TWI231872B - Manufacturing method of liquid crystal display device and its device - Google Patents

Description

1231872 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明，係關於使玻璃基板薄型化，及其輕量化之液 晶顯示元件，之製造方法及其裝置。 【先前技術】 傳統上，譬如於攜帶式電話，或攜帶式資訊終端裝置 等之各種機器中，係以使用小型輕量之液晶顯示元件作爲 顯示裝置，但是於如此之機器上，已更追求小型輕量化。 對如此之要求，關於液晶顯示元件，係以將玻璃基板 每片之厚度薄型化之例子，做爲爲了實現薄型化及輕量化 爲主要原因。 但是，最初於使用厚度較薄之玻璃基板時，由於玻璃 基板之不易處理，對於液晶顯示元件之製造裝置有諸多限 制，且，玻璃基板之厚度變薄的話，玻璃基板也易發生彎 曲及凸起，對溫度而言，玻璃基板之變形可朔性也增加， 故會降低液晶顯示元件之生產性。同時，由於不易取得任 意厚度之玻璃基板，故對於製造所期望之厚度液晶顯示元 件，將會造成本增加之問題。 最近，爲了不使成本提高，且又要達成玻璃基板之薄 型化及輕量化，故於貼合一對之玻璃基板上後，藉由機械 硏磨之化學蝕刻，或化學硏磨之化學蝕刻之手法，使得蝕 刻處理玻璃基板之表面，而開發玻璃基板上薄型化之製造 裝置。 -4- (2) 1231872 但是，於化學蝕刻中，製造過程中於玻璃面板之表面 上，產生微小瑕疵，和細微龜裂現象等時，將此等微小刮 傷，或細微龜裂等，以於玻璃面之板表面上，產生所謂之 爲凹狀瑕疵做爲起點，具有降低液晶顯示元件之顯示品質 之問題。 本發明有鑑於如此之問題而發明之，其目的爲化學蝕 刻玻璃基板之表面時，提供以仰制所謂凹狀瑕疵之產生， 進而可改善顯示品質之液晶顯示元件之製造方法，及其裝 置。 【發明內容】 本發明係將玻璃基板之表板，使用蝕刻比例不同蝕刻 液，且從此等複數之蝕刻液中蝕刻比例較快之蝕刻液，以 蝕刻比例較慢之蝕刻液之順序，進行複數次蝕刻處理。 再者，首先，藉由以複數之蝕刻液中之蝕刻比例較快 之蝕刻液，蝕刻處理玻璃基板之表面，使得於玻璃基板之 表面，即使有微小瑕疵，或細微龜裂等時，由於於此等以 外之玻璃基板之表面之蝕刻之進行較快，故與玻璃基板之 表面層之同時，得以去除微小之瑕疵，或細微龜裂等。其 次，以複數之蝕刻液中之蝕刻比例較慢之蝕刻液，藉由蝕 刻處理玻璃基板之表面，使得玻璃基板之表面平滑化，進 而得到所期望玻璃基板之厚度。因此，化學蝕刻玻璃基板 之表面時，將鈾刻處理前之微小瑕疵，和細微龜裂，以來 抑制所謂凹坑之瑕疵產生，做爲起點。 -5- (3) 1231872 【實施方式】 以下爲本發明之實施形態，茲參考圖面說明之。 如圖1(a) ( b )之所示，於液晶顯示元件中，爲使 用一對玻璃基板Π，和1 2做爲陣列基板用，及對向基板 用。對向於互相此等玻璃基板Π，1 2之内面，具有複數 個分液晶顯示元件形成領域，而於各液晶顯示元件形成領 域，形成所定之電極圖案。 且，對向於互相一對之玻璃基板1 1，12之内面，於 各液晶顯示元件形成領域，設有爲了注入液晶之注入口 ，及爲了包圍電極圖案之周邊而塗布製品密封劑，同時， 設置空氣排出口，且爲了包圍玻璃基板11，12之周邊而 塗佈外邊密封劑。此等製品密封劑，及外邊密封劑，譬如 使用環氧樹脂系列接著劑，藉由定量分配器，或印刷等方 式塗布。對向配置一對之玻璃基板1 1，1 2，係經由製品 密封劑，及外邊密封劑來做貼合。於一對之玻璃基板11 ’ 1 2之間，形成所定之間隔之液晶注入空間。此後，空 氣排出口係以譬如環氧樹脂等黏著劑之密封劑來做密封。 如此地’將組合具有複數之液晶顯示元件形成領域一體之 組合體1 3。 於組合之組合體1 3之一對玻璃基板1 1，1 2之表面 1 1 a ’ 1 2a ’於製造過程中，有時會發生微小瑕疵，和細微 龜裂等之凹坑起點】4。同時，於圖1 ( b )爲模組化表示 ’於一方之玻璃基板U之表面丨〗a，產生凹坑起點]4之 -6 - (4) 1231872 狀態。 同時，藉由圖1(c) ( d )所示之複數蝕刻處理裝置 ，使得將組合體1 3之一對玻璃基板1 1，〗2之表面1 1 a， 1 2 a ’使用化學硏磨之化學蝕刻做蝕刻處理，將玻璃基板 11，1 2之厚度變薄。 以具備圖1 ( c )所示之第一蝕刻處理裝置2 1，和圖 1 ( d )所示之第2蝕刻處理裝置22，做爲蝕刻處理裝置 。此等第1及第2蝕刻處理裝置2 1，和22，係以使用第 1及第2蝕刻液23，和24，做爲蝕刻比例不同之蝕刻液 。於第1蝕刻處理裝置，所使用之第1蝕刻液2 3之蝕刻 比例，相較於第2蝕刻處理裝置22，所使用之第2蝕刻 液24之蝕刻比例較快，相對於其第1蝕刻液23，和第2 蝕刻液2 4之單位時間之蝕刻比例爲1 0 0: 1以上。第1蝕 刻液23之溫度，於常溫下使用之，第2蝕刻液24之溫度 ，設定成相較於第1蝕刻液23較高，進而達到蝕刻比例 之調整及適當化。 蝕刻處理組合體1 3時，首先，藉由未圖示組合體1 3 之搬運裝置，設定圖1 ( c )所示之第1蝕刻處理裝置2 1 ，於第1蝕刻處理裝置2 1，蝕刻處理組合體1 3之玻璃基 板1 1，12之表面1 1 a，1 2 a。於第1蝕刻處理裝置2 1，藉 由使用蝕刻比例較快之第1蝕刻液23蝕刻處理，由於以 短時間蝕刻比較厚之厚度尺寸，故即使於玻璃基板1 1 ’ ]2之表面1 1 a，1 2 a，有微小瑕疵，和細微龜裂等之凹坑 起點1 4時，於此凹坑起點1 4以外之玻璃基板1 1，1 2表 -7- (5) 1231872 面1 1 a ’ 12a層之進行較，故和玻璃基板1丨，1 2之表面 1 1 a，1 2a層同時去除凹坑起點1 4。去除之狀態如圖2之 (a) (b) (c)之順序。 亦即’圖2 ( a )爲表示於製造工程中，放大於基板 Π ’ 12表面所產生之圓形凹穴起點之其中一個，圓形內 側比基板表面後退而形成凹部。藉由於第1蝕刻處理裝置 2 1之較早比例之蝕刻處理，使得相較於此凹穴起點1 4之 凹部，能進行外側基板表面1 1 a，1 2 a之蝕刻，凹穴深度 ’如圖2 ( b )所不，緩慢變淺，最後，如圖2 ( c )所示 ，形成不易辨別凹穴起點。 其次，於第1蝕刻處理裝置2 1之蝕刻處理完後，藉 由未圖示組合體1 3之組合體1 3之搬運裝置，從第1蝕刻 處理裝置2 1取出，設定圖1 ( d )所示之第2蝕刻處理裝 置2 2，於此之第2蝕刻處理裝置2 2，蝕刻處理組合體1 3 之玻璃基板Π，1 2之表面1 1 a，1 2 a。於第2蝕刻處理裝 置2 2，使用蝕刻比例較慢之第2蝕刻液2 4，藉由蝕刻處 理，爲了蝕刻所需時間可得到均一性，故玻璃基板II， 12之表面1 la，12a則可平滑化。。 且，於第2蝕刻處理裝置之蝕刻處理完後，如圖1 ( e)之所示，藉由未圖示組合體]3之運送裝置，從第2蝕 刻處理裝置2 2中取出。如此一來，組合體1 3之玻璃基板 1 1，1 2既可做薄成期望之厚度，進而達成液晶顯示元件 之輕量化及其薄型化。 因此，將玻璃面板]1，1 2之表面1 1 a，] 2 a使用蝕刻 -8- (6) 1231872 比例相異之第1，及第2蝕刻液2 3，2 4，且此等第1 2蝕刻液2 3，2 4之中，從蝕刻比例較快之第1蝕刻 ，依蝕刻比例較慢之第2蝕刻液2 4，藉由蝕刻處理 於蝕刻處理前，即使於玻璃基板1 1，1 2表面1 1 a，1 有凹坑起點1 4，可仰制將其凹坑起點1 4以所謂之凹 爲起點之凹狀瑕疵之產生，改善液晶顯示元件之顯示 〇 〇 同時，爲了貼合一對之玻璃基板11，1 2後進行 處理，故於蝕刻處理工程前之製造工程，於所期望之 狀態’可易於處理玻璃基板1 1，1 2，可改善生産性。 而且，於一對之玻璃基板1 1，1 2中，於各複數 晶顯示元件形成領域，形成電極圖案，於各液晶顯示 形成領域，設有爲了注入液晶之注入口，爲了包圍電 案之周邊，塗布製品密封劑之同時，設有排空氣口而 包圍玻璃基板1 1，1 2之周圍，故塗布外邊密封劑， 配置一對玻璃基板1 1，1 2，而經由製品密封劑及外 封劑做貼合，藉由密封排空氣口，組合將複數之液晶 元件形成領域一體化之組合體1 3，於此組合體1 3之 ’由於可蝕刻處理，故可將複數之液晶顯示形成領域 處理爲一體化，進而改善其生產性。 此外，由於第1蝕刻液2 3，和第2蝕刻液2 4之 位時間之蝕刻比例比設爲1 〇 〇 : 1以上，故可確實之除 坑起點1 4，和蝕刻處理之表面之確實平滑化，使其 並存。 及第 液23 使得 2a上 坑做 品質 蝕刻 厚度 之液 元件 極圖 爲了 對向 邊密 顯不 狀態 蝕刻 每單 去凹 兩者 -9- 1231872 (7) 再者，將第1蝕刻液23之溫度設爲常溫，藉由將第 2蝕刻液24之溫度，設定比第1蝕刻液23較高，使得可 達到第1蝕刻液23，與第2蝕刻液24間之蝕刻比例比之 調整及適當化。 而且，如圖1 ( f)之所示，從具有複數之液晶顯示 元件形成領域一體化之組合體1 3，分割成各液晶顯示元 件形成領域，於各液晶顯示元件形成領域中，透過以製品 密封劑所設之注入口，於一對之玻璃基板1 1，1 2之液晶 注入空間，注入液晶1 3之後，藉由密封注入口，而形成 液晶顯示元件3 2。 同時、於前述實施之形態、兩玻璃基板1 1，1 2之表 面1 1 a，1 2 a皆已實施蝕刻處理，即使僅僅蝕刻處理玻璃 基板11，12之表面11a，]2a之中任一項一方，亦可產生 達到液晶顯示元件之輕量化及薄型化等相同之作用效果。 此外’前述實施之形態中，係使用蝕刻比例相異之第 1，及第2蝕刻液2 3，2 4來實施2次蝕刻處理，但是使用 蝕刻比例相異之3種類以上之蝕刻液，即使多次蝕刻處理 亦可’此時可變大最快之蝕刻比例，和最慢之蝕刻比例， 可確實除去凹坑起點1 4之同時，亦可確實鈾刻處理之表 面之平滑化。 〔發明效果〕 依本發明時，將液晶顯示元件之玻璃基板表面，藉由 使用蝕刻比例相異之複數蝕刻液，且從此等複數之蝕刻比 -10· (8) 1231872 例較快之蝕刻液，以蝕刻比例較慢之蝕刻液之順序，進行 蝕刻處理，使得於蝕刻處理前，位於玻璃基板之表面之微 小瑕疵，和細微龜裂等，以抑制所謂凹狀之瑕疵做爲起點 ，進而可改善液晶顯示元件之顯示品質。 【圖式簡單說明】 圖1爲表示本發明之液晶顯出元件之製造方法’及其 裝置之實施形態，將製造工程依（a )〜（f )之順序之說 明圖。 圖2爲隨著同上化學蝕刻之玻璃基板之凹坑狀態’依 (Ο〜（c )之順序之說明圖。 〔符號說明〕 1 1，1 2 :玻璃基板 11a，12a：表面 2 ]:做爲蝕刻處理裝置中之第1蝕刻處理裝置 22 :做爲蝕刻處理裝置中之第2蝕刻處理裝置 23 :做爲蝕刻液中之第1蝕刻液 24 :做爲蝕刻液中之第2鈾刻液 3 2 :液晶顯示元件

Claims (1)

1. 拾、申請專利範圍 第92 1 1 8 748號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國93年1 1月22 日修正 1 · 一種液晶顯示元件之製造方法，其特徵爲將玻璃 基板之表面，使用蝕刻速率相異之複數之蝕刻液，且從此 等複數之蝕刻液之中，先以蝕刻速率較快之蝕刻液，再以 倉虫刻速率較慢之蝕刻液之順序，進行多次蝕刻處理。 2 .如申請專利範圍第1項所記載之液晶顯示元件之 製造方法，其中，蝕刻處理被形成電極圖案而被貼合之一 對玻璃基板之至少任一方之玻璃基板之表面。 3 ·如申請專利範圍第1項所記載之液晶顯示元件之 製造方法，其中，較快蝕刻速率，和較慢蝕刻速率之蝕刻 速率比爲1 0 0 : 1。 4 . 一種液晶顯示元件之製造裝置，其特徵爲具備： 將玻璃基板之表面，使用蝕刻速率相異之複數之蝕刻液， 且從此等複數之蝕刻液之中，先以蝕刻速率較快之蝕刻液 ，再以蝕刻速率較慢之蝕刻液之順序，進行蝕刻處理之複 數蝕刻處理裝置。