JP2003272250A

JP2003272250A - 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、及び原盤付スタンパ中間体

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Publication number: JP2003272250A
Application number: JP2003001515A
Authority: JP
Inventors: Hisashi Koyake; 久司小宅; Hiroaki Takahata; 広彰高畑; Hajime Utsunomiya; 肇宇都宮
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2002-01-08
Filing date: 2003-01-07
Publication date: 2003-09-26
Anticipated expiration: 2023-01-07
Also published as: JP3749520B2

Abstract

(57)【要約】【課題】シャープな凹凸パターンが形成され且つ表面
状態の良好なスタンパを得る。【解決手段】基板１０２上に光吸収層１０３及びフォ
トレジスト層１０４を、この順で形成し、該フォトレジ
スト層１０４に潜像を形成してそれを現像することによ
り凹凸パターン１０６を形成してフォトレジスト原盤１
００を製造し、フォトレジスト原盤１００における凹凸
パターン上１０６にスパッタリング法又は蒸着法によっ
てＮｉ薄膜１０８を形成し、Ｎｉ薄膜１０８上にＮｉ膜
１１０を形成し、Ｎｉ薄膜１０８及びＮｉ膜１１０をフ
ォトレジスト原盤１００から剥離してスタンパ１２０を
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、グルーブやプリピ
ットなどの凹凸パターンを有する光ディスク等の情報媒
体を製造する際に用いるスタンパ、該スタンパの製造方
法、製造途中の原盤付スタンパ中間体及び前記スタンパ
により製造された情報媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】情報媒体の一種である光ディスクには、
現在、追記又は書き換え等が可能な光記録ディスクと、
予め情報が記録されている再生専用ディスクの２種類が
存在する。

【０００３】光記録ディスクにおけるディスク基板には
トラッキング等に利用されるグルーブ（案内溝）が形成
されており、更にこのディスク基板上に相変化材料や有
機色素材料を含有する記録層が積層される。レーザビー
ムを記録層に照射すると、該記録層が化学変化や物理変
化を起こして記録マークが形成される。一方、再生専用
ディスクのディスク基板上には、予め記録マーク（情報
ピット）が凹凸パターンの一部として形成されている。
これらの記録マークに読取用のレーザビームが照射され
ると光反射量が変動し、この変動を検出することによっ
て情報の読み取り（再生）が可能となっている。

【０００４】グルーブや情報ピット等の凹凸パターンを
有するディスク基板を製造するには、この凹凸のネガパ
ターン（これも凹凸パターンの一種である）が予め形成
されているスタンパを用いる。例えば、キャビティー内
に上記スタンパが固定された金型を用いて射出成型を行
い、充填された樹脂に上記ネガパターンを転写してディ
スク基板を製造する方法が一般的である。

【０００５】凹凸パターンを有するスタンパは、通常、
Ｎｉ等を含む金属プレートによって構成される。このス
タンパを製造する工程として、先ず、上記スタンパの凹
凸パターンのネガパターンを有するフォトレジスト原盤
を予め作成しておき、このフォトレジスト原盤上にメッ
キによって金属膜を形成する。その後、フォトレジスト
原盤から前記金属膜を剥離し、表面洗浄等の所定の処理
を行うことでスタンパを得る。

【０００６】図７に示される従来のフォトレジスト原盤
１を参照しながら、このフォトレジスト原盤１の製造工
程について説明する。まず、ガラス基板２上にフォトレ
ジスト層４を形成する。次に、レーザー等のパターンニ
ング用ビームを用いてフォトレジスト層４を露光し、そ
の潜像パターンを現像する。これによって凹凸パターン
６がフォトレジスト層４に形成されたフォトレジスト原
盤１が得られる。

【０００７】このフォトレジスト原盤１を用いてメッキ
によってスタンパ２０を作成するには、図８に示される
ように、先ず凹凸パターン６の表面にＮｉ材料等を含ん
だ金属薄膜８を無電解メッキなどによって形成し、フォ
トレジスト原盤１に導電性を付与する。

【０００８】その後、この金属薄膜８を下地として通電
させてメッキを行い、Ｎｉ等を含んだ金属膜１０を形成
する。これらの金属薄膜８及び金属膜１０をフォトレジ
スト原盤１から剥離すれば、凹凸パターン６が転写され
ているスタンパ２０を得ることが出来る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】近年、情報媒体の大容
量化に伴ってグルーブ等の凹凸パターンが微細化し、そ
の形状誤差が記録・読み取り精度に大きな影響を及ぼす
ようになってきている。従って、シャープな凹凸パター
ンをディスク基板に形成することが要求されるが、その
ためには、基礎となるフォトレジスト層４の凹凸パター
ンを高精度（シャープ）に形成する必要がある。

【００１０】フォトレジスト層４に形成される潜像パタ
ーンの最小幅は、該フォトレジスト層４に到達するレー
ザビームのスポット径によって制限される。スポット径
ｗは、レーザー波長をλ、照射光学系の対物レンズの開
口数をＮＡとしたとき、ｗ＝ｋ・λ／ＮＡで表される。
なお、ｋは対物レンズの開口形状及び入射光束の強度分
布によって決定される定数である。

【００１１】ところで、スポット径の限界を論理的には
超えない幅のパターンであっても、フォトレジスト層４
が薄かったりすると、スタンパに転写される凹凸パター
ンが浅かったり、凹凸パターンの形状が丸みを帯びてし
まったり（これをパターンの「ダレ」という）して、シ
ャープさが不足することが知られている。これは、一般
的に露光・現像作業中にフォトレジスト層４の厚さに変
動が生じてしまう（これを「膜減り」という）ことが原
因であると考えられている。この厚さ変動は、フォトレ
ジスト層４とガラス基板２の間でレーザビームが反射し
て、この反射光によってフォトレジスト層４が必要以上
に露光されてしまうことが原因と考えられていた。

【００１２】この問題を解決するためには、ガラス基板
２とフォトレジスト層４の間に光吸収層を形成すること
が効果的であることを本発明者は明らかにしている。こ
のようにすると、光吸収層がレーザビームを吸収して光
反射を抑制することが出来るので、従来と比較してより
シャープに露光・現像することが可能となる。

【００１３】しかしながら、本発明者は、更なる研究に
より、光吸収層を有するフォトレジスト原盤１は、無電
解メッキによる金属薄膜８の形成状態について問題を有
することに気が付いた。具体的には、光吸収層が部分的
に露出しているフォトレジスト原盤１は無電解メッキ工
程中に微小凹凸（微小欠陥）が増大する可能性を有する
ことが推測された。即ち、同じように金属薄膜を形成し
ようとしても何らかの原因によって剥離後のスタンパの
凹凸パターン表面に、微小凹凸（微小欠陥）が形成され
る場合があることが判明した。この微小凹凸は再生時に
ノイズとなって顕れてしまうので、光吸収層を有効活用
して記録容量を増大させようとしても、かえって記録・
再生性能が低下するという問題を有していた。

【００１４】この問題点を解決すれば、光吸収層を利用
したフォトレジスト原盤によってシャープな凹凸パター
ンを有するスタンパが製造可能となる。

【００１５】本発明は上記課題に鑑みてなされたもので
あり、スタンパの凹凸パターン表面に微小凹凸が形成さ
れないようにしたスタンパの製造方法、該製造方法によ
って製造したスタンパ、フォトレジスト原盤付のスタン
パ中間体及びこれらから製造された情報媒体を提供する
ことを目的としている。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、光ディス
ク、磁気ディスク（ディスクリート媒体）等の情報媒体
の製造方法等について鋭意研究を重ね、表面欠陥を抑制
しながらスタンパに凹凸パターンをシャープに形成する
方法を発案した。即ち以下に示す発明によって、上記目
的を達成することが可能となっている。

【００１７】（１）基板上に、少なくとも光吸収層及び
フォトレジスト層を、この順で形成し、該フォトレジス
ト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を
照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより
凹凸パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する
工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パタ
ーン上に、スパッタリング法又は蒸着法によって金属薄
膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成する
工程と、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト
原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、を有する
ことを特徴とする情報媒体製造用スタンパの製造方法。

【００１８】（２）予め表面に凹凸パターンが形成され
る情報媒体製造用のスタンパであって、上記（１）に記
載された製造方法によって製造されたことを特徴とする
スタンパ。

【００１９】（３）基板と、該基板上に積層される光吸
収層と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及
びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフ
ォトレジスト層と、を有するスタンパ製造用のフォトレ
ジスト原盤における前記凹凸パターン表面に、前記フォ
トレジスト層から剥離されたときにスタンパの一部を構
成する金属薄膜が形成された原盤付スタンパ中間体であ
って、前記金属薄膜が、スパッタリング又は蒸着法によ
って形成されていることを特徴とする原盤付スタンパ中
間体。

【００２０】（４）基板上に、少なくとも光吸収層及び
フォトレジスト層を、この順で形成し、該フォトレジス
ト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を
照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより
凹凸パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する
工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パタ
ーン上に、スパッタリング法又は蒸着法によって金属薄
膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成する
工程と、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト
原盤から剥離してスタンパを形成する工程と、を経て製
造されたスタンパにおける前記金属薄膜及び金属膜の凹
凸パターンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが
形成されていることを特徴とする情報媒体。

【００２１】（５）（４）において、前記スタンパから
直接凹凸パターンを転写して形成された最終凹凸パター
ンを有することを特徴とする情報媒体。

【００２２】（６）（４）において、前記最終凹凸パタ
ーンはマザー盤の凹凸パターンを転写して形成されたも
のであり、このマザー盤の凹凸パターンは、前記スタン
パをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成され
たものであることを特徴とする情報媒体。

【００２３】（７）（４）において、前記最終凹凸パタ
ーンはチャイルド盤の凹凸パターンを転写して形成され
たものであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前
記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して
形成されたマザー盤から、更に凹凸パターンを転写して
形成されたものであることを特徴とする情報媒体。

【００２４】本発明者は、従来無電解メッキによりなさ
れていた金属薄膜形成工程を、光吸収層が形成されてい
るフォトレジスト原盤にそのまま適用したことが、凹凸
パターン表面に微小欠陥を生じさせていると推定し、光
吸収層を用いたフォトレジスト原盤に対してスパッタリ
ング法又は蒸着法によって金属薄膜を形成するようにし
た。

【００２５】本発明によれば、スタンパの凹凸パターン
表面の微小欠陥が飛躍的に減少するようになる。また、
スパッタリングや蒸着の場合は、フォトレジスト原盤に
前処理などを施す必要がなくなるので、スタンパ製造工
程自体を簡略化することが可能になる。

【００２６】従って、光吸収層による利点とスパッタリ
ング法又は蒸着法による微小欠陥低減との相乗効果によ
って、従来と比較してシャープな凹凸パターンをスタン
パに忠実に転写できる。この結果、凹凸パターンの微細
化が進展しても、それに耐え得る表面状態を維持するこ
とが可能になり、このスタンパを用いれば、情報媒体、
例えば光ディスクのグルーブや情報ピット等もシャープ
に形成されるので、記録・再生特性を向上させることが
出来る。又、今後益々進展する凹凸パターンの微細化に
も対応可能となることから、情報媒体の情報記憶（記
録）容量を増大させることもできる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態の例につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００２８】図１に、本発明の実施形態の例に係るスタ
ンパ製造方法に利用されるフォトレジスト原盤１００を
示す。このフォトレジスト原盤１００は、ガラス基板１
０２と、このガラス基板１０２上に積層される光吸収層
１０３と、この光吸収層１０３上に積層されるフォトレ
ジスト層１０４と、を備える。前記フォトレジスト層１
０４は、光吸収層１０３の反対側（図１において上側）
からパターニング用レーザビームにより露光されること
によって凹凸パターンの潜像が形成され、この潜像の現
像によって一部が除去されて凹凸パターン１０６が形成
されている。なお、現像後は、凹凸パターン１０６の凹
部の底面に光吸収層１０３の一部が露出していることに
なる。図１の符号１０７は凹凸パターンが形成されてい
ない領域である非凹凸領域を示す。

【００２９】なお、後述のように、前記凹凸パターン１
０６はスタンパ１２０のパターン面２０６となる。又、
凹凸パターンが形成されていない領域はスタンパ１２０
のミラー面２０７となる。

【００３０】前記露光の際は、パターニング用ビームが
光吸収層１０３によって吸収されて光反射が抑制され、
微細な凹凸をシャープに形成することが可能となってい
る。

【００３１】図２（Ａ）には、上記フォトレジスト原盤
１００を用いてスタンパ１２０を形成した状態を示す。

【００３２】この形成工程では、先ず、凹凸パターン１
０６表面に、スパッタリング法又は蒸着法によってＮｉ
薄膜１０８を形成する。この時点で、フォトレジスト原
盤１００と後工程で剥離されるスタンパ１２０の一部で
あるＮｉ薄膜１０８とが一体となっている原盤付スタン
パ中間体１１８を得ることが出来る。

【００３３】その後、Ｎｉ薄膜１０８を下地として表面
を通電させ、電気メッキによってＮｉ膜１１０を形成す
る。前記Ｎｉ薄膜１０８とＮｉ膜１１０をフォトレジス
ト原盤１００から剥離させると、図２（Ｂ）のように、
凹凸パターン１０６が正確に転写されたスタンパ１２０
を得ることが出来る。

【００３４】前記スタンパ１２０において、前記凹凸パ
ターン１０６の領域に対応してパターン面２０６が、
又、非凹凸領域１０７に対応してミラー面２０７が、そ
れぞれ形成されている。

【００３５】なお、特に図示しないが、例えば、上記ス
タンパ１２０を金型に設置して射出成型などによって、
前記凹凸パターン１０６をネガパターンとして転写され
た最終凹凸パターンを有する光ディスク基板を製造す
る。又このスタンパ１２０を用いて光ディクス基板を製
造する以外にも、該スタンパ１２０をマスタ盤とした電
鋳工程によってマザー盤を作成し、このマザー盤で光デ
ィスクを製造しても良い。更に、このマザー盤を原盤と
してチャイルド盤を作成し、これで光ディスクを製造し
ても良い。

【００３６】即ち、本発明におけるスタンパ１２０と
は、実際に光ディスクの製造に直接利用される場合に限
られず、これをマスタ盤としてマザー盤などを作成する
ことによって光ディスクの製造に間接的に用いるもので
あっても構わない。

【００３７】本実施形態の例のフォトレジスト層１０４
では、光吸収層１０３を積層することによって鮮明な潜
像を描くことが可能となり、シャープな凹凸パターン１
０６を得ることが出来る。それに加えて、スパッタリン
グ法又は蒸着法によって金属薄膜を形成するので、表面
の欠陥状態を含めて凹凸パターン１０６の状態が極めて
忠実に転写されたＮｉ薄膜１０８を形成することが可能
となっている。フォトレジスト層１０４に形成する凹凸
パターン１０６には表面欠陥が殆ど形成されないので、
スタンパ１２０に転写された凹凸パターン表面の微小欠
陥の数も大幅に低減する。このスタンパ１２０を利用す
れば、ノイズが抑制された記録・読み取り（再生）精度
の高い情報媒体を得ることが出来る。

【００３８】なお、本実施形態ではＮｉを用いたスパッ
タリング又は蒸着についてのみ説明したが、本発明はそ
れに限定されるものではなく、他の金属を利用してもよ
い。

【００３９】又、上記スタンパは、光ディスクのみなら
ず、例えば磁気ディスク（ディスクリート媒体等）を含
む情報媒体の製造に一般的に適用されるものである。

【００４０】

【実施例】（実施例：スタンパＮｏ．１）研磨されたガ
ラス基板上にカップリング剤層を形成した後、光吸収層
をスピンコート法により形成した。塗布液には４．４’
−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンを光吸収剤と
して含有するＳＷＫ−Ｔ５Ｄ６０(東京応化工業(株))を
用いた。この塗膜を２００度で１５分間ベーキングして
硬化すると共に残留溶剤を除去し、厚さ１４０ｎｍの光
吸収層とした。次いで、この光吸収層上に、フォトレジ
スト(日本ゼオン(株)製ＤＶＲ１００)をスピンコート
し、ベーキングにより残留溶剤を蒸発させて、厚さ２５
ｎｍのフォトレジスト層とした。

【００４１】その後、ソニー(株)製カッティングマシン
を用い、トラックピッチ３２０ｎｍ、グルーブ幅１５０
ｎｍのグルーブパターンの形成を目的として、Ｋｒレー
ザ(波長＝３５１ｎｍ)によってフォトレジスト層に対し
露光を行い、更に現像を行うことで凹凸パターンを形成
して、フォトレジスト原盤を得た。

【００４２】このフォトレジスト原盤のフォトレジスト
層表面に、スパッタリングによってＮｉ薄膜を形成し
た。このＮｉ薄膜を下地として電気メッキを行い、Ｎｉ
膜を形成した。これらのＮｉ薄膜およびＮｉ膜からなる
積層体を原盤から剥離し、裏面研磨、表面洗浄を行っ
て、スタンパＮｏ．１を得た。

【００４３】（比較例：スタンパＮｏ．２）Ｎｉ薄膜を
無電解メッキで形成したという条件を除き、スタンパＮ
ｏ．１作製の際と同様にしてスタンパＮｏ．２を作製し
た。具体的には、スパッタリングしないで、フォトレジ
スト原盤のフォトレジスト層表面を界面活性剤で活性化
した後に、無電解メッキの前処理として、キャタリスト
（Ｐｄ、Ｓｎコロイド）を付与した。次いでアクセラレ
ータ（ＨＢＦ₄溶液）によりＳｎを除去するとともに表
面にＰｄを析出させ、その後、このフォトレジスト原盤
をＮｉＣ１₂浴に浸漬し、無電解メッキによりＮｉ薄膜
を形成した。

【００４４】（比較例：スタンパＮｏ．３）光吸収層が
ないという条件を除き、スタンパＮｏ．１作製の際と同
様にしてスタンパＮｏ．３を作製した。

【００４５】（評価結果１）各スタンパに形成された凹
凸パターンについて、ＡＦＭ(原子間力顕微鏡)を用いて
形状を確認した。ＡＦＭの探針は窒化シリコン（Ｓｉ
Ｎ）針を用いた。測定はノンコンタクトモードにて行
い、サンプルとプローブ間の原子間力の変化を画像化し
た。

【００４６】図３（Ａ）にスタンパＮｏ．１のＡＦＭ像
を、図３（Ｂ）に同断面形状を線図によりそれぞれ示
す。又、図４（Ａ）にスタンパＮｏ．３のＡＦＭ像を、
図４（Ｂ）に同断面形状を線図によりそれぞれ示す。Ａ
ＦＭ像において、描点の密度が高い領域が凹凸パターン
における凹部であり、描点の密度が低い、あるいは白抜
きの領域が凸部であり、フォトレジスト原盤における凹
凸パターンの凸部及び凹部にそれぞれ対応している。
又、図３（Ｂ）、図４（Ｂ）では、凹凸が０．３２μｍ
ピッチで形成されている。

【００４７】図３、図４を比較すれば明らかなように、
本発明を適用して製造されたスタンパＮｏ．１では、シ
ャープなパターンが形成され、そのパターンを忠実に転
写したことがわかる。

【００４８】（評価結果２）走査型電子顕微鏡（１００
００倍）で、スタンパＮｏ．１およびスタンパＮｏ．２
を測定した凹凸状態を図５及び図６に、それぞれ示す。
この図５、図６の比較から、スタンパＮｏ．１では微小
凹凸が見られないが、スタンパＮｏ．２では横軸３μｍ
付近と８．５μｍ付近に、幅１μｍ程度の凹みとして微
小凹凸が明確に認められることがわかる。なお、図５、
６の約０．３μｍピッチの凹凸は本発明において形成す
べき凹凸パターンである。

【００４９】

【発明の効果】本発明では、フォトレジスト層に接した
光吸収層によって、シャープな凹凸パターンをフォトレ
ジスト原盤に形成でき、更に、この凹凸パターンを、ス
パッタリングあるいは蒸着による金属薄膜によって表面
の微小欠陥を抑制しながらスタンパに対して忠実に転写
することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の例に係るフォトレジスト
原盤を示す断面図

【図２（Ａ）】同フォトレジスト原盤を用いてスタンパ
を製造途中の状態を示す断面図

【図２（Ｂ）】同製造されたスタンパを示す断面図

【図３（Ａ）】本発明の実施例に係るスタンパに形成さ
れた凹凸パターンをＡＦＭによって解析した状態を示す
図

【図３（Ｂ）】同ＡＦＭ解析に基づく凹凸パターンの断
面形状を示す線図

【図４（Ａ）】本発明の比較例に係るスタンパに形成さ
れた凹凸パターンをＡＦＭによって解析した状態を示す
図

【図４（Ｂ）】同ＡＦＭ解析に基づく凹凸パターンの断
面形状を示す線図

【図５】上記実施例のスタンパ表面を走査型電子顕微鏡
で測定した凹凸状態を示す線図

【図６】上記比較例のスタンパ表面を走査型電子顕微鏡
で測定した凹凸状態を示す線図

【図７】従来のフォトレジスト原盤を示す断面図

【図８】従来のフォトレジスト原盤を用いてスタンパを
製造する状態を示す断面図

【符号の説明】

１００…フォトレジスト原盤１０２…ガラス基板１０３…光吸収層１０４…フォトレジスト層１０６…凹凸パターン１０７…非凹凸領域１０８…Ｎｉ薄膜１１０…Ｎｉ膜１１８…原盤付スタンパ中間体１２０…スタンパ２０６…パターン面２０７…ミラー面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宇都宮肇東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内Ｆターム(参考） 5D121 CA03 CB03 CB05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、少なくとも光吸収層及びフォト
レジスト層を、この順で形成し、該フォトレジスト層
に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射
して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸
パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する工程
と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターン
上に、スパッタリング法又は蒸着法によって金属薄膜を
形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成する工程
と、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤
から剥離してスタンパを形成する工程と、を有すること
を特徴とする情報媒体製造用スタンパの製造方法。
【請求項２】予め表面に凹凸パターンが形成される情報
媒体製造用のスタンパであって、基板上に、少なくとも
光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成し、該
フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の
面側から光を照射して潜像を形成し、この潜像を現像す
ることにより凹凸パターンを形成してフォトレジスト原
盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における
前記凹凸パターン上に、スパッタリング法又は蒸着法に
よって金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属
膜を形成する工程と、前記金属薄膜及び金属膜を前記フ
ォトレジスト原盤から剥離してスタンパを形成する工程
と、を経て製造されたことを特徴とするスタンパ。
【請求項３】基板と、該基板上に積層される光吸収層
と、該光吸収層に接して積層され且つ潜像の形成及びそ
の現像によって凹凸パターンが形成可能とされるフォト
レジスト層と、を有するスタンパ製造用のフォトレジス
ト原盤における前記凹凸パターン表面に、前記フォトレ
ジスト層から剥離されたときにスタンパの一部を構成す
る金属薄膜が形成された原盤付スタンパ中間体であっ
て、前記金属薄膜が、スパッタリング又は蒸着法によっ
て形成されていることを特徴とする原盤付スタンパ中間
体。
【請求項４】基板上に、少なくとも光吸収層及びフォト
レジスト層を、この順で形成し、該フォトレジスト層
に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射
して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸
パターンを形成してフォトレジスト原盤を製造する工程
と、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターン
上に、スパッタリング法又は蒸着法によって金属薄膜を
形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成する工程
と、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤
から剥離してスタンパを形成する工程と、を経て製造さ
れたスタンパにおける前記金属薄膜及び金属膜の凹凸パ
ターンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが形成
されていることを特徴とする情報媒体。
【請求項５】請求項４において、前記スタンパから直接
凹凸パターンを転写して形成された最終凹凸パターンを
有することを特徴とする情報媒体。
【請求項６】請求項４において、前記最終凹凸パターン
はマザー盤の凹凸パターンを転写して形成されたもので
あり、このマザー盤の凹凸パターンは、前記スタンパを
マスター盤として凹凸パターンを転写して形成されたも
のであることを特徴とする情報媒体。
【請求項７】請求項４において、前記最終凹凸パターン
はチャイルド盤の凹凸パターンを転写して形成されたも
のであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前記ス
タンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成
されたマザー盤から、更に凹凸パターンを転写して形成
されたものであることを特徴とする情報媒体。