TWI243956B - Projection system and method of use thereof - Google Patents

Description

1243956 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種投影系統’其包括至，丨 1夕一投影裝置的 配置’用於接受來自一第一物體的一投影本 又〜九束，並將其投 影光束投射至一第二物體，該投影系統進一 ^ 步包括至少一 感測器，用於測量該至少一投影裝置的一空間方位。 本發明進一步係關於一種使用此一投影系統的方法。 【先前技術】 / 此處的用詞”圖案化裝置”應該廣泛地解讀為能夠將一具 有圖案的截面加諸於一入射的輻射光束之裝置，其對應至 將要形成於該基板上一目標部分的一圖案；用詞，，光閥，，也 可以用於本文。一般來說，該圖案可對應至形成於該目標 邛分内一裝置的一特定功能層，例如：一積體電路或其他 裝置（蒼考後面）。這些圖案化裝置的實例包括： 光罩一微影技術中光罩的概念為人所熟知，包括的光罩 種類有，例如：二位元、交互的相位偏移、減弱的相位偏 移、以及各種組合的光罩型態。將這樣的一個光罩放置在 輕射光束中，可以根據該光罩上的圖案，於照射該光罩上 的幸S射光造成選擇性穿透（於一穿透性光罩的情況），或選擇 性反射（於一反射性光罩的情況）。使用極端紫外線的情況， 只能使用反射性光罩，其原因為本技藝中技術人員所熟 知。於使用一光罩的情形，其支撐結構通常是一光罩平台， 能夠確實地將該光罩支撐在入射輻射光束中的一理想位 置，而且如果需要的話，可以相對於該光束移動； 92064.doc -6- 1243956 一可程式化的面鏡陣列—此_裝置的實例是—矩陣型且 可調整的表面，’其具有—黏彈性的控制層和-反射性表 面。此-儀器背後的基本原則是（例如）具有反射性表面的可 調整區域，將入射光反射為一繞射光；同時未調整區域將 入射光反射為-未繞射光。使用_適當的遽光片，該未繞 射光就可以從該反射光束中遽出，只留下被繞射的光；如 此^來，言亥光束即可根據該矩陣型可調整表面的調整圖案 印裝於其上。一可程式化面鏡陣列的一變化具體實施例是 使用個陣列安排的微小面鏡，其中每—個都能夠以施加 -適合的局部化電場’或使用一加壓電氣驅動裝置而個別 地相對於一轉軸傾斜。再次說明，該面鏡是陣列型且為可 調整的，使得已調整的面鏡在—不同的方向反射一入射光 至未4整的面鏡’以此方式該反射的光束即帶有根據該陣 列型可調整的表面之調整圖案。需要的陣列調整可使用一 適合的電子裝置來執行。上述的兩個情況，該圖案裝置可 包括個或以上的可程式化面鏡陣歹,卜此處參考關於面鏡 陣列的更多資料’可從例如：美國專利案號us 5,296,891 和US 5,523，193以及PCT專利申請案w〇 98/38597和卿 98/33096略知一二，並在此以參考方式併入本文。使用一 可程式化面鏡陣列的情況，該支撐結構可以一框架或平台 組合為主體，也可以依其需要為固定或移動式；以及 一可程式化的LCD陣列一美國專利案us 5,229,872提供 此一架構的實例，其在此以參考方式併入本文。如上所述， 實例中的支撐.結構可以一框架或平台組合為一主體，例 92064.doc 1243956 如.也可以依實際需要為固定或移動式。 為簡化的目的，本文其他部分在某一段落會明確地指出 其相關於-光軍和光罩平台的實例；$而，在此討論實例 的般原則，應該如上所述以較廣泛的語意來解讀印製圖 案化裝置。 2微影投影儀器’例如：可用於製造積體電路（ICS)。此 情況’該印製圖案化裝S可產生對應至該IC中一個別層 的一電路圖案，而此圖案能夠成像於-基板(矽晶圓)的一目 標部分（包括—個或以上的晶粒）上，該基板已經鍍上-層輻 射感應材料（光阻）一般來說，—單—晶圓將包含—整個網 路狀的相鄰目標部分’其經由該投影系統連續地—次照射 -個。目前的儀器是使用光罩平台上的一光罩產生圖案， P:種：同典型機器之間的差別。一種典型的光微影投影 2态’母一個目標部分是在-次移動中將整個光罩圖案曝 路在照射該目標部分上’此一儀器通常稱之為晶圓移動器 或移動及重複儀器。另—種變化的儀器，即—般稱為一移 動並掃描儀器，其中每_個目標部分是在—給定的參考方 向(即”掃描”方向)，經由投影光束照射並連續地掃描該光罩 圖案’此時同步地平行歧平行該料方向掃描該基板平 台…因為通常該投影錢會有—放大因子叫_般是<D，而 掃描該基板平台的速度¥就是因子轉崎描該光罩平台 的速度。有關於此敘述光微影裝置的更多資料，可以從仍 6,046,792得知-二，其在此以參考方式併入本文。 使用-光微影投影儀器的製造步驟，一圖案（即在一光罩: 92064.doc 1243956 是成像於至少以一層輻射感應材料（光阻）部分覆蓋的一基 板上。於成像的步狀前，絲板是要、_各種程序，例 如.塗底、鍍上光阻、以及一軟式烘烤。曝光之後，該基 板可進行其他的程序，例如：曝光後烘烤（PEB)、顯影、一 硬式烘烤 '以及測量/檢視成像的圖案。這些程序的系列是 做為將一裝置的一個別層印上圖案之基礎，也就是^ (積體 電路）。然後，此一印上圖案的層次可進行各種步驟，例如： 蝕刻、離子植入（摻雜）、金屬化、氧化、化學機械抛光等等， 所有的方式都為完成一個別層。如果需要數個層次，那麼 對每個新層次就必須重複整個程序或其變化方式。最後: 裝置的一陣列將出現在該基板（晶圓）上。接著以例如：切割 或鑛開的技術，將這些裝置彼此分開，再將個別的装置固 定在-承載體上，連接至插針等等。相關步驟的進_步資 料可得知於，例如：參考書”微晶片製造：半導體製程的實 作手冊第二版’作者是Peter van ζ_，由η出公 司㈣年出版]SBN 〇.〇7_G6725(M，其内容在此以參考方 式併入本文。 為簡化的理由，該投影系統在這之後可以稱為，，透鏡”， 然而此用詞應該廣泛地解讀為包含各種型態的投影系統， 包括例如：折射光學、反射光學以及全反射光學。該輕射 系統也包括根據任何設計型態用於執行導引、成形、或控 制该輻射投影光束的元件，而且 叨丑绝些兀件也可以如下為隼 體或單一稱之的”透镑”。；隹 ’、 B早％之的透鏡進-步地，該光微影儀器也可以 是-種具有兩.個或以上的基板平台(和/或兩個或以上的光 92064.doc 1243956 罩平台）之型態。在此，，多重平台"裝置也可以有額外且平行 使用的平台，或於準備步驟時當一個或以上其他平台用於 曝光時承載於一個或以上的平台。雙重平台光微影儀器， 例如：均敘述於1^ 5,969,441和冒〇 98/40791，兩者以參考 方式併入本文。 士上所述的該投影糸統通常包括一個或以上，例如：六 個投影裝置，就是透鏡和/或面鏡。該投影裝置讓該投影光 束通過穿越該投影系統，並將其導引至該目標部分。該投 影光束是EUV輻射的情況，為了要投射該投影光束，面鏡 應可用於取代透鏡，因為透鏡對Exjv輻射是不透明的。 當一極端的紫外線投影光束是用於投射相當小的圖案 時，對該投影系統關於精確度的要求相對也比較高。例如： 一面鏡是十億分之一徑度量（nrad)的一傾斜誤差位置，如此 會在該晶圓上造成約4毫微米的一投影誤差，假設一光學路 徑是1公尺（m)。 投射一極端紫外線投影光束的一投影系統包括，例如： 六個面鏡。通常其中一面鏡有一固定的空間方位，同時其 他的五個是以一活動固定物來固定。該活動固定物内的驅 動裔可以是一勞侖茲（L〇rentz)馬達、壓力、抽氣的驅動器 或其他型態。這些固定物最妤是利用六個自由度的Lorentz 引擎調整每一個面鏡在六個自由度（6-D〇F_m〇unts)的方 位。該投影系統進一步包括位置感測器，用於測量該投影 裝置的空間方位，也就是用於測量該投影裝置相對於該投 影系統的位置，。 92064.doc -10- 1243956 /亥奴影系統放置在該固定的空間世界中，例如.— 區域框架’為利用具有一晃動頻率 —主要 中厗畆k Η千"於10至100赫茲之間的 -軟性固定物，通常使用的是一 3〇赫兹的固 一 ^做是為穩定該投影光束，使其與來自主要 = :展動和擾動、以及來自相鄰系統的擾動隔絕開來。由於 =定的效果’大於30«且不希望的高頻率幾乎完全過 〜掉H具有大約頻㈣赫兹的擾動並沒有被 置阻隔，反而可能有增大的效果。 、

【發明内容】 、本發明t -目的在於提供_種對於震動和擾動比較不敏 感的投影系統。此-與其他之目的是根據本發明之一投影 系統凡成，其特徵在於該投影系統包括至少一處理單元的 配置，用於連接該至少一感測器，而且該至少一處理單元 進：步的配置用於連接一定位裝置，其配置是根據所測量 到該至少一投影裝置的空間方位來調整至少該第一和第二

物體中之一的位置。如此一投影系統的配置是為補償該投 影裝置的定位操作之誤差。該空間方位最好是相對於一光 學參考框架來測量，例如··該投影系統。該第一和第二物 體的位置最好也是相對於此投影系統而測量。不希望有的 擾動’例如：震動因此藉由從該投影裝置到控制該第一和/ 或第二物體位置的伺服馬達施加訊號，而能夠有補償的效 果0 根據本發明之另一具體實施例，該處理單元的更進一步 用於連接一另外的定位裝置，其配置是根據所測量到 -11 - 1243956 至夕技影叙置的空間方位來調整該至少一投影裝置的 二間方位。如此可確定有一更加精準且完整的系統來補償 測量誤差。 上根據本發明之另一具體實施例，該投影系統的配置用於 至少該第-和第二物體中之一的位置，其根據調整該 至少一投影裝置的空間方位後之剩餘誤差。如此一儀器可 更加有效地補償其誤差。

根據本發明之另—具體實施例，該處理單元的配置是美 於所測量到該至少―投影裝置在第-頻率範圍内的空間二 =，來凋整至少該第一和第二物體中之一的位置；並且根 據所測量到該至少—投影裝置在第二頻率範圍内的空間方 位’來調整該至少一蔣旦< 继里λα咖扣 技衫裝置的空間方位。如此配置在該 才又衫褒置的驅動盘兮楚 率範… 第二物體具有不同的操作頻 丰乾圍之情況特別有用。 根據本發明之另一且驶每 ，、體貝施例，該至少一投影裝置包括 面鏡與複數個透鏡之中

^ 中至）一個。此一投影裝置是經常使 用的，特別是在使用榀#此^ ^ 從 鳊糸外線輻射的情況，面鏡是用於 根據本發明之另一呈杂 篮只方也例，該至少一投影奘罟阜 定在一固定裝置卜，甘 仅〜衣置疋 ，、配置是用於在至少一個至多六個 由度驅動該至少一於旦彡壯 夕/、1口 又〜衣置。如此提供該投影裝置具有 取佳自由度的移動。 八另 根據本發明之另一呈〜 外線轄射光束。極端；=施例’該投影光束是一極端 系外線輻射特別在需要投影非常微 92064.doc '12- Ϊ243956 的圖案之情況使用。在這些情況，精準投射該影像的要求 通常是非常高。 ’ 根據本發明之另一具體實施例，該至少一處理單元進一 步的配置用於連接至少另外一感測器，以決定至少該第一 和第二物體中至少一個的位置，最好是相對該投影系統。 此為將該第一和第二物體更精確地定位所需的訊息。 根據本發明之另一具體實施例，該至少一處理單元包括 一輪入/輸出（I/O)裝置、一微處理器、以及一記憶體裝置。 如此一處理單元可以是，例如：一電腦，能夠提供一簡易 且具成本效益的方式處理數據，並可驅動定位裝置。 本發明進一步係關於一種使用一投影裝置的方法，該投 影系統包括至少一投影裝置的配置，用於接受來自一第一 物體的一投影光束，並將該投影光束投射至一第二物體， 該投影系統進一步包括至少一感測器，用於測量該至少一 投影裝置的一空間方位，該使用方法包括： 以該至少一感測器測量該至少一投影裝置的空間方位， 決定該至少一投影裝置的空間方位之一方位誤差， 計算投射至該第二物體的影像之一投影誤差，此計算是 根據5亥至少一投影裝置的空間方位之方位誤差， 調整該第一和第二物體中至少一個的位置，使其能夠律 量減小該投影誤差。 m 根據本方法 像感測為以改善该弟一物體相對於第二物體在 牵、 自由度的刻度對準之精確性’其運用計算所得投影在該 92064.doc -13· 1243956 物體上影像的投影誤差。 使用如此—穿透性影像❹彳器（TIS)，於得m 一 ^ 物體之間一精確的對準效果特別有幫助。 孝第 儀=::=定的參考資料，以使用根據本發明之 儀“ UCS，但應該明白地瞭解如此的—種儀 多其他可能的用途，例如：其可以用於製造積體光學:系统、 磁性£域§己憶體的導引與檢測圖案

應用的說明中，任何使用詞語,，主光罩,，、 : 應該分別地考慮以較—般性的用詞，，光罩，， ”曰拉 部分”來取代。 π :¾目& 磁t:::中:用詞:輕射”和”光束，，是用於包含所有 。、匕括i外線（uv)輻射（即一波長為365，以8，193, 157或m毫微米）、以及極端紫外線（Euv)輕射（即具有一波 長在5至20毫微米範圍内），還有粒子束，例如：離 電子束。

【實施方式】 圖1繪製根據—光微影投影儀器之-特定具體實施例中 一光微影投影儀器1，該儀器包括： 一軏射系統EX，IL，用於供給輻射（即EUV輻射）的一投影 光束池。此—特定的情況，該輻射系統也包括-輻射源LA ; 一弟一物體平台（光罩平台）MT，是由用於支撐一光罩 MA(也就疋一主光罩）的一光罩支撐器提供，並連接至第一 疋4衣置PM用·於精確地相對於物件pL定位該光罩； 92064.doc -14- 1243956 一第二物體平台（基板平台）wt，是由用於支撐一基板 w(即一光阻鍍膜矽晶圓）的一基板支撐器提供，並連接至第 二定位裝置PW，以便能夠相對於物件PL精準地定位該基 板；以及 一投影系統（或11透鏡系統nPL (於EVU輻射則是面鏡）），將 該光罩MA被輻射光照到的一部分成像於該基板w上一目 標部分C，（就是包括一個或以上的晶粒）。 如在此描述，該儀器是一穿透型態（具有一穿透光罩）。 然而一般來說’也可以是一反射型態，例如：（具有一反射 光罩）。或者該儀器可使用另一種的圖案裝置，例如：上述 參考之一可程式化的面鏡陣列。 該輻射源LA(即EUV源）產生一輻射光束。此光束是被導 引進入一照明系統（照明1)IL，以直接或經由橫跨改變狀況 的裝置，例如··一光束擴散器Ex。該照明器il可包括調整 裝置AM，用於設定該光束中強度分佈的外部和/或内部徑 向範圍，（分別是一般所指的σ -外部和σ -内部）。此外，通 常也包括各種的其他元件，例如：一積合器IN和一聚集5| C0。以此方式，照射至該光罩撾入的光束pB在其截面上具 有一理想的均勻度和強度分佈。 應該注意到，相關於圖1的輻射源LA可以放置在該光微 影投影儀器的外箱内，（當光源LA為一汞燈就常是此情 況），但光源也可以與該光微影投影儀器有一段距離，而從 該光源產生的輻射光束則是被導引至該儀器内，（藉助於適 當的變換方向面鏡），後者的情況通常適用於該光源LA是一 92064.doc -15- 1243956 準分子雷射的情況。 该光束PB接者相交於該光罩MA，為一光罩平台MT所支 撐。該光束ΡΒ通過該光罩ΜΑ後穿過透鏡PL，將該光束ρΒ 聚焦在基板W的一目標部分C上。藉助於該第二定位裝置 PW，（以及就是一干涉儀的位置測量裝置11?)，該基板平台 WT就能夠準確地移動，如此即在該光束ΡΒ路徑中不同的目 標部分C定位。類似地，該第一定位裝置ΡΜ能夠用於相對 該光束ΡΒ的路徑精確地定位該光罩ΜΑ，就是從光罩庫或在 一掃描過程中該光罩ΜΑ的機械回復之後。一般來說，該物 體平台ΜΤ和WT的移動，可由一長程模組（粗略定位）以及一 短程模組（精細定位）的助益得以實施，但在圖丨中並未明確 地％製出來。然而，於一晶圓移動器（相對於一移動且掃描 的儀器）的情況，該光罩平台MT可以只連接至一短程驅動 為，或可以是固定的。光罩Μ A和基板W可以利用光罩對準 圮號Ml和M2、以及基板對準記號？1和卩2來對準。 所描緣的儀器可以使用於兩種不同的模組： 1·於移動模組中，該光罩平台Μτ基本上是保持不動的， 並且整個光罩的影像是在一步動作（即一單一閃光）中投 射至一目標部分C。然後該基板平台WT就在X和/或y方向上 私動，使得一不同的目標部分C能夠被該光束PB照射到； 以及 2·於掃描模組中，基本上適用相同的情況，除了 一給定 的目標部分C並不是在一單一閃％中曝光，而代之的是該 光罩平台MT在一給定的方向（所謂的”掃描，，方向，即在y方 92064.doc 1243956 向）上以速度V移動，使得該投影光束Ρβ由此掃描過一光 罩影像，同時該基板平台WT/gJ步地在相同或相反方向上以 速度V=MV移動，其中M是該透鏡1^的放大率，（通常撾=1/4 或1/5)。以此方式就能_光_相#大的目標部分c，而不 需要補償鐘別率。 圖2描㈣是-6知投影系統孔的—實例，如上所討論 的。該投影系統PL包括-個或以上，通常是六個投影裝置 10，此處顯示的是面鏡。其中的一投影裝置1〇是固定地安 置於該投影系統PL的框架，其他的五個投影裝置1()則是以 所使用的6-D〇F驅動固定物12來固定，以致最好能夠在六個 自由度上調整該投影裝置1〇的空間方位。該驅動的固定物 也可以被動D〇F，s和主動DoF，s的組合形成。該投影系統凡 整個安置在固定空間，例如：以一中度軟性固定裝置以的 一主區域框架20，具有介於1〇至5〇赫茲的一晃動頻率，通 系30赫兹的固定裝置21是以該主區域框架2〇連接該投影系 統PL。該投影系統PL進一步包括感測器n，用於測量該投 影裝置10相對於該投影系統PL框架的相對位置。該投影裝 置10的方位最好是相對於該投影系統PL來測量。 圖3a顯示根據本發明之一投影系統1>[，其中相同的參考 數字用於標示與圖2中相似的的物件。圖3&顯示一光罩平台 MT上的一光罩MA，由一投影裝置3〇產生一投影光束pB， 该投影裝置可以相似於參考圖1所討論的。 該投影系統PL進一步包括一處理單元4〇，其配置為連接 該感測器11以及該6-D0F固定物12。該感測器11能夠測量該 92064.doc -17- 1243956 也就是相對於該投影系統PL·，並將 投影裝置的空間方位， 所測量的數值傳送至該處理單元4〇 該處理單元40的配置可以是一電月 電腦’具有一個或以上的

處理器42，此配置用於連接一 記憶體裝置43和一 I/O裝置 41。該I/O裝置41的配置是為接受和傳送訊號。 如圖3a所示，該處理裝置4〇接受來自感測器μ學元件 以及該光罩平台（MT)和該晶圓平台（wt) 的位置輸入訊號， 的輸入訊號47和48。該位置感測器測量光學元件相對於該 光學參考框架的位置，也就是相對該投影系統PL，因掃描 作用力、地板震動、或其他擾動的結果，使其在該主區域 座標20的震動而受到干擾。 該記憶體43包括關於每一個光學元件理想位置（設定點 位置）的訊息。理想位置與確實或感測器位置的任何偏差卜 位置誤差），產生一校正訊號卜控制訊號），送達該光學元件 的驅動器12。這些來自控制該光學元件1〇的驅動器12之處 理裝置40輸出的校正訊號，使得介於光學元件1〇與投影系 統PL之間的相對位置誤差儘量越小越好。這樣的控制可以 得之於一個或以上的位置控制迴路，其運用回輸和前輸的 控制輸出，做為一位置誤差、速度誤差、加速度誤差和/或 時間積合的位置誤差。適用於控制迴路的邏輯法則為祠服 控制技藝中的技術人員所熟知。該光學元件1 0的驢動哭i 2 最好是Lorentz型，但也可以是電磁壓力、抽氣、或另一馬 92064.doc -18- 1243956 達型式。 如果該光學元件1 〇的位置控制迴路具有一高位置頻寬， 忒控制即有足夠的能力將每一個別光學元件i 0之於該投影 系統PL的相對誤差降低至最小；如果光學元件1〇具有校正 的理想位置，並且如果所有的位置誤差都夠小，那麼所有 光學元件10的組合就會在該晶圓w處得到該光罩圖案MA 的一校正之成像。 然而’如果其為高擾動或如果該位置頻寬並不夠高，該 光學元件10的剩餘位置誤差就一個品質好的成像來說可能 會太大。要改善該光罩MA投影在該晶圓w上的成像品質是 可以辦到的，其藉由將該光學元件i 0的剩餘誤差傳送至該 定位裝置PM(光罩平台）和/或！>界（晶圓平台）。在此本方法指 的是由該光學元件串連傳送誤差。 要這麼做，必須知道每一個光學元件1〇之於該晶圓…上 成像的每一項位置誤差之貢獻。此知識稱之影像誤差的敏 感度為位置誤差的函數，可以事先從一刻度步驟中得到。 如果該光學系統有5個主動性面鏡受控於6D〇F，就會產生 具有30個獨立的輸入值和6個輸出值的一敏感度陣列，儲存 在該處理裝置4〇中。該輸入值是該光學元件1〇的個別位置 "吳差’而該輸出則是對該晶圓平台WT位置和/或光罩平台 T位置的校正。該敏感度陣列包含= i 效益值，其 形成位置誤差對該晶圓w上的影像誤差备敏感度。該30個 輸入值和6個輸出值可以或不需要過濾該輸入/輸出數據， 那麼加權的和過濾的輸出值就加諸在該晶圓平台WT和/或 92064.doc 1243956 光罩平台MT的位置感測訊號上。 該晶圓平台WT的位置感測器47和該光罩平台ΜΤ的位置 感測器48，可以是如圖3a顯示之一干涉儀的測量裝置IF， 其包括一感測|§ 47和48與一面鏡49和45。該干涉儀型的測 里裝置IF可分別測量該晶圓…與該光罩MA相對於該投影 系統PL的位置。 光學編碼器也可以用來當做位置感測器。該定位裝置或 該晶圓W和該光罩MA的驅動器最好是^以⑶乜型式，但也可 以是電磁壓力、抽氣、或另外的馬達型式。 將該光學元件1 〇的加權位置誤差加至該晶圓平台界丁或 光罩平台MT的位置感測器，可進一步地降低光罩圖案在該 曰曰圓w的最後影像誤差。通常該光學元件1〇的位置誤差是 以光學框架相對該主區域框架2〇晃動的頻率來決定，而且 頻率為30赫茲的位置誤差通常是可以接受的。 本技藝中擅長位置控制的人員，能夠容易地計算出一晶 圓平台WT於15〇赫茲的伺服頻寬可以降低大約 1/0·3*(顧50)λ2==0·13[·]。因此，在晶圓上一非補償性位置 誤差為10毫微米就變成只有1.3毫微米，於應用此誤差回輸 處理。 一麦化的架構中，光學元件丨〇的加權位置誤差並沒有加 至該位置感測器48和/或47而形成該控制感測器輸入，但是 可以控制輸出加至該驅動器，用於分別驅動該晶圓和光罩 (PW和 ΡΜ)。 進步的改·良方式，是利用該光學元件10位置誤差訊號 92064.doc -20- 1243956 的第二變量，當做一加速前輸訊號至晶圓W和/或光罩ΜΑ 的位置迴路。· 如圖3b所示，該光罩平台ΜΤ對該晶圓平台的定位動作， 可以由一 TIS-裝置50(TIS=穿透性影像感測器）監控及刻度 化。本技藝中的技術人員能夠對此一 TIS-裝置5〇有所瞭解。

該TIS-裝置50是以在該光罩平台MT上一測試光罩51，以 及附帶於該晶圓平台WT的一光學接受器52形成。來自該投 影裝置30的光束，經由該光學元件丨〇，將該記號影像投射 至該光學接受器52。該投射的影像是一個三度空間拋物韓 似的光束強度分佈，此強度分佈的最大值可以用來發現驾 光罩平台MT相對於該晶圓平台WT的最佳6 d〇F-對準必 置。此光罩平台MT經由該TIS-裝置50相對於晶圓平台wr 的對準位置之準確度，也能夠獲得改善，如果由該感測著 11測量的位置誤差是以該敏感度陣列（如上所述）加權到 算，以及如果將結果加至該刻度化的位置訊號48，和/或其

形成該光罩平台MT相對晶圓平台WT在該感測器〇和48戶片 在座標内最佳位置的參考。 所測得該投影裝置10的誤差，也就是該投影裝置ι〇理相 的與實際的空間方位之間差異量，當然也可以用於調整該 投影裝置10的位罟。η n士# +。_ 、 同可該處理單元40所計算的整體誤 差士上所述，也可藉由控制該驅動器丨2，用於調整該投 影裝置1〇的位置。此調整之後留下的誤差（剩餘誤差 由:周正U亥曰曰圓平台w丁和/或光罩平台歐的位置來補償，已 ;月】述在匕剩餘决差可以測量而得，也可以由原始測量的 92064.doc -21 - 1243956 =。’ W㈣嫩婦σ識來決 、，另外也可以架構-時間訊號，代表所測量得到的誤差， 並且將此時間訊號轉換成其頻率分量。某些頻率範圍能夠 土-周正以又影裝置10的空間方位而得到補償，其他的頻率 範圍則可以調整該晶圓平台WT$a/或該光罩平台慰的位置 來補償。 為了達到最佳結果，該測量的訊號，代表測量到的誤差， 可以利用已知的過隸術將其㈣。此也可以為了控制該 光罩平台ΡΜ ’該晶圓平台PW和/或該投射裝置丨㈣定位裝 置，其以一特定頻率範圍内一訊號進行。 應該瞭解在此敘述的本發明，通常能夠應用於將來 第一物體的一投影光束PB投射至一第二物體。該物體可以 是所有種類的物體，例如：第一物體可以是用於光微影技 術的-光罩MA，以及第二物體是用於光微影技術的一晶圓 W。该投影光束pb則是光微影技術中帶有圖案的一投影光 束0 儘管以上所敘述的本發明是特定具體實施例，應該理解 本發明能夠實施於上述之外的情況，而且此敘述並非用於 限制本發明。 【圖式簡單說明】 以上敘述的是本發明之具體實施例僅為實例呈現，並可 參考所附的繪製圖式’其中對應的參考符號是標示相關對 應的部分，其圖式有 92064.doc -22- 1243956 圖1描繪的是本發明之投影系統可以組合包括在内的一 種光微影投影儀器； 圖2描繪的是根據先前技藝的一種投影系統； 圖3a和圖3b描繪根據本發明之一不同的具體實施例中一 投影系統； 圖4描繪能夠用於根據本發明之投影系統中一處理單元。 【主要元件符號說明】 AM 調整裝置 C 目標部分 CO 聚集器 Ex 輻射系統 IF 干涉儀的位置測量裝置 IL 照明系統 IN 積合器 LA 輻射源 MA 光罩 MT 光罩平台 Ml，M2 光罩對準記號 PB 投影光束 PL 透鏡（系統） PM 第一定位裝置 PW 第二定位裝置 Pl? P2 基板對準記號 W 基板 92064.doc -23 1243956 WT 基板平台 1 光徽影投影儀器 10, 30 投影裝置 11 感測器 12 六個自由度的驅動固定物 20 主區域框架 21 中度軟性固定裝置 40 處理單元 41 輸入/輸出（I/O)裝置 42 微處理器 43 記憶體裝置 45, 49 面鏡 47 光罩平台位置感測器（輸入訊號） 48 晶圓平台位置感測器（輸入訊號） 50 穿透性影像感測器（TIS) 51 測試光罩 52 光學接受器

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Claims (1)

1243956 十、申請專利範圍： h 一種投影系統，其包括至少一投影裝置（1…，其配置用於 接受來自一第一物體（MA)的一投影光束（PB)，並將其投 影光束投射至一第二物體（W)， 該投影系統（PL)進一步包括至少一感測器（11)，用於測 量該至少一投影裝置（10)的空間方位，其特徵在於 口亥才又衫糸統（PL)包括至少一處理單元（4〇)，其配置用於 連接該至少一感測器（11)，其中 該至少一處理單元（40)進一步的配置用於連接一定位 裝置（PW，ΡΜ)，其根據所測得該至少一投影裝置（1〇)的 空間方位，來調整該第一物體（ΜΑ)與第二物體（w)之中至 少一個的位置。 2·如申請專利範圍第丨項之投影系統，其特徵在於該處理單 το (40)進一步配置用於連接一另外的定位裝置（12)，根據 所測得該至少一投影裝置（10)的空間方位來調整該至少 一投影裝置（10)的空間方位。 3·如申請專利範圍第2項之投影系統，其特徵在於該投影系 統的配置用於調整該第一物體（MA)與第二物體（w)之中 至少一個的位置，此調整是以調整該至少一投影裝置（1〇) 的空間方位之後的一剩餘誤差為依據。 4。如申請專利範圍第2或3項之投影系統，其特徵在於根據 該至少一投影裝置（10)在一第一頻率範圍内所測得的空 間位置，該處理單元（40)配置用於調整該第一物體（Ma) 與第二物體（W)之中至少一個的位置，以及根據該至少一 92064.doc 1243956 投影裝置（10)在-第二頻率範圍内所測得的空間方位，來 調整該至少一投影裝置（10)的空間方位。 5.如申請專利範圍第卜2或3項之投影系統，其特徵在於該 至少一投影裝置（10)包括面鏡和透鏡之中至少一個。 6·如申請專利範圍第卜2或3項之投影系統，其特徵在於該 至少-投影裝置⑽是固定在一固定裝置（12)上，其配置 用於在至少一個至多六個自由度驅動該至少一投影穿 置。 /、 7· ^請專利範㈣卜2或3項之投影系統，其特徵在於該 投影光束（PB)是一極端的紫外線輻射光束。 8.如申請專利範圍第卜2或3項之投影系統，其特徵在於該 至少一處理單元（4〇)進一步的配置用於連接至少一另外 的感測器（47，48)，來決定該第一物體（MA)與第二物體（w) 之中至少一個的位置。 9·如申請專利範圍第丨，2或3項之投影系統，其特徵在於該 至少一處理單元（40)包括一輸入/輸出-裝置（41)、一微處 理器（42)、以及一記憶體裝置（43)。 10· —種使用一投影系統（pL)的方法，該系統包括至少一投影 裝置（10)的配置，用於接受來自一第一物體（MA)的一投 影光束（PB)，並將其投影光束投射至一第二物體（w)， 該投影系統（PL)進一步包括至少一感測器u，用於測 量該至少一投影裝置（10)的空間方位，該方法包括 以該至少一感測器測量該至少一投影裝置（1〇)的 空間方位，， 92064.doc -2 - 1243956 決定該至少一投影裝置（1〇)空間方位的一方位誤差， 根據該至少一投影裝置（1〇)空間方位的方位誤差，來計 异才又射在違弟一物體（W)上影像的投影誤差， 調整該第一物體（MA)與第二物體（W)之中至少一個的 位置，為使該投影誤差降低至最小。 u·如申請專利範圍第10項之方法，其包括 應用-穿透性影像感測器⑽，來改善該第—物體（MA) 相對於該第二物體(W)在一個到至多六個自由度的刻度 化對準之精確度，其利用投射. 仅耵在該弟二物體（W)上影像計 算所得的投影誤差。 92064.doc