TW574633B - Advanced illumination system for use in microlithography - Google Patents

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TW574633B TW91123956A TW91123956A TW574633B TW 574633 B TW574633 B TW 574633B TW 91123956 A TW91123956 A TW 91123956A TW 91123956 A TW91123956 A TW 91123956A TW 574633 B TW574633 B TW 574633B
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Mark L Oskotsky
Lev Ryzhikov
Scott Coston
James Tsacoyeanes
Peter J Baumgartner
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Description

574633 A7 B7 五、發明説明(1 ) 有關申請書之對照參考 此申請書申請於2001年10月18日提出之Oskotsky 等之美臨時專利申請書60/329,758號之優先權,此整個歹!1 作參考。 發明背景 發明部份 本發明一般係有關微影照射系統。 背景技藝 微影術(亦稱微製版術)爲一種半導體裝置製造技術 。微影術使用紫外或可見光,以產生半導體裝置設計中之 細圖案。多種半導體裝置,諸如二極體,電晶體,及積體 電路可使用微影技術製造。曝光系統或工具用以實施微影 技術’諸如蝕刻於半導體製造上。曝光系統普通包含一照 射系統,包含電路圖案之一分劃板(亦稱爲蔽罩),一投 影系統’及一晶圓對齊平台用以對齊感光阻劑覆蓋之半導 體晶圓。照射系統由宜矩形槽照射場照射分劃板之一區域 。投影系統投射分劃板電路圖案之照射區之影像於晶圓上 〇 隨半導體裝置製造技術之進步,對用以製造半導體裝 置之微影系統之每一組成件之要求增加。此包含用以照射 分劃板之照射系統。例如,需要由具有均勻輻照度之照射 場照射分劃板。在步進及掃描微影術中,亦需連續改變在 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇χ 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 、-口 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 -4- 574633 A7 _ B7 五、發明説明(2 ) 與晶圓掃描方向垂直之方向中之照射場之大小,俾可依不 同之應用修改照射場之大小。常限制晶圓處理產出之一因 素爲可自照射系統獲得之能量。結果,需要改變照射場之 大小’而不損失能量。 當照射場之大小改變時,需保持分劃板處之照射場之 角度分佈及特性。爲達成此目標,當照射場之大小改變時 ’照射系統需維持在大致固定之數値孔徑處之遠心照射於 分劃板處。一些照射系統包含散射光學元件,諸如一陣列 置於分劃板前方。散射光學元件產生所需之角度光分佈, 此其後投影或中繼至分劃板。在此照射系統中,當照射場 之大小改變時,需要維持在大致固定之數値孔徑處之遠心 照射於散射光學元件,且對應上,於分劃板處。 標準之變焦透鏡可改變照射場之大小。然而,在標準 變焦透鏡’影像放大,及照射場之對應大小與角度放大率 成反比。如此,增加影像大小Μ倍之標準變焦透鏡減小 數値孔徑1/Μ倍,且未能保持照射場之角度分佈,此爲 缺點。 故此’ 要改變照射場之大小(即是放大照射場)而 不損失能量,且當照射場之大小改變時,維持在數値孔徑 處之遠心照射。 發明槪要 本發明一般係有關微影術中之照射系統。更明確言之 ’本發明係有關用以改變光學系統中之分劃板處之照射場 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} -裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 574633 A7 B7 五、發明説明(3 ) 之大小之系統及方法。 在本發明之一實施例,依據本發明,照射系統包含一 照射光源,一第一繞射陣列,一第二繞射陣列,及一聚光 器系統置於第一繞射陣列及第二繞射陣列間之光徑中。第 一繞射徑列亦稱爲場空間陣列,爲雙繞射陣列。通過第一 繞射陣列之光具有一特定之數値孔徑。該數値孔徑決定分 劃板處之照射場之大小及/或形狀。在一實施例,第一 繞射陣列爲一繞射光柵,能通過不同幅階之光,並以各種 角度折射其出來。在另一實施例,第一繞射陣列包含多個 微透鏡,能以各種角度折射光。第二繞射陣列亦稱爲瞳孔 陣列,爲與第一繞射陣列之結構相似之雙繞射陣列。由光 通過第二繞射陣列,第二繞射陣列能擴大及/或縮小在 分劃板處所形成之照射場之大小。 依據另一特色,聚光器系統包含多個柱面及/或正 交柱面透鏡,有在掃描及/或正交掃描方向上之放大率 。聚光器系統包含多個固定透鏡及多可移動透鏡。多個固 定透鏡包含一輸入透鏡及一輸出透鏡。多個可移動透鏡包 含若干透鏡,能平移於輸入及輸出透鏡之間。由平移可移 動透鏡於輸入及輸出透鏡之冒,聚光器系統擴大及/或 縮小通過聚光器系統之光之幅度,且因而,在分劃板處由 光所形成之照射場之大小。在一實施例,聚光器系統具有 四透鏡,包含二固定透鏡(輸入及輸出透鏡)及二可移動 透鏡。在另一實施例,聚光器系統具有五透鏡,包含二固 定透鏡(輸入及輸出透鏡)及三可移動透鏡。又且,其他 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 項再填{c 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 -6 - 574633 A7 B7 五、發明説明(4 ) 實施例可包含不同數量之透鏡。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在操作時,來自照射光源之光入射於光束調節器上。 光束調節器調節該光,並引導其至第一繞射陣列。第一繞 射陣列處理調節之光。調節之光在通過第一繞射陣列後, 具有特定之數値孔徑。通過第一繞射陣列之調節之光可具 有不同之數値孔徑之大小及/或形狀。來自第一繞射陣 列之光入射於聚光器系統上。聚光器系統凝聚來自第一繞 射陣列之光。凝聚之光形成聚光器系統照射場,然後通過 第二繞射陣列。如此處所用,凝聚之光一辭意爲具有擴大 及/或縮小幅度之光。第二繞射陣列處理凝聚之光。凝 聚之光通過第二繞射陣列後,在分劃板處形成一照射場。 照射場之性質由數値孔徑之大小及/或形狀,以及由聚 光器系統之光學元件之放大及/或縮小率決定。 以下參考附圖,說明本發明之其他特色及優點,以及 本發明之各種實施例之結構及作用。 附圖簡述 經濟部智慈財產局員工消費合作社印災 此處所加進並構成本說明之一部份之附圖顯示本發明 ’並與說明一起另用以說明本發明之原理,並使精於有關 技藝之人士能製作並使用本發明。 圖1顯示光學系統之一實施例。 圖2a顯示本發明之照射系統之一實施例。 圖2b顯示本發明之照射系統之另一實施例。 圖3a顯示在第一透鏡位置中之本發明之圖2a及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公羡) 574633 五、發明説明(5 ) A7 B7 2b 之照 射系統之4透鏡聚光器系統之實施 例 0 圖 3b 顯示在第二透鏡位置中之本發明 之 圖 3a 所 示 之 4 透 鏡聚光器系統。 圖 3c 顯示在第三透鏡位置中之本發明 之 圖 3a 所 示 之 4 透: 鏡聚光器系統。 圖 3d 顯示多個光學元件以及本發明之 圖 3a -3c 所 示 之 4 透: 鏡聚光器系統之對應光學表面。 圖 4a 顯示在第一透鏡位置中之本發明 之 圖 2a 及 2b 之照 射系統之5透鏡聚光器系統之實施> 例 〇 圖 4b 顯示在第二透鏡位置中之本發明 之 圖 4a 所 示 之 5 透: 鏡聚光器系統。 圖 4c 顯不在第三透鏡位置中之本發明 之 圖 4a 所 示 之 5 透: 鏡聚光器系統。 圖 4d 顯示多個光學元件以及本發明之 圖 4a -4c 所 示 之 5 透: 鏡聚光器系統之對應光學表面。 〇 圖 5 a 爲本發明之繞射陣列內之繞射光 栅 之側視 圖 圖 5b 爲本發明之繞射陣列內之繞射光 柵 之頂視 圖 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖6a爲本發明之繞射陣列內之微透鏡組件之頂視 圖。 圖6b爲本發明之繞射陣列內之微透鏡組件之側視 圖。1 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -8- 574633 A7 B7 五、發明説明(6 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 主要元件對照表 100 光 學 系 統 101 照 射 光 源 102 光 束 調 節 器 103 調 節 之 光 104 照 射 光 學 裝 置 106 分 劃 板 108 投 影 光 學 裝 置 110 基 體 113 光 200 照 射 系 統 209 光 軸 210 場 陣 列 212 瞳 孔 陣 列 215 數 値 孔 徑 220 聚 光 器 系 統 228 界 定 場 301 輸 入 透 鏡 303 輸 出 透 鏡 310 變 焦 透 鏡 部 份 311 變 焦 透 鏡 374 凝 聚 之 光 501 繞 射 陣 列 601 微 透 鏡 (請先閲讀背面之注意事- J· 項再填. 裝-- :寫本頁)
、1T 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21 ΟΧ 297公釐) -9- 574633 A7 B7 五、發明説明(7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 參考附圖,說明本發明。在附圖中,相同之參考編號 指示相同或功能相似之元件。而且,參編號之最左數字標 示該參考編號首次出現之圖。 發明之詳細說明 目錄 1. 用於微製版上之高級照射系統。 A.實例照射系統。 B.I.四透鏡聚光器系統。 B. 2 ·四透鏡聚光器系統中之光路徑。 B.3.5透鏡聚光器系統。 B.4.5透鏡聚光器系統中之光路徑。 2. 結論。 雖此處參考特定應用之圖解實施例說明本發明,但應 明暸本發明並不限於此。精於此處所提之述說之技藝之人 士知道在其範圍內之其他修改,應用,及實施例,及可顯 著使用本發明之其他部門。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 1 ·用於微製版之高級照射系統 A.實例照射系統 圖1顯示一示範環境,其中可實施本發明。一光學 系統100用以擴展自照射光源(例如雷射)1 〇 1所發射 之光11 3。光11 3由一光束調節器1 02接收。光束調 卽器102調節至照射光學裝置1 〇4之光,此轉而發射 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -10- 574633 A7 B7 五、發明説明(8 ) 光通過一蔽罩或分劃板106,經投影光學裝置108而至 基體11 0上。此系統之一實施例可爲製版系統或類似者 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 照射光源 101引導光至光束調節器102。照射光源 101可爲一雷射,具有一波長,諸如不可見區中之紫外 線波長。本發明之一實例應用使用包含,但不限於248 奈米(nm ) ,193nm,及 157nm之波長。而且,照射光 源101可爲脈波雷射或連續波雷射。光束調節器102 調節自照射光源101所接收之光。光束調節器102產 生具有限定橫斷面之準直光束。此可由一光束擴展器,諸 如折射光學系統,或一反射光學系統達成。一示範之光束 調節器說明於S.Stinton之美專利5,31,721號,題爲” 用於微影上之混合照射系統",整個列作參考。 來自光束調節器102之經調節之光103入射於照 射光學裝置 104上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2a顯示本發明之照射系統200之一實施例,用 以照射分劃板1 06。照射光學裝置1 04可包含照射系統 200。照射系統200包含一第一繞射陣列或場陣列210 ,一第二繞射陣列或瞳孔陣列2 1 2,一聚光器系統220 置於第一繞射陣列2 1 0及第二繞射陣列2 1 2之間。在 照射系統200中,上述光學元件沿光軸209上設置。 第一繞射陣列210與聚光器系統220沿光軸209 上設置,並先處理調節之光1 03。第一繞射陣列或場空 間陣列2 1 0爲雙繞射徑列。第一繞射陣列2 1 0可爲繞射 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(210X 297公釐) -11 - 574633 A7 B7 五、發明説明(9 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 光柵或微透鏡組件,此容許光在第一,第二,第三等階中 通過。每一階代表光以不同之角度通過。第一繞射陣列 21〇對進入照射系統200之調節之光提供空間及時間同 調處理。而且,第一繞射陣列2 1 0提供光之高度透射。 第二繞射陣列212與聚光器系統220沿光軸209 上設置。來自聚光器系統220之光213入射於第二繞 射陣列2 1 2上。第二繞射陣列2 1 2作用如瞳孔,且能 改變光之幅度’並形成界定場228。第二繞射陣列或瞳 孔空間陣列 2 1 2亦爲雙繞射陣列。與第一繞射陣列 210 同樣,第二繞射陣列212可包含繞射光柵或微透鏡組件 。第二繞射陣列2 1 2提供空間及時間同調處理。而且, 第二繞射陣列 2 1 2容許光高度透射。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 聚光器系統220容許光通過照射系統200,以變化 界定(或分劃板)場之大小。聚光器系統220包含多個 透鏡,此等變化通過聚光器系統220之光之幅度,且因 而界定場228之大小。聚光器系統220中之多個透鏡 可擴大及/或縮小光之幅度。界定場2 2 8之大小及/ 或形狀指不多少光入射於分劃板1 0 6上。聚光器系統 220包含多個柱面透鏡及/或正交柱面透鏡。以下參考 圖3a-4d,說明聚光器系統220之實施例。 圖5 a及5 b顯示第一繞射陣列210之繞射光柵 貫施例之簡卓圖。圖5 a顯不第一繞射陣列2 1 0之側視 圖。圖5 b顯示圖5 a所示之第一繞射陣列210之頂視 圖。參考圖5a,調節之光103通過第一繞射陣列210 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) -12- 574633 A7 B7 五、發明説明(ίο ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之一繞射光柵501。繞射光柵501以對光軸209成不 同之角度al,a2,及a3反射調節之光出來,如顯示於 圖 5a 〇 第一繞射陣列2 1 0之另一實施例顯示於圖6 a及 6b。在此實施例中,第一繞射陣列 2 1 0包含多個微透鏡 601。微透鏡 601可依多種構形設置,如顯示於圖 6b。 換言之,第一繞射陣列 210可包含可變對齊之多個微透 鏡組件601。微透鏡 601可平行於 Y軸以及平行於 X 軸設置。微透鏡601接收調節之光103,並以對光軸 209成各種角度/3 1,/3 2,及/3 3反射此出來,如 顯示於圖 6b。 回頭參考圖2a,沿光軸 209引導調節之光103至 分劃板(亦稱爲π界定物1 06。第一繞射陣列 2 1 0 接收調節之光 103。在處理調節之光103後,第一繞射 陣列 210引導光 211至聚光器系統 220。在通過第一 繞射陣列 2 1 0後,光 2 11具有一數値孔徑 2 1 5。數値 孔徑 215指示在分劃板106處之界定場228之大小及 /或形狀。數値孔徑(N A 1 ) 2 1 5定義如下: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 NAl = n*sin ( θ 1) (1) 其中,η爲光傳播媒體(在此情形中,第一繞射陣列’ 210)之折射率,及爲由產生界定場之光所形成之折 射角度。故此,數値孔徑(NA1) 215之大小控制界定場 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -13 - 574633 A7 B7 五、發明説明(11 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 228之大小。換言之,數値孔徑 215愈大,界定場228 愈大。數値孔徑 215之形狀亦控制照射場 228之形狀 。在圖3a實施例中,數直孔徑215爲矩形,故此,界 定場 228爲矩形。在圖2b實施例中,數値孔徑 215 具有弧形,故此,界定場228具有弧形。數値孔徑215 及其對應之界定場228可有其他形狀及大小。換言之, 可修改第一繞射陣列210 ,俾光 211可具有任何大小 及/或形狀之數値孔徑 21 5。故此,光 2 1 3可其後形 成對應大小及/或形狀之界定場228。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 第一繞射陣列210沿光軸209上引導光211至 聚光器系統 220。聚光器系統220用以改變界定場228 之大小。通過聚光器系統220之光產生在正交掃描方向 上可縮放之界定場。聚光器系統220可變形,以達成此 可縮放界定場之產生。換言之,通過聚光器系統220之 光能變化界定場228在Y方向上之大小。聚光器系統 220亦能保留或維持入射於第二繞射陣列212上之光之 角度分佈,同時通過聚光器系統220之光變化界定場 228之大小。聚光器系統220維持光之均勻輻射通量密 度(每單位表面積之入射輻射通量),同時變化界定場 228之大小(且因而入射於分劃板丨〇6上之光量)。例 如,通過聚光器系統220之光能在約llmm至約26mm 之範圍中變化界定場228。界定場228之大小及/或 形狀爲應用所特定。聚光器系統220另說明於圖3a-4d 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -14- 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 574633 A7 _ B7 五、發明説明(12 ) B.聚光器系統 依據本發明,聚光器系統22〇大致保留及維持入射 於分劃板1 06上之光之一預定角度分佈,同時變化界定 場228之大小。爲達成此點,聚光器系統220維持數 値孔徑2 1 5處之遠心照射,同時變化界定場2 2 8之大 小。聚光器系統2 2 0亦維持均勻之輻照度,及預定量之 能量由照射系統200轉移至分劃板丨〇6 ,同時改變界 定場228之大小。聚光器系統220之作用進一步說明 於下。 圖3a-3d及4a-4d顯示聚光器系統220之各種實 施例。圖3a-3d顯示4透鏡聚光器系統220。圖4a-4d顯示5透鏡聚光器系統220。 B.1.4透鏡聚光器系統 圖3a顯示4透鏡聚光器系統220,沿光軸209 上設置於第一繞射陣列2 1 0及第二繞射陣列2 1 2之間 。4透鏡聚光器系統220包含一輸入透鏡301,一輸出 透鏡303,及一變焦透鏡部份3 1 0。變焦透鏡部份3 1 0 沿光軸209上置於輸入透鏡301及輸出透鏡303之間 。變焦透鏡部份包含一第一變焦透鏡3 11及一第二變焦 透鏡 3 1 2。 在此實施例中,輸入透鏡301及輸出透鏡303爲 固定透鏡,及變焦透鏡部份310可沿光軸209上平移 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) IJ------4衣-------1T------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -15- 574633 A7 ____B7 五、發明説明(13 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於輸入透鏡301及輸出透鏡303之間。第一變焦透鏡 311能沿光軸209上平移於輸入透鏡301及第二變焦 透鏡312之間。第二變焦透鏡312能沿光軸209上 平移於第一變焦透鏡3 1 1及輸出透鏡303之間。由沿 光209上平移第一變焦透鏡311及/或第二變焦透 鏡312,變焦透鏡部份310沿光軸209上平移於輸入 透鏡 3 01及輸出透鏡3 0 3之間。 由調整輸入透鏡30 1,第一變焦透鏡3 1 1,第二變 焦透鏡312,及輸出透鏡303間之各別距離,聚光器系 統220凝聚通過聚光器系統220之光。凝聚之光形成 一照射場350,然後凝聚之光通過第二繞射陣列212, 如顯示於圖3a。如此處所用,凝聚之光意爲具有擴大及 /或縮小幅度之光。自聚光器系統220輸出之凝聚之光 能變化照射場350之大小。而且,輸入透鏡301,第一 變焦透鏡 311,第二變焦透鏡312,及輸出透鏡303亦 影響通過聚光器系統220之光之幅度,且因而,影響照 射場350之大小。照射場3 50決定在分劃板106上 形成之界定場 228之大小。 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 視照射場 3 50之大小而定,輸入透鏡301,輸出透 鏡 303,第一變焦透鏡311,及第二變焦透鏡312具有 正或負折射率。而且,輸入透鏡301及輸出透鏡303 爲柱面透鏡,具有正交掃描方向(或沿X及 Y軸)上 之光學放大率。第一變焦透鏡311及第二變焦透鏡312 爲柱面透鏡,具有掃描方向(或沿 Y軸或沿 X軸)上 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- 574633 A7 B7 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 五、發明説明(14 ) 之光學放大率。在一特定實施例中,在聚光器系統 220 之操作期間中,爲減少能量損失及變焦透鏡群3 1 0中之 透鏡之運動範圍至最低程度,變焦透鏡群3 1 0中之透鏡 之正交掃描光學放大率之比率可在自1:-0.3至1:-0.8之 範圍。或且,聚光器系統 220中之透鏡可爲正交柱面透 鏡。 以下表 1 (閱附件1 )爲有關圖3a-3c所述之 4 透鏡系統之實施例之說明資料。圖3d顯示具有聚光器 系統 220之對應光學表面之光學元件。輸入透鏡 301 具有光學表面 2及 3,如顯示於圖3d。第一變焦透鏡 311具有光學表面 4及 5。第二變焦透鏡 312具有光 學表面 6及 7。輸出透鏡303具有表面8及 9。光 學元件置於一物件平面及一影像平面之間。表1指示聚 光器系統220中之每一光學元件(輸入透鏡 301,第一 變焦透鏡 311,第二變焦透鏡312,及輸出透鏡 303 ) 之光學性質,諸如厚度,半徑,材料,及其他。 B.2.4透鏡聚光器系統中之光路徑 參考圖 3a,光 211入射於聚光器系統 220之輸入 透鏡 301上。輸入透鏡301改變光 211之幅度。如 此處所用,改變光幅度一辭意爲擴大及/或縮小光之幅 度。在由輸入透鏡301折射後,光211變爲第一凝聚 光372。如此處所用,凝聚光一辭意爲具有擴大及/或 縮小幅度之光。輸入透鏡301引導第一凝聚光372至 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -17- 574633 A7 B7 五、發明説明(15 ) 變焦透鏡 3 1 0。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在位置 320a中之變焦部份 310之第一變焦透鏡 31 1接收第一凝聚光 372,如顯示於圖3a。第一變焦透 鏡 311改變第一凝聚光 372之幅度。在由第一變焦透 鏡311折射後,第一凝聚光372變爲第二凝聚光373 。第一變焦透鏡 311引導第二凝聚光 373至在位置 321a中之第二變焦透鏡 312,如顯示於圖3a。 在位置 3 2 1 a中之第二變焦透鏡 3 1 2接收第二凝聚 光 373,如顯示於圖3a。第二凝聚透鏡 312改變第二 凝聚光3 7 3之幅度。在由第二變焦透鏡3 1 2折射後,第 二凝聚光 37 3變爲第三凝聚光 374。第二變焦透鏡 312 引導第三凝聚光 374至輸出透鏡 303。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 輸出透鏡 303接收第三凝聚光 374。輸出透鏡 303 改變第三凝聚光374之幅度。在由輸出透鏡303折射 後,第三凝聚光變爲凝聚光 213。輸出透鏡303引導凝 聚光 213至第二繞射陣列 212。而且,整聚光 213形 成一照射場350a,然後進入第二繞射陣列212。照射場 3 50a之大小取決於第一變焦透鏡311之位置 320a及 第二變焦透鏡 312之位置 321a。 參考圖3b,第一變焦透鏡311具有位置320b及 第二變焦透鏡 312具有位置 321b。由於透鏡 311及 312在此位置’聚光器系統220產生一照射場350b。與 圖3a之照射場350a相較,照射場350b可具有不同 大小。 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -18- 574633 A7 _ B7 五、發明説明(16 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 參考圖3c,第一變焦透鏡311具有位置320c及 弟—^變焦透_見312具有位置321c。由於透鏡311及 312在此位置,聚光器系統22〇產生一照射場350c。與 圖3a及圖3b之照射場350a及350b相較,照射場 350c可具有不同大小。 B.3.5透鏡聚光器系統 圖4a顯示5透鏡聚光器系統220,沿光軸209 上設置於第一繞射陣列21 0及第二繞射陣列2 1 2之間 。5透鏡聚光器系統220包含一輸入透鏡301,一輸出 透鏡303 ’及一變焦透鏡部份410。變焦透鏡部份410 沿光軸209上置於輸入透鏡301及輸出透鏡302之 間。變焦透鏡部份410包含一第一變焦透鏡41 1,一第 二變焦透鏡 412,及一第三變焦透鏡413。 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 在此實施例中,輸入透鏡301及輸出透鏡303爲 固定透鏡,及變焦透鏡部份410可沿光軸209上平移 於輸入透纟見3 0 1及輸出透鏡3 0 3之間。第一*變焦透鏡 411能沿光軸 209上平移於輸入透鏡 301及第二變焦 透鏡412之間。第二變焦透鏡412能沿光軸209上 平移於第一變焦透鏡411及第三變焦透鏡413之間。 第三變焦透鏡 4 1 3能沿光軸 209上平移於第二變焦透 鏡 412及輸出透鏡303之間。由沿光軸209上平移第 一變焦透鏡 4 1 1,第二變焦透鏡4 1 2,及/或第三變焦 透鏡413,變焦透鏡部份410沿光軸209上平移於輸 本紙張尺度適用中國國家,標準(CNS ) A4規格(210X29*7公釐) -19- 574633 A7 B7 五、發明説明(17 ) 入透鏡 3 0 1及輸出透鏡 3 0 3之間。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 由調整輸入透鏡301,第一變焦透鏡 411,第二變 焦透鏡412,第三變焦透鏡41 3,及輸出頹鏡303間 之各別距離,聚光器系統220凝聚通過聚光器系統220 之光。凝聚之光形成一照射場450,然後凝聚之光通過 第二繞射陣列212,如顯示於圖4a。如此處所用,凝聚 之光意爲具有擴大及/或縮小幅度之光。自聚光器系統 220輸出之凝聚之光能變化照射場350之大小。而且, 輸入透鏡 301,第一變焦透鏡 411,第二變焦透鏡 412 ’第三變焦透鏡413,及輸出透鏡303之折射率亦影響 通過聚光器系統220之光之幅度,且因而,影響照射場 3 50之大小。照射場 450決定在分劃板 106上所形成 之界定場 228之大小。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 視照射場 450之大小而定,輸入透鏡301,輸出透 鏡 303,第一變焦透鏡 411,第二變焦透鏡412,及第 三變焦透鏡413可具有正或負折射率。而且,輸入透鏡 301及輸出透鏡303爲柱面透鏡,具有在正交掃描方向 (或沿X及 Y軸)上之光學放大率,第一變焦透鏡 4 11,第二變焦透鏡 4 1 2,及第三變焦透鏡 4 1 3爲柱面 透鏡,具有在掃描方向(或沿 Y軸或沿X軸)上之光 學放大率。在一特定實施例中,在聚光器系統 220之操 作期間中,爲減少變焦透鏡群410中之透鏡之能量損失 及運動範圍至最低程度,變焦透鏡群3 1 0中之透鏡之正 交掃描光學放大率之比率可在自1:-0.3至1:-0.8之範 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) •20- 574633 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(18 ) 圍。或且,聚光器系統220中之透鏡可爲正交柱面透鏡 〇 以下表2 (閱附件2)爲有關圖4a-4c所述之5 透鏡系統之實施例之說明資料。圖 4d顯示具有聚光器 系統 220之對應光學表面之光學元件。輸入透鏡301 具有光學表面2及3,如顯示於圖4d。第一變焦透鏡 411具有光學表面4及5。第二變焦透鏡412具有光 學表面6及7。第三變焦透鏡413具有光學表面8 及 9。輸出透鏡 303具有表面10及11。光學元件置 於一物件平面及一影像平面之間。表2指示聚光器系統 220中之每一光學元件(輸入透鏡301,第一變焦透鏡 411,第二變焦透鏡412,第三變焦透鏡413,及輸出透 鏡3 03 )之光學性質,諸如厚度,半徑,材料,及其他。 B. 2.5透鏡聚光器系統之光路徑 參考圖4a,光211入射於聚光器系統220之輸入 透鏡301上。輸入透鏡301改變光211之幅度。如 此處所用,改變光幅度一辭意爲擴大及/或縮小光之幅 度。在由輸入透鏡3 01折射後,光211變爲第一凝聚 光 372。如此處所用,凝聚光一辭意爲具有擴大及/或 縮小幅度之光。輸入透鏡301引導第一凝聚光372至 變焦透鏡部份 4 1 0。 在位置420a中之變焦部份410之第一變焦透鏡 4 11接收第一凝聚光 3 7 2,如顯示於圖4 a。第一變焦透 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ‘ 裝 訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -21 - 574633 A7 _______B7___ 五、發明説明(19 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 鏡411改變第一凝聚光472之幅度。在由第一變焦透 鏡 411折射後,第一凝聚光472變爲第二凝聚光 473 。第一變焦透鏡411引導第二凝聚光473至在位置 421a中之第二變焦透鏡 412,如顯示於圖 4a。 在位置 421a中之第二變焦透鏡、412接收第二凝聚 光 473,如顯示於圖 4a。第二變焦透鏡 412改變第二 凝聚光473之幅度。在由第二變焦透鏡412折射後,第 二凝聚光 473變爲第三凝聚光 474。第二變焦透鏡 412 引導第三凝聚光 474至位於422a之第三變焦透鏡 413 ,如顯示於圖 4a。 在位置 422a中之第三變焦透鏡 413接收第三凝聚 光 474。第三變焦透鏡 413改變第三凝聚光 474之幅 度。在由第三變焦透鏡413折射後,第三凝聚光 474 變爲第四凝聚光 475。第三變焦透鏡 413引導第四凝聚 光 475至輸出透鏡 303。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 輸出透鏡 303接收第四凝聚光375。輸出透鏡 303 改變第四凝聚光375之幅度。在由輸出頹鏡 303折射 後,第四凝聚光變爲凝聚光 213。輸出透鏡 303引導凝 聚光 213至第二繞射陣列 212。而且,凝聚光 213形 成一照射場 450a,然後進入第二繞射陣列212。照射場 450a之大小取決於第一變焦透鏡 411之位置 420a,第 二變焦透鏡 412之位置421a,及第三變焦透鏡 413之 位置 422a。 參考圖 4b,第一變焦透鏡 411具有位置 420b,第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X:297公釐) 574633 A7 _________ B7五、發明説明(20 ) 二變焦透鏡 412具有位置 421b,及第三變焦透鏡 413 具有位置 422b。由於透鏡 411,412,及413在此等位 置,聚光器系統 220產生一照射場 450b。與圖 4a之 照射場 450a相較,照射場 450b可具有不同大小。 參考圖 4c,第一變焦透鏡 411具有位置 420c,第 二變焦透鏡 412具有位置 421c,及第三變焦透鏡 413 具有位置 422b。由於透鏡 411,412,及413在此等位 置,聚光器系統 220產生一照射場450c。與圖 4a及 圖4b之照射場450a及 450b相較,照射場 450c可 具有不同大小。 2.結論 在此經已說明本發明之方法,系統,及組成件之實施 例。如各處所述,此等實施例說明僅供例解,且非限制。 其他實施例亦可能,且涵蓋於本發明中。此等實施例爲精 於以此處所含之述說爲基礎之有關技藝之人士所明瞭。故 此,本發明之幅度及範圍應不由上述任何示範實施例限制 ,而是應由以下申請利部份及其相等者界定。 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -装. 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23-

Claims (1)

  1. 574633-— 公告本 々、申請專利範圍 i 1 · 一種用於界定物處之場照射之光學系統,包含: 一第一繞射陣列;. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一第二繞射陣列;及 一聚光器系統,置於該第一繞射陣列及該第二繞射陣 列之間的光路徑中,其中,該聚光器系統另包含: 多個固定光學元件;及 多個可移動光學元件, 其中,該等可移動光學元件能夠相對於該多個固定光 學元件平移。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ,第一繞射陣列爲一能夠產生一矩形數値孔徑之場空間陣 列。 3·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ,第一繞射陣列爲一能夠產生一曲線形數値孔徑之場空間 陣列。 4·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ,該多個固定光學元件包含: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一輸入透鏡群;及 一輸出透鏡群。 5.如申請專利範圍第 4項所述之光學系統,其中 ,該輸入透鏡群另包含一輸入正交柱面透鏡。 6·如申請專利範圍第 4項所述之光學系統,其中 ,該輸出透鏡群另包含至少一正交柱面透鏡及至少一柱面 透鏡。 本紙張尺度適用中國國家糯準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -24- 574633 B8 C8
    六、申請專利範圍 2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 ·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ’該多個可移動光學元件另包含多個可變焦距透鏡。 8·如申請專利範圍第7項所述之光學系統,其中 ’ S亥多個可變焦距透鏡另包含至少一具有正交掃描光學放 大率之柱面透鏡。 9 ·如申請專利範圍第8項所述之光學系統,其中 ’該至少一柱面透鏡具有在1:_〇·3至1:-0.8範圍中之 正交掃描光學放大率。 I 0 ·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ’該弟一繞射陣列爲一瞳孔繞射陣列。 II ·如申請專利範圍第1項所述之光學系統,其中 ’聚光器系統另包含二固定光學元件及二可移動光學元件 〇 1 2 ·如申師專利範圍弟1項所述之照射系統,其中 ,聚光器系統另包含二固定光學元件及三可移動光學元件 〇 1 3 · —種用於照射系統中之聚光器系統,該照射系統 照射界定物之場,該照射系統包含: 一輸入固定光學群; 一輸出固定光學群;及 一可變焦距透鏡群,與輸入固定光學群及輸出固定光 學群一起置於光路徑中; 其中,δ亥可變焦距透鏡群能夠相對於該輸入固定光學 群及輸出固定光學群平移; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) II--------0^------1Τ------Φ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -25- 574633 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 其中,該輸入固定光學群、輸出固定光學群、及可變 焦距透鏡群沿光路徑上之位置能夠被調整,以改變照射系 統中之界定物之照射場的大小。 14. 如申請專利範圍第1 3項所述之聚光器系統, 其中,該輸入固定光學群另包含輸入正交柱面透鏡。 15. 如申請專利範圍第13項所述之聚光器系統, 其中,該輸出固定光學群另包含至少一正交柱面透鏡及至 少一柱面透鏡。 1 6.如申請專利範圍第1 3項所述之聚光器系統, 其中,該可變焦距透鏡群另包含至少一具有正交掃描光學 放大率之柱面透鏡。 1 7.如申請專利範圍第1 6項所述之聚光器系統, 其中,該至少一柱面透鏡具有在1:-0.3至1:-0.8範圍 中之正交掃描光學放大率。 1 8. —種用以照射具有光路徑之微影照射系統中之界 定物的場之方法,包括步驟: (a )以一輸入固定光學群來接收光; (b )用輸入固定光學群,以置於光路徑中之可變焦 距透鏡群來對該光放大或縮小至少其中一者, 其中,步驟(b )另包含沿光路徑上平移可變焦距透 鏡群; (c )以從輸出固定光學群所引導之光來照射該界定 物; 其中,步驟(a )至(c )另包含·· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ; ^-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -—Ί I - —i -26- 574633 A8 B8 C8 D8 4 申請專利範圍 改變照射系統中之界定物之照射場的大小 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -27-
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