JPH088206B2

JPH088206B2 - 露光方法及び露光装置

Info

Publication number: JPH088206B2
Application number: JP7705989A
Authority: JP
Inventors: 一志中野; 崇永塩澤
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1989-03-28
Filing date: 1989-03-28
Publication date: 1996-01-29
Anticipated expiration: 2011-01-29
Also published as: JPH02254710A

Description

【発明の詳細な説明】＜技術分野＞本発明はICなどの微細パターンをウエハー上に焼きつ
ける半導体製造用の露光方法及び露光装置に関するもの
であり、特にエキシマ・レーザーなどのレーザーを光源
とする露光方法及び露光装置に関するものである。

＜従来技術＞従来、レーザーを光源とする露光装置では、レーザー
から出射される光束の形状を露光装置の照明光学系に必
要な所定の大きさの形状に成形するため、ビームエキス
パンダー等をレーザーと照明光学系の間に配置してい
た。例えば、エキシマレーザーから出射される光束の形
状は約５×20程度の長方形であり、この光束をシリンド
リカル・ビームエキスパンダーおよびビームエキスパン
ダーによって口20〜口50程度の所定の大きさに成形し、
成形した光束を照明光学系に供給していた。

ところが、この種のレーザーにおいては、レーザー共
振器の電極の劣化や各共振器毎の機差等が要因となりレ
ーザーから射出するレーザー光の光束径や形状が変動す
ることが判明した。

このようにレーサー光の光束径や形状が変動すると、
照明光学系に必要な所望の大きさのレーザー光を照明光
学系に供給できず、照明光学系の性能を十分に発揮させ
ることが不可能になる。

また、必要以上に光束径が大きなレーザー光が照明光
学系に供給されると、照明光学系の入射瞳でレーザー光
の一部がけられるため、光束の利用効率が下がることに
なる。従って、露光に要する時間が長くなり、装置のス
ループツトが低下する。

＜発明の概要＞本発明の目的は、上述の問題を解消し、露光装置の性
能を向上させることが可能な、露光方法及び露光装置を
提供することにある。

この目的を達成するために、本発明の露光方法は、レ
ーザーから射出するレーザー光の光束径の変動を検出
し、該検出結果に応じて該レーザー光の光束径を所望の
径に調整し、該調整終了後、該レーザー光を照射光学系
に指向し、該照明光学系を介してウエハを露光すること
を特徴としている。

また、同様に本発明の露光装置は、レーザーから射出
するレーザー光を照明光学系に指向し、該照明光学系を
介してウエハを露光する装置において、該レーザー光の
光束径の変動を検出する検出手段と、該検出手段からの
信号に基づいて該レーザー光の光束径を所望の径に調整
する調整手段とを有することを特徴としている。

本発明では、レーザー光の光束径の変動を検出し、こ
の検出結果に基づいてレーザー光の光束径を所望の径に
調整するので、レーザー光を常に最適な大きさで照明光
学系に供給できる。従って、照明光学系の性能を十分に
発揮せしめて、ウエハに対して良好な露光を行える。ま
た、光束の利用効率が低下することもない。

本発明は、マスクのパターンを投影光学系を介してウ
エハ上に投影する投影露光装置に有効であり、エキシマ
レーザーを光源として使用して装置の解像度を向上させ
た投影露光装置の性能を更に向上あせることが可能とな
る。

本発明の更なる特徴や具体的な形態は以下に示す各実
施例に記載されている。

＜実施例＞第１図は本発明の露光装置全体の構成図である。Ａは
露光光学系を有する露光装置本体を示す。１は波長λ＝
248.4nmの光を照射するＫγＦエキシマレーザーであ
り、防振クツシヨン４上のレーザー定盤３上に設置され
たXYθステージ２上に固定されている。Ｂはレーザー１
からのレーザー光20を露光装置本体Ａの照明光学系６へ
伝送する伝送系であり、複数個の光学部品で構成されて
いる。この伝送系の詳細は後述する。６は照明光学系、
９は半導体製造用の回路パターンが描かれたレチクル
（マスク）、90はレチクルホルダ、10はレチクル９の回
路パターンを1/5に縮小投影する為の縮小投影レンズ、1
1はレンズ支持台、12はウエハ、13はウエハ12を吸着固
定するチヤツク、14はXYステージ、15はステツパー定
盤、16は防振クツシヨンである。エキシマレーザー１か
ら射出したレーザー光20は、伝送系Ｂを通過して露光装
置本体Ａの照明光学系６に入射する。そして照明光学系
６、レチクル９、投影レンズ10を経て、12のウエハ上に
到達する。照明光学系６と縮小投影レンズ10から成る露
光用光学系は、ステツパー定盤15に固定されたレンズ支
持台11によってすべて一体化されて固定されているた
め、露光装置本体Ａ内での各光学系の相対位置は実質的
に不変である。また、伝送系Ｂも露光装置本体Ａに固定
してある。レチクル９上には前述のように回路パターン
が描かれており、照明光学系６を介してレーザー光でレ
チクル９を照明することにより、縮小投影レンズ10を介
して、回路パターンが1/5に縮小されてウエハ12上に転
写される。

ウエハ12は、ウエハチヤツク13上に真空吸着されてお
り、ウエハチヤツク13は、ステツパー定盤15上に設けら
れた可動のXYステージ４上に固定されている。ウエハ12
をXYステージ14により互いに直交するＸおよびＹの２方
向に搬送することができ、縮小されたパターンを、ウエ
ハ上に任意の位置（シヨツト）に転写することができ
る。

通常ウエハ12上には数十シヨツトの縮小パターンが転
写されるため、XYステージ14をＸまたはＹ方向に移動さ
せては、レーザ光を照射して転写をするという動作をく
り返し行うことになる。

また17はXYステージ14上に固設した光検出器から成る
照度計であり、XYステージ14を駆動することにより、投
影レンズ10の像面に位置付けられ、投影レンズ10の像面
における照度を測定する。この照度計17で測定される照
度がウエハ12面上での照度として見なされ、露光時の露
光量制御のための制御データとして用いられる。

第２図は本発明の主要部を示す概略図であり、第１図
は露光装置の伝送系Ｂの一部の構成が図示してある。

第２図において、70は変倍光学系であり、レーザー１
から射出したレーザー光の光束系を変更する機能を有す
る。71は変倍光学系を通過したレーザー光の光路中に斜
設したハーフミラー（ビームスプリツター）であり、こ
のレーザー光の一部を反射せしめ、他の大部分を透過せ
しめる。24は照明光学系６の一部を成すオプテイカルイ
ンテグレーターであり、このオプテイカルインテグレー
ター24は両端が球面の棒状レンズを複数個を有し、各棒
状レンズは照明光学系６の光軸に直交する面に平行に配
列してある。このオプテイカルインテグレーター24は、
ハーフミラー71を透過したレーザー光を受けて、棒状レ
ンズの数に対応した複数個の２次光源を形成する。そし
て、第１図に示したレチクル９は、これらの２次光源か
らの光で照明されることになる。72はCCD等から成る受
光素子（光検出器）で、ハーフミラー71で反射されたレ
ーザー光を受光し、レーザー光の光束（断面）形状と強
度分布に応じた信号を出力する。図示されている通り、
ハーフミラー71は変倍光学系70から射出したレーザー光
の全ての部分と交叉するように斜設してあるので、受光
素子72の受光面上での光束径は変倍光学系70から射出し
たレーザー光の光束径と比例する。（第２図では同
一。） 100は計測装置で、受光素子72からの、受光面上での
光束径又は受光面上での光束のエツジ位置に対応する出
力信号に基づいて変倍光学系70から射出したレーザー光
の光束径（の変動）を計測し、計測結果を制御装置200
に入力する。制御装置200は計測装置100からの入力に応
じて変倍光学系70の駆動装置300に指令信号を送り、駆
動装置300で変倍光学系70を駆動することによりレーザ
ー光の光束径を所望の径に調整する。本実施例では、変
倍光学系70から射出したレーザー光の光束径がオプテイ
カルインテグレーター24の径とほぼ同じ大きさになるよ
うに、ハーフミラー71、受光素子72、計測装置100、制
御装置200、駆動装置300を介して変倍光学系70の倍率を
制御している。

従って、レーザー１から射出するレーザー光の光束径
が、レーザー１の経時変化などの要因により変化して
も、常に一定の径のレーザー光をオプテイカルインテグ
レーター24（照明光学系６）に向けることが可能にな
る。これにより、照明光学系６の性能を十分に発揮させ
て露光装置の性能を向上させることができる。また、オ
プテイカルインテグレーター６に入射するレーザー光の
光束径が予め定めた径より大きくなると、オプテイカル
インテグレーター６でけられてしまう光が生じるが、本
実施例の露光装置ではこのような問題も生じない。

第２図から明らかなように、レーザー１から射出する
レーザー光は照明光学系６の光軸に平行な平行光束であ
り、且つ平行光束のままオプテイカルインテグレーター
24に向けられる。また、レーザー１から射出するレーザ
ー光の光束径に比べてオプテイカルインテグレーター24
の径は大きいので、レーザー光は光束径を拡大されてオ
プテイカルインテグレーター24に向けられる。従って、
本実施例の変倍光学系70はオフオーカルな光学系を構成
しており、またビームエキスパンダーとしての機能を備
えている。

変倍光学系70は複数個のレンズを組合せて構成するこ
とができ、これらのレンズの幾つかを光軸方向に移動せ
しめることにより倍率を変える。そして、倍率に応じて
レーザー光を光束径が変化することになる。この倍率制
御のためのレンズの移動が駆動装置300により駆動され
る。以下、第４図乃至第５図を用いて変倍光学系70の具
体的な構成の一例を示す。

第４図は第１図のレーザー１からレチクル９に到る光
学系を示す概略図であり、本発明に用いる変倍光学系の
構成の一例を説明する説明図として用いる。

第４図において、第２図に描かれた部材と同じ部材に
は第２図と同一の符号が付してある。そして、図中の2
1,22（22′）,23（23′）は変倍光学系70を構成するレ
ンズで、レンズ22,23は光軸に沿って移動可能に設けら
れている。25,26,27は照明光学系６を構成するレンズ
で、これらのレンズ25,26,27によりオプテイカルインテ
グレーター24が形成する複数個の２次光源からの光をレ
チクル９上で重ね合せる。これにより、レチクル９上で
の照度分布が均一になる。28は視野絞りであり、露光装
置において「マスキングブレード」と一般に呼ばれる、
レチクル９の被照明領域を規制する部材である。視野絞
り28はレチクル９とレンズ26,27に関して光学的に共役
な位置に配置してある。29は開口絞りであり、照明光学
系６の光射出側（レチクル９側）の開口数（NA）を定め
る。開口絞り29はオプテイカルインテグレーター24の光
射出面とレンズ25,26に関して光学的に共役な位置に配
置してある。

以下、変倍光学系70についての詳しい説明を加える。

レンズ21の光射出側の焦点位置がレンズ22及びレンズ
23から成る合成系の入射側焦点位置と一致するようにレ
ンズ21〜23が配置されている。ここで、レンズ21〜レン
ズ23の各焦点距離をf₂₁,f₂₂,f₂₃とし、レンズ22とレン
ズ23の主点間距離をｄとしたとき、レンズ22及びレンズ
23の合成焦点距離f₂₂₃は、となる。

この時、レンズ21〜レンズ23によって構成される変倍
光学系70の倍率βはとなり、レンズ22とレンズ23の主点間距離ｄを変化させ
ることにより倍率βを変化させることが可能である。

第４図において、レーザー１から射出した平行レーザ
ー光束Ａの大きさをW₁とし、照明光学系６に必要な光束
の大きさをW₂とすれば、変倍光学系70のレンズ22とレン
ズ23の主点間距離ｄは上記（２）式にを代入してと求められる。また、レーザー光束Ａの大きさがW₁から
W₁′に変化した場合は同様に上記（２）式にを代入して、なる主点間距離ｄ′が求められる。従って、レンズ22と
レンズ23を移動させてレンズ22とレンズ23の主点間距離
ｄからｄ′に移行させれば、照明光学系に必要な大きさ
W₂の大きさを得ることができる。

ただし、レンズ21の射出側焦点位置と、レンズ22及び
レンズ23の合成系の入射側焦点位置が常に一致するよう
にレンズ22とレンズ23を移動させ、変倍光学系70から常
に平行なレーザー光を射出させる。

第４図では３枚の正レンズを用い、レーザー光の光路
中に光束の集光点を一且形成するタイプの変倍光学系70
を示したが、レーザー光の光路中に光束の集光点を形成
しないタイプの変倍光学系70を構成することができる。

第５図はこのようなタイプの変倍光学系の一例を示す
説明図であり、第４図のレンズ21に代えて凹レンズ（負
レンズ）21′を配置したものである。図示される通り本
実施例の変倍光学系70では、レーザー光を集光すること
なく、オプテイカルインテグレーター24に向けている。
本実施例においても、レンズ22とレンズ23に光軸に沿っ
て移動させることにより変倍光学系70の倍率を変え、所
望の大きさのレーザー光でオプテイカルインテグレータ
ー24を照明する。

本発明に用いる変倍光学系は、レーザーから射出する
レーザー光の断面形状と寸法（光束径）及び照明光学系
に必要なレーザー光の断面形状と寸法（光束径）に応じ
て様々な形態が選択される。第４図及び第５図は、通常
の回転対称なレンズを用いた変倍光学系70を示していた
が、シリンドリカルレンズなどを含むアナモフイツクな
光学系を有する変倍光学系も構成できる。本願では、第
４図及び第５図に示すタイプの変倍光学系を「ズームエ
キスパンダー」と呼び、シリンドリカルレンズを用いて
レーザー光の断面の直交する２方向（縦及び横方向）の
うちの一方向の光束径のみを変化せしめる片変倍機能を
有する変倍光学系を「シリンドリカルズームエキスパン
ダー」と呼ぶことにする。

第６図及び第８図は、このシリンドリカルズームエキ
スパンダーを有する変倍光学系の一例を示す説明図であ
り、ここで示す実施例においては、変倍光学系70を複数
の変倍光学系で構成している。また、第１図に示すエキ
シマレーザー１からは、先に述べたように断面長方形の
平行レーザー光が射出するので、本実施例では、この長
方形断面をもつレーザー光の光束径を変化せしめる変倍
光学系に関し述べる。

第６図において、レーザー１から射出した大きさａ×
ｂの平行レーザー光Ａは、縦方向の倍率を変化できるシ
リンドリカルズームエキスパンダー41（第１変倍光学
系）によって大きさａ×ｄの平行レーザー光に変換され
る。この大きさａ×ｄのレーザー光の形状は、照明光学
系に必要な大きさｅ×ｆのレーザー光の断面形状と相似
形となっている。

さて、上記大きさのａ×ｄのレーザー光は、縦横等倍
率のズームエキスパンダー42（第２変倍光学系）によ
り、照明光学系に必要な大きさｅ×ｆを有するレーザー
光に形成され、不図示の照明光学系に供給される。この
ように、シリンドリカルズームエキスパンダー41とズー
ムエキスパンダー42を光路中に配置することにより、レ
ーザー光１から射出したレーザー光Ａの形状や寸法の経
時変化や機差が、縦一方向に著しく現われる場合、シリ
ンドリカルズームエキスパンダ41の倍率を変化させるこ
とによって、レーザー１から射出したレーザー光Ａを容
易に照明光学系に必要な形状及び寸法の光束に調節する
ことができる。また、シリンドリカルズームエキスパン
ダ41とズームエキスパンダ42の配置を逆転させて構成し
ても同様の効果が得られる。

第７図はレーザー１から射出したレーザー光Ａの断面
形状（光束経）の経時変化や誤差が縦横両方向に存在
し、かつ、縦と横方向の変動量が異なる場合の変倍光学
系の構成例であり、第７図において、シリンドリカルズ
ームエキスパンダー51（第１変倍光学系）と52（第２変
倍光学系）は互いに異なる縦又は横方向の一方向の倍率
を変化させる。

本実施例では、シリンドリカルズームエキスパンダー
51が横方向の倍率のみを変更可能に構成され、シリンド
リカルズームエキスパンダー52が縦方向の倍率のみを変
更可能に構成されており、両ズームエキスパンダー51,5
2はアフオーカル光学系となっている。従って、レーザ
ー１から射出した大きさａ×ｂの平行レーザー光はシリ
ンドリカルズームエキスパンダー51によってｅ×ｂのレ
ーザー光に変換され、この大きさｅ×ｂの平行レーザー
光がシリンドリカルズームエキスパンダー52により大き
さｅ×ｆのレーザー光に変換されて、不図示の照明光学
系に向けられる。本実施例の変倍光学系70も第６図の光
学系同様の効果を奏する。

第８図はシリンドリカルズームエキスパンダー61と像回
転プリズム62とを組合せて成る変倍光学系70を示してお
り、シリンドリカルズームエキスパンダー61は横方向の
倍率のみを変更可能である。像回転プリズム62は不図示
の駆動機構により光軸を回転中心として回転し、これに
より入射光を回転させる。従って、入射光の断面強度分
布が非対称な場合、対称な強度分布とすることができ、
強度分布の均一化を図れる。

本実施例では、レーザー11から射出した大きさａ×ｂ
の平行レーザー光Ａが、シリンドリカルズームエキスパ
ンダー61によって横方向の大きさを照明光学系に必要な
大きさｅに変換され、大きさａ×ｅのレーザー光とな
る。この平行レーザー光は像回転プリズム62入射し、プ
リズム62が回転することにより、実質的に画径φｅの円
形断面をもつレーザー光に成形される。

また、第８図において、シリンドリカルズームエキス
パンダー61と像回転プリズム62の配置を逆転させ、且つ
シリンドリカルズームエキスパンダー14の代りに縦横の
倍率が等しいズームエキスパンダーを配置しても、第８
図の変倍光学系70と同様の効果を示す光学系が得られ
る。

このように像回転プリズムを変倍光学系70の一部とし
て組込んだ構成であっても、第６図や第７図に示した光
学系と同様の効果を奏することは言うまでもない。

以上、第４図乃至第８図に本発明に使用可能な変倍光
学系の形態例を幾つか示したが、当業者であれば、ここ
で示した以外の他の光学系を適宜統計できる。従って、
変倍光学系の構成はここで示した光学系に限定されな
い。

第３図は第２図に示した実施例の変形例を示す概略図
である。第３図に示す実施例では、第２図の実施例でハ
ーフミラー71及び受光素子72によって変倍光学系70から
射出したレーザー光の一部を検出していたのに対し、変
倍光学系70から射出したレーザー光の光路中に受光素子
73を配置してレーザー光の一部を検出している。図示さ
れている通り、受光素子73はレーザー光の外周部付近の
光を受光するように設けられており、これらの光はオプ
テイカルインテグレーター24に初めから入射しない部分
であるため、光の利用効率は低下しない。変倍光学系70
から射出するレーザー光の光束径が変動すると、レーザ
ー光のエネルギー密度（単位面積当りの光エネルギー）
が変動するので、受光素子73からの出力信号のレベル
（大きさ）も変化する。従って、計測装置100は受光素
子73からの出力信号に基づいてレーザー光の光束径を計
測することが可能になる。本実施例における他の動作は
第２図の実施例で説明したものと同様であるので、これ
に関する説明は省略するが、本実施例においても第２図
の実施例と同様の効果を奏する。

第１図乃至第３図に示した露光装置では伝送系Ｂ内に
変倍光学系70が組込まれていたが、伝送系Ｂがない場合
には、第１図の照明光学系６に付設すれば良い。また、
第２図及に第３図においてレーザー光の光束径の変動を
検討する検出手段（71,72,100;73,100）とレーザー光の
光束径を調整する調整手段（70,200,300）の一例を示し
ているが、本発明の思想を逸脱しない範囲で他の様々な
形態の検出手段と調整手段を構成することが可能であ
る。

第１図乃至第３図に示した露光装置を使用してウエハ
12の露光を行う時の幾つかの方法に関して簡単に説明す
る。

最初に、ウエハ12をウエハチヤツク13で吸着し、ウエ
ハ12をXYステージ14上に載置した状態で、ウエハ12を縮
小投影レンズ12によるレーザー光の照射領域から外ずれ
た位置に位置づける。この動作はXYステージ14を所定量
移動させて実行される。次にＫγＦエキシマレーザー１
を駆動し、ＫγＦエキシマレーザー１からレーザー光を
射出せしめる。そして、この時のレーザー光の光束径を
第２図又は第３図に示した検出手段（71,72,100;73,10
0）で検出し、予め設定した光束径から変動していた時
には、調整手段（70,200,300）を使用して予め設定した
光束径になるようにレーザー光の光束径を調整する。調
整終了後、一旦ＫγＦエキシマレーザー１の駆動を停止
し、XYステージ14を移動させてウエハ12をレーザー光の
照射領域に位置付ける。そして、ウエハ12に対する露光
を開始する。

この方法では、レーザー光の光束径を検出する時にウ
エハ12をレーザー光の照射領域から退避させているが、
ウエハ12を退避させる代りに照明光学系６内に設置して
ある露光量制御用のシヤツターを使用するのも一つの方
法である。即ち、このシヤツターを閉じておくことによ
りレーザー光がレチクル９、即ちウエハ12に向かわない
ような状態にし、この状態で上述の検出及び調整を実行
すれば良い。この場合、調整終了後、シヤツターを開く
ことにより露光動作に移れる。従って、ＫγＦエキシマ
レーザー１の駆動を一旦停止する必要がない。

また、露光中にレーザー光の光束径が大きく変動した
時には、まず変動を検出後ＫγＦエキシマレーザー１の
駆動を停止するか、又はシヤツターを閉じる。そして、
上述の検出及び調整を行った後、露光動作を復帰させれ
ば良い。一方、光束径の変動が比較的小さいが補正の必
要な場合には、露光動作を継続させた状態で上記検出及
び調整を行い、所望の光束径のレーザー光を成形する。

以上説明した各実施例は第１図に示した縮小投影露光
装置を基礎としているが、本発明の露光方法及び露光装
置は、この種の装置に限らず、コンタクト方式、プロキ
シミテイ方式、レーザー描画方式、或いは反射型の投影
系を用いた等倍の投影露光を行う種々の露光装置に適用
されるものである。従って、本願で示した実施例以外の
様々な形態の露光方法と露光装置を構成することは、本
願の開示に基づいて当業者が容易に行える。

＜発明の効果＞以上、本発明によれば、レーザー光の光束径の変動を
検出し、この検出結果に基づいてレーザー光の光束径を
所望の径に調整するので、レーザー光を常に最適な大き
さで照明光学系に供給できる。従って、照明光学系の性
能を十分に発揮させて、ウエハに対して良好な露光を行
える。また、光束径の変動に伴う光束の利用効率の低下
を回避することができるので、露光時間の短縮化を図る
ことが可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の露光装置の一実施例を示す構成図。第２図は本発明の主要部を示す概略図で、第１図で示す
伝送系の一部を示す。第３図は第２図の実施例の変形例を示す概略図。第４図乃至第８図は各々変倍光学系の一実施例を示す説
明図。１……エキシマレーザー６……照明光学系９……レチクル 10……縮小投影レンズ 12……ウエハ 70……変倍光学系 71……ハーフミラー 72,73……受光素子 100……計測装置 200……制御装置 300……駆動装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザーから射出するレーザー光の光束径
の変動を検出し、該検出結果に応じて該レーザー光の光
束径を所望の径に調整し、該調整終了後、該レーザー光
を照明光学系に指向し、該照明光学系を介してウエハを
露光することを特徴とする露光方法。
【請求項２】レーザーから射出するレーザー光を照明光
学系に指向し、該照明光学系を介してウエハを露光する
装置において、該レーザー光の光束径の変動を検出する
検出手段と、該検出手段からの信号に基づいて該レーザ
ー光の光束径を所望の径に調整する調整手段とを有する
ことを特徴とする露光装置。
【請求項３】前記調整手段が、前記レーザーと照明光学
系の間に配置した変倍光学系と該変倍光学系の倍率を変
える倍率変更手段とを有することを特徴とする特許請求
の範囲第（２）項記載の露光装置。
【請求項４】前記変倍光学系がアフオーカル光学系から
成ることを特徴とする特許請求の範囲第（３）項記載の
露光装置。
【請求項５】前記変倍光学系が第１変倍光学系と第２変
倍光学系とを有し、該第１及び第２倍光学系の一方が前
記レーザー光の断面の互いに直交する２方向のうちの一
方の方向の倍率のみを変える片変倍光学系から成ること
を特徴とする特許請求の範囲第（３）項記載の露光装
置。
【請求項６】前記変倍光学系が第１変倍光学系と第２変
倍光学系とを有し、該第１及び第２変倍光学系の各々が
前記レーザー光の断面の互いに直交する２方向のうちの
一方の方向の倍率のみを変える片変倍光学系から成り、
該第１及び第２変倍光学系が互いに直交する方向の倍率
を変えることを特徴とする特許請求の範囲第（３）項記
載の露光装置。
【請求項７】前記片変倍光学系がシリンドリカルレンズ
を有することを特徴とする特許請求の範囲第（５）項乃
至第（６）項記載の露光装置。
【請求項８】前記調整手段が前記レーザーと前記照明光
学系の間に回転可能な像回転プリズムを有することを特
徴とする特許請求の範囲第（２）項記載の露光装置。
【請求項９】前記レーザーがエキシマレーザーから成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記載の露光
装置。
【請求項１０】前記検出手段が、前記レーザー光の一部
を取り出して光検出器へ導くビームスプリツターを有
し、該光検出器の検出面上における光束径に対応する信
号を出力することを特徴とする特許請求の範囲第（２）
項記載の露光装置。
【請求項１１】前記検出手段が、前記レーザー光の一部
を検出する光検出器を有し、前記レーザー光の光束径の
変動を該光検出器からの信号の出力レベルの変動として
検出することを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記
載の露光装置。