是作爲黏接劑使用電離放射線硬化型樹脂來代替熱 硬化樹脂，利用電離放射線照射使黏接劑施以硬化的方法 Φ 也可適用。作爲電離放射線，一般使用紫外線或電子線。 將「透明基材1 1 /黏接劑層/第一黑化層2 5 A/金屬層 2 1/第二防銹層23B」所構成的層積體la的「第一黑化層 25A/金屬層21/第二防銹層23B」，或是「透明基材11/黏 接劑層/第一防銹層23A/第一黑化層25A/金屬層21/第二 防銹層23 B」所構成的層積體la的「第一防銹層23 A/第 一黑化層25A/金屬層21/第二防銹層23B」，以微影成像 法作成網目狀圖案。 -18- (15) 1254610 * (微影成像法） ~ 將光阻層網目圖案狀地設置於上述層積體1 a中 二防錄層2 3 B表面上，而藉由蝕刻除去未以光阻層所 部分的金屬層之後，並除去光阻層，作爲網目狀圖案 磁波遮蔽層。如第2圖所示地，電磁波遮蔽層是由網 1 〇3，及視需要所設置的圖框部1 0 1所構成；又如第 所示地，在網目部103保留著金屬層21而設有形成 g 部1 0 5的線部1 〇 7，圖框部1 0 1是沒有開口部1 0 5而 保留著金屬層2 1。圖框部1 0 1是視需要設置就可以， 圍繞網目部1 03、或是設在網目部1 03的周緣的至少 分就可以。 該工程是加工連續以帶狀捲取的輥狀層積體1 a 程所構成。一面連續地或是間歇地搬運層積體1 a，一 未鬆弛而伸張的狀態，進行遮光罩，蝕刻，光阻剝離 先，遮光罩是例如將感光性光阻劑塗佈到金屬層2 1 φ 經乾燥後，密接曝光成具有所定圖案（網目的線部與 部）的母版，經水顯影，施以硬膜處理等，進行烘乾 佈光阻劑是一面以連續或間歇搬運捲取輥狀的帶狀層 ，一面將酪蛋白、PVA、明膠等的光阻劑浸漬、簾塗 方法進行到其金屬層2 1面。又，光阻劑是不是塗佈 使用乾薄膜光阻劑也可以，可提高作業性。烘乾是略 光阻劑時，一般進行加熱，惟爲了防止層積體的彎曲 量以低溫度較理想。 的第 覆蓋 的電 目部 2圖 開口 全面 設成 一部 的工 面在 。首 上， 圖框 。塗 積體 佈等 ，而 蛋白 ，儘 -19- (16) 1254610 (蝕刻） _ 遮光罩後進行蝕刻。作爲使用於該蝕刻的蝕刻液，爲 了連續進行蝕刻’可容易循環使用的氯化第二鐵、氯化第 二銅的溶液較理想。又，該蝕刻是可使用製造蝕刻帶狀而 連續的鋼材’特別是厚度2 0至8 0 // m的薄板的彩色電視 機的布朗管用的陰罩的設備來進行。亦即，可援用該陰罩 已有的製造設備，從遮光罩一直到蝕刻可一貫連續生產， φ 而效率極優異。蝕刻後，進行水洗，鹼性液所致的光阻劑 剝離，洗淨之後施以乾燥就可以。 藉由使用於該光阻劑剝離的鹼性液，從露出於表面的 第二防銹層2 3 B溶出錫或鋅。擬從兩面的第一及第二防銹 層23A，23B除去鍚或鋅時，在與透明基材n層積之前， 鹼處理設於金屬層2 1的第1防銹層2 3 A，來除去第一防 銹層2 3 A中的鍚或鋅就可以。因此，不必設置從第一及第 一防銹層2 3 A ’ 2 3 B除去鍚或鋅的工程，而不必增加爲此 φ 的工程。 (網目） 網目部1 0 3是以圖框部〗〇丨所圍繞所成的領域。網目 邰1 〇 3是具有以線部1 〇 7所圍繞的複數開口部1 〇 5。開口 部1 〇 5的形狀（網目圖案）是並未特別加以限定，例如可 適用正三角形等的三角形、正方形、長方形、菱形、楔形 等的四角形、六角形等的多角形、圓形、橢圓形等。組合 此些複數開口部105而作爲網目。由開口比及網目的非視 -20- (17) l2546l〇 認性，線寬w是成爲5M m以下，較理想是成爲2〇// m 以下。線間隔P是由光線透過率成爲1 2 5 # ηι以上，較理 心、疋成爲2 0 0 // m以上，開口比是5 〇 %以上較理想。又， 偏差角度（網目的線部與電磁波遮蔽片的一邊所呈的角度 )’是爲了解決波紋等。增加顯示器的像素或發光特性並 加以適當選擇。 ·(第二黑化層） 作爲第二黑化層2 5 B的材料及形成方法、與第一黑化 層2 5 A者同樣也可以，惟也使用其他黑色鉻、黑色鎳、鎳 合金等。作爲該鎳合金，有鎳-鋅合金、鎳-錫合金、鎳 -錫-銅合金等。尤其是，鎳合金是導電性與黑色程度較 良好。又，該第二黑化層25B是與黑化效果同時地也可合 倂具有金屬層2 1的防銹功能。 又，一般第二黑化層2 5 B的粒子是呈針狀，而以外力 φ 變形容易變更外觀，惟在鎳合金，粒子不容易變形，在露: 出該第二黑化層2 5 B面的狀態，進行其後的加工工程之故 ，因而更理想。鎳合金的形成方法是以公知的電解或無電 解鍍法，進行鍍鎳之後，形成鎳合金也可以。 (黑化處理） 如此地施以黑化處理，則網目狀金屬層2 1的線表面 (土堤表面）及側面（土堤側面）部分均可進行黑化® S 。結果，以第一及第二黑化層25 A，25B覆蓋著網目狀金 -21 - (18) 1254610 屬層21的全面圖案之故，因而遮蔽從PDP所發 # ’且電磁波遮蔽用的金屬網目框（線部）部分 自螢光燈等的外部光，及PDP的顯示光雙方的光 Μ高對比，良好狀態下可視認顯示器的顯示畫像 在本案發明說明書中，將粗化與黑色化合倂 處理。該黑化處理的較佳反射Υ値是大約1 5以 想是5以下，更理想是2.0以下。又，反射Υ値 ρ 法’是使用分光光度計UV— 3100PC (日本島津 造）而在射入角5° (波長是380nm至780nm) 定。 又，本發明的電磁波遮蔽片是利用組合其他 ，可使用作爲PDP用的前面板。例如與具有吸收 功能的光學構件組合，則從PDP所放出的近紅外 之故，因而可防止在PDP的近旁所使用的遙控器 機器等的錯誤動作。又，與具有防止反射及/或 φ 的光學構件組合所成者，則抑制來自PDP的顯示 自外部的外光反射而可提高顯示畫像的視認性。 在設置圖框部1 0 1時，圖框部1 0 1與網目部 地受到黑化處理之故，因而會變成更黑，而在顯 局級感。 又，本發明的電磁波遮蔽片中，在兩面具有 ，電磁波遮蔽層的兩面呈黑色之故，因而將任 P D P都可以。 又，作爲透明基材Π使用可撓性材料，在 生的電磁 來抑制來 反射，而 D 稱爲黑化 下，較理 的測定方 製作所製 下進行測 光學構件 近紅外線 線被吸收 或光通訊 防眩功能 光，及來 1 0 3同時 示裝置具 黑化層者 一面朝向 任一工程 -22- (19) 1254610 ' ，均以帶狀連續捲取的輥（捲取）狀，一面連續或 ' 搬運一面可進行加工之故，因而以集合複數工程的 ，生產性優異地可進行製造。 (變形形態） 本發明是包括如下地變形加以實施者。 (1 )層積透明基材1 1及「防銹層23 A/第一 φ 25 A/金屬層21」來製作層積體la之際，使用利用 的層壓法，惟沒有黏接劑也可以。例如針對於透明 表面施以導電化處理之後，以公知的無電解鍍’或 法形成第一黑化層25A、金屬層21也可以。 (2 )如第3圖或第4圖所示地得到電磁波遮 之後，以透明樹脂塡充開口部1 〇5的凹部，並將 1 〇 3的表面凹凸（由線部1 0 7的凸部及開口部1 〇 5 所成）作成平坦化也可以。藉由作成如此’在後續 φ 其他構件（透明基板，近紅外線吸收濾色片，防止 色片等）隔著黏接劑層層積在該電磁波遮蔽片的網 之際，氣泡不會殘留在該凹部，且可防止光散射而 像的鮮明度的情形。 以下，利用實施例及比較例，更詳述本發明， 被限定於此者。 實施例1 首先，作爲金屬層2 1使用厚度1 0 A m的電解 間歇地 短工程 黑化層 黏接劑 基材1 1 電解鍍 蔽片1 網目部 的凹部 工程將 反射濾 目部上 降低畫 惟並不 銅范， -23- (20) 1254610 針對於其中的一面陰極電解澱積銅一鈷合金粒子（平均粒 ‘子徑0.3 // m)後進行，形成第一黑化層25 A。 然後，在與金屬層2 1的第一黑化層2 5 A相反側表面 進行鍍鋅及鉻酸鹽處理，俾將含有鋅及鉻的第二防銹層 23B形成在單面。 使用二液硬化型氨基甲酸乙酯系黏接劑所形成的黏接 劑層13進行層壓該第一黑化層面25A，金屬層21與第二 B 防銹層23B，及厚度100/zm的2軸延伸PET薄膜A4300 (曰本東洋紡織公司所製，聚對苯二甲酸乙二醇酯商品名 稱）之後，在5 0 °C下進行三天老化，得到層積體1 a。作 爲黏接劑使用聚酯氨基甲酸乙酯聚醇所組成的主劑搭克拉 克斯A - 3 1 0與環己烷二異氰酸酯所組成的硬化劑A - 1 0 (均爲日本武田藥品工業公司所製，商品名稱），塗佈量 是以乾燥後的厚度作爲7 μ m。 藉由微影成像法網目化層積體la的第一黑化層25A/ φ 金屬層21/第二防銹層23B以形成圖案。 援用彩色電視機陰罩用的製造線，在連續的帶狀（捲 取）狀態從遮光罩一直進行到蝕刻。首先將酪蛋白系感光 性光阻劑以浸漬法塗佈到層積體1 a的金屬層面整體。間 歇搬運到下一站，使用對應於開口部1 0 5呈正方形而線寬 W 2 2 // m，線間隔P 3 0 0 // m，偏移角度爲4 9度的網目部 1 〇 3，及圍繞該網目部1 0 3的寬度爲1 5 mm的圖框部1 〇 1 的負圖案母版，照射來自水銀燈的紫外線進行密接曝光。 接連不斷地一面搬運至站，一面經水顯影，施以硬膜處理 -24- (21) 1254610 ，再經加熱進行烘乾。又搬運至下一站，作爲鈾刻液使用 氯化第二鐵水溶液，以噴霧法噴上施以蝕刻，形成開口部 1 05。接連不斷地一面搬運至站，一面經水洗，利用鹼液 來剝離光阻劑，同時溶出第二防銹層2 3 B中的鋅，以形成 含有鉻的第二防銹層2 3 B。又，以水進行洗淨，再施以加 熱乾燥，以形成網目。 實施例2 形成防銹層之際，除了防銹處理金屬層2 1的兩面， 作成第一防銹層23A/第一黑化層25A/金屬層21/第二防銹 層23B之外，與實施例1同樣，得到電磁波遮蔽片。 實施例3 在實施例1的電磁波遮蔽片中，又將網目部1 03施以 第二黑化處理。作爲黑化處理鍍浴，使用硫酸鎳氨水溶液 (60g/l)與硫酸鋅水溶液（7.5g/l)及硫代硫酸鈉水溶液 (1 5g/l )的混合水溶液，在浴溫35°C，電流密度20A/dm2 的條件下處理兩鐘，以形成第二黑化層2 5 B，而得到網目 部1 03的表面、背面及側面全面被黑化的電磁波遮蔽片1 實施例4 除了使用實施例2的電磁波遮蔽片之外，與實施例3 同樣地，得到網目部1 03的表面，背面及側面全面被黑化 -25- (22) 1254610 的電磁波遮蔽片。 實施例5 除了在形成金屬層2 1 ’防鏡層中’在兩面進行錫與鎳 的合金鍍、鉻酸鹽處理，作成第一防錄層2 3 A/第一黑化層 25A/金屬層21/第二防銹層23B之外’與實施例1同樣’ 得到電磁波遮蔽片1。又在剝離光阻劑時，溶出防銹層中 的錫，以形成含有鎳及鉻的第二防銹層2 3 B。 實施例6 在對於金屬層2 1的防銹層的形成，除了在金屬層2 1 的兩面進行鎳與鋅的合金鋅、鉻酸鹽處理及矽烷耦合劑處 理，作成第一防銹層23A/第一黑化層25A/金屬層21/第二 防銹層23B之外，與實施例2同樣，得到電磁波遮蔽片1 。又在剝離光阻劑時，溶出第二防銹層23B的鋅，以形成 φ 含有鎳、鉻及矽所成的第二防銹層23B。 比較例1 除了未進行對於金屬層2 1的防銹層的形成，又作爲 第一黑化層也使用鎘系的黑化鍍，作成第一黑化層2 5 A /金 屬層21之外，與實施例1同樣，得到電磁波遮蔽片。 評價 評價是在腐蝕性、視認性、密接性進行。 -26- (23) 1254610 耐蝕性是以6〇°C 95%RH的高溫高濕試驗進行1 〇〇〇 小時之後’以目視進行觀察。表面未變色時作爲合格而以 「〇記號」表示’又變色顯眼時作爲不合格而以「X記號 」表示。 非視認性是將光照射在網目部，以目視進行觀察。網 目未特別顯眼者作爲合格而以「◎記號」表示，又雖有變 色惟實用上不會有障礙者作爲合格而以「〇記號」表示， 網目顯眼時作爲不合格而以「X記號」表不。 黑化層的密接性是以含水的不織布摩擦黑化處理面來 評價黑化層是否轉印在不織布。有轉印而不織布變色時作 爲不合格而以「X記號」表示，變色未顯眼時作爲合格而 以「〇記號」表示，雖變色惟實用上不會成爲障礙者作爲 合格而以「△記號」表示。 評價結果
將評價結果表示於表1。 -27- (24) 1254610 表1 項目 實施例 比較例 1 2 3 4 5 6 1 第1防銹層 姐 有 無 有 Μ J V \\ 有 姐 JWS 第2防銹層 有 有 有 有 有 有 Μ 第2防銹層 有無 有 有 有 有 有 有 ίκ j\\\ 殘留材料 Cr Cr Cr Cr CrNi CrNiSi — 第2黑化層 有無 ίκ >fnT Μ 有 有 Μ J \ 4ml ΤΓΙΤ j\\\ — 材料 — 一 Ni合金 Ni合金 一 — 一 條件 一 一 兩分鐘 兩分鐘 一 一 — 評價 耐蝕性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X 網目的非視認性 〇 〇 ◎ ◎ 〇 〇 X 黑化層的接密性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 Δ 實施例1至6的電磁波遮蔽片，所有評價均合格。比 ® 較例1的電磁波遮蔽片，是黑化層的密接性是合格，惟耐 蝕性是不合格。又，在中途工程局部地剝脫黑化層，在此 反射光之故，因而網目看到局部光亮，而不合格。 又，藉由KEC法（財團法人關西電子工業振興中心 所開發的電磁波測定法）測定電磁波遮蔽效果，則在頻率 30MHz至1 000MHz的範圍中，電磁場的衰減率是30至 6 0 dB，而在實施例1至6，比較例1是電磁波遮蔽性也充 分0 -28 - (25) 1254610 ' 【圖式簡單說明】 第1圖是表示依本發明的電磁波遮蔽片的俯視圖。 第2圖是表不第1圖的網目部的立體圖。 第3(A)圖及第3(B)圖是表示依本發明的電磁波 遮蔽片的網目部的斷面圖。 第4(A)圖及第4(B)圖是表示依本發明的電磁波 遮蔽片的網目部的斷面圖。 【主要元件之符號說明】 I :電磁波遮蔽片 la :層積體 II :透明基材 1 3 :黏接層 21 :金屬層 23A :第一防銹層 φ 23B :第二防銹層 25A :第一黑化層 25B :第二黑化層 1〇3 :網目部 1 〇 5 :開口部 107 :線部 -29-