TWD222303S - 花灑頭支撐件 - Google Patents
花灑頭支撐件 Download PDFInfo
- Publication number
- TWD222303S TWD222303S TW110305681F TW110305681F TWD222303S TW D222303 S TWD222303 S TW D222303S TW 110305681 F TW110305681 F TW 110305681F TW 110305681 F TW110305681 F TW 110305681F TW D222303 S TWD222303 S TW D222303S
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- shower head
- head support
- design
- usage status
- support
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
Images
Abstract
【物品用途】;本設計係關於一種花灑頭支撐件,特別是有關於一種可供使用者用於支撐在半導體技術中處理基板設備之花灑頭支撐件。;【設計說明】;使用狀態參考圖為本設計裝設花灑片之使用狀態。
Description
本設計係關於一種花灑頭支撐件,特別是有關於一種可供使用者用於支撐在半導體技術中處理基板設備之花灑頭支撐件。
使用狀態參考圖為本設計裝設花灑片之使用狀態。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20210021503 | 2021-05-04 | ||
KR30-2021-0021503 | 2021-05-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWD222303S true TWD222303S (zh) | 2022-12-01 |
Family
ID=88925514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110305681F TWD222303S (zh) | 2021-05-04 | 2021-10-20 | 花灑頭支撐件 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWD222303S (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USD868993S1 (en) | 2017-08-31 | 2019-12-03 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electrode plate for a plasma processing apparatus |
-
2021
- 2021-10-20 TW TW110305681F patent/TWD222303S/zh unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USD868993S1 (en) | 2017-08-31 | 2019-12-03 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electrode plate for a plasma processing apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWD189313S (zh) | 用於半導體製造設備的承載器 | |
TWD208179S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
TWD210297S (zh) | 基板載具 | |
TWD197468S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
TW201612009A (en) | Polymer film coated with layer of silane coupling agent | |
TW200641543A (en) | Underlayer coating forming composition for lithography containing compound having protected carboxy group | |
TWD179672S (zh) | 基板保持環之部分 | |
TWD212726S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
TWD200220S (zh) | 用於半導體基板支撐裝置的基座 | |
TWD209150S (zh) | 基座軸 | |
TWD216115S (zh) | 電子設備支撐架 | |
TWD203462S (zh) | 夾具 | |
TWD170400S (zh) | 晶舟用填縫構件 | |
TWD222303S (zh) | 花灑頭支撐件 | |
TWD208042S (zh) | 等離子體處理裝置用容器 | |
TWD208955S (zh) | 淋洗頭用真空運輸裝置 | |
TWD170399S (zh) | 晶舟用填縫構件 | |
TWD203976S (zh) | 電子元件保持器 | |
TWD210155S (zh) | 等離子體處理裝置用容器 | |
TWD209963S (zh) | 等離子體處理裝置用容器 | |
TWD208389S (zh) | 容器 | |
JP1722189S (ja) | 半導体処理装置用シャワーヘッドアセンブリ | |
JP1737181S (ja) | 半導体処理装置用シャワーヘッド | |
TWD167113S (zh) | 半導體晶圓硏磨裝置用彈性膜 | |
JP1713813S (ja) | 半導体処理装置用シャワーヘッド |