TW565837B - Method for producing photoresist master for optical information medium, and method for producing stamper for optical information medium - Google Patents

Description

565837 A7 B7 五、發明説明（1 ) (發明所屬之技術領域） 本發明係關於一種製造具有凹軌或預訊息坑等之凹凸 圖案的光資訊媒體時所使用之原模之製造方法，及製造使 用於該原模之製造的光阻原模之製造方法。 (習知之技術） 在光碟有可追記或重寫的光記錄光碟及再生專用光碟 。光記錄光碟係在光碟基板上形成記錄層者；在光碟基板 表面爲了跟踪用等設有凹軌（導引槽）。另一方面，在再 生專用光碟，具有資訊之訊息坑一體形成於光碟基板表面 〇 光碟基板係使用設置訊息坑或凹軌之負圖案的原模， 藉由射出成形樹脂或複製樹脂而加以製造。一般，上述原 模係由N i等所形成之金屬模所構成。欲製作該原模，首 先製作成爲原模之模具的光阻原模。 一般，光阻原盤係藉由以下製程被製造。首先，在玻 璃基板表面形成光阻層。然後，藉由雷射光阻等之圖案化 用光束曝光光阻層，形成潛像圖案之後，進行顯影。由此 ，在光阻層形成凹凸圖案，得到光阻原模。 爲了使用該光阻原模來製作原模，欲於光阻層表面賦 與導電性，藉由濺鍍或無電解鍍等形成N i薄膜等金屬薄 膜。之後，以該金屬薄膜作爲基底進行電鍍，形成N i等 所構成的電鑄膜。然後，從光阻層剝離金屬薄膜及電鑄膜 所構成的多層體。該多層體係可使用作爲原模，惟再製作 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4 - 565837 A7 B7 五、發明説明（2 ) 母模，也可將該母模使用作爲原模。母模係在原模之表面 形成電鑄膜，藉由剝離該電鑄膜加以製作。此時，氧化原 模之表面等，使之電鑄膜之剝離成爲容易。藉由同樣之作 用，使用母盤來製作子模，也可將該子模使用作爲原模。 在光阻原模之製程中，形成於光阻層的潛像圖案之最 小寬，係藉光阻層表面的雷射光束之光點口徑被限制。聚 束光點口徑W係將雷射波長作爲λ，將照射光學系之物鏡 之數値口徑作爲Ν Α時，則以w = k · λ / Ν Α表示。又 ，k係藉由物鏡之口徑形狀及入射光束之強度分布所決定 的常數。 但是，即使在理論上不超過依光點口徑之界限之寬度 的圖案，也會產生光阻層之減少膜厚而減少圖案高度，或 是產生圖案斷面輪廓之不敏銳使得靈敏度容易成爲不充分 。此乃可能爲雷射光束反射在光阻層與玻璃基板之界面爲 最大原因。可能爲反射之雷射光束係回到光阻層之故，因 而成爲多重曝光狀態，而將潛像圖案成爲不敏銳。爲了防 止此種反射，在日本特開平4 一 2 6 3 1 4 0號公報，提 案一種使用於光碟用原模之製造時的具無反射敷層之玻璃 原模。在同一公報上具體地揭示的無反射敷層，係M g F 2 膜（單層反射防止膜）及電介質多層膜（多層反射防止膜 ;均爲無機材料膜，爲表示利用光干涉的反射防止效果者 (解決課題所用之手段） 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 565837 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（3 ) 本案發明人等係依據上述日本特·開平 4 - 2 6 3 1 4 0號公報之記載，使用設置無機材料膜所 構成之無反射敷層的基板來製作光阻原模，並使用該光阻 原模來製作原模。但是，形成具有曝光波長一半左右之最 小寬度的微細圖案時，即使設置無反射敷層，抑制減少圖 案高度之效果也小，又幾乎無法改善圖案之靈敏度。 本發明之目的係在於在使用於光資訊媒體之製造的光 阻原模中，形成具有曝光波長之一半左右之最小寬的微細 圖案時，抑制圖案高度之減少，又，改善圖案斷面輪廓之 不敏銳。 此些目的係藉由下述（1 )至（7 )之本發明可達成 〇 (1 ) 一種光資訊媒體用光阻原模之製造方法，其特 徵爲：在基板上形成光阻層，從該光阻層上照射雷射光束 而在光阻層形成潛像，顯影該潛像，藉由形成凹凸圖案來 製造光阻層模時，在基板與光阻層之間，設置接觸於光阻 層，且在上述雷射光束之波長上表示光吸收性的光吸收層 〇 (2 )如上述（1 )之光資訊媒體用光阻原模之製造 方法，其中，上述光吸收層係在上述雷射光束之波長中含 有具光吸收性的有機化合物者。 (3 )如上述（2 )之光資訊媒體用光阻原模之製造 方法，其中，作爲上述有機化合物使用由光引發劑，光引 發助劑及染料所選擇之至少一種者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297公釐） 565837 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明説明（4 ) (4 )如上述（1 )至（3 )中任一項之光資訊媒體 用光阻原模之製造方法，其中，將上述雷射光束之波長作 爲；ί E (單位：n m )，並將光阻層之厚度作爲t R (單位 :n m )時，爲 t R / λ E ^ 0 . 6 (5 )如上述（1 )至（4 )中任一項之光資訊媒體 用光阻原模之製造方法，其中，將上述雷射光束之波長作 爲λΕ (單位：nm)，並將形成於光阻層的上述凹凸圖案 之最小寬度作爲W p (單位：n m )時，爲 ’ Wp/Ae^〇 . 9 (6 ) —種光資訊媒體用原模之製造方法，其特徵爲 具有·使用藉由上述（1 )至（5 )之任一*項的方法所製 造的光資訊媒體用光阻原模，將形成於上述光阻層的上述 凹凸圖案複製於金屬膜之製程者。 (7 )如上述（6 )之光資訊媒體用原模之製造方法 ，其中，具有、在形成於上述光阻層之上述凹凸圖案上，藉 由無電解鍍形成N i薄膜，在該N i薄膜上形成電鍍膜， 藉由剝離上述N i薄膜與上述電鍍膜所構成的金屬膜，得 到上述凹凸圖案所複製之上述金屬膜的製程者。 又，在本案發明g兌明書，電鏡膜係大都使用在g亥業界 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 訂i· I# 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 565837 A7 _ B7 五、發明説明（5 ) (原模製造）之意思，亦即，使用在藉由電鍍所形成之膜 者。 (發明之實施形態） 在本發明中，如上所述，在製造光阻原模時，在基板 與光阻層之間，設置接觸於光阻層，且在使用之雷射光束 之波長上表示光吸收性的光吸收層。’ 〆 該光吸收層係含有具光吸收性之有機化合物（以下稱 爲光吸收劑）較理想。作爲光吸收劑，係使用由光引發劑 ，光引發助劑及染料所選擇之至少一種化合物較理想。一 般，光引發劑係與光硬化型樹脂一起使用，爲吸收紫外線 等之光能發生自由基的有機化合物。又，光引發助劑係本 身藉由紫外線照射不會活性化，惟在與光引發劑倂用.時， 則由單獨使用光引發劑而被促進引發反應，有效率地進行 硬化反應。光引發劑係發生自由基並分解，惟光引發助劑 係穩定之故，因而在本發明中使用光引發助劑較理想。作 爲光引發助劑，主要使用脂肪族或芳香族之胺。在本發明 中，作爲光引發劑，使用4，4 > 一雙（二甲胺基）二苯 甲酮，4，4>一雙（二乙胺基）二苯甲酮，4 一二甲胺 基安息香酸乙基，4 一二甲胺基安息香酸（η -丁氧基） 乙基，4 -二甲胺基安息香酸異戊基，4 一二甲胺基安息 香酸2 -乙基乙酸之至少一種較理想，其中，特別使用二 苯申酮系化合物較理想。 一般，含有光吸收劑的光吸收層係以如下順序所形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 565837 A7 B7 I、發明説明（6) 理想。首先將光吸收劑溶解於溶媒俾調配塗布液，在塗 ^节液，除了光吸收劑之外，視需要含有熱交聯性化合物。 加光吸收劑以形成含有熱交聯性化合物之塗膜之後，加 塗膜硬化，之後，在硬化塗膜上形成光阻層，則可抑 津[I光吸收層與光阻層層之間的混合。又，此外，將提昇與 Μ阻層之黏接性的黏接助劑，表面活性劑等之各種添加物 ， 視需要添加於塗布液也可以。又，爲了提光吸收層之黏 f姜性，也可將偶合劑層設在基板與光吸收層層之間。 光吸收層中的光吸收劑之含有量係作成1 0〜7 0質 Λ %較理想。若該含有量較少，則很難得到充分之光吸收 fg。另一方面，若該含有量過多，則熱交聯性化合物之硬 化物之含有量變少之故，因而光吸收層之膜強度成爲不充 分。又，在所使用雷射光束之波長中，光吸收層之吸收係 數（在本發明說明書係與消衰係數同意思）k，係較理想 係0 · 0 1以上，更理想係0 . 1以上。若該吸收係數較 小，則在光吸收層中，成爲很難充分地吸收雷射光束。 光吸收層之厚度係並沒有特別加以限定，惟在雷射光 束之曝光時，形成可充分地吸收曝光用之雷射光束之程度 .的厚度。光吸收層之厚度不充分時，則無法充分地吸收雷 射光束使得光阻層多重曝光而有潛像崩潰之趨勢。另一方 面，將光吸收層形成超過3 0 0 nm厚度，也並不能顯著 地提高對於雷射光束之光吸收性，成爲浪費掉用以形成光 吸收層之材料。又，若將光吸收層形成超過3 0 0 n m厚 度時，則在照射雷射光束時使得光吸收層過剩地儲熱，而 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 經濟部智慧財產局R工消費合作社印製 -9 - 565837 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（7) 起因於該儲熱使光阻層熱分解之結果，有穩定之曝光成爲 困難之趨勢。因此，光吸收層之厚度係作成1〜3 0 0 n m較理想，而作成1 0〜2 0 0 n m更理想。此時，起 因於上述之光吸收層之儲熱的光阻層之熱分解程度，係隨 著照射之雷射光束之照射功率而變化。所以，使用較小功 率之雷射光束進行曝光時，也可將光吸收層之厚度作成超 過3 0 0 nm而在5 0 0 nm以下。 在本發明，將使用之雷射光束之波長作爲λ E (單位 nm)，並將光阻層層之厚度作爲tR(單位：nm)時， 爲 t R / λ E ^ 〇 . 6 時，特別爲 t R / λ Ε ^ 0 . 3 時，特別有效。對於波長λ Ε之光阻層之相對厚度t R / λ E過厚時，起因於來自基板上面之雷射光束之反射的圖案 斷面輪廓之不敏銳變小之故，因而依本發明的圖案形狀改 善效果變小。又，相對厚度t R / λ R係藉由形成之凹凸圖 案之寬度與深度被限制，通常爲〇 . 03StR/^E。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) \ 衣· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10 - 565837 Α7 Β7 五、發明説明（8 ) 又，本發明係將形成於光阻層之凹凸圖案之最小寬度 作爲wP(單位：nm)時，爲

Wp/Ae$〇 . 9 時，特別爲 W P / λ E ^ 〇 . 5 時，特別有效。對於波長λ Ε之凹凸圖案之相對最小寬度 Wp/λΕ過大時，起因於來自基板上面之雷射光束之反射 的圖案斷面輪廓之不敏銳變小之故，因而依本發明的圖案 形狀改善效果變小。但是，若相對最小寬度W Ρ / λ Ε過小 時，藉由光學性限制，適用本發明，也無法形成高精度之 圖案之故，因而較理想爲作爲 0 . 2 ^ W ρ / λ Ε · 更理想爲作成 0 · 3 S w Ρ / 入 Ε 又，形成光阻層之凹凸圖案係用以形成媒體之凹軌或預訊 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)、 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 565837 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明説明（9 ) 息坑的圖案。製造具有凹軌之媒體時的上述最小寬度，係 用以形成凹軌或凸軌（存在凹軌間之領域）之凹部或凸部 之寬度的最小値。 在本發明所使用的雷射光束之波長λ E並不特別被限定 ，惟波長λ Ε愈短愈可形成微細圖案。因此，波長λ Ε係較 短較理想。但是，極短波長之雷射係實用化上有困難，又 ，所對應之光阻之開發也困難。所以波長λ Ε係2 0 0〜 5 0〇n m較理想，而2 3, 0〜4 2 0 n .m更理想。 本發明係藉由使用雷射光束之曝光來形成圖案之方法 i：有效。亦即，照射面內之能量分布並不均勻，而使用具 有局斯分布之曝光光時有效。 在本發明中，形成於光阻層的凹凸圖案之斷面形狀， 係矩形或台形也可以，而三角形也可以。例如形成對應於 媒體之凹軌的槽圖案時，斷面爲U形槽也可以，而斷面爲 V形槽也可以。形成潛像圖案時，若照射能到達光阻層下 面程度之充分高強度之雷射光束，則形成U形槽，而若照 射未能到達光阻層下面之較弱強度的雷射光束，則形成V 形槽。又，也可將此種兩種槽倂存在一枚光阻原模中。 在本發明中，使用於製作光阻原模的基板之構成材料 係並未特別加以限定，例如玻璃，金屬，半金屬等任一種 均可以。 將紫外線入射於玻璃基板，測定來自基板之表面（光 入射面）及背面的反射光量時，則來自基板表面之反射光 量者較多。又，在玻璃基板之光入射面側設置光吸收層時 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Ψ 、言

T 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 565837 A7 B7 五、發明説明（10) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本k ) ，在玻璃基板背面反射而到達光阻層的雷射光係成爲通過 兩次光吸收層之故，因而到達光阻層的反射光之強度係變 成極微弱。所以在使用玻璃基板時，將光吸收層設於光入 射面側的本發明，係與將光吸收層設於玻璃基板之背面側 之情形相比較，可減小對於光阻層之反射光之影響。 但是光吸收層係視需要，設在基板表面側之外也可設 在基板背面側。 (實施例） 實施例1 原模N〇.1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在經硏磨之玻璃基板上，形成偶合劑層之後，藉由旋 轉塗佈法形成含有光吸收劑之塗膜。在塗佈液，使用將4 ，一雙（二甲胺基）二苯甲酮含有作爲光吸收層的東 京應化工業（股份）所製的S W K T 5 D 6 0。又，熱 硬化後之塗膜之i線（波長3 6 5 n m )的吸收係數係 〇.35，而波長351nm之吸收係數係0 · 3]»。在 1 8 0 °C溫度下烘烤該塗膜5分鐘後使之硬化，同時除去 殘留溶劑，作成厚度5 2 n m之光吸收層。光吸收層中之 光吸收劑之含有量係6 0 _ 8質量％。 之後，在光吸收層上，旋轉塗佈光阻.劑〔日本哲恩（ 股）所製的D V R 1 0 0〕，藉由烘烤使殘留溶劑蒸發， 作成厚2 4 nm之光阻層。 然後，使用蘇妮（股）所製的偶合機，形成間距 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐了 -13- 565837 A7 B7 、 五、發明説明（11) 3〇〇nm，凹軌寬（凹凸圖案之最小寬度Wp) 150 nm之凹軌圖案作爲目的，藉由Kr雷射（波長λΕ= 3 5 1 n m )對於光阻層進行曝光。然後進行顯影，得到 光阻原模。這時候，t R / λ E係2 4 / 3 5 1 = 0.0 6 8° 在該光阻原模之光阻層表面，藉由無電解鍍形成N i 薄膜。之後，以該N i薄膜作爲基底進行電鑄，形成N i 電鑄膜。然後從光阻層剝離N i薄膜及N i電鑄膜所構成 之多層體，得到原模N 〇 . 1。 原模N 〇 . 2 作爲光吸收層，使用藉由濺鍍所形成的厚1 0 0 n m 之C e〇2膜，在該C e〇2膜上形成偶合劑之後，形成光 阻層。其他係與製作原模N 〇 . 1時同樣地得到原模 No . 2。又，厚度100nm之Ce〇2膜，係在上述曝 光波長中，作爲利用光之干涉的反射防止膜之功能。 評估 對於形成於各原模之凹凸圖案，使用A F Μ (原子間 力顯微鏡）來測定凸部之高度，其半値寬及其側面之傾斜 度。將結果表示於表1。 在第1圖表示原模Ν〇 _ 1之AFM像，而在第2圖 表示原模No·2之AFM像。在這些AFM像中，濃色 領域爲凹部，而淡色之領域爲凸部。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ ~ -14 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 565837 Α7 Β7 五、發明説明（12) [表1] 右側面 左側面 原模 WP 高度 半値寬 傾斜角 傾斜角 No. (nm) Wp/λκ (nm) (nm) (deg) (deg) 1 150 0.427 22.19 152 22.0 25.4 2 (比較） 150 0.427 13.85 178 8.4 7.5 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由表1可知本發明之效果。亦即，在適用本發明所製 造之原模，雖然凹凸圖案之最小寬度Wp比曝光波長λ E之 1 / 2小，但形成有斷面形狀極靈敏之圖案，又，減少了 光阻層之膜減少的結果，得到極接近於圖案化前之光阻層 厚度的凸部高度。 實施例2 將光阻層之厚度作爲2 5 nm，又，將曝光時所設定 的凹凸圖案之最小寬（凹軌寬）W p作爲表示於表2之値。 此外，與製作實施例1之原模N 〇 . 1時同樣地，製作原 模。又，爲了比較，除了使用未具有光吸收層之光阻原模 之外作成同樣，製作了原模。 對於這些原模，藉由A F Μ測定凸部高度及其側面之 傾斜。將結果表示於表2。又，表示於表2之平均傾斜角 係凸部之左側面與右側面之平均.値。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇'乂297公釐） 565837 Α7 —— -— Β? 五、發明説明（13) [袠2] 高度（nm) 卒询傾斜角（deg_l Wp 光吸收層 光吸收層 光吸收層 ! 光吸收層 iiLS) Wp/λκ 有 , 姐 y ν、、 有 姐 0, .427 23.6 一 21.2 — 162.5 0. .463 23.8 19.9 21.3 8.4 175 —----- 0. 500 24.5 24.3 20.1 9.2 197.5 0, .563 一 24.5 _ 10.5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由表2可知，藉由使用設置光吸收層的光阻原模，凸 部之傾斜角顯著變大，亦即，圖案斷面輪廓之不敏銳顯著 被改善之情形。又，若 W P / λ E < 〇 . 5 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 時，可知抑制圖案高度之減少的效果特別變高。 又，進行了以下說明之實驗。將對於曝光波長λ Ε之光 阻層之相對厚度t r / λ ε作爲1 · 3，此外係與製作實施 例1之原模Ν ο · 1時同樣，製作了原模，結果，形成於 原模之圖案係充分靈敏者。但是，使用該原模製作了光碟 基板，又在其上面形成記錄膜，製作光碟。在該光碟中， 未能得到爲了作爲光碟使用所必需的跟踪信號（依凹軌之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） ~ ' -16- 565837 A7 __B7 五、發明説明（14)

信號）。 A (發明之效果） 在本發明中，在製作光阻原模時，接觸於光阻層設置 光吸收層之故，因而即使凹凸圖案之最小寬W P爲小至曝光 用雷射光束之波長λ E之一半以下時，也可抑制減少圖案之 尚度及圖案斷面輪廓之不敏銳。 (圖式之簡單說明） 第1圖係表示形成於基板上之微細圖案的圖式代用照 片；利用本發明所製造的原模之原子間力顯微鏡像。 第2圖係表示形成於基板上之微細圖案的圖式代用照 片；利用習知方法所製造的原模之原子間力顯微鏡像。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） -17-

Claims (1)

1. 565837 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 ， 1 · 一種光資訊媒體用光阻原模之製造方法，其特徵 爲：在基板上形成光阻層，從該光阻層上照射雷射光束而 在光阻層形成潛像，顯影該潛像，藉由形成凹凸圖案來製 造光阻層模時，在基板與光阻層之間，設置接觸於光阻層 ，且在上述雷射光束之波長上表示光吸收性的光吸收層。 2 .如申請專利範圍第1項所述之光資訊媒體用光阻 原模之製造方法，其中，上述光吸收層係在上述雷射光束 之波長中含有具光吸收性的有機化合物者。 3 .如申請專利範圍第2項所述之光資訊媒體用光阻 原模之製造方法，其中，作爲上述有機化合物使用由光引 發劑，光引發助劑及染料所選擇之至少一種者。 4 ·如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之 光資訊媒體用光阻原模之製造方法，其中，將上述雷射光 束之波長作爲λΕ (單位：nm)，並將光阻層之厚度作爲 t r (單位：n m )時，爲 t R / λ E ^ . 6 5 _如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之 光資訊媒體用光阻原模之製造方法，.其中，將上述雷射光 束之波長作爲λ ε (單位：n m )，並將形成於光阻層的上 述凹凸圖案之最小寬度作爲Wp (單位：nm)時，爲 W p / λ ε ^ 〇 . 9 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家梂準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -18 565837 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 2 6 . —種光資訊媒體用原模之製造方法，其特徵爲具 有：使用藉由上述申請專利範圍第1項至第5項之任一項 的方法所製造的光資訊媒體用光阻原模，將形成於上述光 阻層的上述凹凸圖案複製於金屬膜之製程者。 7 ·如申請專利範圍第6項所述之光資訊媒體用原模 之製造方法，其中，具有在形成於上述光阻層之上述凹凸 圖案上，藉由無電解鍍形成N i薄膜，在該N i薄膜上形 成電鍍膜，藉由剝離上述N i薄膜與上述電鍍膜所構成的 金屬膜，得到上述凹凸圖案所複製之上述金屬膜的製程者 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）