TWI223675B

TWI223675B - Free floating shield and semiconductor processing system

Info

Publication number: TWI223675B
Application number: TW089106510A
Authority: TW
Inventors: Lawrence Duane Bartholomew; Christopher A Peabody; Jay Brian Dedontney
Original assignee: Silicon Valley Group Thermal
Priority date: 2000-01-27
Filing date: 2000-04-08
Publication date: 2004-11-11
Also published as: EP1120815A2; CN1319682A; KR100338891B1; EP1120815A3; US6352592B1; CA2304548A1; KR20010082499A; JP2001214273A; CN1127581C; SG93235A1; HK1039638A1

Description

1223675 A7 B7 五、發明説明（]) 有關申請書 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此爲1 9 9 8年1 1月3日所提出之美專利申請書序號0 9 / 1 8 5，1 8 0之連續部份，其整個說明列作參考，此申請書爲於1 9 9 8年元月1 6日所提出之美專利申請書序號09/008，024，現爲1998年12 月1 3日所頒發之專利5，8 4 9 ，〇 8 8之連續部份，其整個說明列作參考。發明簡述本發明一般係有關化學蒸氣沉積系統之保護遮蔽裝置 ’更明確言之，係有關用以減少薄膜沉積於處理裝備上之氣體遮蔽裝置。而且，本發明係有關使用保護遮蔽裝置及利用排氣控制之半導體處理系統。發明背景經濟部智慧財產局員工消費合作社印製化學蒸氣沉積（CVD)系統用以製造薄而均勻之層或薄膜於基體上，諸如半導體矽。在C V D處理期間中，基體曝露於一或更多氣體物質，諸如矽烷，磷烷，乙硼烷，氧，臭氧等，及化學蒸氣，諸如TEOS (正矽酸四乙酯），Τ Μ B (硼酸三甲酯），Τ Μ P i (磷酸三甲酯），TEB (硼酸三乙酯），TEBo (磷酸三甲酯）等。氣體注射於淸潔，隔離之反應室中，並可與其他氣體及/ 或基體表面混合及反應，以產生所需之薄膜。C V D系統普通使用注射器，此移送氣體物質直接至基體表面。一排本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -4- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 A7 __ΒΊ 五、發明説明（2 ) 氣系統移去反應室中在反應期間所形成之廢氣產物，諸如未反應之氣體及粉末。經過時間，薄膜沉積於該室之曝露表面上，產生微粒污染源，此可能埋進薄膜中，或降低薄膜均勻性。在許多應用上，包括半導處理，諸如純度及厚度均勻性等薄膜特性需符合高品質標準。爲保持薄膜品質及防止不可接受之缺陷程度，反應室需淸洗，以除去沉積之薄膜。注射口普通置於距基體表面一吋以下處。由注射器及基體表面間之此有限之間隔，注射器表面及室壁在反應期間中爲所產生之材料所塗覆。爲減少此區中之積聚量，一* 些CVD系統含有遮蔽裝置，此置於注射器及排氣口前方。遮蔽裝置包含穿孔網板熔接於支持體上。供應管移送惰性氣體，諸如氮至支持體及網板間之空間中。氮氣通過穿孔網板離開遮蔽裝置，以減慢材料在沉積期間中積聚於遮蔽裝置上之速率。化學蒸氣沉積所需之反應普通在升高之溫度，例如 3 0 0°C至6 0 0°C上發生，基體及室加熱至所選處理之適當溫度。反應室中之高溫度在穿孔網板中產生熱應力，此會導致網板在一段時間後彎曲。穿孔網板之熱變形阻礙氮氣之均勻通過網板，留下網板之一部份不能防止沉積材料之積聚。網板移送氮氣至反應室之能力由於網板受沉積材料所塗覆而進一步降低，需要移去及淸洗或更換遮蔽裝置。由於網板基本上形成反應室之上”壁”，故變形之網板亦干擾反應室內之處理反應劑化學物之均勻及分佈。移本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）一 -5- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1223675 A7 B7 五、發明説明（3 ) 去遮蔽裝置以便淸洗或更換受損之遮蔽裝置所造成之延遲費時且費錢。需要一種遮蔽裝置，其網板之熱變形減至最低或消除。亦需要一種遮蔽裝置，此提供均勻之惰性氣體供應至反應室。同樣需要一種遮蔽裝置，其中，受損之網板表面可迅速及廉價更換。在大氣壓力CVD (AP CVD)處理中，基體在處理期間中由一輸送帶輸送，此攜帶基體通過一或更多室。反應室並非一封閉室，而是僅爲注射器前方之區域，在一列簾幕之間，此使用惰性氣體，諸如氮使反應室與其餘處理徑路隔離。在注射器之每一側邊上之排氣管用以抽出反應室中未用之氣體及反應副產物。如以較之氣體引進於反應室中之速率爲慢之速率取出排氣，則一些反應劑會逸出反應室。故此，在先行技藝系統，排氣之流率普通大於氣體注射進入室中之速率。多餘之惰性氣體自反應室間之區域中被拉進反應室中，以提供緩衝區，阻止反應劑氣體逸出。然而，自緩衝區鄰近被拉進室中之氣體在反應室之寬度上並不均勻計量。故此，沿反應室之寬度上產生不均勻之氣體至氣體界限。需要一種遮蔽裝置，此有效防止反應劑氣體逸出反應室，而不干涉反應化學物。當氣體自通氣口之一側邊上之注射器下方之區域，及通氣口之另一側邊上之反應室間之緩衝區中被拉進排氣口中時，大量之反應氣體再循環產生於相對氣體流之間。需要一種遮蔽裝置，此有效排出室中之反應劑氣體，並減少反應室內之氣體再循環至最低程度。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -6- 1223675 A7 B7 五、發明説明（4 ) 發明目的及槪要 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之一主要目的在提供一種遮蔽組件’用以保護 CVD處理中所用之氣體注射器之露出表面，室壁，排氣口。本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件’此在遮蔽組件之長時間使用中，均勻移送惰性氣體至遮蔽組件之表面上，並可使用光滑不變形之表面形狀。本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件’此抵抗室內所發生之化學反應所需之高溫，而不漏出氣體’或遮蔽組件或移送保護氣體流之表面變形° 本發明之又另一目的在提供一種遮蔽組件’具有可移去及可更換之網板。本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件’此提供反應氣體及副產物對吸進室中之周圍氣體分開之雙排氣徑路。本發明之又另一目的在提供一種遮蔽組件’此產生一惰性氣體緩衝區，防止反應氣體逸出該室。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件，此可供應多餘之惰性氣體流出該室，而非需要拉進周圍之氣體於室中，以防止在開放A P C V D系統中，反應劑氣體逸出該室本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件，此減少室內之反應劑氣體再循環至最低程度，同時保護排氣徑路表面〇本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件，使新蓋罩設本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1223675 A7 ΒΊ _____ 五、發明説明（5 ) 計具有A P C V D處理模組或室由緩衝模組隔離’此抽出室中多餘之惰性氣體，而非供應多餘之氣體拉進處理室中 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇本發明之更普通目的在提供一種遮蔽組件’此具有長可用壽命，減少維護成本，及增加C V D系統之使用時間至最大程度，且此可經濟及有效製造及維護。本發明之另一目的在提供一種遮蔽組件，此由一基部構成，具有連續之單位框，俾容易而確實插進一板或網板〇經濟部智慧財產局員工消費合作社印製總而言之，本發明提供一種耐久之保護遮蔽裝置，用以防止薄膜過度浣積於CVD裝備上，並安全隔離反應室及其餘處理徑路。遮蔽裝置包含一框組件’含有一對分開之端壁，及一對側壁延伸於端壁之間，並安裝於其上。多個遮蔽體由框組件攜帶，包含注射器遮蔽體設置用以防護注射器注射之反應劑，及分部遮蔽體與注射器遮蔽體分開，用以防護排出之反應劑。遮蔽體各包含一基部，由基部攜帶之一穿孔板，基部及穿孔板間之一充氣室，及一氣體移送裝置用以移送惰性氣體至充氣室，其流率在使氣體擴散通過穿孔板。在本發明之一方面，遮蔽體固定於框組件內，俾遮蔽體在變化之溫度情況下能對框組件自由膨脹及收縮。在本發明之另一方面，穿孔板由蔽體基部及端壁抓住，俾板在變化之溫度情況下能對基部及端壁自由膨脹及收縮，維持C V D薄膜之精確形狀需求。在本發明之另一方面’分部遮蔽裝置各包含一出口用以供應惰性氣體至遮本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 1223675 A7 B7 五、發明説明（6 ) 蔽裝置下方之區域中，以形成惰性氣體之緩衝區於處理室內之沉積區之二側邊上。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明並包含一大氣壓力化學蒸氣沉積系統，此包含多個處理室，各具有一注射器在其中，用以注射反應劑於處理室中，及排氣管置於注射器之相對側。一輸送帶沿處理徑路上輸送基體通過處理室。多個緩衝室使處理室與其餘處理徑路隔離。一蓋罩包圍處理室，緩衝室，及輸送帶之處理徑路，並包含旁通導管供消音裝置之緩衝室通氣之用。一保護遮蔽裝置安裝於處理室中，用以保護注射器表面及排氣管之入口。保護遮蔽裝置包含注射器遮蔽體置於注射器鄰近，及分部遮蔽體與注射器遮蔽裝置分開。遮蔽裝置包含一入口在注射器遮蔽體之間，及一出口在分部遮蔽體之間，供反應劑流過保護遮蔽裝置。分部遮蔽體各包含一充氣室充有惰性氣體，及一底出口連接至充氣室，用以移送保護蔽裝置下方之惰性氣體，以形成緩衝障壁於注射口之相對側邊上。此A P C V D系統之創新在於新保護遮蔽裝置能由處理室內供應多餘之惰性氣體，俾緩衝室內之所有氣體流經旁通導管離開蓋罩，而非被拉進室處理排氣口中。在本發明之新實施例中，提供氣體分佈系統之一種保護遮蔽裝置，此包含一框組件，含有一對相分開之端壁’ 及一對側壁延伸於其間，並安裝於端壁上。提供多個單位遮蔽體，由框組件攜帶。單位遮蔽體各由單件之基部構成，及基部具有單位框構製於基部之周邊周圍，由單位框攜本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -9- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 A7 _B7 五、發明說明（7 ) 帶之一保護板’由基部及穿孔板部份界定之一充氣室，及一氣體移送裝置用以移送氣體至充氣室，其流率在使氣體擴散通過穿孔板。自以下詳細說明及後附之申請專利範圍，並參考附圖，可更容易明瞭本發明之其他目的及特色。圖形之簡要敘述圖1爲現有之先行技藝（A P C V D )處理系統之槪要圖，此可加裝本發明之保護遮蔽裝置。圖2爲圖1之C V D系統之處理模組或室之槪要圖，顯示現有之先行技藝式之氣體遮蔽裝置。圖3爲本發明之保護遮蔽裝置之槪要圖，部份切去，顯示安裝於處理模組中。圖4爲圖1之遮蔽組件之圖畫4圖。圖5爲預製之穿孔網板之圖畫圖，跨越於圖3之遮蔽組件之注射器出口及內排氣口之間。圖6爲圖3之遮蔽組件之端壁及內計量管之頂平面圖圖7爲圖3之遮蔽組件之端壁之前平面圖。圖8爲影致沿圖7之線8 - 8上所取之斷面圖。圖9爲在圖7之圓圈9 一 9內之區域所取之放大圖。圖1 0爲圖3之遮蔽組件之注射器部份氣體移送組# 之端視圖圖1 1爲在圖10之圓圈1 1 一 1 1內之區域所取之本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------txi·· — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) S-. -10- 1223675 A7 ____B7 五、發明説明（8 ) 放大圖。圖1 2爲圖3之遮蔽組件之分部氣體移送組件之端視 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖。圖1 3爲在圖1 2之圓圈1 3 — 1 3內之區域所取之放大圖。圖1 4爲本發明之另一實施例之遮蔽組件之斷面圖。圖1 5爲新C V D系統處理蓋罩之槪要圖，能排出緩衝模組中多餘氣體，同時經由使用新遮蔽裝置確保安全拘束處理氣體。圖1 6爲本發明之另一實施例之遮蔽組件之斷面圖。圖1 7 a及1 7 b分別爲圖1 6之遮蔽組件之端視圖，及大致在圓圈 17b — 17b內之區域所取之放大圖。圖1 8 a及1 8 b爲圖1 6之遮蔽組件之遮蔽體之圖畫圖，並顯示該板插進遮蔽體中。圖1 9 a及1 9 b分別爲圖1 6之另一遮蔽組件之端經濟部智慧財產局員工消費合作社印製視圖，及大致在圓圈1 9 b - 1 9 b內之區域所取之放大圖。圖2 0 a爲圖1 6之遮蔽組件之端壁內之前平面圖。圖2 0 b爲圖2 0 a之端壁外之前平面圖。圖2 1爲圖1 6之遮蔽組件之斷面圖，顯示組合於通氣覆緣中之通氣遮蔽組件。圖2 2 a及2 2 b分別爲圖1 6之另一遮蔽組件之側壁之一及墊片之端視圖，及大致在圓圏2 2 b — 2 2 b內本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐] -Π - 1223675 A7 B7 五、發明説明（9 ) 之區域所取之放大圖。圖2 3爲計量之照片圖，包含本發明之另一實施例之一凸緣。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖2 4 a及2 4b爲CVD系統處理蓋罩之槪要圖，能排出緩衝模組中多餘之室氣體，同時經由使用新遮蔽裝置確保安全拘束處理氣體。圖2 5爲頂面圖，顯示經由圖2 4之C V D系統處理蓋罩排放之各種氣體之徑路。圖2 6爲遮蔽組件及注射器之一部份之斷面圖，顯示氣體流。圖2 7爲通氣覆緣中所組合之遮蔽組件之另一實施例之透視圖。圖2 8爲圖2 7之遮蔽組件之分解圖。圖2 9爲圖2 7之遮蔽組件之通氣框之透視圖。圖3 0爲圖2 7之遮蔽組件之分部遮蔽裝置框之透視圖。圖3 1爲圖2 7之遮蔽組件之端壁之透視圖。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製主要元件對照表 10 C V D處理系統 11 處理模組 14 注射器 16 反應室 18 導管本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 1223675 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（ 10 ) 2 〇注射口 2 2 基體 2 4 輸送帶 2 6 蓋罩 2 7 緩衝模組 2 8 簾幕 3 〇充氣體 3 2 排氣管 4 〇遮蔽體 4 2 背壁 4 6 入口 5 0 入口邊緣 5 8 出口 6 2 端壁 6 4 側壁 6 5 合釘 6 6 側口 7 6 穿孔板 8 〇計量管 8 3 氣體供應管 8 8 槽 8 9 凹入區 9 1 支持表面 9 2 槽 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T -. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13- 1223675 A7 B7 五、發明説明（n ) 9 4 孔 9 5 縫隙 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 108 保持裝置 13 1 旁通導管 141 單位框 19 4 密封薄墊片發明之詳細說明現詳細參考附圖所示之本發明之較佳實施例。現轉至附圖，其中，各圖中相同之組成件由相同數字標示，注意圖1及圖2。圖1槪要顯示現有先行技藝C V D處理系統1 〇之一部份，此使用本發明之保護遮蔽組件，如本藝中所知，大氣壓力CVD系統普通包含一或更多處理模組或室11 ，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製沿處理徑路上設置。處理模組1 1之組成件顯示於圖2。每一處理模組包含一注射器1 4用以注射化學反應猁及其他氣體物質於反應室或處理區中，整個標示爲1 6 ，在注射器1 4正下方。在所示之例中，CVD系統1 0包含四處理模組1 1 ，如顯示於圖1 ，唯應明瞭所用之處理模組 1 1之數取決於特定處理之限制。導管1 8移送氣體物質至注射器1 4，此輸送氣體通過分開之氣體流徑路至注射口 2 0之一。雖未顯示，但每一注射口 2 〇沿注射器1 4 之縱軸在長度方向上延伸，以移送成薄片狀之氣體物質至反應室1 6。基體2 2由輸送帶2 4沿處理徑路上輸送。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29—7^-- -14- 1223675 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（12 ) 整個處理徑路包裹於蓋罩2 6內，此提供淸潔，無污染之環境，供輸送及處理基體之用。如顯示於圖1 ，處理模組1 1由緩衝模組2 7分開，此使處理模組1 1與其餘處理徑路隔離。如顯示於圖2，緩衝模組2 7包含多個簾幕2 8自一充氣3 0垂下，充氣用以移送惰性氣體，諸如氮氣體於簾幕2 8之間。包含未反應氣體之沉積廢氣體產物自反應室1 6驅出通過排氣管3 2，此連接至適當之排氣系統（未顯示）。室沉積區1 6及基體2 2由加熱元件 3 4保持於所需之反應溫度上。當基體移動通過每一反應室1 1時，注射之物質相互反應，及/或與基體2 2之上表面反應，以形成一均勻薄層或薄膜。C V D方法中所用之實際反應劑視所需之薄膜之型式及品質而定。在處理系統1 0之一應用中，內口 2 0經注射器1 4及一導管1 8連接至矽源反應劑，諸如 T E 0 S，矽烷，或乙矽烷及氮，且如需要，一摻雜劑源反應劑，諸如Τ Μ P i ，Τ Μ B，磷化氫，及/或乙硼烷。反應劑普通由惰性載送氣體，諸如氮供應。氧或氧及臭氧及氮之組合經由另一導管18及注射器14移送至外口 2 0。一純氮氣體流移行通過另一導管1 8而至中間分隔口 2 0，使矽，硼，及磷源反應劑與氧化族團分開，直至氣體接近晶片表面爲止。在此說明本發明之遮蔽裝置裝置1 2之一應用。明確言之，遮蔽裝置1 2顯示保護注射器1 4之前面及排氣管 3 2之入口。然而，應明瞭遮蔽裝置1 2亦可用於其他應 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1-· I IJ:. · 訂 4. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -15- 1223675 A7 B7 五、發明説明（13) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 用上’諸如保護處理模組之室壁，或保護排氣徑路，包含出口。而且，遮蔽裝置1 2可應用於C V D系統，操作於各種壓力，不僅在大氣壓力，諸如次大氣體（SACVD )’或低壓力（LPCVD)，或高壓力系統。遮蔽裝置 Γ 2亦可應用於不同成份，不獨氧化矽（S i〇@ 2 V ) ，或矽酸硼磷玻璃（B P S G )系統之各種薄膜沉積上。本發明之物質並不限於任何特定應用。轉至圖3及4，本發明之遮蔽組件1 2置於注射器 1 4之前方及排氣通道3 2之入口，在此，保護此等表面，防止薄膜沉積及可能之污染物積聚。與先行技藝之遮蔽裝置不同，本發明之遮蔽組件丨2更精確界定反應室沉積區1 6之界限。如以下更詳細說明，遮蔽裝置1 2亦防止反應劑遷移至遮蔽裝置1 2之分路部份外，限定反應皺沉積區1 6於精確界定之區域。由控制沉積區之大小，本發明之遮蔽裝置12對室內所發生之反應化學物及氣體流提供較大之控制，從而改善基體上所沉積之薄膜之品質及均勻性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製遮蔽裝置1 2具有模組構造，且大體包含若干分開之遮蔽體40。二遮蔽體40 a及40b合作，以界定遮蔽體1 2之背壁，此置於注射器1 4之前面上，以包裹注射器1 4之外邊緣。此構造確保注射器1 4之前面及排氣管 3 2之入口邊緣大致與反應副產物及未用反應劑隔離。遮蔽體4 0 a及4 0 b分開，以界定遮蔽裝置之一入口 4 6 ，供注射器1 4所注射之反應劑通過遮蔽裝置。入口 4 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 A7 ___B7 五、發明説明（14 ) 之大小，形狀，及構造取決於處理系統1 0中所用之特定注射器1 4之注射口 2 0之構造。在本實施例中，入口 4 6具有窄長構形，其大小在使入口 4 6之邊緣剛在最外注射口 2 0之外側，以對注射器1 4之前面提供最大保護。然而，應明瞭在本發明之範圍內，入口 4 6之構形可作相當大改變。例如，在本發明之其他修改中，遮蔽體 4 0 a及4 0 b可合倂成單個組件，及入口 4 6由構製穿過單個組件之一開口界定。遮蔽體40 c及40 d置於遮蔽體40 a及40 b下方，且稍外方，遮蔽體4 0 c及4 0 d之內邊緣合作，以界定內排氣徑路1 1 6之開始，此通至排氣管3 2之排氣體入口 5 0，以移去沉積區1 6中之處理氣體。遮蔽體 4 0 c及4 0 d相分開，形成遮蔽組件1 2之一出口 5 8 於其間。出口 58對齊入口 46，且遠較入口 46爲大。由於本發明之遮蔽裝置12提供反應室沉積區16之界限，故出口 5 8之寬度大致界定沉積區。在所示之實施例中，出口58具有寬度約爲2·5吋，相較於入口寬度之 0 · 2 5吋。然而，應明瞭出口 5 8之大小及構形可修改至特定應用之限度。遮蔽體4 0配合端壁6 2，以形成包封之空間’保護氣體經此引進。端壁6 2亦具有U形構造，以包裹注射器 1 4之前方。側壁6 4由螺釘6 3或其他適當固定件安裝於端壁6 2上，從而固定遮蔽裝置1 2之各組成件一起。在較宜之實施例中，遮蔽體4 0並不直接安裝於端壁6 2 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

-17- 1223675 A7 B7 五、發明説明（15) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上，而是在不同之溫度情況下可膨脹及收縮，如以下有關圖7及8所述。端壁62包含向外凸出之合釘65 ’此方便遮蔽裝置1 2之組合，當側壁6 4連接時，提供端壁之正確對齊及間隔。使用螺栓或其他類似固定件’以固定側壁6 4於端壁6 2，固定遮蔽體4 0於此框架內’可容易組合及分離遮蔽體，提供一模組鏑之遮蔽體1 2，方便淸潔及維護，如以下更詳細說明。然而，在本發明之另一構形，可使用不能迅速分解遮蔽裝置1 2之裝置，以固定遮蔽裝置一起。側壁6 4向外與遮蔽體4 0 a及4 0 b分開’以界定排氣口 5 0，用以直接移送排氣至排氣管3 2。遮蔽體 4 0 c及4 0 d之向上延伸部份與側壁6 4之內部分開’ 從而分進入排氣口 5 0中之氣體流徑路爲在每邊上之一部份，其目的更詳細說明於下。並設有側口 6 6 ，此使基體經濟部智慧財產局員工消費合作社印製可輸送通過處理模組，供來自處理模組1 1外之緩衝模組 2 7之氣體通過側壁6 4之內邊及遮蔽體4 0 c及4 0 d 之外部間所形成之排氣徑路6 8而至排氣口 5 0。除使用側壁6 4及遮蔽體4 0 c及4 0 d之向上延伸部份來形成側邊排氣徑路6 8外，應明瞭側邊排氣口可由側壁6 4中之一孔提供。在本發明之另一實施例中，經由遮蔽體 4 0 c及4 0 d引進之惰性氣體可向外排氣體徑路6 8上方流，並經孔6 6流出而進入緩衝區2 7中。遮蔽體4 0之露出表面由惰性氣體，諸如氮，氬，氦，或其他當氣體之障壁保護，防止化學反應劑。氮由阻絕本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18- 1223675 A7 B7 五、發明説明（16) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 遮蔽體4 0之表面與化學反應劑氣體流，減少薄膜沉積至最低程度。由於遮蔽體4 0 a及4 0 b大致相同，唯相互相反，故僅詳細說明遮蔽體4 0 a ，唯該說明同等適用於遮蔽體40b。遮蔽體40 a包含一穿孔板或網板76，此彎曲或預製成圖5所示之所需形狀，俾板7 6設立離開遮蔽體4 0 a之基部4 2，以形成一充氣室7 8。穿孔板宜具有厚度在〇·005至0·012吋範圍，例如 0 . 0 0 8吋。穿孔板之適當材料包括不銹鋼， inconel ，或其他相似合金。該網板之孔率在1 0 %至3 0 %。一氣體供應裝置用以充塡惰性氣體，諸如氮於充氣室 7 8中，其流率在使氮滲透穿孔板7 6，並形成一氮氣體雲於板7 6前。在所示之實施例中，一或更多之導管或計量管8 0置於充氣室7 8中，並通過壁6 2而連接至外部惰性氣體源（未顯示），用以移送氣體至充氣室。計量管經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8 0之壁多孔，使氣體可在所有方向上均勻擴散通過該管。如此，自計量管中取出氣體不限於構製於導管壁中之個別孔，如先行技藝系統。在先行技藝系統，鑽製於固體管中之個別孔使氣體以高速離開每一孔，自金屬表面維持高度動量，並產生局部噴氣於充氣室內。此局部噴氣導致惰性氣體不均勻分佈於充氣室中及網板前，對防止更迅速沉積於網板上所提供之保護，及反應劑在室內之均勻性’及沉積薄膜之均勻性有不利影響。由本發明之計量管8 0，氣體沿管之整個長度及圓周上均勻擴散，氣體以均勻之速度充滿整個充氣室。如此，導管8 0提供低速度，均勻供 I紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ^ -19- 1223675 A7 B7 五、發明説明（17 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 應無局部影響之氣體。呈現所需孔率之導管8 〇之材料包含鎳，不銹鋼，或碳化矽。雖計量管8 0較宜，但應明瞭導管8 0可由先行技藝之導管取代，具有實心管壁，構製有一列孔用以注射惰性氣體於充氣室中。爲達成氣體之均勻分佈於充氣室內，計量管8 0或聯合之若干導管宜大致沿充氣室7 8之長度上延伸。如特別顯示於圖3，計量管8 0置於入口 4 6鄰近，以提供大致氮氣體集中於沉積區中，氮或其他惰性氣體以一流率供應至計量管8 0，此確保充分之氣體不斷充進充氣室，以提供滿意之氣體障壁於穿孔板7 6之整個表面上。此處所述之AP CVD處理模組之遮蔽體4 0 a及4 0 b中所用之氮氣體之普通流率約爲每分鐘5至15標準升。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在較宜之實施例中，遮蔽裝置1 2具有模組式設計，俾容易及方便淸潔及維護。如顯示於圖6，計量管8 0插進端壁6 2中所構製之一孔中’並經由導管之未端處所設置之一安裝構件8 1固定。C環密封8 2或其他適當之密封裝置提供計量管8 0及端壁6 2間之密封。氣體經氣體供應管83 (圖4)及配件84移送至端壁62。氣體流過端壁中所構製之內通道（未顯示），並經管中之孔8 5 進入計量管8 0中。在本實施例中，每一遮蔽體4 0 a及 4 0 b之計量管8 0插進不同之端壁6 2。然而，在本發明之其他實施例中，二遮蔽體4 0 a及4 0 b之計量管 8 0可插進相同之端壁。計量管之插進端壁使計量管8 0 容易移出，無需拆開一或二端壁62，或移出網板76。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） -20- 1223675 A7 _______B7 五、發明説明（18 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 雖導管8 0之能通過端板6 2移出有利，但應明瞭本發明之其他實施例可包括導管整個包含於充氣室7 8內，固定於端壁內，需要移去端板6 2，以移出導管。 CVD處理普通在高溫上發生，通常高至6 0 0 °C。在先行技藝之遮蔽裝置，網板曝露於熱室，同時遮蔽背板置於充有連續氮氣體流之充氣室後方。如此，背板在較網板爲低之溫度上。網板之較小厚度，較低質量，及較高溫度使網板較之背板更迅速膨脹至較大程度。由於網板直接熔接於背板上，此熱膨脹使網板翹起，彎曲，或屈曲。遮蔽裝置之重複受加熱會引起網板破裂。先行技藝之遮蔽裝置使用浮花壓痕構製於網板或其他裝置上，以減少此屈曲效果。然而。此等措施並不完全克服屈曲問題。而且，網板之變形及浮花壓痕使反應室變形，干擾室沉積區1 6內之反應劑之均勻分佈。由本發明之遮蔽裝置1 2。穿孔網板之屈曲大致消除，因其爲浮動，而非在其邊緣上固定。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在本發明之較宜實施例中，遮蔽體4 0 a並非固定或溶接於端壁6 2，及穿孔網板7 6並非固定或熔接於遮蔽基部1 2或端壁6 2上。而是，遮蔽體40 a及穿孔網板 7 6保持位置，當遮蔽體4 0 a及網板7 6在變化之溫度情形下膨脹及收縮時，遮蔽體4 0 a及網板7 6可對端及側壁6 2及6 4之框架移動，而不產生內部壓縮應力，不導致屈曲，翹起等。至少一且宜二端壁6 2之內部製成保持穿孔板7 6之末端及遮蔽體之基部4 2之形狀。如顯示於圖7及9，端壁6 2包含一槽8 8構製於端壁6 2上，本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 - 1223675 A7 B7 ___ 五、發明説明（19 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此相當於預彎曲穿孔板7 6之形狀。穿孔板之末端8 7置於道8 8中，以槽8 8之壁保持板末端固定。端壁6 2並包含一凹入區8 9 ，此配合遮蔽體4 0 a之基部4 2之形狀。遮蔽體4 0 a置於凹入區中，以連接遮蔽體4 0 a於端壁6 2。槽8 8及凹入區8 9之壁大致密封板之末端’ 防止氣體流於穿孔板之末端周圍。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製槽8 8及凹入區8 9具有深度，俾在室溫度附近之溫度上，板7 6及遮蔽體4 0 a之基部4 2之末端間有一重大之空隙至槽8 8及凹入區8 9之封閉端。在升高之操作溫度上，此普通大於4 0 0 °C，穿孔板7 6及基部4 2會膨脹，導致板7 6之未端大致塡塞於槽8 8。構製於二端壁6 2中之槽8 8及凹入區8 9吸收穿孔板之膨脹，減小或甚至消除穿孔板之屈曲或翹起。在本實施例中，穿孔板爲不銹鋼所製，並具有厚度約爲0 · 0 0 8吋，及插入於槽88中長度約爲0.150吋，槽88具有深度在 0 · 200吋範圍，及寬度在0 · 0085至0 · 010 吋範圍。凹入區89亦具有深度在0.200範圍，以應付基部4 2之同樣插入深度0 · 1 5 0吋，及寬度中之 0 . 001至0 · 005吋範圍之容差大於基部42之形狀。與遮蔽體4 0 a同樣，遮蔽體4 0 c由端壁6 2固定 ’及穿孔板9 8由遮蔽基部9 9及端壁6 2固定，俾該板在溫度情況下膨脹及收縮之期間中，基部9 9及穿孔板 9 8可對端壁6 2移動及相互移動。端壁6 2包含一槽本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) ' -22- 1223675 A7 B7 五、發明説明（20) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 104，穿孔板98之末端固定於其中（圖7 — 8)。端壁6 2亦構製有一凹入區1 〇 6，其造形在接受遮蔽體 4 0 c之末端。槽1 〇 4及凹入區0 6之壁保持遮蔽體 4 0 c固定，並防止氣體漏出充氣室1 〇〇之末端。一空隙存在於穿孔板9 8及基部9 9至槽1 0 4及凹入區 1 〇 6之底部之邊緣間，俾穿孔板9 8及基部9 9在變化之溫度情況下可膨脹。如以上有關遮蔽體4 0 a所討論，當溫度增加時，穿孔板9 8及基部9 9可膨脹，導致板之末端移動更深入於槽1 0 4中，及基部9 9之末端移動更深入凹入區1 06中。如此，端壁6 2之槽1 04及凹入區1 0 6保持遮蔽體4 0 c固定，同時容許遮蔽體4 0 c 及網板9 8在變化之溫度情況下膨脹及收縮。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製穿孔板9 8之側邊亦由遮蔽體4 0 c之基部9 9保持，其方式爲當網板膨脹及收縮時，網板9 8可對基部9 9 移動。如特別顯示於圖12及13，基部9 9包含一第一保持裝置1 0 8及一第二保持裝置1 1 0，用以保持穿孔板9 8之側邊。在本實施例中，保持構件1 〇 8及1 1 0 由縱向延伸之槽提供，構製於基部9 9中。穿孔網板9 8 之側邊置於槽1 0 8及1 1 0中，此等保持側邊固定，同時容網板9 8在變化之溫度情況下膨脹及收縮。在本實施例中，槽1 0 8，1 1 0各具有深度約爲0 · 1 〇吋，及寬度約爲0 · 0 1 0吋。由構製於端壁6 2中之槽及凹入區，以及遮蔽體 40a ，40b之基部42及遮蔽體40c，40d之基本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）一 -23- 1223675 A7 __— B7 五、發明説明（21 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 部9 9之構形，穿孔板7 6及9 8可容易滑進基部中，及遮蔽體插進端壁中。由少至四螺栓6 3固定側板6 4於端壁6 2中，及各由單個配件8 1插進四計量管8 0及 1 0 2 ’谷易兀成遮蔽組件1 2。即使有氮氣障壁，在長時間處理後，一些薄膜可沉積於穿孔板7 6及9 8之表面上。當積聚之薄膜開始干擾遮蔽裝置1 2之作用時，遮蔽裝置1 2可容易分解，以移出遮蔽體4 〇，以便淸潔或更換受塗覆之網板。可安裝新或淸潔之網板7 6及9 8或遮蔽體4 0，以便連續操作，同時淸潔用過之網板或遮蔽體 4 0，以減少處理系統1 〇空閒或停工之時間。遮蔽體 4 0及網板7 6及9 8淸潔後可再使用。在其餘零件需要作爲一單位淸潔時’多孔之計量管8 0及1 0 2亦可容易移出整個遮蔽體12。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製圖1 4顯示遮蔽體1 2之一實施例，此包含不同型式之保持裝置9 0 a ，用以保持穿孔網板固定。操作原理與已述之固定網板7 6於基部4 2 (圖1 0 )之技術相同，其中二零件互鎖，產生一形狀，此用以固定網板，而不限制網板之邊緣。保持裝置9 0 a之形狀剛與遮蔽體4 0 a 所用之簡單桿9 3及9 6不同。而且，亦可使用與所述用以固定網板9 8於基部9 9 上（圖1 2 )不同形狀之槽及網板邊緣，如顯示於圖1 4 之槽9 0 b。如顯示於圖3，設置於遮蔽體4 0 a及4 Ob及遮蔽體4 0 c及4 0 d間之通道1 1 6移送未用之反應劑及反本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -24 - 1223675 A7 B7 五、發明説明（22 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 應副產物直接至排氣口 5 0，確保有效移去沉積區1 6中之處理廢氣。此與先行技藝之遮蔽裝置不同，後者並不引導氣體至控制徑路內之排氣口，而是供提供一層惰性氣體於注射器之露出表面及排氣入口前方。所發出並覆蓋穿孔板7 6，9 8之氮氣使穿孔板與化學反應劑氣體流隔離，並禁止沉積薄膜於穿孔板之表面上。均勻供應惰性氣體於每一穿孔網板前面，因爲由容許網板在變化之溫度情況下對遮蔽體及端板移動，避免網板屈曲，翹起，或其他變形。如此，更均勻之惰性氣體層由減少室內污染物之積聚，並促進反應劑之均勻分佈於室內，提高所沉積之薄膜之品質。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製由本發明之遮蔽裝置1 2，界定沉積區1 6於出口正下方之基區域5 8中。如圖3及1 2所示，遮蔽體40 c 及4 0 d各製造雙排氣徑路至排氣入口 5 0，並含有一底出口 1 2 2構製於組件之基部9 9中。底出口 1 2 2使一惰性氣體流自充氣室1 0 0通過基部9 9流至與出口 5 8 相鄰之遮蔽裝置下方之區域。基體2 2或輸送帶2 4使來自底出口 1 2 2之氣體流分爲一拘束分流 (標示爲1 2 4 )及一流出分流（標示爲1 2 6 )。拘束分流1 2 4提供惰性氣體之緩衝於遮蔽體 4 0 c及4 0 d下方，防止反應劑或反應副產物離開沉積區1 6 ，逸出遮蔽裝置1 2下方。牽製分流1 2 4隔離反應室，俾可精確控制沉積區之寬度，並提高處理性能 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- 1223675 A7 B7 五、發明説明（23 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 流出分流1 2 6流於遮蔽體4 0 c ，4 0 d周圍，並通外排氣分徑路6 8而至排氣口 5 0。惰性氣體流之引導至排氣口 5 0確保自沉積區1 6經徑路1 1 6之理廢氣體直接帶至排氣管3 2，俾移離系統1 0，並稀釋化學物濃度’並增加速度，俾易於移出副產物。流出分流1 2 6並提供一障壁於緩衝模組2 7及反應室沉積區1 6之間，有效使反應室與處理模組1 1之上游及下遊區之情況隔離。本發明之遮蔽裝置1 2製造一緩衝氣體區於反應室之相對側。惰性氣體以充分高之流率移送至充氣室1 0 0，以維持穩定流率之氣體流給拘束分流1 2 4及流出分流 1 2 6，以及通過網板9 8之保護氣體流，確保所需之緩衝區產生於沉積區之二側。由拘束分流1 2 4及流出分流 1 2 6，可精確並均勻控制沉積區界限及處理氣體流，因爲所有氣體在計量室內供應及計量，產生較高品質之薄膜〇經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在先行技藝系統，圖1及2顯示一例，通氣管3 2之排氣流率大於氣體供應於處理模組1 1之室區內之流率，故由充氣室3 0所供應或來自緩衝模組2 7之惰性氣體可被吸進反應室中，以形成障壁，防止反應劑逸至簾幕區。此系統之一問題爲普通供應並經由側口 6 6吸進於室區中之緩衝氣體成不均勻分佈，道致反應劑沿室之邊緣上不均句分佈，此損害基體2 2上所沉積之薄膜之均勻性。氣體之自簾幕區2 7流入，及來自室內注射器之處理廢氣流至排氣管3 2產生大滯留袋於二氣體流之間，反應劑及反應本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26 · 1223675 A7 B7__ 五、發明説明（24 ) 副產物在此再循環。再循環之氣體干擾精確控制完全沉積區1 6內之反應化學之能力。先行技藝處理系統之此等問 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 題由本發明之遮蔽裝置克服。在先行技藝之遮蔽裝置，通氣管3 2之排氣入口及輸送帶2 4或基體2 2之上表面間之相當大區域中產生再循環氣體流。由本發明之遮蔽裝置，拘束分流1 2 4及遮蔽體4 0 c及4 0 d之流線形有效減少氣體流相會處之反應劑之再循環量至最低程度，確保反應劑有效排出排氣管 3 2。在圖3所示之實施例中，設置分部遮蔽體4 0 c及 4 0 d，大致在實質上阻斷圖2所示之先技藝遮蔽裝置中所存在之大量再循環。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製由本發明之遮蔽裝置1 2，由遮蔽體4 0所供應之惰性氣體確保反應劑及反應副產物安全保持於沉積區1 6內。由新遮蔽裝置1 2，可完成此拘束，在此，氣體在較通過通氣管3 2之廢氣之流率爲低或大之流率引進於室中。故惰性氣體可通過口 6 6流進或流出處理模組1 1 ，而先行技藝則需通過口 6 6拉出緩衝模組中之氣體，以提供拘束。未由排氣管3 2容納之氣體流進處理模組1 1間之緩衝模組2 7中，並經由連接至緩衝模組2 7之旁通導管 1 3 0移出蓋罩，以分別控制排氣管，如圖1 5之新蓋罩設計所示。由於反應劑安全拘束於反應室內，並直接移送至排氣口 5 0及通氣管3 2，故通過旁通閥排出之氣體爲氮。無反應劑或副產物被帶進旁通管1 3 0。使用旁通導管1 3 0來取出處理模組中之多餘惰性氣體，使處理室內本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） " -27- 1223675 A7 B7 五、發明説明（25 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之所有氣體流可由室內之幾何形狀供應及控制，更有效使晶片上之沉積處理結果與任何外部干擾或開放式 AP CVD系統中所存在之不均勻隔離。自以上可明瞭，本發明提供一種遮蔽裝置1 2，此可用以提高反應室內之反應劑之均勻性，擴大控制反應化學駐留時間，及精確控制反應室1 6及沉積區之形狀，從而提高沉積薄膜之品質。遮蔽裝置1 2能抵抗變化之溫度情況，而不使遮蔽裝置之零件受損或變形，不致降低遮蔽裝置作用之效率。遮蔽裝置1 2爲模組式，並可便利迅速組合及拆散，以便維護或淸洗。遮蔽裝置1 2包含計量管 8 0，1 0 2，此等移送更均勻分佈之惰性氣體至充氣室，提高沉積區1 6內之反應劑之均勻性。遮蔽裝置1 2用以形成一障壁或緩衝區於反應室之相對側，防反應劑逸出該室，並可均勻分佈緩衝氣體於蓋罩2 6內。應明瞭本發明並不限於所示實施例之遮蔽裝置1 2，此包含此處所述之每一特色。而是，應明瞭僅有此處所述之一些特色之遮蔽裝置亦在本發明之範圍內。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製新實施例本發明之遮蔽裝置1 1 2之另一實施例顯示於圖1 6 至2 3。如顯示於圖16，遮蔽體140 a — 140 d具有一構造稱爲”框構造”此與上述之實施例不同。每一遮蔽體1 4 0 a - 1 4 0 d包含一基部，此爲單件材料所構成，並具有一連續單位框包圍基部之周邊。遮蔽體另包含本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28 - !223675 A7 B7 五、發明説明（26 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製至少一穿孔板受攜失於單位框中，一充氣室在基部及穿孔板之間，及一氣體f吴移送裝置用以移送惰性氣體至充氣室 ’其流率在使氣體擴散通過穿孔板。遮蔽體稱爲、、單位遮蔽體，因爲基部及攜帶該板之單位框由單件構成。如此 ’該板之密封由單件執行。在前述之實施例中，使用三件來密封該板，即具有諸如鎖銷之固定機構之基部及二端壁。在前述之實施例中，該由基部攜帶，然而，在本實施例中，基部1 3 9包含一連續單位框1 4 1，具有末端 1 4 2及1 4 3，及穿孔板由單位框1 4 1攜帶。穿孔板由遮蔽體之連續單位框1 4 1固定，及遮蔽體由端壁固定。如此，板可對遮蔽體自由膨脹及收縮，及遮蔽體可對端壁及遮蔽裝置1 1 2之框組件自由膨脹及收縮。遮蔽組件及其組成件爲金屬合金所製，諸如不銹鋼及市面上可獲得之合金’諸如Haynes 2 1 4，Inconel，及Kovar等。而且 ’遮蔽組件及至少其一組成件可由氧化法處理，如說明於同待核定之美專利申請書序號〇 8 / 8 2 3，6 5 5號，其說明整個列作參考。氧化處理使組成件較不易銹蝕，並減少污染至最低程度。遮蔽組件宜爲不銹鋼零件及氧化之 Haynes 2 1 4零件聯合構成。宜使用氧化之Haynes 2 1 4 材料，作爲在晶片徑路內，並曝露於超過約3 5 0 °C之溫度之零件，諸如分部遮蔽體1 40 c及1 40 d。本貫施例之遮蔽體更詳細顯不於圖1 7至1 9。一'遮蔽體1 40 c顯示於圖1 7 a，一斷面圖。遮蔽體 1 4 0 c與前述之遮蔽體4 〇 c在形狀及功能上相同。故本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29- 1223675 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（27 ) 此’與遮蔽體40 c及40 d同樣，遮蔽體1 40 c及 1 40 d置於遮蔽體1 40 a及1 40 b下方及稍外方。遮蔽體1 4 0 c及1 4 0 d之內邊緣合作，以界定通至排氣管3 2之排氣入口 5 0之內排氣徑路1 1 6之開始。遮蔽體1 4 0 c及1 4 0 d相分開，並在其間形成遮蔽組件之出口 58。由於遮蔽體140c及40d大致相同，雖相互相反，故僅說明遮蔽體1 4 0 c於下，遮蔽體1 4 0 c包含一穿孔板或網板1 9 8 ，此彎曲或預製成所需之形狀。板設置離開遮蔽體1 4 0 c之基部 139，以形成充氣室1〇〇，此接受氣體供應裝置，諸如前述之計量管。板1 9 8宜具有厚度在約0 · 0 0 5至〇· 0 1 2吋範圍，普通値爲〇 · 〇〇 8吋。如所示，遮蔽體1 4 0 c不再僅由一基部構成，而是由含有連續單位框1 4 1 c之一基部1 3 9構成。在本實施例中，單位框 1 4 1 c包含相分開之端部1 4 2及1 4 3及頂及底部 1 4 4及1 4 6，此等縱向延伸於端部之間。即是，基部 1 3 9包含一連續框1 4 1 c及端部1 4 2及1 4 3在基部1 3 9之每端處，及此等端部界定遮蔽體1 4 0 c在其未端處之周邊。板並不硬性固定，而是保持該板可對遮蔽體移動。板1 9 8由構製於單位框1 4 1 c及其端部 1 4 2及1 4 3中之縱向延伸之槽或縫隙1 4 5保持。穿孔板1 9 8經由一端部插進槽1 4 5中’及板之側邊及端邊緣置於槽中，此保持板之邊緣固定’同時容許板膨脹及收縮。如此，沿該板之整個長度及未端保持該板於框中’ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2i〇x297公釐厂一 -30- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1223675 A7 B7 五、發明説明（28 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 且並非僅沿其末端保持’諸前述實施例中者。雖前述實施例較之先技藝大爲改進’但本實施例爲較佳實施例。框構造可較易插入該板’並提供一較強之遮蔽體’密封網板於單個單位框零件內，從而減少組件之零件總數及複雜性。換言之，網板現由單個零件’即連續之單位框密封’而非前述實施例中之多個零件。槽1 4 5更詳細顯示於圖1 7 a及1 7 b。槽1 4 5 大致配合板1 9 8之形狀。網板之大小爲’在接近室溫之情形，板1 9 8之周邊及單位框內之槽之邊界間有一空隙。在升高之操作溫度，此普通大於4 0 0 °C，穿孔板 1 9 8可膨脹，使其邊緣及未端大致塞滿槽1 4 5。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製插入穿孔板，如顯示於圖1 8 a及1 8 b。特別有利者，該板容易插入框末端1 4 2或1 4 3之一端。該板然後沿槽滑動於單位框之頂部及底部1 4 4及1 4 6中’如顯示於圖1 8 a，並進入單位框之相對端部之槽中。圖 1 8 b顯不該板在完全插入之位置。如此’沿該板之整個周邊上固定該板，而該板並非硬性固定，且可自由膨脹及收縮，從而減小屈曲至最低程度。而且，該板容易移出及再插入，以便維護及更換。圖1 9 a及1 9 b顯示本發明之另一實施例之另一遮蔽體140b。遮蔽體140b與前述之遮蔽體40b在形狀及功能上相似。與遮蔽體4 0 a及4 0 b同樣’遮蔽體1 4 0 a及1 4 0 b合作，以界定遮蔽組件之背壁’此置於注射器之前面上，包裹注射器之外邊緣。由於遮蔽體本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -31 - 1223675 A7 B7 五、發明説明（29 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 4 〇 a及1 4 0 b大致相同，唯相互相反，故僅詳細說明遮蔽體1 4 0 b於下。遮蔽體1 4 〇 b包含一穿孔板或網板1 7 6，此彎曲或預製成所需形狀。該板離開遮蔽體 1 4 0 b之基部設置，以形成充氣室7 8，此接受氣體供應裝置，諸如計量管8 0。與前述實施例同樣，板1 7 6 宜具有厚度在0·005至0·012吋範圍，例如 0 · 0 0 8 吋。且如所不，遮蔽體1 4 0 b不再僅由一基部構成，而是現基部1 3 8包含一連續單位框1 5 1。在本實施例中，單位框1 5 1包含分開之端部1 5 2及1 5 3，以及頂 1 5 4及底1 5 6部縱向延伸於端部之間。即是，基部 1 3 8包含一連續單位1 5 1及在基部二端之端部1 5 2 及1 5 3。及端部在遮蔽體1 4 0 b之末端處界定該遮蔽體之周邊。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製板7 6被攜帶於單位框中所構製之縱向延伸之槽或縫隙1 5 5中。槽1 5 5更詳細顯示於圖1 9 a及b。槽大致配合板1 7 6之形狀。穿孔板1 7 6插入單位框1 5 1 中所構製之槽或縫隙1 5 5中，並與圖1 8所示同樣，板 1 7 6通過單位框1 5 1之一端部插入，沿頂及底部移動進入相對端部。槽延伸全程通過一或二端部，以接受板 1 7 6。故此，沿該板之整個長度及未端上保持該板於框中，而非僅沿其末端上保持，如在前述實施例中者。雖前述實施例較之先行技藝大爲改善，但本新實施例爲較宜之實施例。框構造可更容易插入板，並提供更強之遮蔽體。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32- 1223675 A7 B7 五、發明説明（30 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 框構造並簡化遮蔽裝置之組合，減少零件數。框1 5 1增加遮蔽組件之剛度。槽1 5 5之大小爲，在接近室溫之溫度上，板1 7 6之周邊及框內槽之邊界間有一空隙。在升高之操作溫度上，此通常大於4 0 0 °C，穿孔板1 7 6膨脹，導致其末端大致塡滿槽1 5 5 ，及網板及槽之大小爲，框內之網板之周邊周圍之空隙容許網板在框內膨脹，而網板或遮蔽體不致變形。網板及遮蔽體維持其輪廓形狀，此轉而維持遮蔽組件之所需之氣體流特性。在本發明之另一實施例中，一底出口網板或板1 6 0 置於遮蔽體1 4 0 c及1 4 0 d之基部底端。在本實施例中，使用網板160，以取代前述之底出口 58。底出口網板1 6 0宜爲與板1 7 6及1 9 8相似之穿孔板。明確言之，底出口網板1 6 0置於基部1 3 9之底端，並沿遮蔽裝置1 4 0 c之至少一部份延伸。底出口網板1 6 0宜沿遮蔽體之整個長度延伸，然而，此可改變，視此區所需之惰性氣體之流出量而定。設置底出口網板1 6 0，供惰性氣體通過該網板1 6 0而至網板下方之區域中。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在本實施例中，底出口網板1 6 0經由單位框1 4 1 固定於基部。如此，在本實施例中，基部之底表面並不大致實心，具有出口 5 8，如前述實施例中者，而是大致開放，其周邊由連續單位框1 4 1界角。在本實施例中，框 1 4 1包第二槽1 7 5構製於單位框1 4 1中’用以接受並固定底出口網板1 6 0。如此，當底出口網板1 6 0插進基部之底端中，並由單位框1 4 1攜帶時，基部之底端本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -33- 1223675 A7 B7 五、發明説明（31 ) 由穿孔之底出口網板16 0 、、閉合〃。單位框141中之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 槽1 7 5大致與前述槽1 4 5及1 5 5相似。即是，該槽構製部份穿過側部，以接受並固定板1 6 0之長邊。至少一，且宜二端份1 4 2及1 4 3具有槽1 7 5延伸全程通過該壁，俾網板1 6 0可滑動通過端部，並進入單位框 1 4 1之側部及相對端部中。底出口網板1 6 0使惰性氣體流自充氣室流過基部至與底出口網板1 6 0相鄰之遮蔽裝置下方之區域中。此提供惰性氣體之緩衝於遮蔽體1 4 0 c及1 4 0 d下方之區域中，如此大致防止反應劑及反應副產物離開沉積區1 6 。而且，本發明者發現當遭遇較高之流率時，底出口網板實施例較之出口實施例爲佳。底出口網板在防止相鄰區中之再循環，尤其是在較高流率上之再循環上較佳。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製特別有利者，例如，板之孔率可變化，以達成充氣室 1 0 0內之特定所需比率之氣體流經過與上網板1 9 8相對之底網板1 6 0離開充氣室1 0 0，此視情形而定。即是，可選擇任一穿孔板178，196，及160之孔率，以達成惰性氣體之特定氣體流分裂（或質量流率）進入板鄰近之區域中，以提供充氣室中之適當流率平衡及整個表面區上之計量均勻。可選擇板之孔率，以修改相鄰區中之流率。明確言之，板之孔率等於小於5 0 %，且更宜在約5%至5 0%範圍。在較宜之實施例中，底出口網板 1 6 0之孔率大於其他板1 7 8及1 9 6之孔率。例如，可選擇遮蔽體1 40 a及1 40b中之板1 7 6之孔率爲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐") ' ' -34 - 1223675 A7 B7 五、發明説明（32 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 9% ;遮蔽體1 40 c及1 40 d中之板1 78之孔率爲 9% ;及遮蔽體1 40 c及1 40 d中之底出口網板 160之孔率爲35%。其他有利者，本發明明之另一實施例使用至少一通氣套管。再參考圖16，通氣套管180及18 1顯示於遮蔽組件1 1 2之斷面圖中。套管1 80及1 8 1宜爲窄長構件。通氣套管置於排氣管3 2之排氣口 5 0內。通氣套管作用在提供一輪廓於排氣口 5 0之壁上，此減少氣體在移行通過排氣口 5 0及流出排氣管3 2之再循環至最低程度。減少氣體之再循環亦減少沉積於該區中之積聚至最低程度。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製宜使用二通氣套管於排氣口 5 0中，一通氣套管 1 8 0鄰近排氣口 5 0之外壁，並稱爲外通氣套管。另一通氣套管1 8 1鄰近排氣口 5 0之內壁，並稱爲內通氣套管。通氣套管可部份或大部份沿排氣口 5 0之高度延伸。二通氣套管1 8 0及1 8 1可爲相等高度，或各可爲不同高度，適應排氣口 5 0之特定形狀，使氣體流自排氣口至通氣組件成流線型。通氣套管可沿排長口 5 0之大部份或部份長度上縱向延伸。在較宜之實施例中，通氣套管之一或二大致沿排氣口 5 0之整個長度上延伸。通氣套管1 8 0及1 8 1可由多種方法固定。套管可由諸如熔接或螺栓等固定於排氣口之壁上。然而，套管宜不硬性固定，而是以”自由浮動，，方式固定，與上述相似。明確言之，固定方式顯示於圖1 6。外通氣套管1 8 〇本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -35- 1223675 A7 B7 五、發明説明（33 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 宜由插進套管1 8 0之一端於側壁1 6 4所攜帶之一槽或縫隙1 8 0 a中固定。槽1 8〇a沿側壁1 6 4之長度上縱向伸。槽1 8 0 a具有一寬度可固定保持通氣套管 1 8 0 ’及一插入深度使套管在升高之操作溫度期間中可膨脹。除組成件可隨溫度膨脹及收縮，從而減小屈曲及翹起外’本發明容許通氣套管容易移出及更換。內通氣套管 1 8 1可同樣固定，諸如由構製於遮蔽框1 3 8中之槽，或螺栓固定於遮蔽框1 3 8上。剛述之框構造實施例亦方便固定於端壁1 6 2上。端壁顯示於圖20a及20b，此分別顯示端壁162之內及外表面。在較宜之實施例中，遮蔽體1 4 0 a -1 4 0 d並不固定或熔接於端壁1 6 2上，及穿孔板 1 7 6 ’ 1 9 8，及1 6 0並不固定或熔接於單位框或端壁1 6 2上。而是，遮蔽體及板由一方式保持固定，此容許遮蔽體及板相對移動，及對遮蔽組件及端壁移動。明確言之，至少一，且宜二端壁1 6 2之內部製成可保持單位框141及151之端部142，143，及152，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 5 3固定之形狀。如顯示於圖20a ，端壁162之內表面188包含一凹入區，此配合單位框之端部之形狀。明確言之，內表面1 8 8具有凹入區1 8 9 ，此配合單位框1 4 1之端部 1 4 2及1 4 3之形狀，及凹入區1 9 0構製於其中，此配合單位框1 5 1之端部1 5 2及1 5 3之形狀。注意僅一端壁顯示於圖中，但相對端相似。遮蔽體1 4 0 a - 本&張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) ~ " -36- 1223675 A7 _ B7 五、發明説明（34 ) 1 4 0 d置於其各別凹入區1 8 9及1 9 0中，以連接遮蔽體於端壁1 6 2。凹入區1 8 9及1 9 0之壁大致密封遮蔽體之末端，從而防止氣體流於遮蔽體之未端周圍。由於板置於單位框中，故在本實施例中，端壁1 6 2僅需抓住單位框之末端，且因而端壁僅包含凹入區1 8 9及 1 9 0。在前述之實施例中，板不由端壁6 2中所構製之槽8 8抓住。爲容許遮蔽體自由膨脹，端壁1 6 2中之凹入區 1 8 9及1 9 0具有深度，俾在室溫附近之溫度時，單位框之端部至凹入區1 8 9及1 9 0之封閉端間有一空隙。在升高之操作溫度，此普通大於4 0 0 °C，單位框及其端部可膨脹，導致單位框1 4 1及1 5 1之端部大致分別塞滿凹入區1 8 9及1 9 ◦。單位框1 4 1及1 5 1之端部 142及152具有插入深度約爲〇 · 150瞼，及凹入區1 8 9及1 9 0具有深度約爲〇 · 2 0 0瞼，以容納端部之插入深度，同時容許膨脹。特別有利者，本發明並提供”自由浮動”之計量管。如上述，計量管用以輸送惰性氣體至各充氣室。計量管之一端經由端壁中所含之通孔連接至氣體供應源。計量管之另一端封閉。計量管之封閉端被攜帶於端壁1 6 2中。明確言之’端壁1 6 2包含至少一井1 9 1構製於端壁之內表面上，如顯示於圖2 0 a。井1 9 1接受計量管之封閉端。計量管之封閉端對齊井1 9 1 ，及井1 9 1之深度在使計量管可自由膨脹及收縮’並保持固定於井1 9 1內。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -37 - 1223675 A7 B7 五、發明説明（35) 在不範之實施例中，共有四井1 9 1 ，端壁1 6 7各有二，此與四計量管相對應，遮蔽體1 4 0 a — 1 4 0 d之每 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一充氣室中各置其一。相對端壁1 6 2之外表面1 9 3顯示於圖2 0 b °端壁1 6 2接受終接於端壁1 9 1上之二計量管之輸入氣體，顯示於圖2 0 a。如所示，氣體經由氣體供應管1 8 3 移送至端壁1 6 2。氣體流過端壁中所構製之內通道’並進入計量管8 0及/或1 〇 2中。在此端壁1 6.2處’計量管經由通孔1 6 7插進端壁1 6 2中。如此可容易移出計量管。計量管經由井1 9 1保持於相對端，如上述。端壁1 6 2亦包含向外伸出之合釘1 6 6 ’此協助遮蔽裝置之組合，當側壁固定時，合釘提供端壁正確之對齊及間隔〇經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在確實固定遮蔽組件1 1 2於該室時，本發明之一實施例使用可移離之密封裝置。明確言之，使用一通氣壁薄墊片1 9 4，以提供側壁1 6 4至通氣覆緣1 6 5間之密封，如顯示於圖1 6及2 1。特別有利者’薄墊片並非硬性固定，如此可容易移去及更換密封裝置1 9 4。明確言之，密封裝置1 9 4宜爲金屬合金，諸如不銹鋼等所製，並經彎曲或預製，俾薄墊片配合於側壁1 6 4及通氣覆緣 1 6 5之間。密封薄墊片1 9 4攜帶於側壁1 6 4中，如更詳細顯示於圖2 2。明確言之，一槽1 9 5構製於側壁1 6 4中，且槽1 9 5宜大致沿側壁1 6 4之長度延伸。槽1 9 5 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐） * -38- 1223675 A7 B7 五、發明説明（36 ) 構製成大致配合密封薄墊片1 9 4之一部份之形狀。特別有利者，密封薄墊片1 9 4自通氣壁1 6 4之一端簡單插進槽1 9 5中，並滑動通過槽1 9 5中，直至完全插入爲止。密封薄墊片1 9 4提供側壁1 6 4及通氣覆緣1 6 5 間之密封。爲提供惰性氣體至各充氣室，使用計量管8 0及 1〇2。計量管之另一實施例顯示於圖2 3。在圖2 3中，計量管2 0 0在其一端處使用一凸緣2 0 2。凸緣 2 0 2包含一密封區2 0 3及一圓形凹入區2 0 4。凹入區2 0 4爲充氣區。即是，凹入區2 0 4包含多個孔 206 ，在凹入區204之圓周周圍相互分開。孔206 用以輸送自氣體入口管1 8 3及配件1 8 4所接收之氣體，在此，氣體分佈於凹入區之圓周周圍，並進入計量管 2 0 0中。計量管可爲金屬，或金屬合金，或陶瓷材料，諸如鋁土，鎳，不銹鋼，鋁，或碳化矽等所製，以不銹鋼爲較宜之材料。圖1 6至2 3所示之遮蔽裝置之另一實施例顯示於圖 27至3 1。遮蔽體240a - 240d具有前述型式之 '、框構造〃。遮蔽體240a - 240d各包含一基部 2 4 6 a - 2 4 6 d，此爲單件材料所構成，具有端框 247a — 247d。遮蔽體240c及240d包含繫結構件2 4 8 c及2 4 8 d ’此連接框2 4 7 c及 2 4 7 d之末端。遮蔽體及繫結構件各包含槽2 4 9 ，此等沿其邊緣上縱向延伸，並對齊端框2 4 7中所構製之槽本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇x297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -39- 1223675 A7 B7 五、發明説明（37 ) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 25〇。遮蔽體240a及240b容納至少一穿孔板 2 5 1 ，此滑動穿過槽2 5 0，並沿槽2 4 9上滑動，以形成〜充氣室2 5 2於基部及穿孔板2 5 1之間。一氣體移送裝置2 5 3移送惰性氣體至充氣室，其流率在使氣體擴散通過穿孔板。遮蔽體2 4 0 c及2 4 0 d容納二穿孔板2 5 6，2 5 7，此沿槽2 4 9滑動通過槽2 5 0，以形成一充氣室2 5 8。一氣體移送裝置2 5 9移送惰性氣體至充氣室2 5 8，其流率在使其可擴散通過穿孔板 2 5 6，2 5 7。遮蔽體組件被抓住於端壁2 6 2中所構製之凹口 2 6 1中，圖3 1。如此，穿孔板可對遮蔽體自由膨脹及收縮，及遮蔽體可對端壁自由膨脹及收縮。遮蔽組件及其組成件爲金屬合金，諸如不銹綱，及市面上所供應之合金，諸如Haynes 2 1 4，Inconel，及Kovar等所製。而且，遮蔽組件及其至少一組成件可由氧化法處理，如說明於1 9 9 9年6月2 9曰所頒發之美專利 5，9 1 6，3 7 8號所述，其說明整個列作參考。氧化處理使組成件較不易銹鈾，並減少污染至最低程度。遮蔽組件宜爲不銹鋼零件及氧化之Haynes 2 1 4零件之組合所構成。宜使用氧化之Haynes材料於晶片徑路內之零件，此等曝露於超過約3 5 0 °C之溫度上，諸如分部遮蔽體 240c 及 240d。遮蔽體2 4 0 a及2 4 0 b包含一通氣遮蔽部份 2 6 3，此向上延伸至排氣口之內壁鄰近。側壁2 6 4延伸於端壁2 6 2之間，其末端適當固定於端壁之側面，與本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐]~一 --- -40- 1223675 A7 B7_ 五、發明説明（38 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其形成一框，此保持遮蔽體2 4 0 a - 2 4 0 d於凹口 2 5 3中。側壁各包含~通氣遮蔽部份2 6 6 ’此向上延伸至排氣口之外壁鄰近。側壁2 6 4沿遮蔽體2 4 0 c及 240d之側邊上配合。通氣遮蔽部份263 ’ 266製造成排氣口或遮蔽體240a ’ 240 c及240b ’ 2 4 0 d及排氣口間之縫隙間之一順利過渡區。該順利輪廓減少通過排氣口 1 1 6流出之廢氣之亂流至最低程度。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製如上述，穿孔板25 1 ’ 2 5 6 ’及2 5 7揷進槽 2 5 0中，並沿槽2 4 9移動。板之端邊緣置於槽中’及板之側邊緣在槽中。此容許板膨脹及收縮。遮蔽體構造使板可容易插入，並提供一較強之遮蔽體’密封網板或穿孔板於單個單位框零件內，從而減少零件總數及組合之複雜性。換言之，網板現由單個零件，連續之單位框密封，而非由前述實施例中之多個零件。在升高之操作溫度上，此通常大於4 0 0 °C，穿孔板可膨脹，導致其末端大致塞滿對應之槽2 4 9，及網板及槽之大小爲，在框內之網板周圍之空隙容許框內之網板膨脹，而不使網板或遮蔽體變形。網板及遮蔽體維持其輪廓形狀，此轉而維持遮蔽組件之所需氣流特性。特別有利者，板之孔率可改變，例如，以達成充氣室 2 5 1 ，2 5 8之流量之特定所需之比例，即是，任一穿孔板2 5 1 ，2 5 6，及2 5 7之孔率經選擇，以達成惰性氣體之特定流量分裂（質量流率）進入板鄰近之區域中，並提供室中之適當流量平衡及整個表面區上之計量均勻 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) 一 — -41 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 A7 ____________ B7 五、發明説明（39 ) 。板之孔率可經選擇，以修改鄰近區中之流率。明確言之，板之孔率通常等於或少於5 〇 %，且更宜在約5 %至 5〇％範圍。如上述’端壁262之內表面包含凹入區261 ’此配合遮蔽體2 4 0 a - 2 4 0 d之框之端部之形狀。明確言之，內表面具有凹入區，此配合遮蔽體2 4 0 a — 2 4 0 d之末端之形狀。注意圖3 1僅顯示一端壁2 6 2 ，但相對之端壁相似。遮蔽體2 4 0 a - 2 4 0. d置於其各別凹入區2 6 1中，以連接遮蔽體至端壁2 6 2。凹入區之壁大致密封遮蔽體之末端，從而防止氣體流於遮蔽體之末端周圍。由於板密封於單位框中，故端壁2 6 2僅需抓住單位框之末端，且因而端壁僅包含凹入區。爲容許遮蔽體自由膨脹，端壁2 6 2中之凹入區 2 6 1具有一深度，俾在室溫附近之溫度時，遮蔽體之末端及凹入區之閉合端之間有一空隙。在升高之操作溫度’ 此通常大於4 0 0 °C，遮蔽體可膨脹，導致其大致塞滿凹入區。如上述，使用計量管，以輸送惰性氣體至各充氣室。計量管之一端經端壁中所含之通孔連接至氣體供應源。計量管之相對端封閉。計量管之封閉端再攜帶於一端壁 2 6 2中，此包含至少一井（未顯示）構製於端壁之內表面中。該井接受計量管之封閉端。井之深度使計量管可自由膨脹及收縮，且保持固定於遮蔽體框內。在示範之實施例中，共有四井，每端壁2 6 2各二，此與四計量管相對本紙張尺度適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公釐） "" -42- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1223675 A7 _ B7 __ 五、發明説明（40 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 應，遮蔽體240a — 240d之充氣室各置其一。氣體移送經氣體供應管2 6 8至端壁2 6 2 °氣體流過端壁內所構製之內通道，並進入計量管2 5 3中。在端壁處’計量管經通孔插進端壁2 6 2中。如此可容易移去計量管。計量管在相對端處由井保持固定。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在本發明之另一實施例中，提供一新消音設計。該消音設計顯示於圖1 5，如上述，且與排氣流之徑路一起更詳細顯示於圖2 4 a ，2 4 b，及2 5 °蓋罩2 6包含至少一處理模組1 1 1，此由相鄰之消音模組1 2 7包圍。該示範實施例顯示四處理模組1 1 1及五消音模組1 2 7 ，然而，應明瞭可使用任何數之處理模組及蓋罩，且可視蓋罩及反應器之設計而定，加以改變。在蓋罩2 6之一端有一裝載區2 9及在蓋罩之另一端有一卸載區3 1。裝載區2 9構造在接收供處理之晶片及積電路。普通使用自動裝載機構（未顯示），以置晶片於蓋罩2 6之裝載區2 9 中。晶片由輸送裝置輸送通過蓋罩。輸送裝置宜爲馬達驅動線網帶，然而，可使用任何適當之輸送裝置。晶片通過蓋罩2 6及處理模組1 1 1下方，晶片在此處理。晶片然後經由卸載區3 1離開蓋罩2 6。裝載2 9及卸載3 1區宜使用多個簾幕。明確言之，在較宜之實施例中，裝載區2 9包含三簾幕3 3 ;即一外裝載簾幕33C，中裝載簾幕33B，及內裝載簾幕 33A。同樣，卸載區31包含三簾幕35 ;即一內卸載簾幕35A，中卸載簾幕35B，及外卸載莫35C。外本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ' ' ' ' -43- 1223675 A7 B7 五、發明説明（41 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝載3 3 C及卸載3 5 C簾幕分別置於裝載及卸載區中蓋罩2 6之末端處。內裝載3 3A及卸載3 5A簾幕分別置於每一區之處理模組1 1鄰近。中裝載3 3 B及卸載 3 5 B簾幕分別置於內及外卸載簾幕之間。該等簾幕用以使處理模組與蓋罩之其餘部份及外部環境隔離。系統曝露於外部環境中，以便容易裝載及卸載晶片基體，俾便在蓋罩中處理。曝露於外部環境會引進污染物於系統中。爲防止污染裝載及卸載口，並協助使室處理模組與外部環境隔離，本發明之簾幕3 3及3 5提供惰性形體洗滌，此宜爲氮氣體。雖示範實施例顯示每區中有三簾幕，但應明瞭可使用其他數之簾幕，且裝載及卸載區中之簾幕數可不同。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製如顯示於圖24a及24b，裝載及卸載簾幕33及 3 5通常由一充氣體3 7構成，具有二充氣層，即上充氣層3 9及下充氣層4 1。充氣體3 7沿蓋罩之長度上縱向伸長及延伸，且與消音模組2 7及處理模組1 1在同等範圍。上充氣層3 9經由氣體入口 4 2接受惰性氣體。上充氣層3 9之下表面包含一列分佈孔構製於其中（未顯示） ’由橫過充氣體之整個長度上之至少一列孔構成，唯可使用多列孔，以分佈氣體流於充氣室之整個表面上。惰性氣體流進上充氣層3 9中，並經輸送通過分佈孔而進入下充氣層4 1中。下充氣層4 1之底表面包含一窄長槽。該槽沿下充氣室4 1之長度延伸。惰性氣體輸送通過下充氣室中之槽而至槽下方之區域中。氣體成長而薄之簾幕形片離開該槽。此惰性氣體簾幕掃過在其下通過之晶片之表面，本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -44 - 1223675 A7 B7 五、發明説明（42) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 從而''洗滌〃晶片表面。惰性氣體簾幕亦用以使處理室 1 1 1與外部環境隔離，並使蓋罩內之壓力平衡可經由使用不同之流率調整於 5至7 6 s 1 m範圍中。在較宜之實施例中，內簾幕使用約5 — 10s lm之底流率，與在10 — 15s lm 之中簾幕及在3 0 - 6 0之外簾幕相較。裝載及卸載區分別經由排氣口 1 3 9及1 4 1排氣。排氣口用以排放來自內，中，及外簾幕之惰性氣體之大部份。裝載排氣口 1 9 2宜置於中裝載簾幕3 3 B鄰近，在最接近裝載區2 9之入口之側。同樣，卸載排氣口 1 4 1 置於中卸載簾幕3 5 B鄰近，在最接近卸載區3 1之出口之側。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製特別有利者，本發明以計量之方式排放裝載及卸載區中之氣體。即是，排氣口 1 3 9及1 4 1包含二長充氣層 1 4 3及1 4 5。特別參考一排氣口 1 3 9 ，排氣流受引導通過第一充氣層1 4 3之側邊中所構製之一槽1 4 7。排氣然後輸送通過第一充氣層1 4 3之上表面中之一列計量孔（未顯示）而至第二充氣層1 4 5。該列計量孔宜包含至少一列孔橫過充氣體之整個長度，唯亦可使用成方形行列延伸於第一充氣層之上表面之大部份長度上之多列孔，以分佈氣體流於充氣層之整個表面上。氣體然後通過排氣口 1 3 9排出第二充氣層1 4 5外。卸載排氣口 1 4 1 相同。其他有利者，本發明系統提供緩衝模組1 2 7，此等本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X297公釐） -45- 1223675 Α7 Β7 五、發明説明（43 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製分別排氣。明確言之，緩衝模組1 2 7置於處理模組鄰近 ’處理模組1 1 1二側各置一緩衝模組1 2 7。緩衝模組 1 2 7沿處理模組1 1 1之長度上縱向伸長及延伸，且通常與處理模組1 1 1在同等範圍。緩衝模組由一長旁通導管1 3 1構成，具有二長折流板1 4 7置於導管下部，及一大空腔1 4 9在折流板1 4 7上方。二折流板1 4 7相鄰並相分開設置，以形成一槽1 4 8於其間。槽1 4 8在旁通導管1 3 1之寬度上伸長並延伸。緩衝模組1 2 7接收未由排氣管3 2容納之氣體。此多餘之惰性氣體流進處理模組1 1 1間之緩衝模組1 2 7中，並經由旁通導管 1 3 1通過旁通排氣口 1 4 1 b移出蓋罩外。最外之緩衝模組亦可接受自內裝載及卸載簾幕流出之一些惰性氣體，或轉移來自室處理模組間之氣體流至裝載區2 9或卸載區 3 1 ，俾由排氣口 1 3 9或1 4 1排出，如果未經由緩衝模組移出。旁通導管1 3 1與處理模組1 1 1之排氣管 3 2不相關聯。本發明加強拘束反應劑於反應室內，此等直接排放至排氣口 5 0及通氣口 3 2。無反應劑或副產物被攜帶至旁通導管1 3 1。而是，受輸送通過底出口網板 1 6 0之惰性氣體之大部份經旁通導管1 3 1排出。此刻意噴射多餘之惰性氣體通過底出口網板1 6 0，俾超過經由徑路1 1 6及6 8排出之量由通氣口 1 3 1排出，俾可穩定控制室處理模組內之氣體流，並加強拘束反應氣體於沉積區1 6中。此拘束提高晶片上所沉積之薄膜之均勻，並減少注射器周圍及遮蔽裝置表面上積聚之粉末。氣體之本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 Χ297公釐） -46- 1223675 A7 B7 五、發明説明（44 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁j 有利拘束顯示於圖2 6 ，顯示由本發明系統所達成之處理室1 1 1之一部份內之反應及惰性氣體之質量流率之槪要圖。如該圖所示，TE 0 S (—反應氣體）之質量部份顯示於遮蔽組件內之不同位置處。如所示’ T E〇S氣體大致受拘束於沉積區1 6中，且通過內排氣徑路1 1 6完全排出。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製旁通系統更詳細顯示圖2 4 b及2 5。旁通導管 1 3 1沿蓋罩之整個長度上連接每一緩衝模組1 2 7 —起至旁通管1 3 3。一旁通管1 3 3沿旁通導管1 3 1之每一端上設置。旁通導管1 3 1之空腔部份1 4 9在導管 1 3 1之每一端處開放，及因而形成一通道進入旁通管 1 3 3中。氣體自空腔1 49流進旁通導管1 3 1之每端處所設置之旁通管1 3 3中。由緩衝模組1 2 7經大旁通導管1 3 1及旁通管排氣管1 3 3分開排氣。加強壓力之等化及多餘惰性氣體之移出緩衝模組1 2 7，以減少室處理模組1 1 1內重要化學物氣體流之亂流。此區中無通氣之先技藝系統在此區中氣體易於停滯及再循環。此會導致系統中及甚至沉積薄膜中發生污染問題，並增加需要移去此區中所形成沉積物之維護及停工。本發明由淸潔之惰性氣體連續洗滌整個晶片基體，減少此等問題至最低程度。另有利者，使用旁通導管1 3 1以移去處理模組中之多餘惰性氣體，使處理室內之所有氣體流可由室內構形供應及控制，並更有效隔離處理室及任何外部擾亂或不均勻，如開放A P C V D系統中所存在者。此促進沉積更均勻之薄本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -47- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 A7 ____B7 五、發明説明（45 ) 膜於晶片上。在較宜之實施例中，每一遮蔽組件及所關聯之處理室 1 1 1之排氣管3 2分別排氣。明確言之，排氣管3 2排氣進入室排氣充氣室1 5 1中。室排氣充氣室1 5 1連接至每一處理室111。室排氣充氣室151與旁通排氣口 14 1 b及裝載及卸載排氣口 1 3 9及1 4 1分開。由實質上分開及因而分開控制，本發明使氣體以恆定之質是流率自處理室1 1 1流進排氣管3 2中。通每一排氣管3 2 之排氣流率宜控制於接近4 0至6 0 s 1 m範圍中之大致恆定流率，唯其他流率可適用於不同之處理應用上。維持大致恆定之流率提高半導體晶片上沉積處理之可控制性。明確言之，改善晶片表面上所沉積之材料層之厚度及均勻性。而且，提高處理之可重複性，因爲流率更可控制且恆定。減少處理及氣體流率之擾亂至最低程度。及最後，整個系統之壽命增長。圖2 5爲槪要底平面圖，顯示排氣系統內之氣體流徑路。明確言之，顯示通過旁通排氣管之氣體流及裝載及卸載排氣流。通過杇氣室排氣管之氣流略去，以求淸晰。圖 2 5上之箭頭A及B表示惰性氣體流，尤其是來自底出口網板1 6 0及來自室處理模組壁及通氣覆緣室1 6 5間’ 自遮蔽組件出來並進入緩衝模組1 2 7及旁通導管1 3 1 中之惰性氣體之一部份。如以上所討論及優美顯示於圖 2 6，所有反應劑氣體流過排氣管5 0及3 2，且並不進入旁通導管1 3 1中。如此，僅惰性氣體輸送通過旁通系本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（2丨〇><297公釐） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

-48- 1223675 A7 B7 五、發明説明（46 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 統。惰性氣體輸送進入旁通導管1 3 1 ’在此’大致一相等部份移向旁通導管131之每一端’並進入位於導管 1 3 1之每一端處之旁通排氣管1 3 3 °如箭頭A及B戶斤不° 在較宜之實施例中’來自內裝載3A及卸載3 5A簾幕之氣體之一部份流進最外之旁通導管1 3 1中’如箭頭 C所示。氣體之其餘部份流向裝載及卸載排氣口 1 3 9及 1 4 1流，分別由箭頭D表示。來自一簾幕之惰性氣體之雙向氣體流協助隔離處理室及裝載及卸載區。使用不同之氣體流徑路，來自中裝載及卸載簾幕3 3 B及3 5 B之氣體宜在一方向上分別向裝載及卸載口 1 3 9及1 4 1 ’由箭頭E表示。同時，來自外裝載及卸載簾幕3 3 C及 3 5 C之氣體亦雙向流，氣體之一部份通過其各別排氣口 1 3 9及1 4 1排出，如箭頭F所示’及另一部份流向入口及出口，如箭頭G所示。惰性氣體之氣體流徑路之此控制可”洗滌掃過”晶片表面，且更重要者，本發明系統使吾人可選擇氣體流徑路之所需方向。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製而且，該系統可使用一氣體流控制系統，以控制處理室內之氣體流。明確言之，旁通排氣口可由氣體流量控制裝置控制，以提供大致恆定之氣體流量流出旁通排氣口及旁通模組。而且，排氣充氣室可由氣體流量控制裝置控制，以提供大致恆定之氣體流量流出排氣充氣室及處理室。自以上可見，本發明提供一種遮蔽裝置1 2，此可用以達成反應室內之反應劑更均勻，更大控制反應化學駐留 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇'〆297公釐Ί " -49- 1223675 A7 __B7_ 五、發明説明（47 ) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 時間，及精確控制反應室1 6及沉積區之構形，從而提高沉積薄膜之品質。遮蔽裝置1 2能抵抗變化之溫度情況，而不使遮蔽零件受損或變形，以免降低遮蔽作用之效率。遮蔽裝置1 2爲模組式，且可方便及迅速組合及拆開，以便維護或淸洗。遮蔽裝置1 2包含計量管8 0，1 0 2，此等在更均勻之分佈中移送惰性氣體至充氣室，提高沉積區1 6內之反應劑之均勻性。遮蔽裝置用以產生一障壁或緩衝區於反應室之相對側，防止反應劑逸出該室，並使緩衝氣體可均勻分佈於蓋罩2 6內。應明瞭本發明並不限於所不貫施例之遮敝裝置1 2 ’此包含此處所述之每一'特色。而是，應明瞭含有此處所述之僅一些特色亦包含於本發明內。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製應注意雖已一起說明新實施例之特色，但可單獨使用每一特色，及/或與早前述實施例之特色合倂。已提出本發明之特定實施例之以上說明，以供例解及說明之用。此等並非意在限制本發明於所述之精確形狀，且顯然，鑒於以上所述，可作許多修改及改變。選用及說明本實施例，以最佳說明本發明原理及其實際應用，從而使精於本藝之其他人士能最佳使用本發明及各實施例及各種修改，以適應所希望之特定用途。本發明之範圍應由後附之申請專利範圍及其相等者界定。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） - 50-

Claims

1223675

附件A:第89 1 065 1 0號專利申請案經濟部智慧財產局員工消費合作社印製中文申請專利範圍修正本民國91年7月9日修正 1 . 一種化學蒸氣沉積系統用之保護遮蔽裝置，包含一框組件，包含一對相分開之端壁，及一對側壁延伸於其間，並安裝於端壁上；及第一及第二注射器遮蔽體，由框組件攜帶，注射器遮蔽體設置界定該保護遮蔽位置之一第一表面，能與一注射器相鄰，注射器遮蔽體相分開，以界定一注射口於其間，供反應劑自注射器流過保護遮蔽裝置，第一及第二其他遮蔽體，由框組件攜帶，其他遮蔽體與注射器遮蔽體分開，並設置界定保護遮蔽裝置之一第二表面，與第一表面相對，以界定出口於其間，供反應劑流過保護遮蔽裝置，其他遮蔽體連續至有關之一側壁；注射器遮蔽體及其他遮蔽體各爲單件基部所構成，具有一單位框構製於基部之周邊周圍，一穿孔板由單位框攜帶，一充氣室部份界定於基部及穿孔板之間，及一氣體移送裝置用以移送惰性氣體至充氣室.，其流率在使氣體擴散通過穿孔板。 2 .如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其中，側壁包含一通氣遮蔽裝置。 · 3 .如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其表紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1223675 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍2 中，另外遮蔽體各包含一底出口網板，攜帶於單位框中，並連接至其充氣室，.供惰性氣體流過分部遮蔽體，以形成惰性氣體障壁區於第二表面下方。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其中，注射器遮蔽體及其他遮蔽體各具有相分開之末端，及 _壁造形配合遮蔽體之末W ’以保持遮蔽體於框組件中。 5 .如申請專利範圍第4項所述之保護遮蔽裝置，其中，端壁具有凹入區，構形配合所構製之遮蔽體之末端於其中，及遮蔽體之末端置於凹入區中，當遮蔽體在變化之溫度情況下膨脹及收縮時，遮蔽體之末端可移動於凹入區內。 6 ·如申請專利範圍第1項或第5項所述之保護遮蔽裝置，其中，穿孔板由連續單位框保持固定，俾穿孔板在變化之溫度情況下膨脹及收縮時，穿孔板可對連續單位框移動。 7 .如申請專利範圍第6項所述之保護遮蔽裝置，其中，連續單位框具有一槽構製於其中，及穿孔板置於槽中，及穿孔板在變化之溫度情況下膨脹及收縮時，穿孔板可移動於該槽內。 8 ·如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其中’氣體移送裝置爲一計量管置於充氣室中，計量管具有至少一多孔壁，供氣體擴散通過多孔壁而進入充氣室中。 9 .如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其中’氣體移送裝置爲一導管置於充氣室中，導管延伸通過本尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297ϋ ~ ‘ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

1223675 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍3 端壁之一，並自其外部安裝其於端壁之一上。 1 0 ·如申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，其中，側壁包含可移去之壁薄墊片，由遮蔽體組件攜帶，以提供遮蔽體組件與外排氣通道壁間之密封。 1·1 · 一種化學蒸氣沉積系統，聯合包含：多個處理室，其中各具有一注射器，用以注射反應劑於處理室中’及排氣管置於注射器之相對側邊上；一輸送帶，用以輸送基體沿處理徑路通過處理室；多個緩衝模組，使處理室與其餘處理徑路隔離；一蓋罩，包圍處理室，緩衝模組，及輸送帶之處理徑路；及申請專利範圍第1項所述之保護遮蔽裝置，安裝於處理室中，用以保護注射器表面及排氣口之入口。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) If

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -3-