CN1303476C - 用于微平版印刷中的改进的照明系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及照明系统,其包括一照明光源、一设置在照明光源光路中的光束调节器、一第一衍射阵列、一聚光系统和一第二衍射阵列。照明光源发出的光经过光束调节器射到第一衍射阵列。然后,该光射到设置在第一衍射阵列和第二衍射阵列之间的光路中的聚光系统,该聚光系统包括多个固定光学元件和多个可移动光学元件。多个可移动光学元件设置在具有多个固定光学元件的光路中。可移动光学元件能在多个固定光学元件之间平移,以缩放从第一衍射阵列接收到的光。第二衍射阵列与聚光系统光学耦合,从聚光系统接收光,依次在光网上产生照明区域。
Description
相关申请的交叉参考
本申请要求美国临时专利申请的优先权,其申请号为No.60/329,758,申请人是Oskotsky等人,申请日是2001年10月18日,本申请结合了优先权申请的全部内容。
发明背景
发明领域
本发明总体上涉及照相平版印刷的照明系统。
背景技术
照相平版印刷(也称微平版印刷)是一种半导体器件制作技术。照相平板印刷使用紫外光或可见光在半导体器件设计中产生精确的图形。半导体器件的许多类型,如二极管、晶体管和集成电路,都能使用照相平版技术制作。利用曝光系统或工具来实现照相平版印刷技术,如半导体制造中的蚀刻。典型的曝光系统包括一个照明系统、一个带有电路图的光网(reticle,也称掩膜)、一个投影系统、一个用于与覆盖在半导体晶片上的光敏抗蚀剂相匹配的晶片组合层。照明系统照明光网的一个区域最好是矩形狭缝的照明场。投影系统将带有光网电路图的照明区域的图像投影到晶片上。
随着半导体器件制作技术的发展,对制作半导体器件的照相平板印刷系统每一部分的要求也相应在提高。包括用于照明光网的照明系统。例如,需要利用具有均匀照度的照明场照明光网区域。同步扫描照相平版印刷,也需要在垂直于晶片扫描方向上不断地改变照明场的尺寸,以使照明场的尺寸能适应不同的应用。一个经常限制晶片生产产量的因素是从照明系统可获得的能量。因此,需要改变照明场的尺寸而不损失能量。
当照明场的尺寸改变时,保持光网上照明场的角度分布和特性是很重要的。为了实现这一目的,当照明场的尺寸改变时,照明系统必须对光网以基本固定的数值孔径保持远心照明。有些照明系统包括散射光学元件,如阵列一类的,设置在光网前面。散射光学元件产生所需要角度的光分布,基本上被成像或转换到光网上。在这样的照明系统中,需要对散射光学元件以基本固定的数值孔径保持远心照明,相应地,在光网上照明场的尺寸是变化的。
标准变焦透镜可以改变照明场的尺寸。然而,在标准变焦透镜中,图像放大率以及相应的照明场的尺寸与角度放大率成反比。因此,标准变焦镜增大图像的尺寸以M倍,不利地是其减小数值孔径1/M倍,并且不能保持照明场的角度分布。
因此,需要改变照明场的尺寸(即放大照明场)而不损失能量,当照明场改变时,在数值孔径上保持远心照明。
发明概要
本发明总体上涉及照相平版印刷中的照明系统。更准确地说,本发明涉及用于改变光学系统中光网上照明区域尺寸的系统和方法。
本发明的一个实施例中,根据本发明的照明系统,包括一个照明光源、一个第一衍射阵列、一个第二衍射阵列和一个设置在第一衍射阵列和第二衍射阵列之间的光路上的聚光系统。第一衍射阵列,也称作场空间阵列,是一双衍射阵列。光通过第一衍射阵列具有一特定的数值孔径。该数值孔径决定光网上照明区域的尺寸和/或形状。在一个实施例中,第一衍射阵列是一衍射光栅(diffractive grid),能通过不同数量级的光,并以不同的角度折射。在另一个实施例中,第一衍射阵列包括多个能以不同角度折射光的微型透镜。第二衍射阵列,也称作光瞳阵列,是结构与第一衍射阵列相似的双衍射阵列。光通过第二衍射阵列,第二衍射阵列能扩大和/或缩小光网上照明区域的尺寸。
依照进一步的特征,该聚光系统包括多个沿扫描方向和/或交叉扫描(cross-scanning)方向具有光焦度的柱面透镜和/或交叉柱面透镜(cross-cylindrical 1enses)。该聚光系统包括多个可固定透镜和多个可移动透镜。多个固定透镜包括输入透镜和输出透镜。多个可移动透镜包括许多能在输入透镜和输出透镜之间平移的透镜。通过在输入透镜和输出透镜之间平移可移动透镜,聚光系统扩大和/或缩小通过聚光透镜的光的辐度,从而改变在光网上由光形成照明区域的尺寸。在一个实施例中,该聚光系统有4块透镜,包括2块固定透镜(输入和输出透镜)和2块可移动透镜。在另一个实施例中,该聚光系统有5块透镜,包括2块固定透镜(输入和输出透镜)和3块可移动透镜。当然,其他的实施例可以包括不同数量的透镜。
在实际操作中,光从照明光源入射到光束调节器上。光束调节器对光调节,并将其射向第一衍射阵列。第一衍射阵列处理被调节的光。通过第一衍射阵列后,被调节的光具有特定的数值孔径。通过第一衍射阵列的被调节的光可能具有不同尺寸和/或不同形状的数值孔径。从第一衍射阵列出来的光入射到聚光系统上。聚光系统对从第一衍射阵列射出的光进行聚光。在通过第二衍射阵列前,聚光的光形成聚光系统的照明区域。在此,聚光的光光是指有扩展和/或收缩辐度的光。第二衍射阵列处理该聚光的光线。在通过第二衍射阵列后,聚光的光线形成光网上照明区域。该照明区域的性能取决于数值孔径的尺寸和/或形状,取决于聚光系统中光学元件的放大和/或缩小系数。
本发明进一步的特征和优点,以及本发明各种实施例的结构和操作,参考附图详细描述如下。
附图简要说明
在此结合的附图形成说明书的一部分,用于解释本发明;且其与说明书一起进一步解释发明原理,使本领域的技术人员能够作出和使用本发明。
图1表示光学系统的一例示性实施例。
图2a表示依照本发明的照明系统的一个实施例。
图2b表示依照本发明的照明系统的另一个实施例。
图3a表示依照本发明在第一透镜位置图2a和图2b的照明系统的具有4片透镜聚光系统的实施例。
图3b表示依照本发明在第二透镜位置图3a所示具有4片透镜的聚光系统。
图3c表示依照本发明在第三透镜位置图3a所示具有4片透镜的聚光系统。
图3d表示依照本发明与相应图3a-3c中的4片透镜聚光系统的光学表面一起的多个光学元件。
图4a表示依照本发明在第一透镜位置图2a和图2b的照明系统具有5片透镜聚光系统的实施例。
图4b表示依照本发明在第二透镜位置图4a所示的5片透镜聚光系统。
图4c表示依照本发明在第三透镜位置图4a所示的5片透镜聚光系统。
图4d表示依照本发明与相应图4a-4c中的5片透镜聚光系统的光学表面一起的多个光学元件。
图5a为依照本发明的衍射阵列中衍射光栅的侧视图。
图5b为依照本发明的衍射阵列中衍射光栅的顶视图。
图6a为依照本发明的衍射阵列中微透镜组的顶视图。
图6b为依照本发明的衍射阵列中微透镜组的侧视图。
本发明参考附图进行描述,图中相同的编号表示相同或功能相似的元件,另外,参考编号最左边的数字与图中首次出现的参考编号一致。
发明的详细描述
目录
1.用于微平版印刷中的改进的照明系统。
A.照明系统实例
B.聚光系统
B.1. 4片透镜聚光系统
B.2. 4片透镜聚光系统的光路
B.3. 5片透镜聚光系统
B.4. 5片透镜聚光系统的光路
2.结论
尽管本发明是参照具体应用的图示实施例进行描述,然而应该明白,本发明并不局限于此。本领域技术人员从此得到启示,将作另外的修改、应用,在实施例的范围和本发明的其他的领域是非常有用的。
1.用于微平版印刷中的改进的照明系统。
A.照明系统实例
图1表示了本发明得以实现的典型环境。光学系统100用于扩束照明光源(如激光器)101发出的光113。光113被光束调节器102接收。经光束调节器102调节的光照射到照明光学系统104,依次经过遮光板或光网106、经由投影光学系统108传输到基片110上。这个系统的实施例可以是平版印刷系统,或诸如此类。
照明光源101把光射到光束调节器102。照明光源101可以是某一波长的激光器,如不可见范围的紫外光波长。本发明的一个应用例使用的波长包括,但是不限于248纳米nm、193nm、157nm,另外,照明光源101可以是脉冲激光器或连续波激光器。光束调节器102调节从照明光源101接收到的光束113。光束调节器102产生具有限定横截面的准直光束。这能通过诸如折射光学系统或反射光学系统的光束扩展器来实现。典型的光束调节器在美国的专利号为No.5,631,721的专利中作了描述,这项专利的名称是用于照相平版印刷中的混合照明系统,发明人是S.Stanton等人,这里结合了它的全部内容作为参数。
从光束调节器102出来的调节光103入射到照明光学系统104上。
图2a表示依照本发明的用于照明光网106的照明系统200的实施例。照明光学系统104可包括照明系统200。照明系统200包括一个第一衍射阵列或场阵列210,一个第二衍射阵列或光瞳阵列212,一个设置在第一衍射阵列210和第二衍射阵列212之间光路上的聚光系统220。在照明系统200中,上面描述的光学元件沿着光轴209设置。
第一衍射阵列210与聚光系统220沿着光轴设置,并最先处理经调节的光103。第一衍射阵列或场空间阵列210是双衍射阵列。第一衍射阵列210可以是衍射光栅或微透镜组,允许光以第一、第二、第三和第四的顺序通过,每个顺序代表不同角度光的通过。第一衍射阵列210对进入照明系统200的调节光103提供空间和时间的相干性处理。此外,第一衍射阵列210提供高的光传输性。
第二衍射阵列212与聚光系统220一起位于光轴209上。从聚光系统220出来的光213入射到第二衍射阵列212上。第二衍射阵列212起光瞳作用,并能改变光斑大小,和形成限定器(delimiter)的区域228。第二衍射阵列或光瞳空间阵列212也是双衍射阵列。与第一衍射阵列210相似,第二衍射阵列212可包括衍射光栅或微透镜组。第二衍射阵列212提供空间和时间的相干性处理。还有,第二衍射阵列212允许有高的光传输性。
聚光系统220允许光通过照明系统200来改变限定器(或光网)区域228的尺寸。聚光系统220包括改变光量大小的多个透镜,通过聚光系统220得到限定器区域228的尺寸。聚光系统220中的多个透镜能增加和/或减少光量。限定器区域228的尺寸和/或形状表明有多少光入射光网106上。聚光系统220包括许多柱面透镜和/或交叉柱面透镜。聚光系统220的实施例进一步相对图3a-4d描述。
图5a和图5b表示第一衍射阵列210的衍射光栅实施例的简图。图5a表示第一衍射阵列210的侧视图。图5b表示如图5a所示第一衍射阵列210的顶视图。参见图5a,受到调节光103通过第一衍射阵列210的衍射光栅501。如图5a所示,衍射光栅501相对光轴209反射出不同角度α1、α2和α3的调节光103。
第一衍射阵列210的另一实施例如图6a和6b所示。在这个实施例中,第一衍射阵列210包括许多微透镜601。微透镜601可以设置成如图6b所示的多种结构。换向话说,第一衍射阵列210可包括多个排列多变的微透镜组601。微透镜601可以平行于X方向也可平行于Y方向设置。如图6b所示,微透镜601接收受调节的光103,且相对光轴209反射出各种角度β1、β2和β3的光。
返回来看图2a,受调节光103沿光轴209射向光网(也称作限定器)106。第一衍射阵列210接收受调节光103。在处理受调节光103之后,第一衍射阵列210将出来的光211射向聚光系统220。通过第一衍射阵列210之后的光211具有数值孔径215。数值孔径215表示在光网106上的限定器区域228的尺寸和/或形状。数值孔径(NA1)215定义如下:
NA1=n*sin(θ1) (1)
其中n是光学传播媒介(在这里是第一衍射阵列210)的折射率,θ1是由光产生的限定器区域228所形成的折射角。因此,数值孔径(NA1)215的尺寸控制限定器区域228的尺寸。换句话说,数值孔径215越大限定器区域228就越大。数值孔径215的形状也控制照明区域228的形状。在图2a的实施例中,数值孔径215是矩形的,因此,限定器区域228也是矩形的。在图2b的实施例中,数值孔径215有弧形,因此,限定器区域228也有弧形。数值孔径215的其他形状和尺寸,限定器区域228就有可能与之相应。换句话说,第一衍射阵列210可以改变,以致光211可具有任何尺寸和/或形状的数值孔径215。因此,光213随后就形成相应尺寸和/或形状的限定器区域228。
第一衍射阵列210将出来的光211沿光轴209射向聚光系统220。聚光系统220用于改变限定器区域228的尺寸。光通过聚光系统220沿交叉扫描方向产生一可变倍的区域。聚光系统220能被变形(anamorphic)以达到产生这样的可变倍区域。换句话说,光通过聚光系统220能在Y方向改变限定器区域228的尺寸。聚光系统220也能够保护或保持入射到第二衍射阵列212上光的角度分布,而光通过聚光系统220则改变限定器区域228的尺寸。聚光系统220保持一均匀辐射通量的光密度(入射到每单位表面积的辐射通量),而限定器区域228的尺寸(因而入射到光网106上的光量)是可变的。例如光通过聚光系统220能够在大约11mm到26mm的范围内改变限定器区域228。限定器区域228的尺寸和/或形状是本申请的细节。聚光系统220进一步在图3a-4d中描述。
B.聚光系统
根据本发明,在限定器区域228的尺寸是可改变的同时,聚光系统220实际上保护和保持入射到光网106上的光的预定的角度分布。为了实现这个目的,在限定器区域228的尺寸是可改变同时,聚光系统220保持在数值孔径215上的远心照明。当限定器区域228的尺寸是可改变的时,聚光系统220还保持均匀的辐照和预定的能量通过照明系统200传递到光网106上。聚光系统220的操作进一步在下面描述。
图3a-3d和4a-4d表示聚光系统220的各种实施例。图3a-3d表示4透镜的聚光系统220。图4a-4d表示5透镜的聚光系统220。
B.1.4透镜的聚光系统
图3a表示4透镜的聚光系统220,其沿光轴209设置在第一衍射阵列210和第二衍射阵列212之间。4透镜的聚光系统220包括一个输入透镜301,一个输出透镜303和一个变焦透镜组310。变焦透镜组310沿光轴209设置在输入透镜301和输出透镜303之间。变焦透镜组310包括第一变焦透镜311和第二变焦透镜312。
在这个实施例中,输入透镜301和输出透镜303是固定透镜,变焦透镜组310能够沿着输入透镜301和输出透镜303之间的光轴209平移。第一变焦透镜311能够沿着输入透镜301和第二变焦透镜312之间的光轴209平移。第二变焦透镜312能够沿着第一变焦透镜311和输出透镜303之间的光轴209平移。通过沿光轴209平移第一变焦透镜311和/或第二变焦透镜312,变焦透镜组310沿着输入透镜301和输出透镜303之间的光轴209平移。
通过分别调整输入透镜301、第一变焦透镜311、第二变焦透镜312和输出透镜303之间的距离,聚光系统220可对通过聚光系统220的光进行聚光。被聚光的光在其通过第二衍射阵列212之前形成照明区域350,如图3a所示。这里说的被聚光的光是指有扩大和/或缩小辐度的光。从聚光系统220输出的聚光的光能够改变照明区域350的尺寸。此外,输入透镜301、第一变焦透镜311、第二变焦透镜312和输出透镜303的折射光焦度也影响通过聚光系统220的光辐度,从而影响照明区域350的尺寸。照明区域350决定在光网106上形成的限定器区域228的尺寸。
取决于照明区域350的大小,输入透镜301、输出透镜303、第一变焦透镜311和第二变焦透镜312可以具有正或负的折射光焦度。此外,输入透镜301和输出透镜303是在交叉扫描方向(或沿X轴和Y轴)有光焦度的柱面透镜。第一变焦透镜311和第二变焦透镜312是在扫描方向(或沿X轴或沿Y轴)有光焦度的柱面透镜。在一个特殊的实施例中,为了使能量损失和变焦透镜组310中透镜移动范围降到最小,在聚光系统220工作时,变焦透镜组310中透镜的交叉扫描的光焦度比率可在1∶-0.3到1∶-0.8的范围内。另外,聚光系统220中的透镜可以是交叉的柱面透镜。
下面的表1(见附录1)是图3a-3c描述的4透镜聚光系统一实施例的规定数据。图3d表示对应于聚光系统220的光学表面的光学元件。输入透镜301具有光学表面2和3,如图3d所示。第一变焦透镜311具有光学表面4和5。第二变焦透镜312具有光学表面6和7。输出透镜303具有光学表面8和9。这些光学元件被设置在物平面和像平面之间。表1列出了在聚光系统220中每一种光学元件(输入透镜301,第一变焦透镜311、第二变焦透镜312和输出透镜303)的光学特性,如厚度、半径、材料和一些其他参数。
B.2.4透镜聚光系统的光路
参见图3a,光211入射在聚光系统220的输入透镜301上。输入透镜301改变光211的辐度。这里使用的改变光的辐度这个词是指扩大和/或缩小光的量辐度。经过输入透镜301折射后,光211变成第一聚光光372。这里用聚光的光这个词是指有扩大和/或缩小辐度的光。输入透镜301引导第一聚光光372射向变焦透镜组310。
变焦透镜组310的第一变焦透镜311位于320a的位置,接收第一聚光的光372,如图3a所示。第一变焦透镜311改变第一聚光的光372的辐度。通过第一变焦透镜311折射后,第一聚光的光372变为第二聚光的光373。第一变焦透镜311引导第二聚光的光373射向位于321a位置的第二变焦透镜312,如图3a所示。
位于321a位置的第二变焦透镜312接收第二聚光的光373,如图3a所示。第二变焦透镜312改变第二聚光的光373的辐度。通过第二变焦透镜312折射后,第二聚光的光373变成第三聚光的光374。第二变焦透镜312引导第三聚光的光374射向输出透镜303。
输出透镜303接收第三聚光的光374。输出透镜303改变第三聚光的光374的辐度。通过输出透镜303折射后,第三聚光的光374变成聚光的光213。输出透镜303引导聚光的光213射向第二衍射阵列212。另外,在进入第二衍射阵列212之前,聚光的光213形成照明区域350a。照明区域350a的尺寸依赖于第一变焦透镜311的位置和第二变焦透镜312的位置。
参见图3b,第一变焦透镜311在320b的位置,第二变焦透镜312在321b的位置。因为透镜311和312在这样的位置,以致聚光系统220形成照明区域350b。照明区域350b与图3a的照明区域350a相比可具有不同的尺寸。
参见图3c,第一变焦透镜311在320c的位置,第二变焦透镜312在321c的位置。因为透镜311和312在这样的位置,以致聚光系统220形成照明区域350c。照明区域350c与图3a的照明区域350a和图3b的照明区域350b相比可具有不同的尺寸。
B.3.5透镜的聚光系统
图4a表示5透镜的聚光系统220,其沿着第一衍射阵列210和第二衍射阵列212之间的光轴209设置。5透镜的聚光系统220包括输入透镜301,输出透镜303和一个变焦透镜组410。变焦透镜组410沿输入透镜301和输出透镜303之间的光轴209设置。变焦透镜组410包括第一变焦透镜411,第二变焦透镜412和第三变焦透镜413。
在这个实施例中,输入透镜301和输出透镜303是固定透镜,变焦透镜组410能够沿光轴209在输入透镜301和输出透镜303之间平移。第一变焦透镜411能够沿光轴209在输入透镜301和第二变焦透镜412之间平移。第二变焦透镜412能够沿光轴209在第一变焦透镜411和第三变焦透镜413之间平移。第三变焦透镜413能够沿光轴209在第二变焦透镜412和输出透镜303之间平移。通过沿光轴209平移第一变焦透镜411、第二变焦透镜412和/或第三变焦透镜413,变焦透镜组410能够沿光轴209在输入透镜301和输出透镜303之间平移。
通过分别调整输入透镜301、第一变焦透镜411、第二变焦透镜412、第三变焦透镜413和输出透镜303之间的距离,聚光系统220对通过它的光进行聚光。被聚光的光在其通过第二衍射阵列212之前形成照明区域450,如图4a所示。这里说的聚光的光是指具有扩大和/或缩小辐度的光。从聚光系统220输出的聚光的光能够改变照明区域450的尺寸。此外,输入透镜301、第一变焦透镜411、第二变焦透镜412、第三变焦透镜413和输出透镜303的折射光焦度也影响通过聚光系统220的光辐度,因此,影响照明区域450的尺寸。照明区域450决定在光网106上形成的限定器区域228的尺寸。
取决于照明区域450的大小,输出透镜301、输出透镜303、第一变焦透镜411、第二变焦透镜412和第三变焦透镜413能具有正或负的折射光焦度。此外,输入透镜301和输出透镜303是沿交叉扫描方向(或沿X轴和Y轴)有光焦度的柱面透镜。第一变焦透镜411、第二变焦透镜412和第三变焦透镜413是沿扫描方向(或沿X轴或沿Y轴)有光焦度的柱面透镜。在一个特殊的实施例中,为了使能量损失和变焦透镜组410中透镜移动范围降到最小,在聚光系统220工作时,在变焦透镜组410中透镜的交叉扫描的光焦度比率在1∶-0.3到1∶-0.8的范围内。可选择地是,聚光系统220中的透镜可以是交叉的柱面透镜。
下表2(见附录2)是图4a-4c描述的5透镜聚光系统一实施例的规定数据。图4d表示对应于聚光系统220的光学表面的光学元件。输入透镜301具有光学表面2和3,如图4d所示。第一变焦透镜411具有光学表面4和5。第二变焦透镜412具有光学表面6和7。第三变焦透镜413具有光学表面8和9。输出透镜303具有光学表面10和11。这些光学元件设置在物平面和像平面之间。表2列出了在聚光系统220中的每一种光学元件(输入透镜301,第一变焦透镜411、第二变焦透镜412、第三变焦透镜413和输出透镜303)的光学特性,如厚度、半径、材料和一些其他的参数。
B.4.5透镜聚光系统的光路
参见图4a,光211入射到聚光系统220的输入透镜301上。输入透镜301改变光211的辐度。这里使用改变光的辐度这个词是指扩大和/缩小光的辐度。经过输入透镜301折射后,光211变成第一聚光的光472。这里用聚光的光这个词是指具有扩大和/或缩小光的辐度。输入透镜301引导第一聚光的光472射向变焦透镜组410。
变焦透镜组410的第一变焦透镜411位于420a的位置,接收第一聚光的光472,如图4a所示。第一变焦透镜411改变第一聚光的光472的辐度。通过第一变焦透镜411折射后第一聚光的光472变为第二聚光的光473。第一变焦透镜411引导第二聚光的光473射向位于421a位置的第二变焦透镜412,如图4a所示。
位于421a位置的第二变焦透镜412接收第二聚光的光473,如图4a所示。第二变焦透镜412改变第二聚光的光473的辐度。通过第二变焦透镜412折射后,第二聚光的光473变成第三聚光的光474。第二变焦透镜412引导第三聚光的光474射向位于422a位置的第三变焦透镜413,如图4a所示。
位于422a位置的第三变焦透镜413接收第三聚光的光474。第三变焦透镜413改变第三聚光的光474的辐度。通过第三变焦透镜413折射后,第三聚光的光474变成第四聚光的光475。第三变焦透镜413引导第四聚光的光475射向输出透镜303。
输出透镜303接收第四聚光的光475。输出透镜303改变第四聚光的光474的辐度。通过输出透镜303折射后,第四聚光的光475变成聚光的光213。输出透镜303引导聚光的光213射向第二衍射阵列212。此外,聚光的光213在其进入第二衍射阵列212之前形成照明区域450a。照明区域450a的尺寸依赖于第一变焦透镜411的位置420a、第二变焦透镜412的位置421a和第三变焦透镜413的位置422a。
参见图4b,第一变焦透镜411在420b的位置,第二变焦透镜412在421b的位置,第三变焦透镜413在422b的位置。因为透镜411、412和413在这样的位置,所以聚光系统220形成照明区域450b。照明区域450b与图4a的照明区域450a相比可具有不同的尺寸。
参见图4c,第一变焦透镜411在420c的位置,第二变焦透镜412在421c的位置,第三变焦透镜413在422c的位置。因为透镜411、412和413在这样的位置,所以聚光系统220形成照明区域450c。照明区域450c与图4a的照明区域450a和图4b的照明区域450b相比可具有不同的尺寸。
2.总结
在此对本发明的方法、系统和组件的实施例作了描述。另外注意,这些例示性实施例仅仅是为了解释本发明,并不局限与此。其他的实施例是可能的,而且为本发明所复盖。本领域的技术人员基于在此包含的本发明的教导,会清楚这些实施例。因此,本发明范围不局限于上面描述的任一实施例,而应根据下面的权利要求和其等同物来界定。
Claims (17)
1.一种用于限定器区域照明的光学系统,包括:
一衍射场空间阵列;
一衍射光瞳空间阵列;以及
一聚光系统,设置在所述衍射场空间阵列和所述衍射光瞳空间阵列之间的光路上,其中所述聚光系统进一步包括:
多个固定的光学元件;以及
多个可移动的光学元件,
其中所述可移动光学元件能够相对所述多个固定光学元件平移,并且
其中所述衍射场空间阵列确定所述衍射光瞳空间阵列后面的限定器区域的数值孔径。
2.如权利要求1所述的光学系统,其中所述衍射场空间阵列是能产生矩形数值孔径的场空间阵列。
3.如权利要求1所述的光学系统,其中所述衍射场空间阵列是能产生弯曲数值孔径的场空间阵列。
4.如权利要求1所述的光学系统,其中所述多个固定光学元件包括:
一输入透镜组;和
一输出透镜组。
5.如权利要求4所述的光学系统,其中所述输入透镜组进一步包括一输入交叉柱面透镜。
6.如权利要求4所述的光学系统,其中所述输出透镜组进一步包括至少一个交叉柱面透镜和至少一个柱面透镜。
7.如权利要求1所述的光学系统,其中所述多个可移动光学元件进一步包括多个可变焦透镜。
8.如权利要求7所述的光学系统,其中所述多个可变焦透镜进一步包括至少一个具有交叉扫描光焦度的柱面透镜。
9.如权利要求8所述的光学系统,其中所述至少一个柱面透镜具有交叉扫描光焦度在1∶-0.3到1∶-0.8范围。
10.如权利要求1所述的光学系统,其中所述聚光系统进一步包括两个固定光学元件和两个可移动光学元件。
11.如权利要求1所述的照明系统,其中所述聚光系统进一步包括两个固定光学元件和三个可移动光学元件。
12.一种用于照明一限定器区域的照明系统中的聚光系统,该照明系统包括:
一输入固定光学组;
一输出固定光学组;以及
一变焦透镜组,随同所述输入固定光学组和所述输出固定光学组一起设置在光路中;
其中所述变焦透镜组能相对于所述输入固定光学组和所述输出固定光学组平移;
其中所述输入固定光学组、所述输出固定光学组和所述变焦透镜组沿光路的位置能被调节,以改变照明系统限定器区域的尺寸。
13.如权利要求12所述的聚光系统,其中所述输入固定光学组进一步包括输入交叉柱面透镜。
14.如权利要求12所述的聚光系统,其中所述输出固定光学组进一步包括至少一个交叉柱面透镜和至少一个柱面透镜。
15.如权利要求12所述的聚光系统,其中所述变焦透镜组进一步包括至少一个具有交叉扫描光焦度的柱面透镜。
16.如权利要求15所述的聚光系统,其中所述至少一个柱面透镜具有交叉扫描光焦度在1∶-0.3到1∶-0.8范围。
17.一种在照相平版印刷照明系统中用于照明限定器区域的方法,有一个光路,包括下列步骤:
(a)用输入固定光学组接收光;
(b)用设置在具有输入固定光学组的光路中的变焦透镜组至少放大或缩小光;
其中所述步骤(b)进一步包括沿光路平移变焦透镜组;
(c)利用从输出固定光学组射出的光照明限定区;
其中所述步骤(a)至(c)进一步包括改变照明系统中该限定器区域的尺寸。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32975801P | 2001-10-18 | 2001-10-18 | |
US60/329,758 | 2001-10-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1445610A CN1445610A (zh) | 2003-10-01 |
CN1303476C true CN1303476C (zh) | 2007-03-07 |
Family
ID=23286878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB021547394A Expired - Fee Related CN1303476C (zh) | 2001-10-18 | 2002-10-18 | 用于微平版印刷中的改进的照明系统 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6775069B2 (zh) |
EP (1) | EP1319983A3 (zh) |
JP (1) | JP2003178970A (zh) |
KR (1) | KR100758742B1 (zh) |
CN (1) | CN1303476C (zh) |
SG (1) | SG120080A1 (zh) |
TW (1) | TW574633B (zh) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6813003B2 (en) * | 2002-06-11 | 2004-11-02 | Mark Oskotsky | Advanced illumination system for use in microlithography |
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- 2002-10-16 US US10/270,556 patent/US6775069B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-17 TW TW91123956A patent/TW574633B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-10-18 KR KR1020020063959A patent/KR100758742B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-10-18 CN CNB021547394A patent/CN1303476C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-18 SG SG200206364A patent/SG120080A1/en unknown
- 2002-10-18 JP JP2002305101A patent/JP2003178970A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003178970A (ja) | 2003-06-27 |
EP1319983A2 (en) | 2003-06-18 |
US6775069B2 (en) | 2004-08-10 |
CN1445610A (zh) | 2003-10-01 |
KR100758742B1 (ko) | 2007-09-14 |
KR20030032898A (ko) | 2003-04-26 |
US20030076679A1 (en) | 2003-04-24 |
EP1319983A3 (en) | 2003-08-27 |
TW574633B (en) | 2004-02-01 |
SG120080A1 (en) | 2006-03-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20070307 Termination date: 20171018 |